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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024097071
(43)【公開日】2024-07-17
(54)【発明の名称】アリールスルホン酸エステル化合物の製造方法
(51)【国際特許分類】
C07C 303/28 20060101AFI20240709BHJP
C07C 309/75 20060101ALI20240709BHJP
C07B 61/00 20060101ALN20240709BHJP
【ＦＩ】
C07C303/28
C07C309/75
C07B61/00 300
【審査請求】有
【請求項の数】18
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024073304
(22)【出願日】2024-04-30
(62)【分割の表示】P 2021516147の分割
【原出願日】2020-04-22
(31)【優先権主張番号】P 2019085954
(32)【優先日】2019-04-26
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000003986
【氏名又は名称】日産化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002240
【氏名又は名称】弁理士法人英明国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】近藤 光正
(72)【発明者】
【氏名】島田 淳平
(57)【要約】 （修正有）
【課題】安全で、反応時間や収率等の再現性が高く、さらに高収率で目的物が得られるアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記式（１）のアリールスルホン酸を、ＤＭＦ触媒の存在下でハロゲン化試薬と反応させて下記式（２）のハロゲン化物を製造する際に、アリールスルホン酸のＤＭＥ溶液をハロゲン化試薬中に滴下する第１工程と、得られたアリールスルホン酸ハロゲン化物を、特定の有機溶媒中、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン等の塩基の存在下、１５℃以下でアルコールと反応させる第２工程を備えるアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
（Ａは芳香族基、Ｂはハロゲン原子で置換された芳香族基、ｎは１≦ｎ≦４を満たす整数、ｑは１≦ｑを満たす整数。）
【選択図】なし
【解決手段】下記式（１）のアリールスルホン酸を、ＤＭＦ触媒の存在下でハロゲン化試薬と反応させて下記式（２）のハロゲン化物を製造する際に、アリールスルホン酸のＤＭＥ溶液をハロゲン化試薬中に滴下する第１工程と、得られたアリールスルホン酸ハロゲン化物を、特定の有機溶媒中、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン等の塩基の存在下、１５℃以下でアルコールと反応させる第２工程を備えるアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
（Ａは芳香族基、Ｂはハロゲン原子で置換された芳香族基、ｎは１≦ｎ≦４を満たす整数、ｑは１≦ｑを満たす整数。）
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記式（１）
（式中、Ａは、炭素数６～２０の（ｎ＋１）価の芳香族基を表し、Ｂは、ハロゲン原子で置換されたｑ価の炭素数６～２０の芳香族基を表し、ｎは、Ａに結合するスルホ基数を表し、１≦ｎ≦４を満たす整数であり、ｑは、Ｂと酸素原子との結合数を示し、１≦ｑを満たす整数である。）
で表されるアリールスルホン酸化合物を、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド触媒の存在下でハロゲン化試薬と反応させて下記式（２）
（式中、Ｘは、ハロゲン原子を表し、Ａ、Ｂ、ｎおよびｑは、前記と同じ意味を表す。）
で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を製造する際に、前記アリールスルホン酸化合物の１，２－ジメトキシエタン溶液またはジエチレングリコールジエチルエーテル溶液を前記ハロゲン化試薬中に滴下して、前記スルホ基をハロゲン化して前記アリールスルホン酸ハロゲン化物を合成する第１工程と、
前記第１工程で得られたアリールスルホン酸ハロゲン化物を、有機溶媒中、下記式（３）
（式中、Ｒは、それぞれ独立して、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～１０のアルキル基を表すが、２つのＲが結合して窒素原子とともに環構造を形成してもよい。）
で表される塩基の存在下、１５℃以下で下記式（４）
（式中、Ｄ1は、置換または非置換の二価炭化水素基を示し、Ｄ2は、単結合、Ｏ、Ｓ、または置換もしくは非置換の２価アミノ基を示し、Ｄ3は、置換もしくは非置換の一価炭化水素基を示すが、Ｄ2が単結合である場合は水素原子であってもよい。）
で表されるアルコール化合物と反応させて下記式（５）
（式中、Ａ、Ｂ、Ｄ1、Ｄ2、Ｄ3、ｎおよびｑは、前記と同じ意味を表す。）
で表されるアリールスルホン酸エステル化合物を合成する第２工程を備え、
前記第２工程の反応で使用する有機溶媒が、式（４）で表されるアルコール化合物、または、式（４）で表されるアルコール化合物と他の有機溶媒の混合溶媒である（ただし、式（４）で表されるアルコール化合物がプロピレングリコールモノエチルエーテルである場合、有機溶媒としてプロピレングリコールモノエチルエーテルのみを使用する場合を除く。）
ことを特徴とするアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【化1】
で表されるアリールスルホン酸化合物を、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド触媒の存在下でハロゲン化試薬と反応させて下記式（２）
【化2】
で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を製造する際に、前記アリールスルホン酸化合物の１，２－ジメトキシエタン溶液またはジエチレングリコールジエチルエーテル溶液を前記ハロゲン化試薬中に滴下して、前記スルホ基をハロゲン化して前記アリールスルホン酸ハロゲン化物を合成する第１工程と、
前記第１工程で得られたアリールスルホン酸ハロゲン化物を、有機溶媒中、下記式（３）
【化3】
で表される塩基の存在下、１５℃以下で下記式（４）
【化4】
で表されるアルコール化合物と反応させて下記式（５）
【化5】
で表されるアリールスルホン酸エステル化合物を合成する第２工程を備え、
前記第２工程の反応で使用する有機溶媒が、式（４）で表されるアルコール化合物、または、式（４）で表されるアルコール化合物と他の有機溶媒の混合溶媒である（ただし、式（４）で表されるアルコール化合物がプロピレングリコールモノエチルエーテルである場合、有機溶媒としてプロピレングリコールモノエチルエーテルのみを使用する場合を除く。）
ことを特徴とするアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項2】
下記式（２）
（式中、Ｘは、ハロゲン原子を表し、Ａは、炭素数６～２０の（ｎ＋１）価の芳香族基を表し、Ｂは、ハロゲン原子で置換されたｑ価の炭素数６～２０の芳香族基を表し、ｎは、Ａに結合するスルホ基数を表し、１≦ｎ≦４を満たす整数であり、ｑは、Ｂと酸素原子との結合数を示し、１≦ｑを満たす整数である。）
で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を、有機溶媒中、下記式（３）
（式中、Ｒは、それぞれ独立して、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～１０のアルキル基を表すが、２つのＲが結合して窒素原子とともに環構造を形成してもよい。）
で表される塩基の存在下、１５℃以下で下記式（４）
（式中、Ｄ1は、置換または非置換の二価炭化水素基を示し、Ｄ2は、単結合、Ｏ、Ｓ、または置換もしくは非置換の２価アミノ基を示し、Ｄ3は、置換もしくは非置換の一価炭化水素基を示すが、Ｄ2が単結合である場合は水素原子であってもよい。）
で表されるアルコール化合物と反応させ下記式（５）
（式中、Ａ、Ｂ、Ｄ1、Ｄ2、Ｄ3、ｎおよびｑは、前記と同じ意味を表す。）
で表されるアリールスルホン酸エステル化合物を合成する工程を備え、
前記反応で使用する有機溶媒が、式（４）で表されるアルコール化合物、または、式（４）で表されるアルコール化合物と他の有機溶媒の混合溶媒である（ただし、式（４）で表されるアルコール化合物がプロピレングリコールモノエチルエーテルである場合、有機溶媒としてプロピレングリコールモノエチルエーテルのみを使用する場合を除く。）
ことを特徴とするアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【化6】
で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を、有機溶媒中、下記式（３）
【化7】
で表される塩基の存在下、１５℃以下で下記式（４）
【化8】
で表されるアルコール化合物と反応させ下記式（５）
【化9】
で表されるアリールスルホン酸エステル化合物を合成する工程を備え、
前記反応で使用する有機溶媒が、式（４）で表されるアルコール化合物、または、式（４）で表されるアルコール化合物と他の有機溶媒の混合溶媒である（ただし、式（４）で表されるアルコール化合物がプロピレングリコールモノエチルエーテルである場合、有機溶媒としてプロピレングリコールモノエチルエーテルのみを使用する場合を除く。）
ことを特徴とするアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項3】
前記式（３）で表される塩基が、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジンまたは４－モルフォリノピリジンである請求項１または２記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項4】
前記アリールスルホン酸ハロゲン化物と前記アルコール化合物との反応が、－３０～１０℃で行われる請求項１～３のいずれか１項記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項5】
前記アリールスルホン酸ハロゲン化物と前記アルコール化合物との反応が、－２０～１０℃で行われる請求項４記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項6】
前記式（３）で表される塩基が、前記アリールスルホン酸ハロゲン化物が有するスルホン酸ハライド基１ｍｏｌに対し、１．１ｍｏｌ以上用いられる請求項１～５のいずれか１項記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項7】
前記その他の有機溶媒が、エーテル類、ケトン類、ニトリル類、ラクタム類、およびアミド類からなる群より選ばれる１種以上である請求項１～６のいずれか１項記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項8】
前記Ｂが、その少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換されたｑ価の炭素数６～２０の芳香族基である請求項１～７のいずれか１項記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項9】
前記Ｂが、その全ての水素原子がフッ素原子で置換されたｑ価の炭素数６～２０の芳香族基である請求項８記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項10】
前記ｑが、２である請求項１～９のいずれか１項記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項11】
前記Ｂが、下記式（Ｂ１）で表される２価の基である請求項１０記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【化10】
【請求項12】
前記ｑが、１である請求項１～９のいずれか１項記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項13】
前記Ｂが、下記式（Ｂ２）～（Ｂ６）のいずれかで表される２価の基である請求項１２記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【化11】
【請求項14】
前記Ａが、ベンゼン環またはナフタレン環である請求項１～１３のいずれか１項記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項15】
前記ハロゲン化試薬が、塩化チオニルである請求項１、３～１４のいずれか１項記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項16】
前記第１工程において、アリールスルホン酸ハロゲン化物を合成した後、得られた反応液に貧溶媒を加えてアリールスルホン酸ハロゲン化物を析出させる操作を含む請求項１、３～１５のいずれか１項記載のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項17】
下記式（１）
（式中、Ａは、炭素数６～２０の（ｎ＋１）価の芳香族基を表し、Ｂは、ハロゲン原子で置換されたｑ価の炭素数６～２０の芳香族基を表し、ｎは、Ａに結合するスルホ基数を表し、１≦ｎ≦４を満たす整数であり、ｑは、Ｂと酸素原子との結合数を示し、１≦ｑを満たす整数である。）
で表されるアリールスルホン酸化合物を、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド触媒の存在下でハロゲン化試薬と反応させて下記式（２）
（式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ａ、Ｂ、ｎおよびｑは、前記と同じ意味を表す。）
で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を製造する方法であって、
前記アリールスルホン酸化合物の１，２－ジメトキシエタン溶液またはジエチレングリコールジエチルエーテル溶液を前記ハロゲン化試薬中に滴下して、前記スルホ基をハロゲン化する工程、および
アリールスルホン酸ハロゲン化物を合成した後、得られた反応液に貧溶媒を加えてアリールスルホン酸ハロゲン化物を析出させる操作を含む
ことを特徴とするアリールスルホン酸ハロゲン化物の製造方法。
【化12】
で表されるアリールスルホン酸化合物を、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド触媒の存在下でハロゲン化試薬と反応させて下記式（２）
【化13】
で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を製造する方法であって、
前記アリールスルホン酸化合物の１，２－ジメトキシエタン溶液またはジエチレングリコールジエチルエーテル溶液を前記ハロゲン化試薬中に滴下して、前記スルホ基をハロゲン化する工程、および
アリールスルホン酸ハロゲン化物を合成した後、得られた反応液に貧溶媒を加えてアリールスルホン酸ハロゲン化物を析出させる操作を含む
ことを特徴とするアリールスルホン酸ハロゲン化物の製造方法。
【請求項18】
前記貧溶媒が、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、ニトリル類からなる群より選ばれる１種以上である請求項１７記載のアリールスルホン酸ハロゲン化物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、アリールスルホン酸エステル化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬという）素子は、ディスプレイや照明といった分野での実用化が期待されており、低電圧駆動、高輝度、高寿命等を目的とし、材料や素子構造に関する様々な開発がなされている。
この有機ＥＬ素子では複数の機能性薄膜が用いられるが、その中の１つである正孔注入層は、陽極と正孔輸送層または発光層との電荷の授受を担い、有機ＥＬ素子の低電圧駆動および高輝度を達成するために重要な役割を果たす。
この有機ＥＬ素子では複数の機能性薄膜が用いられるが、その中の１つである正孔注入層は、陽極と正孔輸送層または発光層との電荷の授受を担い、有機ＥＬ素子の低電圧駆動および高輝度を達成するために重要な役割を果たす。
【0003】
近年、低分子オリゴアニリン系材料やオリゴチオフェン系材料を有機溶媒に溶解させた均一系溶液からなる電荷輸送性ワニスが見出され、このワニスから得られる正孔注入層を有機ＥＬ素子中に挿入することで、下地基板の平坦化効果や、優れた有機ＥＬ素子特性が得られることが報告されている。
これら低分子オリゴアニリン系材料の電子受容性物質として、本出願人は、アリールスルホン酸エステル化合物が好適であることを既に報告している（特許文献１，２参照）。
これら低分子オリゴアニリン系材料の電子受容性物質として、本出願人は、アリールスルホン酸エステル化合物が好適であることを既に報告している（特許文献１，２参照）。
【0004】
ところで、前記特許文献１，２において、アリールスルホン酸エステル化合物は、アリールスルホン酸化合物のピリジニウム塩やナトリウム塩を、ＤＭＦ等の溶媒中で塩化チオニルで酸クロライド化（第１工程）した後、ピリジン等の塩基中でエステル化（第２工程）して製造されている。
しかし、第１工程については、出発原料として塩を用いる特許文献１，２の方法では、アリールスルホン酸を塩にする工程が余分に必要となることから量産には不向きであるため、アリールスルホン酸を直接酸クロライド化する手法が望まれるが、この手法では急激な酸性ガスが発生するためその制御が難しく、安全性の面で課題があり、更にスケールが大きくなった場合、反応中に大きな塊が発生し、撹拌が困難になることがあった。さらに反応後に過剰の塩化チオニルを留去するために濃縮乾固することから、再現性よく目的物を得ることができない等の課題もあり、量産には不向きであった。
また、第２工程のエステル化にあたっても、スケールが大きくなると反応時間や収率等の点で再現性が低く、特に、エステル化部位が増えると原料である酸クロライドや生成物であるエステル化物の分解が多くなるため、目的物を高収率で得ることは困難であるうえ、濃縮乾固等の工程が必要であり、目的物を高収率で効率的に得るために改善の余地があった。
このような観点から、量産に対応し得る新たなアリールスルホン酸エステルの製造方法が望まれている。
しかし、第１工程については、出発原料として塩を用いる特許文献１，２の方法では、アリールスルホン酸を塩にする工程が余分に必要となることから量産には不向きであるため、アリールスルホン酸を直接酸クロライド化する手法が望まれるが、この手法では急激な酸性ガスが発生するためその制御が難しく、安全性の面で課題があり、更にスケールが大きくなった場合、反応中に大きな塊が発生し、撹拌が困難になることがあった。さらに反応後に過剰の塩化チオニルを留去するために濃縮乾固することから、再現性よく目的物を得ることができない等の課題もあり、量産には不向きであった。
また、第２工程のエステル化にあたっても、スケールが大きくなると反応時間や収率等の点で再現性が低く、特に、エステル化部位が増えると原料である酸クロライドや生成物であるエステル化物の分解が多くなるため、目的物を高収率で得ることは困難であるうえ、濃縮乾固等の工程が必要であり、目的物を高収率で効率的に得るために改善の余地があった。
このような観点から、量産に対応し得る新たなアリールスルホン酸エステルの製造方法が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】国際公開第２００７／０９９８０８号
【特許文献2】国際公開第２０１７／２１７４５７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、安全で、反応時間や収率等の再現性が高く、さらに高収率で目的物が得られるアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、アリールスルホン酸化合物の１，２－ジメトキシエタン溶液またはジエチレングリコールジエチルエーテル溶液をハロゲン化試薬中に滴下してアリールスルホン酸ハロゲン化物を製造し、さらにこのスルホン酸ハロゲン化物を、特定の有機溶媒中で特定の塩基を用いて低温下でエステル化することで、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成した。
【0008】
すなわち、本発明は、
１． 下記式（１）
（式中、Ａは、炭素数６～２０の（ｎ＋１）価の芳香族基を表し、Ｂは、ハロゲン原子で置換されたｑ価の炭素数６～２０の芳香族基を表し、ｎは、Ａに結合するスルホ基数を表し、１≦ｎ≦４を満たす整数であり、ｑは、Ｂと酸素原子との結合数を示し、１≦ｑを満たす整数である。）
で表されるアリールスルホン酸化合物を、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド触媒の存在下でハロゲン化試薬と反応させて下記式（２）
（式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ａ、Ｂ、ｎおよびｑは、前記と同じ意味を表す。）
で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を製造する際に、前記アリールスルホン酸化合物の１，２－ジメトキシエタン溶液またはジエチレングリコールジエチルエーテル溶液を前記ハロゲン化試薬中に滴下して、前記スルホ基をハロゲン化して前記アリールスルホン酸ハロゲン化物を合成する第１工程と、
前記第１工程で得られたアリールスルホン酸ハロゲン化物を、有機溶媒中、下記式（３）
（式中、Ｒは、それぞれ独立して、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～１０のアルキル基を表すが、２つのＲが結合して窒素原子とともに環構造を形成してもよい。）
で表される塩基の存在下、１５℃以下で下記式（４）
（式中、Ｄ1は、置換または非置換の二価炭化水素基を示し、Ｄ2は、単結合、Ｏ、Ｓ、または置換もしくは非置換の２価アミノ基を示し、Ｄ3は、置換もしくは非置換の一価炭化水素基を示すが、Ｄ2が単結合である場合は水素原子であってもよい。）
で表されるアルコール化合物と反応させて下記式（５）
（式中、Ａ、Ｂ、Ｄ1、Ｄ2、Ｄ3、ｎおよびｑは、前記と同じ意味を表す。）
で表されるアリールスルホン酸エステル化合物を合成する第２工程を備え、
前記第２工程の反応で使用する有機溶媒が、式（４）で表されるアルコール化合物、または、式（４）で表されるアルコール化合物と他の有機溶媒の混合溶媒である（ただし、式（４）で表されるアルコール化合物がプロピレングリコールモノエチルエーテルである場合、有機溶媒としてプロピレングリコールモノエチルエーテルのみを使用する場合を除く。）
ことを特徴とするアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
２． 下記式（２）
（式中、Ｘは、ハロゲン原子を表し、Ａは、炭素数６～２０の（ｎ＋１）価の芳香族基を表し、Ｂは、ハロゲン原子で置換されたｑ価の炭素数６～２０の芳香族基を表し、ｎは、Ａに結合するスルホ基数を表し、１≦ｎ≦４を満たす整数であり、ｑは、Ｂと酸素原子との結合数を示し、１≦ｑを満たす整数である。）
で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を、有機溶媒中、下記式（３）
（式中、Ｒは、それぞれ独立して、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～１０のアルキル基を表すが、２つのＲが結合して窒素原子とともに環構造を形成してもよい。）
で表される塩基の存在下、１５℃以下で下記式（４）
（式中、Ｄ1は、置換または非置換の二価炭化水素基を示し、Ｄ2は、単結合、Ｏ、Ｓ、または置換もしくは非置換の２価アミノ基を示し、Ｄ3は、置換もしくは非置換の一価炭化水素基を示すが、Ｄ2が単結合である場合は水素原子であってもよい。）
で表されるアルコール化合物と反応させ下記式（５）
（式中、Ａ、Ｂ、Ｄ1、Ｄ2、Ｄ3、ｎおよびｑは、前記と同じ意味を表す。）
で表されるアリールスルホン酸エステル化合物を合成する工程を備え、
前記反応で使用する有機溶媒が、式（４）で表されるアルコール化合物、または、式（４）で表されるアルコール化合物と他の有機溶媒の混合溶媒である（ただし、式（４）で表されるアルコール化合物がプロピレングリコールモノエチルエーテルである場合、有機溶媒としてプロピレングリコールモノエチルエーテルのみを使用する場合を除く。）
ことを特徴とするアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
３． 前記式（３）で表される塩基が、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジンまたは４－モルフォリノピリジンである１または２のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
４． 前記アリールスルホン酸ハロゲン化物と前記アルコール化合物との反応が、－３０～１０℃で行われる１～３のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
５． 前記アリールスルホン酸ハロゲン化物と前記アルコール化合物との反応が、－２０～１０℃で行われる４のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
６． 前記式（３）で表される塩基が、前記アリールスルホン酸ハロゲン化物が有するスルホン酸ハライド基１ｍｏｌに対し、１．１ｍｏｌ以上用いられる１～５のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
７． 前記その他の有機溶媒が、エーテル類、ケトン類、ニトリル類、ラクタム類、およびアミド類からなる群より選ばれる１種以上である１～６のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
８． 前記Ｂが、その少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換されたｑ価の炭素数６～２０の芳香族基である１～７のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
９． 前記Ｂが、その全ての水素原子がフッ素原子で置換されたｑ価の炭素数６～２０の芳香族基である８のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
１０． 前記ｑが、２である１～９のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
１１． 前記Ｂが、下記式（Ｂ１）で表される２価の基である１０のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
１２． 前記ｑが、１である１～９のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
１３． 前記Ｂが、下記式（Ｂ２）～（Ｂ６）のいずれかで表される２価の基である１２のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
１４． 前記Ａが、ベンゼン環またはナフタレン環である１～１３のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
１５． 前記ハロゲン化試薬が、塩化チオニルである１、３～１４のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
１６． 前記第１工程において、アリールスルホン酸ハロゲン化物を合成した後、得られた反応液に貧溶媒を加えてアリールスルホン酸ハロゲン化物を析出させる操作を含む１、３～１５のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
１７． 下記式（１）
（式中、Ａは、炭素数６～２０の（ｎ＋１）価の芳香族基を表し、Ｂは、ハロゲン原子で置換されたｑ価の炭素数６～２０の芳香族基を表し、ｎは、Ａに結合するスルホ基数を表し、１≦ｎ≦４を満たす整数であり、ｑは、Ｂと酸素原子との結合数を示し、１≦ｑを満たす整数である。）
で表されるアリールスルホン酸化合物を、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド触媒の存在下でハロゲン化試薬と反応させて下記式（２）
（式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ａ、Ｂ、ｎおよびｑは、前記と同じ意味を表す。）
で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を製造する方法であって、
前記アリールスルホン酸化合物の１，２－ジメトキシエタン溶液またはジエチレングリコールジエチルエーテル溶液を前記ハロゲン化試薬中に滴下して、前記スルホ基をハロゲン化する工程、および
アリールスルホン酸ハロゲン化物を合成した後、得られた反応液に貧溶媒を加えてアリールスルホン酸ハロゲン化物を析出させる操作を含む
ことを特徴とするアリールスルホン酸ハロゲン化物の製造方法、
１８． 前記貧溶媒が、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、ニトリル類からなる群より選ばれる１種以上である１７のアリールスルホン酸ハロゲン化物の製造方法
を提供する。
１． 下記式（１）
【化1】
で表されるアリールスルホン酸化合物を、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド触媒の存在下でハロゲン化試薬と反応させて下記式（２）
【化2】
で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を製造する際に、前記アリールスルホン酸化合物の１，２－ジメトキシエタン溶液またはジエチレングリコールジエチルエーテル溶液を前記ハロゲン化試薬中に滴下して、前記スルホ基をハロゲン化して前記アリールスルホン酸ハロゲン化物を合成する第１工程と、
前記第１工程で得られたアリールスルホン酸ハロゲン化物を、有機溶媒中、下記式（３）
【化3】
で表される塩基の存在下、１５℃以下で下記式（４）
【化4】
で表されるアルコール化合物と反応させて下記式（５）
【化5】
で表されるアリールスルホン酸エステル化合物を合成する第２工程を備え、
前記第２工程の反応で使用する有機溶媒が、式（４）で表されるアルコール化合物、または、式（４）で表されるアルコール化合物と他の有機溶媒の混合溶媒である（ただし、式（４）で表されるアルコール化合物がプロピレングリコールモノエチルエーテルである場合、有機溶媒としてプロピレングリコールモノエチルエーテルのみを使用する場合を除く。）
ことを特徴とするアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
２． 下記式（２）
【化6】
で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を、有機溶媒中、下記式（３）
【化7】
で表される塩基の存在下、１５℃以下で下記式（４）
【化8】
で表されるアルコール化合物と反応させ下記式（５）
【化9】
で表されるアリールスルホン酸エステル化合物を合成する工程を備え、
前記反応で使用する有機溶媒が、式（４）で表されるアルコール化合物、または、式（４）で表されるアルコール化合物と他の有機溶媒の混合溶媒である（ただし、式（４）で表されるアルコール化合物がプロピレングリコールモノエチルエーテルである場合、有機溶媒としてプロピレングリコールモノエチルエーテルのみを使用する場合を除く。）
ことを特徴とするアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
３． 前記式（３）で表される塩基が、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジンまたは４－モルフォリノピリジンである１または２のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
４． 前記アリールスルホン酸ハロゲン化物と前記アルコール化合物との反応が、－３０～１０℃で行われる１～３のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
５． 前記アリールスルホン酸ハロゲン化物と前記アルコール化合物との反応が、－２０～１０℃で行われる４のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
６． 前記式（３）で表される塩基が、前記アリールスルホン酸ハロゲン化物が有するスルホン酸ハライド基１ｍｏｌに対し、１．１ｍｏｌ以上用いられる１～５のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
７． 前記その他の有機溶媒が、エーテル類、ケトン類、ニトリル類、ラクタム類、およびアミド類からなる群より選ばれる１種以上である１～６のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
８． 前記Ｂが、その少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換されたｑ価の炭素数６～２０の芳香族基である１～７のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
９． 前記Ｂが、その全ての水素原子がフッ素原子で置換されたｑ価の炭素数６～２０の芳香族基である８のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
１０． 前記ｑが、２である１～９のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
１１． 前記Ｂが、下記式（Ｂ１）で表される２価の基である１０のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
【化10】
１３． 前記Ｂが、下記式（Ｂ２）～（Ｂ６）のいずれかで表される２価の基である１２のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
【化11】
１５． 前記ハロゲン化試薬が、塩化チオニルである１、３～１４のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
１６． 前記第１工程において、アリールスルホン酸ハロゲン化物を合成した後、得られた反応液に貧溶媒を加えてアリールスルホン酸ハロゲン化物を析出させる操作を含む１、３～１５のいずれかのアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法、
１７． 下記式（１）
【化12】
で表されるアリールスルホン酸化合物を、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド触媒の存在下でハロゲン化試薬と反応させて下記式（２）
【化13】
で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を製造する方法であって、
前記アリールスルホン酸化合物の１，２－ジメトキシエタン溶液またはジエチレングリコールジエチルエーテル溶液を前記ハロゲン化試薬中に滴下して、前記スルホ基をハロゲン化する工程、および
アリールスルホン酸ハロゲン化物を合成した後、得られた反応液に貧溶媒を加えてアリールスルホン酸ハロゲン化物を析出させる操作を含む
ことを特徴とするアリールスルホン酸ハロゲン化物の製造方法、
１８． 前記貧溶媒が、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、ニトリル類からなる群より選ばれる１種以上である１７のアリールスルホン酸ハロゲン化物の製造方法
を提供する。
【発明の効果】
【0009】
本発明のアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法は、酸ハロゲン化物製造時のガス発生を適切に制御できるため安全性に優れ、また、エステル化反応における反応時間や収率等の再現性が高いだけでなく、反応速度が速く、かつ、目的物の収率も良好である。
さらに、本発明の製造方法は、ハロゲン化反応後およびエステル化反応後の濃縮乾固等の工程を簡略化できるという利点も有する。
このような特徴を有する本発明の製造方法は、ラボスケールでの合成方法としてだけでなく、量産化を目的とした工業的製法としても有用である。
さらに、本発明の製造方法は、ハロゲン化反応後およびエステル化反応後の濃縮乾固等の工程を簡略化できるという利点も有する。
このような特徴を有する本発明の製造方法は、ラボスケールでの合成方法としてだけでなく、量産化を目的とした工業的製法としても有用である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
（１）第１工程
本発明に係るアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法の第１工程は、上述のとおり、下記式（１）表されるアリールスルホン酸化合物を、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略記する。）触媒の存在下でハロゲン化試薬と反応させて下記式（２）で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を製造する際に、アリールスルホン酸化合物の１，２－ジメトキシエタン（以下、ＤＭＥとも略記する。）溶液またはジエチレングリコールジエチルエーテル（以下、ＤＥＧＤＥＥとも略記する。）溶液をハロゲン化試薬中に滴下して、スルホ基をハロゲン化する工程である。
（１）第１工程
本発明に係るアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法の第１工程は、上述のとおり、下記式（１）表されるアリールスルホン酸化合物を、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略記する。）触媒の存在下でハロゲン化試薬と反応させて下記式（２）で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を製造する際に、アリールスルホン酸化合物の１，２－ジメトキシエタン（以下、ＤＭＥとも略記する。）溶液またはジエチレングリコールジエチルエーテル（以下、ＤＥＧＤＥＥとも略記する。）溶液をハロゲン化試薬中に滴下して、スルホ基をハロゲン化する工程である。
【0011】
【化14】
【0012】
前記各式において、Ａは、炭素数６～２０の（ｎ＋１）価の芳香族基を表し、Ｂは、ハロゲン原子で置換されたｑ価の炭素数６～２０の芳香族基を表し、ｎは、Ａに結合するスルホ基数を表し、１≦ｎ≦４を満たす整数であり、ｑは、Ｂと酸素原子との結合数を示し、１≦ｑを満たす整数であり、Ｘは、ハロゲン原子を表す。
【0013】
Ａの炭素数６～２０の芳香族基としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、ビフェニル環等が挙げられるが、ナフタレン環、アントラセン環が好ましく、ナフタレン環がより好ましい。なお、Ａは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等のスルホ基以外の置換基で置換されていてもよい。
Ｂの炭素数６～２０の芳香族基としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、ビフェニル環等が挙げられるが、ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環が好ましくビフェニル環がより好ましい。
Ｂが有するハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられるが、フッ素原子が好ましい。なお、Ｂは、シアノ基、ニトロ基、パーフルオロアリル基等のハロゲン原子以外の置換基で置換されていてもよい。
Ｂは、その少なくとも１つ、好ましくは２つ以上、より一層好ましくは全ての水素原子がフッ素原子で置換された（パーフルオロ構造を有する）炭素数６～２０の芳香族基である。中でも、４－トリフルオロメチル－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基、４－シアノ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基、４－ニトロ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基、３，４－ジシアノ―２，５，６－トリフルオロフェニル基、４－パーフルオロアリル－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基、パーフルオロビフェニルジイル基が好ましく、パーフルオロビフェニル－４，４’－ジイル基、４－トリフルオロメチル－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基がより好ましい。
Ｂの炭素数６～２０の芳香族基としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、ビフェニル環等が挙げられるが、ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環が好ましくビフェニル環がより好ましい。
Ｂが有するハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられるが、フッ素原子が好ましい。なお、Ｂは、シアノ基、ニトロ基、パーフルオロアリル基等のハロゲン原子以外の置換基で置換されていてもよい。
Ｂは、その少なくとも１つ、好ましくは２つ以上、より一層好ましくは全ての水素原子がフッ素原子で置換された（パーフルオロ構造を有する）炭素数６～２０の芳香族基である。中でも、４－トリフルオロメチル－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基、４－シアノ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基、４－ニトロ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基、３，４－ジシアノ―２，５，６－トリフルオロフェニル基、４－パーフルオロアリル－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基、パーフルオロビフェニルジイル基が好ましく、パーフルオロビフェニル－４，４’－ジイル基、４－トリフルオロメチル－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基がより好ましい。
【0014】
また、ｎは、Ａに結合するスルホ基数を表し、１≦ｎ≦４を満たす整数であるが、２～４の整数が好ましく、２または３がより好ましく、２がより一層好ましい。
ｑは、Ｂと酸素原子との結合数を示し、１≦ｑを満たす整数であるが、１～４の整数が好ましく、１または２がより好ましく、２がより一層好ましい。
Ｘのハロゲン原子としては、前記Ｂで例示したものが挙げられるが、塩素原子、臭素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。
ｑは、Ｂと酸素原子との結合数を示し、１≦ｑを満たす整数であるが、１～４の整数が好ましく、１または２がより好ましく、２がより一層好ましい。
Ｘのハロゲン原子としては、前記Ｂで例示したものが挙げられるが、塩素原子、臭素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。
【0015】
本発明において好適なＡ－（ＳＯ3Ｈ）n基としては下記式（Ａ１）および（Ａ２）で表される基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中でも、（Ａ１）が好ましい。
【0016】
【化15】
【0017】
また、本発明において好適なＢは、下記式（Ｂ１）～（Ｂ６）で表されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中でも、（Ｂ１）が好適である。
【0018】
【化16】
【0019】
本発明の製造方法の第１工程の原料である前記式（１）で表されるアリールスルホン酸化合物の具体例としては、下記式で表されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0020】
【化17】
【0021】
第１工程において、アリールスルホン酸化合物のＤＭＥ溶液の調製に用いられるＤＭＥ 第１工程において、アリールスルホン酸化合物のＤＭＥ溶液またはＤＥＧＤＥＥ溶液の調製に用いられるＤＭＥまたはＤＥＧＤＥＥの量は、アリールスルホン酸化合物が溶解する量であれば特に制限はないが、アリールスルホン酸化合物の溶解性と滴下量とのバランスを考慮すると、質量比で、アリールスルホン酸１に対して、０．１～１０が好ましく、１～７がより好ましく、１～３がより一層好ましい。
【0022】
ハロゲン化試薬としては、従来公知のものから適宜選択して用いることができ、例えば、塩化チオニル、塩化オキサリル、塩化ホスホリル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン等が挙げられるが、反応性、安全性、作業性、価格等を考慮すると、塩化チオニルが好ましい。
ハロゲン化試薬の使用量は、アリールスルホン酸化合物が有する全てのスルホ基がハロゲン化される理論量以上であれば制限はないが、少なすぎると反応の進行が遅くなったり、触媒として使用するＤＭＦ由来の不純物が残存したりする場合があるため、反応速度、結晶化後のスルホン酸化合物の収率や純度、作業性、再現性、コストの点から、通常、アリールスルホン酸化合物に対して、通常１～１０質倍程度で用いられ、その下限値は、好ましくは１．５質量倍であり、その上限値は、好ましくは５質量倍、より好ましくは３．５質量倍である。
本発明では、ハロゲン化試薬そのものにアリールスルホン酸化合物のＤＭＥ溶液またはＤＥＧＤＥＥ溶液を滴下しても、ハロゲン化試薬と有機溶媒との混合物に前記ＤＭＥ溶液または前記ＤＥＧＤＥＥ溶液を滴下してもよい。この場合、用いられる有機溶媒としては、反応に影響しない有機溶媒であれば特に制限はないが、アリールスルホン酸化合物の溶解に用いられるＤＭＥまたはＤＥＧＤＥＥが好ましい。
ハロゲン化試薬の使用量は、アリールスルホン酸化合物が有する全てのスルホ基がハロゲン化される理論量以上であれば制限はないが、少なすぎると反応の進行が遅くなったり、触媒として使用するＤＭＦ由来の不純物が残存したりする場合があるため、反応速度、結晶化後のスルホン酸化合物の収率や純度、作業性、再現性、コストの点から、通常、アリールスルホン酸化合物に対して、通常１～１０質倍程度で用いられ、その下限値は、好ましくは１．５質量倍であり、その上限値は、好ましくは５質量倍、より好ましくは３．５質量倍である。
本発明では、ハロゲン化試薬そのものにアリールスルホン酸化合物のＤＭＥ溶液またはＤＥＧＤＥＥ溶液を滴下しても、ハロゲン化試薬と有機溶媒との混合物に前記ＤＭＥ溶液または前記ＤＥＧＤＥＥ溶液を滴下してもよい。この場合、用いられる有機溶媒としては、反応に影響しない有機溶媒であれば特に制限はないが、アリールスルホン酸化合物の溶解に用いられるＤＭＥまたはＤＥＧＤＥＥが好ましい。
【0023】
本発明の製造方法の第１工程では、反応加速、転化率向上を目的にＤＭＦ等の触媒を添加する。触媒として用いられるＤＭＦの使用量は、特に限定されるものではないが、少なすぎると反応の進行が遅くなる一方、多すぎるとＤＭＦ由来の不純物が生成するため、これらのバランスを考慮すると、アリールスルホン酸が有するスルホ基１ｍｏｌに対し、０．０２５ｍｏｌ以上が好ましく、０．０２５～０．２５ｍｏｌがより好ましく、０．０７５～０．１２５ｍｏｌがより一層好ましい。アリールスルホン酸１ｍｏｌに対するモル当量（以下、ｅｑと表記する）は、アリールスルホン酸が有するスルホ基の数に応じて適宜設定することができ、例えば、アリールスルホン酸が４つのスルホ基を有するものである場合、０．１ｅｑ以上が好ましく、０．１～１ｅｑがより好ましく、０．３～０．５ｅｑがより一層好ましい。
ＤＭＦ等の触媒は、滴下されるアリールスルホン酸のＤＭＥ溶液中またはＤＥＧＤＥＥ溶液中に添加しても、ハロゲン化試薬中に添加しても、その双方に添加してもよいが、反応速度、ガス発生制御のしやすさ、操作の簡便化等の点から、ハロゲン化試薬中に添加することが好ましい。
ＤＭＦ等の触媒は、滴下されるアリールスルホン酸のＤＭＥ溶液中またはＤＥＧＤＥＥ溶液中に添加しても、ハロゲン化試薬中に添加しても、その双方に添加してもよいが、反応速度、ガス発生制御のしやすさ、操作の簡便化等の点から、ハロゲン化試薬中に添加することが好ましい。
【0024】
反応温度は、反応が進行する限り特に制限されるものではないが、反応を速やかに進行させるとともに、酸性ガスの発生を適度に調節することを考慮すると、３０～８５℃程度が好ましく、５０～８５℃がより好ましく、６０～８０℃がより一層好ましい。
なお、アリールスルホン酸化合物のＤＭＥ溶液またはＤＥＧＤＥＥ溶液の滴下時に、ハロゲン化試薬を前記温度範囲に加熱しておくことが好適である。
なお、アリールスルホン酸化合物のＤＭＥ溶液またはＤＥＧＤＥＥ溶液の滴下時に、ハロゲン化試薬を前記温度範囲に加熱しておくことが好適である。
【0025】
反応時間は、用いる触媒の種類や量、反応温度等を考慮して適宜設定されるが、通常、１～４８時間程度である。
反応終了後は、貧溶媒を加えてアリールスルホン酸ハロゲン化物を析出させ、これをろ別し、洗浄、乾燥等をして目的物を得ることができる。本発明では、反応液に貧溶媒を加えてアリールスルホン酸ハロゲン化物を析出させることにより、反応液の濃縮により単離する方法に比べて、反応液に残存するハロゲン化試薬を容易かつ確実に除去することができるともに、再現性よく目的物を得ることができる。
反応終了後は、貧溶媒を加えてアリールスルホン酸ハロゲン化物を析出させ、これをろ別し、洗浄、乾燥等をして目的物を得ることができる。本発明では、反応液に貧溶媒を加えてアリールスルホン酸ハロゲン化物を析出させることにより、反応液の濃縮により単離する方法に比べて、反応液に残存するハロゲン化試薬を容易かつ確実に除去することができるともに、再現性よく目的物を得ることができる。
【0026】
貧溶媒としては、目的のアリールスルホン酸ハロゲン化物が沈殿し、かつ当該アリールスルホン酸ハロゲン化物の分解を促進する等の悪影響がないものであれば特に限定されず、例えば、脂肪族炭化水素類（ペンタン、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン、ｎ－オクタン、ｎ－デカン、デカリン等）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、メシチレン等）、ハロゲン化芳香族炭化水素類（クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン、ｍ－ジクロロベンゼン、ｐ－ジクロロベンゼン等）、エーテル類（ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ－ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ－ｎ－ブチルケトン、シクロヘキサノン等）、ニトリル類（アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等）などが挙げられ、これらの溶媒は単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。これらの中でも、脂肪族炭化水素類（ペンタン、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン、ｎ－オクタン、ｎ－デカン、デカリン等）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、メシチレン等）、エーテル類（ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ－ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ－ｎ－ブチルケトン、シクロヘキサノン等）、ニトリル類（アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等）が好ましく、トルエン、ｎ－ヘプタン、アセトニトリルがより好ましい。
【0027】
（２）第２工程
本発明に係るアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法の第２工程は、上述のとおり第１工程で得られたアリールスルホン酸ハロゲン化物を、有機溶媒中、下記式（３）で表される塩基の存在下、１５℃以下で下記式（４）で表されるアルコール化合物と反応させて下記式（５）で表されるアリールスルホン酸エステル化合物を合成する工程である。
本発明に係るアリールスルホン酸エステル化合物の製造方法の第２工程は、上述のとおり第１工程で得られたアリールスルホン酸ハロゲン化物を、有機溶媒中、下記式（３）で表される塩基の存在下、１５℃以下で下記式（４）で表されるアルコール化合物と反応させて下記式（５）で表されるアリールスルホン酸エステル化合物を合成する工程である。
【0028】
【化18】
【0029】
式（３）において、Ｒは、それぞれ独立して、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～１０のアルキル基を表すが、２つのＲが結合して窒素原子とともに環構造を形成してもよい。
【0030】
Ｒの炭素数１～１０のアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよく、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、ｎ－ヘキシル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、ｎ－ノニル、ｎ－デシル基等の炭素数１～１０の直鎖または分岐鎖状アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、ビシクロブチル、ビシクロペンチル基等の炭素数３～２０の環状アルキル基などが挙げられる。
また、ヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
これらの中でも、Ｒとしては、ヘテロ原子を含有していてもよい、炭素数１～５のアルキル基またはＲ同士が結合して形成される炭素数２～５のアルキレン基が好ましく、メチル、エチル、テトラメチレン、ペンタメチレン、３－オキサペンタメチレン基が好ましく、２つのＲがいずれもメチル基、２つのＲがいずれもエチル基、２つのＲが結合した３－オキサペンタメチレン基がより好ましい。
また、ヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
これらの中でも、Ｒとしては、ヘテロ原子を含有していてもよい、炭素数１～５のアルキル基またはＲ同士が結合して形成される炭素数２～５のアルキレン基が好ましく、メチル、エチル、テトラメチレン、ペンタメチレン、３－オキサペンタメチレン基が好ましく、２つのＲがいずれもメチル基、２つのＲがいずれもエチル基、２つのＲが結合した３－オキサペンタメチレン基がより好ましい。
【0031】
前記式（３）で表される塩基の具体例としては、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン（以下、ＤＭＡＰと略記する。）、Ｎ，Ｎ－ジエチル－４－アミノピリジン、４－モルフォリノピリジン（以下、４ＭＰと略記する。）等が挙げられるが、反応速度を高めるとともに、全てのスルホン酸ハライド基をエステル化して目的物の収率を高めることを考慮すると、ＤＭＡＰが最適である。
【0032】
式（３）で表される塩基の使用量は、特に限定されるものではないが、少なすぎると反応の進行が遅くなる一方、多すぎるとアリールスルホン酸ハロゲン化合物や目的物の分解が進行するため、反応速度を高めるとともに、全てのスルホン酸ハライド基をエステル化して目的物の収率を高めることを考慮すると、アリールスルホン酸ハロゲン化物が有するスルホン酸ハライド基１ｍｏｌに対し、１．１ｍｏｌ以上が好ましく、１．１～１．５ｍｏｌがより好ましく、１．１～１．３ｍｏｌがより一層好ましい。当該アリールスルホン酸ハロゲン化物１ｍｏｌに対するモル当量（ｅｑ）は、アリールスルホン酸ハロゲン化物が有するスルホン酸ハライド基の数に応じて適宜設定することができ、例えば、アリールスルホン酸ハロゲン化物が４つのスルホン酸ハライド基を有するものである場合、４．４ｅｑ以上が好ましく、４．４～６．０ｅｑがより好ましく、４．４～５．２ｅｑがより一層好ましい。
【0033】
【化19】
【0034】
式（４）において、Ｄ1は、置換または非置換の二価炭化水素基を示し、Ｄ2は、単結合、Ｏ、Ｓ、または置換もしくは非置換の２価アミノ基を示し、Ｄ3は、置換もしくは非置換の一価炭化水素基を示すが、Ｄ2が単結合である場合は水素原子であってもよい。
【0035】
Ｄ1の置換または非置換の二価炭化水素基としては、例えば、置換または非置換の炭素数１～５のアルキレン基、炭素数１～２アルキレンオキシ炭素数１～２アルキレン基、炭素数１～２アルキレンチオ炭素数１～２アルキレン基、炭素数１～２アルキレンカルボニル炭素数１～２アルキレン基や、これらの基の水素原子の一部または全部がさらに、水酸基、アミノ基、シラノール基、チオール基、カルボキシル基、スルホン酸エステル基、リン酸基、リン酸エステル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、ニトロ基、一価炭化水素基、オルガノオキシ基、オルガノアミノ基、オルガノシリル基、オルガノチオ基、アシル基、スルホン基、ハロゲン原子等で置換されたものが挙げられる。本発明では、炭素数１～５のアルキレン基が好ましい。炭素数１～５のアルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレンおよびペンタメチレン基が挙げられ、メチレン、エチレン、プロピレンおよびトリメチレン基が好ましい。
【0036】
Ｄ2は、単結合、Ｏ、Ｓ、または置換もしくは非置換の２価アミノ基であるが、本発明ではＯが好ましい。ここで、２価の置換アミノ基としては、－Ｎ（ＣＨ3）－、－Ｎ（Ｃ2Ｈ5）－、－Ｎ（Ｃ3Ｈ7）－等が挙げられる。
【0037】
Ｄ3は、置換もしくは非置換の一価炭化水素基を示すが、Ｄ2が単結合である場合は水素原子であってもよい。置換もしくは非置換の一価炭化水素基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉ－プロピル、ｎ－ブチル、ｉ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ヘキシル、ｎ－オクチル、２－エチルヘキシル、デシル基等のアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ビシクロヘキシル基等のビシクロアルキル基；ビニル、１－プロペニル、２－プロペニル、イソプロペニル、１－メチル－２－プロペニル、１－ブテニル、２－ブテニル、３－ブテニル、ヘキセニル基等のアルケニル基；フェニル、キシリル、トリル、ビフェニル、ナフチル基等の芳香環基（アリール基）；ベンジル、フェニルエチル、フェニルシクロヘキシル基等のアラルキル基や、これらの基の水素原子の一部または全部がさらに、上述した置換基で置換されたものが挙げられる。本発明では、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｎ－ブチルおよびフェニル基が好ましい。
【0038】
また、式（４）で表されるアルコール化合物は、前記Ｄ1、Ｄ2およびＤ3が一緒になって下記式（Ｄ’）で表される構造を有する、下記式（４’）で表されるアルコール化合物が好ましい。
【0039】
【化20】
【0040】
式（Ｄ’）および式（４’）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子、直鎖状若しくは分岐状の一価脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ3は、直鎖状もしくは分岐状の一価脂肪族炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ただし、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計は２以上である。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計は、特に限定されないが、２０以下が好ましく、１０以下がより好ましい。
【0041】
前記直鎖状若しくは分岐状の一価脂肪族炭化水素基としては、特に限定されないが、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉ－プロピル、ｎ－ブチル、ｉ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ヘキシル、ｎ－オクチル、２－エチルヘキシル、デシル基等の炭素数１～１８のアルキル基；ビニル、１－プロペニル、２－プロペニル、イソプロペニル、１－メチル－２－プロペニル、１－ブテニル、２－ブテニル、３－ブテニル、ヘキセニル基等の炭素数２～１８のアルケニル基等が挙げられる。
【0042】
アルコキシ基としては、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、ｉ－プロポキシ、ｎ－ブトキシ、ｓ－ブトキシ、ｔ－ブトキシ、ｎ－ペントキシおよびフェノキシ基等が挙げられる。
【0043】
Ｒ1としては、メチル基がより好ましい。Ｒ2としては、水素原子が好ましい。Ｒ3としては、アルコキシ基が好ましく、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、ｎ－ブトキシおよびフェノキシ基がより好ましく、エトキシ、ｎ－ブトキシおよびフェノキシ基がより一層好ましい。
【0044】
式（４）で表されるアルコール化合物の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ｉ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔ－ブタノール、ｎ－ペンタノール、ｎ－ヘキサノール、シクロヘキサノール、ｎ－ヘプタノール、シクロヘプタノール、ｎ－オクタノール、２－エチル－１－ヘキサノール、ｎ－ノナノール、３－ノナノール、２－ブチル－１－オクタノール等のアルコール類；プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル等のグリコールモノエーテル類などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
これらの中でも、２－エチル－１－ヘキサノール、２－ブチル－１－オクタノール、１－オクタノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテルが好ましい。
これらの中でも、２－エチル－１－ヘキサノール、２－ブチル－１－オクタノール、１－オクタノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテルが好ましい。
【0045】
アルコール化合物の使用量は、特に限定されるものではないが、反応速度や塩基の溶解性の観点から、質量比で、アリールスルホン酸ハロゲン化物１に対し、２～１０が好ましく、３～７がより好ましく、３．５～６がより一層好ましい。
また、アリールスルホン酸ハロゲン化物とアルコール化合物の溶液またはスラリー中のアルコール化合物の量は、質量比で、アリールスルホン酸ハロゲン化物１に対し、２～１０が好ましく、３～６がより好ましい。
また、アリールスルホン酸ハロゲン化物とアルコール化合物の溶液またはスラリー中のアルコール化合物の量は、質量比で、アリールスルホン酸ハロゲン化物１に対し、２～１０が好ましく、３～６がより好ましい。
【0046】
【化21】
【0047】
また、前記式（５）で表されるアリールスルホン酸エステル化合物の好ましい態様としては、例えば、下記式（５’）で表されるアリールスルホン酸エステル化合物を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
【0048】
【化22】
【0049】
第２工程の反応は、式（２）で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物を、有機溶媒中、式（３）で表される塩基の存在下、１５℃以下で式（４）で表されるアルコール化合物と反応させて式（５）で表されるアリールスルホン酸エステル化合物を好適に与える限り、その操作は特に限定されるものではなく、式（２）で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物と、式（４）で表されるアルコール化合物および有機溶媒のいずれか一方または両方との混合溶液またはスラリー中に、式（４）で表されるアルコール化合物および有機溶媒のいずれか一方または両方と、式（３）で表される塩基との混合溶液を滴下してもよいが、式（２）で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物や目的物の安定性、反応速度、塩基の溶解性、作業性、反応時の温度管理の容易性等を考慮すると、式（２）で表されるアリールスルホン酸ハロゲン化物と式（４）で表されるアルコール化合物との溶液またはスラリー中に、式（４）で表されるアルコール化合物と有機溶媒と式（３）で表される塩基との混合溶液あるいは有機溶媒と式（３）で表される塩基との混合溶液を滴下することが望ましい。この場合において、滴下させる組成物（例えば、滴下ロート内の組成物）とその滴下を受ける組成物（例えば、反応フラスコ内の組成物）のいずれにも式（４）で表されるアルコール化合物を含める場合、高収率で目的のエステル体を得る観点から、そのエステル体に対応するアルコール化合物のみを用いる必要がある。
【0050】
前記有機溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に制限はない。その具体例としては、脂肪族炭化水素類（ペンタン、ｎ－ヘキサン、ｎ－オクタン、ｎ－デカン、デカリン等）、ハロゲン化脂肪族炭化水素類（クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、メシチレン等）、ハロゲン化芳香族炭化水素類（クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン、ｍ－ジクロロベンゼン、ｐ－ジクロロベンゼン等）、エーテル類（ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ－ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ－ｎ－ブチルケトン、シクロヘキサノン等）、アミド類（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等）、ラクタムおよびラクトン類（Ｎ－メチル－２－ピロリドン、γ－ブチロラクトン等）、尿素類（Ｎ，Ｎ－ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチルウレア等）、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド、スルホラン等）、ニトリル類（アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等）などが挙げられる。
また、第２工程の反応で用い得る有機溶媒としては、上述の有機溶媒のほか、式（４）で表されるアルコール化合物も用い得る。つまり、本発明においては、式（４）で表されるアルコール化合物は、原料化合物と有機溶媒の両方として機能し得る。
なお、溶媒は単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
また、第２工程の反応で用い得る有機溶媒としては、上述の有機溶媒のほか、式（４）で表されるアルコール化合物も用い得る。つまり、本発明においては、式（４）で表されるアルコール化合物は、原料化合物と有機溶媒の両方として機能し得る。
なお、溶媒は単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
【0051】
これらの中でも、エーテル類（ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ－ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ－ｎ－ブチルケトン、シクロヘキサノン等）、ニトリル類（アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等）、ラクタム類（Ｎ－メチル－２－ピロリドン等）が好ましく、アセトニトリル、プロピオニトリル、テトラヒドロフラン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（以下、ＮＭＰと略記する）がより好ましい。
前記有機溶媒の使用量は、反応に影響せず、前記式（３）で表される塩基を含む混合溶液を滴下する場合は当該塩基を溶解する量であれば特に限定されるものではないが、多すぎると反応が遅くなり、少なすぎると反応が完結しないことから、質量比で、アリールスルホン酸ハロゲン化物１に対し、通常１～１０であり、２～１０が好ましく、２～７がより好ましく、２～６がより一層好ましく、２～４が更に好ましい。
また、前記式（３）で表される塩基を溶解できない量の有機溶媒を用いる場合は、質量比で、アリールスルホン酸ハロゲン化物１に対し、目的のエステル体に対応するアルコール化合物１～２をそこへ加えて当該塩基を溶解させ得る。
前記有機溶媒の使用量は、反応に影響せず、前記式（３）で表される塩基を含む混合溶液を滴下する場合は当該塩基を溶解する量であれば特に限定されるものではないが、多すぎると反応が遅くなり、少なすぎると反応が完結しないことから、質量比で、アリールスルホン酸ハロゲン化物１に対し、通常１～１０であり、２～１０が好ましく、２～７がより好ましく、２～６がより一層好ましく、２～４が更に好ましい。
また、前記式（３）で表される塩基を溶解できない量の有機溶媒を用いる場合は、質量比で、アリールスルホン酸ハロゲン化物１に対し、目的のエステル体に対応するアルコール化合物１～２をそこへ加えて当該塩基を溶解させ得る。
【0052】
本発明において好適なＡ－（ＳＯ3－Ｄ1－Ｄ2－Ｄ3）n基としては下記式（Ａ３）および（Ａ４）で表される基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中でも、（Ａ３）が好ましい。
【0053】
【化23】
【0054】
また、Ａ－（ＳＯ3－Ｄ1－Ｄ2－Ｄ3）n基のより好ましい態様としては、下記式（Ａ３’）および（Ａ４’）で表される基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中でも、（Ａ３’）が好ましい。
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、前記と同じ意味を表す。）
【化24】
【0055】
また、本発明の第２工程において好適なＢは、第１工程で好適なものと同様である。
【0056】
本発明の製造方法で得られるアリールスルホン酸エステル化合物の好適な態様としては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0057】
【化25】
【0058】
また、本発明の製造方法で得られるアリールスルホン酸エステル化合物のより好適な態様としては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0059】
【化26】
【0060】
第２工程の反応系中の水分量は、反応を良好に進行させるという観点から、１０ｍｏｌ％以下が好ましく、８ｍｏｌ％以下がより好ましく、７ｍｏｌ％以下がより一層好ましい。なお下限値は特に限定されないが、通常、１ｍｏｌ％程度である。
したがって、第２工程で用いられる試薬は、脱水されたものを用いることが好ましく、特に有機溶媒は含有水分量が５０ｐｐｍ未満のものを用いることが好ましい。
したがって、第２工程で用いられる試薬は、脱水されたものを用いることが好ましく、特に有機溶媒は含有水分量が５０ｐｐｍ未満のものを用いることが好ましい。
【0061】
第２工程の好適な態様としては、エステル化に用いられるアルコール化合物、式（３）で表される塩基およびＮＭＰあるいはアセトニトリルを含む有機溶媒の混合溶液を、アリールスルホン酸ハロゲン化物をエステル化に用いられるアルコール化合物に溶解または懸濁させた液中に滴下法にて添加する手法が挙げられるが、これに限定されるものではない。
なお、この場合、ＮＭＰあるいはアセトニトリルの添加量は、質量比で、アリールスルホン酸ハロゲン化物１に対し、通常１～１０であり、２～１０が好ましく、２～７がより好ましく、２～６がより一層好ましく、２～４が更に好ましい。
なお、この場合、ＮＭＰあるいはアセトニトリルの添加量は、質量比で、アリールスルホン酸ハロゲン化物１に対し、通常１～１０であり、２～１０が好ましく、２～７がより好ましく、２～６がより一層好ましく、２～４が更に好ましい。
【0062】
本発明では、反応時間を適切にするとともに副反応を抑制するという点から、第２工程の反応温度が１５℃以下とされるが、－３０～１２℃が好ましく、－２５～１０℃がより好ましく、－２０～１０℃がより一層好ましく、－１５～０℃がさらに好ましく、－１５～－５℃が特に好ましい。
反応時間は、用いる塩基の量、反応温度等を考慮して適宜決定されるが、通常、１～４８時間程度である。反応終了（完結）後に長時間放置しておくと、副反応物が増加することがあるため、反応終了後は速やかに後処理することが好ましい。反応が終了したか否かは、例えば液体クロマトグラフィーを用いた反応追跡で確認できるが、この方法に限定されない。
反応終了後は、反応液をろ過し、ろ物を酢酸エチル等の溶媒で洗浄、塩酸水溶液、塩化アンモニウム水溶液等による洗浄等を行って目的物を得ることができる。なお、目的物の分解を抑制する観点から、洗浄工程も低温下で行うことが好ましく、その温度は、通常１０℃以下であり、その下限値は、溶液が凍結しない限り特に限定されるものではないが、通常－１０℃程度である。
反応時間は、用いる塩基の量、反応温度等を考慮して適宜決定されるが、通常、１～４８時間程度である。反応終了（完結）後に長時間放置しておくと、副反応物が増加することがあるため、反応終了後は速やかに後処理することが好ましい。反応が終了したか否かは、例えば液体クロマトグラフィーを用いた反応追跡で確認できるが、この方法に限定されない。
反応終了後は、反応液をろ過し、ろ物を酢酸エチル等の溶媒で洗浄、塩酸水溶液、塩化アンモニウム水溶液等による洗浄等を行って目的物を得ることができる。なお、目的物の分解を抑制する観点から、洗浄工程も低温下で行うことが好ましく、その温度は、通常１０℃以下であり、その下限値は、溶液が凍結しない限り特に限定されるものではないが、通常－１０℃程度である。
【0063】
本発明の製造方法で好適に得られるアリールスルホン酸エステル化合物の具体例としては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0064】
【化27】
【0065】
なお、前記説明では、第１工程で得られたアリールスルホン酸ハロゲン化物を用いた第２工程の方法によるエステル化について言及したが、本発明における第２工程の方法は、第１工程の方法以外の方法で製造されたアリールスルホン酸ハロゲン化物のエステル化に適用できるものであり、その原料は、第１工程で得られたハロゲン化物に限定されるものではない。
【実施例0066】
以下、実施例および比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、使用した装置は以下のとおりである。また、実施例および比較例において、質量倍は、各工程の出発物質である後述のアリールスルホン酸ＸもしくはＸ－２、またはアリールスルホン酸Ｘ－ＣｌもしくはＸ－Ｃｌ－２の１質量部に対する質量比を意味する。
【0067】
ＰＧＥＥ：プロピレングリコールモノエチルエーテル
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
ＭｅＣＮ：アセトニトリル
ＤＭＥ：１，２－ジメトキシエタン
ＤＭＡｃ：Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＤＭＡＰ：Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン
４ＭＰ：４－モルフォリノピリジン
ＮＭＩ：Ｎ－メチルイミダゾール
Ｅｔ3Ｎ：トリエチルアミン
Ｐｙ：ピリジン
ＮＥＭ：Ｎ－エチルモルフォリン
ＤＥＧＤＥＥ：ジエチレングリコールジエチルエーテル
ＳＯＣｌ2：塩化チオニル
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
ＭｅＣＮ：アセトニトリル
ＤＭＥ：１，２－ジメトキシエタン
ＤＭＡｃ：Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＤＭＡＰ：Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン
４ＭＰ：４－モルフォリノピリジン
ＮＭＩ：Ｎ－メチルイミダゾール
Ｅｔ3Ｎ：トリエチルアミン
Ｐｙ：ピリジン
ＮＥＭ：Ｎ－エチルモルフォリン
ＤＥＧＤＥＥ：ジエチレングリコールジエチルエーテル
ＳＯＣｌ2：塩化チオニル
【0068】
［1Ｈ－ＮＭＲ］
装置：Ｖａｒｉａｎ社製、フーリエ変感型超伝導核磁気共鳴装置（ＦＴ－ＮＭＲ）「ＩＮＯＶＡ－４００」４００ＭＨｚ
溶媒：ＤＭＳＯ－ｄ６、ＣＤＣｌ3
内標準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）
装置：Ｖａｒｉａｎ社製、フーリエ変感型超伝導核磁気共鳴装置（ＦＴ－ＮＭＲ）「ＩＮＯＶＡ－４００」４００ＭＨｚ
溶媒：ＤＭＳＯ－ｄ６、ＣＤＣｌ3
内標準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）
【0069】
［ＬＣ－ＭＳ］
装置：Ｑ－Ｅｘａｃｔｉｖｅ（Ｔｈｅｒｍｏ製）
モード：ＡＰＣＩ－ＡＰＰＩ
カラム：ＸＢｒｉｄｇｅ Ｃ１８，２．１ｍｍ×１５０ｍｍ，５μｍ
流速：０．２２ｍＬ／ｍｉｎ
温度：４５℃
装置：Ｑ－Ｅｘａｃｔｉｖｅ（Ｔｈｅｒｍｏ製）
モード：ＡＰＣＩ－ＡＰＰＩ
カラム：ＸＢｒｉｄｇｅ Ｃ１８，２．１ｍｍ×１５０ｍｍ，５μｍ
流速：０．２２ｍＬ／ｍｉｎ
温度：４５℃
【0070】
［ＨＰＬＣ］
＜ＨＰＬＣ分析液の調製＞
後述のアリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥの合成工程で得た反応液およびその原材料であるアリールスルホン酸Ｘ－ＣｌのＨＰＬＣ分析では、ＣＨ3ＣＮを用いて未反応の酸クロライドをアミド体としたものを用いて分析を行った。
＜ＨＰＬＣ分析液の調製＞
後述のアリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥの合成工程で得た反応液およびその原材料であるアリールスルホン酸Ｘ－ＣｌのＨＰＬＣ分析では、ＣＨ3ＣＮを用いて未反応の酸クロライドをアミド体としたものを用いて分析を行った。
【0071】
【化28】
【0072】
＜分析条件＞
装置：（株）島津製作所製、液体クロマトグラフ「Ｐｒоｍｉｎｅｎｃｅ－ｉ」
カラム：Ｐｏｒｏｓｈｅｌｌ １２０ ＥＣ－Ｃ１８ ２．７μｍ、３．０×５０ｍｍ（Ａｇｉｌｅｎｔ）
オーブン：４０℃
検出波長：２５４ｎｍ
流速：０．８ｍＬ／分
溶離液：グラジエント
（Ａ）水：（Ｂ）アセトニトリル
グラジエント条件；０－５分（Ｂ４０Ａ６０→Ｂ１００）、５－１５分（Ｂ１００）、
１５－２０分（Ｂ１００→Ｂ４０Ａ６０）、２０－３０分（Ｂ４０Ａ６０）
サンプル注入量：２μＬ
データ採取時間：２０分
装置：（株）島津製作所製、液体クロマトグラフ「Ｐｒоｍｉｎｅｎｃｅ－ｉ」
カラム：Ｐｏｒｏｓｈｅｌｌ １２０ ＥＣ－Ｃ１８ ２．７μｍ、３．０×５０ｍｍ（Ａｇｉｌｅｎｔ）
オーブン：４０℃
検出波長：２５４ｎｍ
流速：０．８ｍＬ／分
溶離液：グラジエント
（Ａ）水：（Ｂ）アセトニトリル
グラジエント条件；０－５分（Ｂ４０Ａ６０→Ｂ１００）、５－１５分（Ｂ１００）、
１５－２０分（Ｂ１００→Ｂ４０Ａ６０）、２０－３０分（Ｂ４０Ａ６０）
サンプル注入量：２μＬ
データ採取時間：２０分
【0073】
下記式（Ｐ）で表される化合物の構造とＨＰＬＣの保持時間との関係を表１および表２に記す。ここで、下記式（Ｐ）のＲ1～Ｒ4に関し、表中の「Ｃｌ」は、未反応のＣｌがｎ－Ｂｕ2Ｎ化されたものであることを示し、「Ａ」は、下記式（Ｑ）で表される基であることを示す。
【0074】
【化29】
【化30】
【0075】
【表1】
【0076】
【表2】
【0077】
後述の実施例および比較例では、反応液のＨＰＬＣ測定により得られたクロマトグラムに現れた各ピークについてピーク面積を算出し、表１および表２に示した保持時間との関係に基づいて、当該反応液に含まれる生成物の比率を求めた。
【0078】
［実施例１－１］ アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌの合成
下記の手順に従い、スルホニルハライド化合物（アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ）を合成した。
下記の手順に従い、スルホニルハライド化合物（アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ）を合成した。
【化31】
【0079】
窒素雰囲気下、１Ｌ四つ口フラスコに塩化チオニル２４５ｇ（３質量倍）、ＤＭＦ ２．６ｇ（０．４ｅｑ）を加え、７３℃にて１時間撹拌した。４０℃にて、ＤＭＥ ２３２ｇ（２．９質量倍）にアリールスルホン酸Ｘ ３０ｇを加え溶解した。さらにアリールスルホン酸Ｘ ３０ｇ、アリールスルホン酸Ｘ ２０ｇを分割して加え溶解後、滴下漏斗に移し替え、１，２－ジメトキシエタン８ｇ（０．１質量倍）で洗浄した。この溶液を７３℃にて塩化チオニル、ＤＭＦの混合溶液に４時間かけて滴下し、１９時間撹拌した。この際、反応終了まで酸性ガスが発生するため、還流管の上部より水酸化ナトリウム水溶液へ通じて系外に放出した。また、この際、塊は発生せず、撹拌も良好であった。また、滴下途中でアリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌが析出した。１９時間後の反応液をＨＰＬＣ分析したところ、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ（９８．０％）、３置換体（０．３％）であった。
反応の終結を確認後、ｎ－ヘプタン２４０ｇ（３質量倍）を７３℃から６０℃にて１時間かけて滴下した。滴下終了後、２５℃まで２時間かけて冷却し、２時間撹拌した。析出したアリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌを窒素加圧ろ過し、質量比４：１のｎ－ヘプタン：１，２－ジメトキシエタン溶液１６０ｇ（２質量倍）でろ取物を３回洗浄した。この後、ｎ－ヘプタン８０ｇ（１質量倍）でろ取物を２回洗浄した。得られた結晶を６０℃にて減圧乾燥を行い、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌを８０．６ｇ得た（収率：９３．１％、ＬＣ ａｒｅａ：９８．０％）。1Ｈ－ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
1Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．４９（ｓ、２Ｈ）、８．３９、８．４２（ｄ、Ｊ＝０．０３Ｈｚ，２Ｈ）、８．６４（ｓ、２Ｈ）、８．７８、８．８１（ｄ、Ｊ＝０．０３Ｈｚ，２Ｈ）、８．８７、８．８８（ｄ，Ｊ＝０．０１Ｈｚ，２Ｈ）
実施例１－１では、塩化チオニルのＤＭＦ溶液にアリールスルホン酸ＸのＤＭＥ溶液を滴下することで、撹拌不良がなく、酸性ガスの発生量を調整することが可能となり、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌを安全かつ効率よく製造できることが確認された。
反応の終結を確認後、ｎ－ヘプタン２４０ｇ（３質量倍）を７３℃から６０℃にて１時間かけて滴下した。滴下終了後、２５℃まで２時間かけて冷却し、２時間撹拌した。析出したアリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌを窒素加圧ろ過し、質量比４：１のｎ－ヘプタン：１，２－ジメトキシエタン溶液１６０ｇ（２質量倍）でろ取物を３回洗浄した。この後、ｎ－ヘプタン８０ｇ（１質量倍）でろ取物を２回洗浄した。得られた結晶を６０℃にて減圧乾燥を行い、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌを８０．６ｇ得た（収率：９３．１％、ＬＣ ａｒｅａ：９８．０％）。1Ｈ－ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
1Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．４９（ｓ、２Ｈ）、８．３９、８．４２（ｄ、Ｊ＝０．０３Ｈｚ，２Ｈ）、８．６４（ｓ、２Ｈ）、８．７８、８．８１（ｄ、Ｊ＝０．０３Ｈｚ，２Ｈ）、８．８７、８．８８（ｄ，Ｊ＝０．０１Ｈｚ，２Ｈ）
実施例１－１では、塩化チオニルのＤＭＦ溶液にアリールスルホン酸ＸのＤＭＥ溶液を滴下することで、撹拌不良がなく、酸性ガスの発生量を調整することが可能となり、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌを安全かつ効率よく製造できることが確認された。
【0080】
［実施例１－２］ アリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥの合成
【化32】
【0081】
窒素雰囲気下、５００ｍＬ四つ口フラスコにアリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ６０．０ｇ、脱水ＰＧＥＥ １８０ｇ（３質量倍）を加え、－３℃まで冷却した。冷却後、ＤＭＡＰ ２９．０ｇ（３．９ｅｑ）、脱水ＮＭＰ １２８．６ｇ（２．１質量倍）、脱水ＰＧＥＥ ５１．４ｇ（０．９質量倍）の混合溶液を－３℃から－０．６℃で４５分かけて滴下した。その後、ＤＭＡＰ（４．８ｇ、０．６ｅｑ）、脱水ＮＭＰ ２１．４ｇ（０．４質量倍）、脱水ＰＧＥＥ ８．６ｇ（０．１質量倍）の混合溶液を－１．７℃から－１．１℃で３時間かけて滴下し、－４．８℃で２１時間撹拌した。２１時間後の反応液をＨＰＬＣ分析したところ、アリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥ（９６．２％）、３置換体（３．３％）、原料＋中間体（０．０２％）であった。その後、反応液をろ過し、４℃に冷却した酢酸エチル１２０ｇ（２質量倍）でろ取物を２回洗浄した。得られたろ液を５．５℃まで昇温し、４℃に冷却した酢酸エチル３６０ｇ（６質量倍）を加え撹拌した。５℃から８℃にて、５℃に冷却した１５質量％塩化アンモニウム水溶液６００ｇ（１０質量倍）を滴下し、５℃にて１０分撹拌を続けた後３分静置した。水層を除去した後に撹拌を再開し、５℃に冷却した１５質量％塩化アンモニウム水溶液６００ｇ（１０質量倍）を再度５℃から５．５℃にて、滴下し、５℃にて１０分撹拌を続けた後５分静置した。水層を除去した後に撹拌を再開し、５℃に冷却した１５質量％塩化アンモニウム水溶液３００ｇ（５質量倍）を５℃にて滴下し、５℃にて１０分撹拌を続けた後７分静置した。水層を除去した後、ジイソプロピルエーテル２７０ｇ（４．５質量倍）を加えた。９５ｍｍ桐山漏斗に酢酸エチル：ジイソプロピルエーテル＝２：１（質量比）の溶液７２０ｇ（１２質量倍）で懸濁した中性シリカゲル６０Ｎ ２４０ｇ（４質量倍）を充填し、分液後の溶液をろ過した。ろ過後、さらに質量比２：１の酢酸エチル：ジイソプロピルエーテル溶液１，８８０ｇ（３１質量倍）でろ過し、ろ過器上のシリカゲルを洗浄した。得られた溶液を２５℃で４６２ｇ（７．７質量倍）まで減圧濃縮し、酢酸エチル（８２ｇ、１．３質量倍）を加え、全量を５４０ｇ（９質量倍）に調整した。この溶液を３℃まで冷却し、撹拌しながらイソプロパノール（１，５００ｇ、２５質量倍）を３℃から５℃にて１時間かけて滴下後、３℃にて２３時間撹拌した。アリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥ析出を確認後、この溶液を２５℃で９００ｇ（１５質量倍）まで減圧濃縮し、イソプロパノール（１，２００ｇ、２０質量倍）を加えた。再度溶液を２５℃で９００ｇ（１５質量倍）まで減圧濃縮し、イソプロパノール１，２００ｇ（２０質量倍）を加えた。析出物をろ過し、ろ取物をジイソプロピルエーテル１２０ｇ（２質量倍）で２回洗浄した。得られた結晶を２５℃、５ｈＰａで１２時間、４０℃、５ｈＰａで５時間減圧乾燥し、アリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥを７２．２ｇ得た（収率：９４．２％、ＬＣ ａｒｅａ：９９．４％）。1Ｈ－ＮＭＲおよびＬＣ／ＭＳの測定結果を以下に示す。
1Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ０．９２－０．９７（ｍ、１２Ｈ）、１．３４ ａｎｄ １．４０（ａ ｐａｉｒ ｏｆ ｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ，１２Ｈ）、３，３２－３，５２（ｍ、１６Ｈ）、４．８０－４．８７（ｍ、４Ｈ）、７．３７（ｓ、２Ｈ）、８．２２（ｄ、Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、８．４５（ｓ，２Ｈ）、８．６１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、８．６９（ｓ，２Ｈ）
ＬＣ／ＭＳ（ＥＳＩ+） ｍ／ｚ； １２６４［Ｍ＋ＮＨ4］+
1Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ０．９２－０．９７（ｍ、１２Ｈ）、１．３４ ａｎｄ １．４０（ａ ｐａｉｒ ｏｆ ｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ，１２Ｈ）、３，３２－３，５２（ｍ、１６Ｈ）、４．８０－４．８７（ｍ、４Ｈ）、７．３７（ｓ、２Ｈ）、８．２２（ｄ、Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、８．４５（ｓ，２Ｈ）、８．６１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、８．６９（ｓ，２Ｈ）
ＬＣ／ＭＳ（ＥＳＩ+） ｍ／ｚ； １２６４［Ｍ＋ＮＨ4］+
【0082】
［実施例２］
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに脱水ＰＧＥＥ６００ｍｇ（３質量倍）を加え、－１０℃にてＤＭＡＰ １１３ｍｇ（４．５ｅｑ）、脱水ＮＭＰ ５００ｍｇ（２．５質量倍）、ＰＧＥＥ ２００ｍｇ（１質量倍）の混合溶液を約１分かけて滴下し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに脱水ＰＧＥＥ６００ｍｇ（３質量倍）を加え、－１０℃にてＤＭＡＰ １１３ｍｇ（４．５ｅｑ）、脱水ＮＭＰ ５００ｍｇ（２．５質量倍）、ＰＧＥＥ ２００ｍｇ（１質量倍）の混合溶液を約１分かけて滴下し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
【0083】
［実施例３］
塩基を４ＭＰに変更した以外は、実施例２と同様の操作でアリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥの合成およびＨＰＬＣによる分析を実施した。
塩基を４ＭＰに変更した以外は、実施例２と同様の操作でアリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥの合成およびＨＰＬＣによる分析を実施した。
【0084】
［比較例１］
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに０℃にて脱水クロロホルム１．６６ｇ（８．３質量倍）、脱水ピリジン７２０ｍｇ（３．６質量倍）を５分かけて滴下、脱水ＰＧＥＥ ２６０ｍｇ（１．３質量倍）を３分かけて滴下した後、２５℃まで昇温し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに０℃にて脱水クロロホルム１．６６ｇ（８．３質量倍）、脱水ピリジン７２０ｍｇ（３．６質量倍）を５分かけて滴下、脱水ＰＧＥＥ ２６０ｍｇ（１．３質量倍）を３分かけて滴下した後、２５℃まで昇温し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
【0085】
［比較例２］
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに－１０℃にて脱水クロロホルム１．６６ｇ（８．３質量倍）を加えた。－１０℃にて脱水ピリジン７２０ｍｇ（３．６質量倍）を１分かけて滴下し、脱水ＰＧＥＥ ２６０ｍｇ（１．３質量倍）を３分かけて滴下し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに－１０℃にて脱水クロロホルム１．６６ｇ（８．３質量倍）を加えた。－１０℃にて脱水ピリジン７２０ｍｇ（３．６質量倍）を１分かけて滴下し、脱水ＰＧＥＥ ２６０ｍｇ（１．３質量倍）を３分かけて滴下し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
【0086】
［比較例３］
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに－１０℃にて脱水ピリジン７２０ｍｇ（３．６質量倍）を２分かけて滴下し、脱水ＰＧＥＥ ２６０ｍｇ（１．３質量倍）を３分かけて滴下し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに－１０℃にて脱水ピリジン７２０ｍｇ（３．６質量倍）を２分かけて滴下し、脱水ＰＧＥＥ ２６０ｍｇ（１．３質量倍）を３分かけて滴下し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
【0087】
［比較例４］
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに－１０℃にて脱水ピリジン７２０ｍｇ（３．６質量倍）を２分かけて滴下し、脱水ＰＧＥＥ ８００ｍｇ（４質量倍）を３分かけて滴下し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに－１０℃にて脱水ピリジン７２０ｍｇ（３．６質量倍）を２分かけて滴下し、脱水ＰＧＥＥ ８００ｍｇ（４質量倍）を３分かけて滴下し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
【0088】
［比較例５］
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに－１０℃にて脱水ピリジン２００ｍｇ（１質量倍）を１分かけて滴下し、脱水ＰＧＥＥ ２６０ｍｇ（１．３質量倍）を３分かけて滴下し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに－１０℃にて脱水ピリジン２００ｍｇ（１質量倍）を１分かけて滴下し、脱水ＰＧＥＥ ２６０ｍｇ（１．３質量倍）を３分かけて滴下し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
【0089】
［比較例６］
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに脱水ＰＧＥＥ ８００ｍｇ（４質量倍）を加え、－１０℃にて脱水ピリジン ７００ｍｇ（３．５質量倍）を１分かけて滴下し、４時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに脱水ＰＧＥＥ ８００ｍｇ（４質量倍）を加え、－１０℃にて脱水ピリジン ７００ｍｇ（３．５質量倍）を１分かけて滴下し、４時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
【0090】
［比較例７］
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに脱水ＰＧＥＥ ８００ｍｇ（４質量倍）を加え、０℃にて脱水ピリジン７００ｍｇ（４３．６ｅｑ）を１分かけて滴下し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに脱水ＰＧＥＥ ８００ｍｇ（４質量倍）を加え、０℃にて脱水ピリジン７００ｍｇ（４３．６ｅｑ）を１分かけて滴下し、２３時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
【0091】
［比較例８］
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ １０ｇに脱水ＰＧＥＥ ３０ｇ（３質量倍）を加え、１℃から４．５℃でＤＭＡＰ ５．６３ｇ（４．５ｅｑ）、脱水ＰＧＥＥ ３５ｇ（３．５質量倍）の混合溶液を１時間かけて滴下し、４．５℃にて２５時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ １０ｇに脱水ＰＧＥＥ ３０ｇ（３質量倍）を加え、１℃から４．５℃でＤＭＡＰ ５．６３ｇ（４．５ｅｑ）、脱水ＰＧＥＥ ３５ｇ（３．５質量倍）の混合溶液を１時間かけて滴下し、４．５℃にて２５時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
【0092】
［比較例９］
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに脱水ＰＧＥＥ ６００ｍｇ（３質量倍）を加え、－１０℃にてＤＭＡＰ １１３ｍｇ（４．５ｅｑ）、脱水ＰＧＥＥ ７００ｍｇ（３．５質量倍）の混合溶液を１分かけて滴下し、４２時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
窒素雰囲気下、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２００ｍｇに脱水ＰＧＥＥ ６００ｍｇ（３質量倍）を加え、－１０℃にてＤＭＡＰ １１３ｍｇ（４．５ｅｑ）、脱水ＰＧＥＥ ７００ｍｇ（３．５質量倍）の混合溶液を１分かけて滴下し、４２時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
【0093】
［比較例１０］
窒素雰囲気下、脱水ＰＧＥＥ ８４ｇ（８．４質量倍）に４℃に冷却した。４℃にてアリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２ｇを加え、５分撹拌し、４８質量％水酸化ナトリウム水溶液０．６８ｇを加え５分撹拌した。２℃から４℃にてこの操作を５回繰り返した後、４８質量％水酸化ナトリウム水溶液０．３４ｇを加え、４２時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。その後、析出物をろ過し、ろ取物を水２０ｇ（２質量倍）で２回洗浄した。得られた結晶を２５℃、５ｈＰａで７時間減圧乾燥し、アリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥを０．７８ｇ得た（収率：６％、ＬＣ ａｒｅａ：８７．５％）
窒素雰囲気下、脱水ＰＧＥＥ ８４ｇ（８．４質量倍）に４℃に冷却した。４℃にてアリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ ２ｇを加え、５分撹拌し、４８質量％水酸化ナトリウム水溶液０．６８ｇを加え５分撹拌した。２℃から４℃にてこの操作を５回繰り返した後、４８質量％水酸化ナトリウム水溶液０．３４ｇを加え、４２時間撹拌した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。その後、析出物をろ過し、ろ取物を水２０ｇ（２質量倍）で２回洗浄した。得られた結晶を２５℃、５ｈＰａで７時間減圧乾燥し、アリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥを０．７８ｇ得た（収率：６％、ＬＣ ａｒｅａ：８７．５％）
【0094】
実施例２～３および比較例１～１０の結果を表３に示す。
【0095】
【表3】
＊２ 比較例５において、Ｐｙの１質量倍は、塩基として１２ｅｑに相当
＊３ 比較例６～７において、Ｐｙの４３．６ｅｑは、溶媒として３．５質量倍に相当
【0096】
［比較例２－１～２－４］
塩基を表４に示した化合物に変更した以外は、実施例２と同様の操作でアリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥを合成した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
塩基を表４に示した化合物に変更した以外は、実施例２と同様の操作でアリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥを合成した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
【0097】
比較例２－１～２－４の結果を表４に示す。なお、表４には、実施例２および３の結果も併記した。
【0098】
【表4】
【0099】
［実施例４、５］
塩基の使用量を表５に示した量に変更した以外は、実施例２と同様の操作でアリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥを合成した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
塩基の使用量を表５に示した量に変更した以外は、実施例２と同様の操作でアリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥを合成した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
【0100】
実施例４～５の結果を表５に示す。なお、表５には、実施例２の結果も併記した。
【0101】
【表5】
【0102】
［実施例６～１３］
反応温度に関する条件および／または溶媒に関する条件を表６に示した条件に変更した以外は、実施例２と同様の操作でアリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥを合成した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
反応温度に関する条件および／または溶媒に関する条件を表６に示した条件に変更した以外は、実施例２と同様の操作でアリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥを合成した。その際、表に記載の反応時間の時点で一部反応液をサンプリングし、ＨＰＬＣにて分析した。
【0103】
実施例６～１３の結果を表６に示す。なお、表６には、実施例２の結果も併記した。
【0104】
【表6】
【0105】
［実施例１４～４０］
溶媒に関する条件を表７に示した条件に変更した以外は、実施例２と同様の操作でアリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥの合成およびＨＰＬＣによる分析を実施した。結果を表７に示す。なお、表７には、実施例２の結果も併記した。
溶媒に関する条件を表７に示した条件に変更した以外は、実施例２と同様の操作でアリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥの合成およびＨＰＬＣによる分析を実施した。結果を表７に示す。なお、表７には、実施例２の結果も併記した。
【0106】
【表7】
【0107】
［実施例４１－１］ アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ－２の合成
国際公開第２００９／０９６３５２号の記載の方法に従って、下記式アリールスルホン酸Ｘ－２を合成し、その後、下記の手順に従い、スルホニルハライド化合物（アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ－２）を合成した。
国際公開第２００９／０９６３５２号の記載の方法に従って、下記式アリールスルホン酸Ｘ－２を合成し、その後、下記の手順に従い、スルホニルハライド化合物（アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ－２）を合成した。
【化33】
【0108】
窒素雰囲気下、４０℃にて、ＤＥＧＤＥＥ ２０．２ｇ（０．９質量倍）にアリールスルホン酸Ｘ－２ ２２．４ｇを溶解させた溶液を５００ｍＬ四つ口フラスコに塩化チオニル３３．８ｇ（１．５質量倍）、ＤＭＦ ０．３２ｇ（０．１ｅｑ）を加え、７５℃にて１時間撹拌した混合溶液に３０分かけて滴下し、使用した滴下ロートをＤＥＧＤＥＥ １１．３７ｇ（０．５質量倍）で洗いこみ、７５℃で４時間撹拌した。この際、反応終了まで酸性ガスが発生するため、還流管の上部より水酸化ナトリウム水溶液へ通じて系外に放出した。また、この際、塊は発生せず、撹拌も良好であった。また、滴下途中でアリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ－２が析出した。３時間後の反応液をＨＰＬＣ分析したところ、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ－２（９８．０％）、１置換体（０．３％）であった。
反応の終結を確認後、ｎ－ヘプタン２２４ｇ（３質量倍）を７３℃から６０℃にて１時間かけて滴下した。滴下終了後、２５℃まで１時間かけて冷却し、１０時間撹拌した。析出したアリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ－２を窒素加圧ろ過し、ｎ－ヘプタン４４．８ｇ（２質量倍）でろ取物を３回洗浄した。得られた結晶を５０℃にて減圧乾燥を行い、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ－２を２０．５ｇ得た（収率：８５％、ＬＣ ａｒｅａ：９８．４％、１置換体０．２％）。
反応の終結を確認後、ｎ－ヘプタン２２４ｇ（３質量倍）を７３℃から６０℃にて１時間かけて滴下した。滴下終了後、２５℃まで１時間かけて冷却し、１０時間撹拌した。析出したアリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ－２を窒素加圧ろ過し、ｎ－ヘプタン４４．８ｇ（２質量倍）でろ取物を３回洗浄した。得られた結晶を５０℃にて減圧乾燥を行い、アリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ－２を２０．５ｇ得た（収率：８５％、ＬＣ ａｒｅａ：９８．４％、１置換体０．２％）。
【0109】
［実施例４１－２］ アリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥ－２の合成
【化34】
【0110】
窒素雰囲気下、１００ｍＬ四つ口フラスコにアリールスルホン酸Ｘ－Ｃｌ－２ ２．５ｇ、脱水ＰＧＥＥ １５ｇ（６質量倍）を加え、２℃まで冷却した。冷却後、ＤＭＡＰ １．２ｇ（２．３ｅｑ）、脱水ＮＭＰ ６．３ｇ（２．５質量倍）、脱水ＰＧＥＥ ２．５ｇ（１質量倍）の混合溶液を２℃から７℃で１１分かけて滴下し、２℃で３時間撹拌した。３時間後の反応液をＨＰＬＣ分析したところ、アリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥ－２（９３．８％）、１置換体（２．０％）、原料（０％）であった。その後、４℃に冷却した酢酸エチル２３ｇ（９．２質量倍）を加え撹拌した。５℃から８℃にて、５℃に冷却した１Ｍ塩酸１２．５３ｇを滴下し、５℃にて１０分撹拌を続けた後５分静置した。水層を除去した後に撹拌を再開し、５℃に冷却した１５質量％塩化アンモニウム水溶液１２．５ｇ（５質量倍）を再度５℃から７℃にて、滴下し、５℃にて１０分撹拌を続けた後５分静置した。水層を除去した後に撹拌を再開し、５℃に冷却した１５質量％塩化アンモニウム水溶液１２．６ｇ（５質量倍）を５℃にて滴下し、５℃にて１０分撹拌を続けた後５分静置した。水層を除去した後、ジイソプロピルエーテル１１．２５ｇ（４．５質量倍）を加えた。４０ｍｍ桐山漏斗に酢酸エチル：ジイソプロピルエーテル＝２：１（質量比）の溶液３０ｇ（１２質量倍）で懸濁した中性シリカゲル６０Ｎ １０ｇ（４質量倍）を充填し、分液後の溶液をろ過した。ろ過後、さらに質量比２：１の酢酸エチル：ジイソプロピルエーテル溶液４７．５ｇ（１９質量倍）でろ過し、ろ過器上のシリカゲルを洗浄した。得られた溶液を２５℃で７．７ｇ（３質量倍）まで減圧濃縮し、撹拌しながらイソプロパノール（２５ｇ、１０質量倍）を滴下した。滴下後１℃まで冷却した後、１℃にて２時間撹拌した。その後析出物をろ過し、ろ取物をジイソプロピルエーテル２．５ｇ（１質量倍）で２回洗浄した。得られた結晶を２５℃にて３時間減圧真空乾燥し、アリールスルホン酸Ｘ－ＰＧＥＥ－２を３．４ｇ得た（収率：７８．９％、ＬＣ ａｒｅａ：９８．０％）、１置換体（０．４％）。1Ｈ－ＮＭＲ及びＬＣ／ＭＳの測定結果を以下に示す。
1Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ０．８８－０．９６（ｍ、６Ｈ）、１．３１、１．３３、１．３８、１．４０（ｅａｃｈ ｓ、６Ｈ）、３，２３－３，５１（ｍ、８Ｈ）、４．７４－４．９０（ｍ、２Ｈ）、７．２４（ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，１Ｈ）、８．２０（ｄ、Ｊ＝９．０、１．８Ｈｚ，１Ｈ）、８．４３（ｓ，１Ｈ）、８．５５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ）、８．６７（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＬＣ／ＭＳ（ＥＳＩ+） ｍ／ｚ ６９３．１０４３［Ｍ＋Ｈ］+
1Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ０．８８－０．９６（ｍ、６Ｈ）、１．３１、１．３３、１．３８、１．４０（ｅａｃｈ ｓ、６Ｈ）、３，２３－３，５１（ｍ、８Ｈ）、４．７４－４．９０（ｍ、２Ｈ）、７．２４（ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，１Ｈ）、８．２０（ｄ、Ｊ＝９．０、１．８Ｈｚ，１Ｈ）、８．４３（ｓ，１Ｈ）、８．５５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ）、８．６７（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＬＣ／ＭＳ（ＥＳＩ+） ｍ／ｚ ６９３．１０４３［Ｍ＋Ｈ］+