特開2024-94844洗浄液、並びに、基板の洗浄方法及び半導体素子の製造方法

発明の名称　洗浄液、並びに、基板の洗浄方法及び半導体素子の製造方法

出願人　東京応化工業株式会社　（識別番号 220239）

　　　　特許公開件数ランキング 256 位（41件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 359 位（24件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2024-94844

公報発行日　2024年7月10

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2024-94844

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