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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2025100223
(43)【公開日】2025-07-03
(54)【発明の名称】基板処理装置
(51)【国際特許分類】
C23C 14/34 20060101AFI20250626BHJP
H01L 21/3065 20060101ALI20250626BHJP
C23C 14/00 20060101ALI20250626BHJP
【ＦＩ】
C23C14/34 T
H01L21/302 101G
C23C14/00 B
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023217428
(22)【出願日】2023-12-22
(71)【出願人】
【識別番号】000219967
【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100096389
【弁理士】
【氏名又は名称】金本 哲男
(74)【代理人】
【識別番号】100101557
【弁理士】
【氏名又は名称】萩原 康司
(74)【代理人】
【識別番号】100167634
【弁理士】
【氏名又は名称】扇田 尚紀
(74)【代理人】
【識別番号】100187849
【弁理士】
【氏名又は名称】齊藤 隆史
(74)【代理人】
【識別番号】100212059
【弁理士】
【氏名又は名称】三根 卓也
(72)【発明者】
【氏名】大山 春太郎
(72)【発明者】
【氏名】曽根 浩
(72)【発明者】
【氏名】久保田 直樹
【テーマコード（参考）】
4K029
5F004
【Ｆターム（参考）】
4K029AA06
4K029AA24
4K029BA01
4K029BD01
4K029CA05
4K029CA15
4K029DA01
4K029DA04
4K029DA08
4K029DA09
4K029DC21
4K029DC34
4K029DC35
4K029DC39
4K029DC46
4K029EA03
4K029HA01
4K029JA01
4K029KA01
5F004BC01
5F004BD04
5F004BD05
(57)【要約】 （修正有）
【課題】処理容器の容器本体の上部に設けられた開口を蓋体で確実に密閉させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、減圧可能に構成され、処理対象の基板を収容する処理容器を備え、前記処理容器は、上部に開口を有する容器本体と、前記開口を塞ぎ得る蓋体１２と、を有し、前記蓋体により前記開口を開閉する開閉機構２０をさらに備え、前記開閉機構は、前記容器本体の一方の端部に設けられ、水平方向に延びる第１軸部１００と、前記第１軸部に接続され、前記第１軸部側とは反対側の部分である先端側部で前記蓋体を支持するヒンジ部１１０と、前記第１軸部を中心に前記ヒンジ部を回動させる駆動機構１３０と、を有し、前記ヒンジ部は、前記第１軸部と平行に延びる第２軸部１２２を前記先端側部に有し、前記蓋体は、前記第１軸部を中心とした前記ヒンジ部の回動とは独立して前記第２軸部を中心に回動可能に前記第２軸部に軸支される。
【選択図】図３
【解決手段】基板処理装置は、減圧可能に構成され、処理対象の基板を収容する処理容器を備え、前記処理容器は、上部に開口を有する容器本体と、前記開口を塞ぎ得る蓋体１２と、を有し、前記蓋体により前記開口を開閉する開閉機構２０をさらに備え、前記開閉機構は、前記容器本体の一方の端部に設けられ、水平方向に延びる第１軸部１００と、前記第１軸部に接続され、前記第１軸部側とは反対側の部分である先端側部で前記蓋体を支持するヒンジ部１１０と、前記第１軸部を中心に前記ヒンジ部を回動させる駆動機構１３０と、を有し、前記ヒンジ部は、前記第１軸部と平行に延びる第２軸部１２２を前記先端側部に有し、前記蓋体は、前記第１軸部を中心とした前記ヒンジ部の回動とは独立して前記第２軸部を中心に回動可能に前記第２軸部に軸支される。
【選択図】図３
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板に減圧雰囲気下で処理を施す基板処理装置であって、
減圧可能に構成され、処理対象の基板を収容する処理容器を備え、
前記処理容器は、上部に開口を有する容器本体と、前記開口を塞ぎ得る蓋体と、を有し、
前記蓋体により前記開口を開閉する開閉機構をさらに備え、
前記開閉機構は、
前記容器本体の一方の端部に設けられ、水平方向に延びる第１軸部と、
前記第１軸部に接続され、前記第１軸部側とは反対側の部分である先端側部で前記蓋体を支持するヒンジ部と、
前記第１軸部を中心に前記ヒンジ部を回動させる駆動機構と、を有し、
前記ヒンジ部は、前記第１軸部と平行に延びる第２軸部を前記先端側部に有し、
前記蓋体は、
前記第１軸部を中心とした前記ヒンジ部の回動とは独立して前記第２軸部を中心に回動可能に前記第２軸部に軸支され、
前記第１軸部を中心に前記ヒンジ部が回動する際に、前記ヒンジ部の前記先端側部における前記第２軸部とは異なる部分との係合により当該ヒンジ部の前記先端側部に支持され、前記ヒンジ部と共に前記第１軸部を中心に回動する、基板処理装置。
減圧可能に構成され、処理対象の基板を収容する処理容器を備え、
前記処理容器は、上部に開口を有する容器本体と、前記開口を塞ぎ得る蓋体と、を有し、
前記蓋体により前記開口を開閉する開閉機構をさらに備え、
前記開閉機構は、
前記容器本体の一方の端部に設けられ、水平方向に延びる第１軸部と、
前記第１軸部に接続され、前記第１軸部側とは反対側の部分である先端側部で前記蓋体を支持するヒンジ部と、
前記第１軸部を中心に前記ヒンジ部を回動させる駆動機構と、を有し、
前記ヒンジ部は、前記第１軸部と平行に延びる第２軸部を前記先端側部に有し、
前記蓋体は、
前記第１軸部を中心とした前記ヒンジ部の回動とは独立して前記第２軸部を中心に回動可能に前記第２軸部に軸支され、
前記第１軸部を中心に前記ヒンジ部が回動する際に、前記ヒンジ部の前記先端側部における前記第２軸部とは異なる部分との係合により当該ヒンジ部の前記先端側部に支持され、前記ヒンジ部と共に前記第１軸部を中心に回動する、基板処理装置。
【請求項2】
前記蓋体は、
前記ヒンジ部側の端部に、当該ヒンジ部が延在する方向に凹む凹所を有し、
前記凹所内に前記ヒンジ部の前記先端側部が収まった状態で、前記第２軸部を中心に回動可能に当該第２軸部に軸支され、
前記凹所の奥側面と、当該奥側面と対向する前記ヒンジ部の前記先端側部の先端面との係合により、当該ヒンジ部の前記先端側部に支持される、請求項１に記載の基板処理装置。
前記ヒンジ部側の端部に、当該ヒンジ部が延在する方向に凹む凹所を有し、
前記凹所内に前記ヒンジ部の前記先端側部が収まった状態で、前記第２軸部を中心に回動可能に当該第２軸部に軸支され、
前記凹所の奥側面と、当該奥側面と対向する前記ヒンジ部の前記先端側部の先端面との係合により、当該ヒンジ部の前記先端側部に支持される、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項3】
前記先端面は、
前記蓋体が閉状態のときにおける前記容器本体側の部分とその反対側の部分とが、前記第１軸部の軸方向視で、前記ヒンジ部が延在する方向と直交する方向に対する傾き方向が互い異なり、
前記容器本体側の部分の方が、前記反対側の部分より、面積が大きい、請求項２に記載の基板処理装置。
前記蓋体が閉状態のときにおける前記容器本体側の部分とその反対側の部分とが、前記第１軸部の軸方向視で、前記ヒンジ部が延在する方向と直交する方向に対する傾き方向が互い異なり、
前記容器本体側の部分の方が、前記反対側の部分より、面積が大きい、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項4】
前記開閉機構は、前記第１軸部の軸方向視における前記ヒンジ部と前記蓋体との間に、弾性部材を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項5】
前記開閉機構は、前記蓋体の前記凹所の前記奥側面と前記ヒンジ部の前記先端側部の前記先端面との間に、弾性部材を有する、請求項２または３に記載の基板処理装置。
【請求項6】
前記ヒンジ部は、前記第１軸部の軸方向視における当該第１軸部からオフセットされた位置に設けられた凸部を有し、
前記凸部の高さの状態を検出する検出部と、
前記検出部による検出結果に基づいて、前記開閉機構による前記蓋体の開動作を停止させる制御部と、をさらに備える、請求項１～３のいずれか１項に記載の基板処理装置。
前記凸部の高さの状態を検出する検出部と、
前記検出部による検出結果に基づいて、前記開閉機構による前記蓋体の開動作を停止させる制御部と、をさらに備える、請求項１～３のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項7】
前記検出部は、
前記ヒンジ部が前記第１軸部を中心に回動したときに上下動する前記凸部に従動して上下動するキーと、
前記キーが挿入される孔、及び、前記孔への前記キーの挿抜を検知する検知部と、が設けられたキースイッチと、を有し、
前記制御部は、前記検知部による検知結果に基づいて、前記開閉機構による前記蓋体の開動作を停止させる、請求項６に記載の基板処理装置。
前記ヒンジ部が前記第１軸部を中心に回動したときに上下動する前記凸部に従動して上下動するキーと、
前記キーが挿入される孔、及び、前記孔への前記キーの挿抜を検知する検知部と、が設けられたキースイッチと、を有し、
前記制御部は、前記検知部による検知結果に基づいて、前記開閉機構による前記蓋体の開動作を停止させる、請求項６に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、基板処理装置に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１には、真空処理装置の処理チャンバが有する蓋体の開閉機構が開示されている。この開閉機構において、蓋体は、その一辺に設けられたヒンジを介してチャンバ本体に回動可能に取り付けられており、ヒンジが回動軸となっている。また、ヒンジが設けられた辺に隣接する他の辺には、シリンダ機構が取り付けられており、このシリンダ機構を進出及び退避させることにより、蓋体の開閉を行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２００１－１８５５３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本開示にかかる技術は、基板に減圧雰囲気下で処理を施す基板処理装置の処理容器の容器本体の上部に設けられた開口を蓋体で確実に密閉させる。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示の一態様は、基板に減圧雰囲気下で処理を施す基板処理装置であって、減圧可能に構成され、処理対象の基板を収容する処理容器を備え、前記処理容器は、上部に開口を有する容器本体と、前記開口を塞ぎ得る蓋体と、を有し、前記蓋体により前記開口を開閉する開閉機構をさらに備え、前記開閉機構は、前記容器本体の一方の端部に設けられ、水平方向に延びる第１軸部と、前記第１軸部に接続され、前記第１軸部側とは反対側の部分である先端側部で前記蓋体を支持するヒンジ部と、前記第１軸部を中心に前記ヒンジ部を回動させる駆動機構と、を有し、前記ヒンジ部は、前記第１軸部と平行に延びる第２軸部を前記先端側部に有し、前記蓋体は、前記第１軸部を中心とした前記ヒンジ部の回動とは独立して前記第２軸部を中心に回動可能に前記第２軸部に軸支され、前記第１軸部を中心に前記ヒンジ部が回動する際に、前記ヒンジ部の前記先端側部における前記第２軸部とは異なる部分との係合により当該ヒンジ部の前記先端側部に支持され、前記ヒンジ部と共に前記第１軸部を中心に回動する。
【発明の効果】
【0006】
本開示によれば、基板に減圧雰囲気下で処理を施す基板処理装置の処理容器の容器本体の上部に設けられた開口を蓋体で確実に密閉させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】本実施形態にかかる基板処理装置としての成膜装置の構成の概略を模式的に示す図であり、上記構成の一部を断面で示している。
【図4】奥側ヒンジ部の背面図である。
【図5】検出部の背面図である。
【図6】検出部の側面図である。
【図8】上記処理シーケンス中の開閉機構の状態を示す図である。
【図9】上記処理シーケンス中の検出部の状態を示す図である。
【図11】上記処理シーケンス中の開閉機構の状態を示す図である。
【図12】閉動作完了時の蓋体の状態を示す図である。
【図13】閉動作完了時の蓋体の状態を示す図である。
【図14】開閉機構の他の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
半導体デバイス等の製造プロセスにおいては、半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という）等の基板に対して、金属膜等の所望の膜を形成する成膜処理等の各種処理が施される。この種の処理は基板処理装置によって例えば減圧雰囲気下（すなわち真空雰囲気下）で施される。
基板処理装置は、減圧可能に構成され、処理対象の基板を収容する処理容器を備える。処理容器は、上部に開口を有する容器本体と、開口を塞ぐ蓋体と、を有する。
基板処理装置は、減圧可能に構成され、処理対象の基板を収容する処理容器を備える。処理容器は、上部に開口を有する容器本体と、開口を塞ぐ蓋体と、を有する。
【0009】
ところで、処理容器の内部のメンテナンス等を目的として、蓋体により容器本体の開口を開閉する開閉機構が設けられる場合がある。開閉機構は、例えば、容器本体の一端部上の水平軸を中心として、蓋体を回動させることにより、開口を開閉する。しかし、蓋体で開口を閉じようとしたときに公差等により蓋体が容器本体に対して傾いていた場合に、この傾きを上述の開閉機構では解消することができないことがある。傾きが解消できずに残ってしまうと、処理容器内を排気したときに所望に真空度に到達させることができない。これは、容器本体と蓋体との間を封止するＯリング等の封止部材が設けられている場合も同様である。
【0010】
そこで、本開示にかかる技術は、基板に減圧雰囲気下で処理を施す基板処理装置の処理容器の容器本体の上部に設けられた開口を蓋体で確実に密閉させる。
【0011】
以下、本実施形態にかかる基板処理装置の構成について、図面を参照しながら説明する。なお、本明細書において、実質的に同一の機能構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【0012】
【0013】
図１の成膜装置１は、基板に減圧雰囲気下で成膜処理を施すものであり、具体的には、例えば、基板としてのウェハＷ上に金属膜をスパッタリングにより形成する。この成膜装置１は、処理容器１０を備える。
【0014】
処理容器１０は、減圧可能に構成され、処理対象のウェハＷを収容するものであり、容器本体１１及び蓋体１２を有する。容器本体１１及び蓋体１２は、アルミニウム等から形成され、接地電位に接続されている。
【0015】
容器本体１１は、上部に開口１１ａを有するように形成され、より具体的には、上部に開口１１ａを有する有底の円筒状に形成されている。
容器本体１１の底部には、処理容器１０内の密閉空間を減圧するための排気装置ＶがＡＰＣバルブ（図示せず）を介して接続されている。容器本体１１の側壁には、ウェハＷの搬入出口（図示せず）が形成されており、この搬入出口には当該搬入出口を開閉するためのゲートバルブが設けられている。
容器本体１１の底部には、処理容器１０内の密閉空間を減圧するための排気装置ＶがＡＰＣバルブ（図示せず）を介して接続されている。容器本体１１の側壁には、ウェハＷの搬入出口（図示せず）が形成されており、この搬入出口には当該搬入出口を開閉するためのゲートバルブが設けられている。
【0016】
蓋体１２は、容器本体１１の開口１１ａを塞ぎ得るものであり、容器本体１１の上側に取り付けられている。蓋体１２の形状は、例えばドーム状である。また、蓋体１２は、開閉機構２０を介して、容器本体１１の上側に取り付けられている。開閉機構２０は、蓋体１２により容器本体１１の開口１１ａを開閉するものである。開閉機構２０の構成については後述する。
なお、容器本体１１と蓋体１２との間には、これらの間を封止する封止部材としてのＯリング１３が設けられている。
なお、容器本体１１と蓋体１２との間には、これらの間を封止する封止部材としてのＯリング１３が設けられている。
【0017】
処理容器１０内には、上面にウェハＷが水平に載置される載置台３０が設けられている。載置台３０には、ウェハＷを加熱するためのヒータ（図示せず）及びウェハＷを冷却するための冷却機構のうちの少なくともいずれか一方が設けられていてもよい。
【0018】
載置台３０は、載置台移動機構３１に接続されていてもよい。
載置台移動機構３１は、ウェハＷの表面を水平に維持したまま、載置台３０を移動させる。載置台移動機構３１は、載置台３０に載置されたウェハＷが水平面内における一方向（図４のＸ方向）に移動するように、載置台３０を移動させる。
載置台移動機構３１は、ウェハＷの表面を水平に維持したまま、載置台３０を移動させる。載置台移動機構３１は、載置台３０に載置されたウェハＷが水平面内における一方向（図４のＸ方向）に移動するように、載置台３０を移動させる。
【0019】
例えば、載置台移動機構３１は、多関節アーム３２と駆動機構３３とを有する。
多関節アーム３２の一端には、載置台３０が取り付けられており、他端には、駆動機構３３が接続されている。
駆動機構３３は、多関節アーム３２の一端を、水平面内における一方向（図４のＸ方向。以下、装置幅方向ということがある。）に移動させ載置台３０を当該装置幅方向に移動させるための駆動力を発生する。また、駆動機構３３は、多関節アーム３２の一端を鉛直方向（図４のＺ方向）に移動させ載置台３０を鉛直方向に移動させるための駆動力を発生する。
駆動機構３３は上記駆動力を発生するため例えばモータを有する。
多関節アーム３２の一端には、載置台３０が取り付けられており、他端には、駆動機構３３が接続されている。
駆動機構３３は、多関節アーム３２の一端を、水平面内における一方向（図４のＸ方向。以下、装置幅方向ということがある。）に移動させ載置台３０を当該装置幅方向に移動させるための駆動力を発生する。また、駆動機構３３は、多関節アーム３２の一端を鉛直方向（図４のＺ方向）に移動させ載置台３０を鉛直方向に移動させるための駆動力を発生する。
駆動機構３３は上記駆動力を発生するため例えばモータを有する。
【0020】
さらに、処理容器１０内には、スリット部材４０が設けられていてもよい。スリット部材４０は、スリット４０ａを有する部材である。スリット部材４０は、載置台移動機構３１によってウェハＷが移動する空間の上方に、水平に延在するように設けられている。
【0021】
スリット４０ａは、スリット部材４０を鉛直方向に貫通するように形成されている。スリット４０ａは、平面視において、載置台移動機構３１によるウェハＷの移動方向である装置幅方向（図４のＸ方向）と直交する方向（図４のＹ方向。以下、装置奥行き方向ということがある。）に長い矩形状を有する。スリット４０ａの装置幅方向（図４のＸ方向）の長さは、ウェハＷの直径よりも小さく、スリット４０ａの装置奥行き方向（図４のＹ方向）の長さは、ウェハＷの直径よりも大きい。
【0022】
また、処理容器１０内における、スリット部材４０の上方に、導電性材料で形成されたターゲットホルダ５０が設けられている。ターゲットホルダ５０は、処理容器１０内にターゲット６０が配置されるよう当該ターゲット６０を保持する。このターゲットホルダ５０は、蓋体１２に取り付けられている。蓋体１２におけるターゲットホルダ５０の取り付け位置には、貫通口１２ａが形成されている。貫通口１２ａを囲うように蓋体１２の内壁面に絶縁部材５１が設けられている。ターゲットホルダ５０は、貫通口１２ａを塞ぐように、絶縁部材５１を介して蓋体１２に取り付けられている。
【0023】
ターゲットホルダ５０は、例えば、スリット部材４０のスリット４０ａに対して斜め上方にターゲット６０が位置するように、当該ターゲット６０を保持する。また、ターゲットホルダ５０は、ターゲット６０がスリット４０ａに向き、すなわちターゲット６０がスリット４０ａを介して成膜対象のウェハＷに向くように、当該ターゲット６０を正面に保持する。
また、ターゲットホルダ５０には、電源５２が接続され、当該電源５２から、負の直流電圧が印加される。負の直流電圧に代えて、交流電圧が印加されるようにしてもよい。
また、ターゲットホルダ５０には、電源５２が接続され、当該電源５２から、負の直流電圧が印加される。負の直流電圧に代えて、交流電圧が印加されるようにしてもよい。
【0024】
さらに、ターゲットホルダ５０の背面側であって、処理容器１０の外側となる位置に、マグネット７０が設けられている。マグネット７０は、ターゲットホルダ５０に保持されたターゲット６０の正面側に漏洩するように磁場を形成するものであり、移動機構７１に接続されている。移動機構７１は、例えば、装置奥行き方向（図４のＹ方向）に沿って、マグネット７０を揺動させる。移動機構７１は、マグネット７０の上述のような揺動のための駆動力を発生するモータ等の駆動源（図示せず）を有する。
【0025】
蓋体１２には、ガス導入部材８０が支持されている。ガス導入部材８０は、ガス供給源（図示せず）からのガスを処理容器１０内に供給する。
【0026】
また、成膜装置１には、図２に示すように、開閉機構２０による蓋体１２の閉動作の完了を検出するため、すなわち開動作の停止タイミングを決定するための検出部９０が設けられている。検出部９０は、具体的には、開閉機構２０の後述のヒンジ部に設けられた凸部の鉛直方向（図のＺ方向）に係る位置の状態を検出する。検出部９０は、蓋体１２が所望の角度以上に開かないように制限するためのものでもある。
【0027】
さらに、成膜装置１には、検出部９０の故障等により、蓋体１２が、所望の角度以上に開いてしまった場合に、さらに開いて容器本体１１と衝突することを防ぐため、メカニカルストッパＭＳが設けられている。
【0028】
さらにまた、成膜装置１は図１に示すように制御部Ｕを備える。制御部Ｕは、本開示において述べられる種々の工程を成膜装置１に実行させるコンピュータ実行可能な命令を処理する。制御部Ｕは、ここで述べられる種々の工程を実行するように成膜装置１の各要素を制御するように構成され得る。一実施形態において、制御部Ｕの一部又は全てが成膜装置１に含まれてもよい。制御部Ｕは、処理部、記憶部及び通信インターフェースを含んでもよい。制御部Ｕは、例えばコンピュータにより実現される。処理部は、記憶部から種々の制御動作を行うことを可能にするロジック又はルーチンを提供するプログラムを読み出し、読み出されたプログラムを実行することにより種々の制御動作を行うように構成され得る。このプログラムは、予め記憶部に格納されていてもよく、必要なときに、媒体を介して取得されてもよい。取得されたプログラムは、記憶部に格納され、処理部によって記憶部から読み出されて実行される。媒体は、コンピュータに読み取り可能な種々の記憶媒体であってもよく、通信インターフェースに接続されている通信回線であってもよい。記憶媒体は、一時的なものであっても非一時的なものであってもよい。処理部は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）であってもよい。記憶部は、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＨＤＤ（Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ）、ＳＳＤ（Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｄｒｉｖｅ）、又はこれらの組み合わせを含んでもよい。通信インターフェースは、ＬＡＮ（Ｌｏｃａｌ Ａｒｅａ Ｎｅｔｗｏｒｋ）等の通信回線を介して成膜装置１との間で通信してもよい。
【0029】
【0030】
【0031】
第１軸部１００は、容器本体１１の装置幅方向の一方側（図のＸ方向正側）の端部に、水平方向である装置奥行き方向（図のＹ方向）に延びるように設けられている。
第１軸部１００は、例えば柱状（具体的には円柱状）に形成されている。また、第１軸部１００は、容器本体１１における開口１１ａから装置幅方向一方側（図のＸ方向正側）に離れた位置の上方に、その中心軸が装置奥行き方向（図のＹ方向）に延びるように、設けられている。図２に示すように、例えば、第１軸部１００の手前側（図のＹ方向負側）端は、駆動機構１３０に接続され、第１軸部１００の奥側（図のＹ方向正側）端は、当該第１軸部１００がその中心軸を中心に回転可能に、支持部１３１に支持される。
第１軸部１００は、例えば柱状（具体的には円柱状）に形成されている。また、第１軸部１００は、容器本体１１における開口１１ａから装置幅方向一方側（図のＸ方向正側）に離れた位置の上方に、その中心軸が装置奥行き方向（図のＹ方向）に延びるように、設けられている。図２に示すように、例えば、第１軸部１００の手前側（図のＹ方向負側）端は、駆動機構１３０に接続され、第１軸部１００の奥側（図のＹ方向正側）端は、当該第１軸部１００がその中心軸を中心に回転可能に、支持部１３１に支持される。
【0032】
ヒンジ部１１０は、第１軸部１００に接続される。具体的には、第１軸部１００側の部分である基部１１１に、第１軸部１００が接続されている。また、ヒンジ部１１０は、第１軸部１００側すなわち基部１１１側とは反対側の部分である先端側部１１２で、蓋体１２を支持する。
【0033】
ヒンジ部１１０は例えば装置奥行き方向（図のＹ方向）に互いに離間するように複数設けられる。図の例では、ヒンジ部１１０として、蓋体１２の手前側（図のＹ方向負側）を支持するものと蓋体１２の奥側（図のＹ方向正側）を支持するものとの２つが設けられている。なお、本明細書では、前者を手前側ヒンジ部１１０１、後者を奥側ヒンジ部１１０２ということがある。
【0034】
各ヒンジ部１１０は平板状の部材である。各ヒンジ部１１０は、上述のように基部１１１に第１軸部１００が接続されている。具体的には、図３に示すように、各ヒンジ部１１０の基部１１１には、装置奥行き方向（図のＹ方向）に貫通する孔１２１が設けられており、第１軸部１００が、当該孔１２１に挿通され、嵌合により基部１１１に固定されている。このようにヒンジ部１１０と第１軸部１００とが接続されているため、すなわち、固定されているため、第１軸部１００がその中心軸を中心に回動するときに、各ヒンジ部１１０も当該中心軸を中心に回動する。
【0035】
また、ヒンジ部１１０は、第１軸部１００と平行に延びる第２軸部１２２を先端側部１１２に有する。第２軸部１２２は例えばヒンジ部１１０毎に設けられる。
第２軸部１２２は、円柱状に形成されており、その中心軸が装置奥行き方向（図のＹ方向）に延びるように、設けられている。第２軸部１２２はヒンジ部１１０に対し固定されている。したがって、ヒンジ部１１０が第１軸部１００の中心軸を中心に回動するときに、第２軸部１２２も当該中心軸を中心に回動する。
第２軸部１２２は、円柱状に形成されており、その中心軸が装置奥行き方向（図のＹ方向）に延びるように、設けられている。第２軸部１２２はヒンジ部１１０に対し固定されている。したがって、ヒンジ部１１０が第１軸部１００の中心軸を中心に回動するときに、第２軸部１２２も当該中心軸を中心に回動する。
【0036】
この第２軸部１２２が設けられた蓋体１２の先端側部１１２が収まる凹所１５０が、蓋体１２には設けられている。凹所１５０は、ヒンジ部１１０が延在する方向に凹んでいる。凹所１５０は、蓋体１２の第１軸部１００側の端部における手前側（図のＹ方向負側）と奥側（図のＹ方向正側）の面を、第１軸部１００側端から、ヒンジ部１１０が延在する方向に切り欠いたように、形成される。
【0037】
駆動機構１３０は、第１軸部１００を中心に、ヒンジ部１１０を回動させる。具体的には、駆動機構１３０は、水平軸である第１軸部１００の中心軸を中心に当該第１軸部１００を回動させることにより、上記中心軸を中心にヒンジ部１１０を回動させる。駆動機構１３０は、第１軸部１００の回動すなわちヒンジ部１１０の回動を駆動するための駆動力を発生するモータ等の駆動源（図示せず）を有する。また、駆動機構１３０の駆動源は、減速機を介して第１軸部１００に接続されていてもよい。
【0038】
この駆動機構１３０による第１軸部１００を中心としたヒンジ部１１０の回動とは独立して第２軸部１２２を中心に回動可能に、蓋体１２は第２軸部１２２に軸支される。また、第１軸部１００を中心にヒンジ部１１０が回動する際に、蓋体１２は、ヒンジ部１１０の先端側部１１２における第２軸部１２２とは異なる部分との係合により、当該ヒンジ部１１０の先端側部１１２に支持され、ヒンジ部１１０と共に第１軸部１００を中心に回動する。
【0039】
具体的には、（Ａ）蓋体１２の凹所１５０内に、対応するヒンジ部１１０の先端側部１１２が収まった状態で、第２軸部１２２を中心に回動可能に、蓋体１２は、当該第２軸部１２２に軸支されている。また、（Ｂ）凹所１５０の奥側面１５１と、当該奥側面１５１と対向するヒンジ部１１０の先端側部１１２の先端面１２３との係合により、蓋体１２はヒンジ部１１０に支持される。
【0040】
より具体的には、ヒンジ部１１０の先端側部１１２における先端面１２３等の各面と、蓋体１２の凹所１５０の上記各面と対向する面との間に隙間すなわちクリアランスが設けられている。そのため、上記（Ａ）のように、蓋体１２の凹所１５０内に、対応するヒンジ部１１０の先端側部１１２が収まった状態で、蓋体１２は、第２軸部１２２の中心軸を中心に回動可能である。また、蓋体１２が第２軸部１２２の中心軸を中心に回動したときに、ヒンジ部１１０の先端面１２３が、凹所１５０の奥側面１５１との間の隙間がなくなり、当該奥側面１５１と当接して係合し、これにより、蓋体１２がヒンジ部１１０に支持される。
【0041】
なお、蓋体１２は軸受け（図示せず）を介して第２軸部１２２に軸支される。上記軸受けには例えば無給油ブッシュが用いられる。
【0042】
ヒンジ部１１０の先端面１２３は、蓋体１２が閉状態のときにおいて、容器本体１１側の部分１２４とその反対側の部分１２５とが、第１軸部１００の軸方向（図のＹ方向）視で、ヒンジ部１１０が延在する方向と直交する方向すなわち鉛直方向（図のＺ方向）に対する傾き方向が互いに異なってもよい。この場合、さらに、容器本体１１側の部分１２４の方が、その反対側の部分１２５よりも、面積が大きくされてもよい。以下、部分１２４を大面積部１２４、部分１２５を小面積部１２５ということがある。
【0043】
また、奥側ヒンジ部１１０２には、図４に示すように、第１軸部１００の軸方向視における当該第１軸部１００からオフセットされた位置に凸部１２６が設けられている。凸部１２６は、奥側ヒンジ部１１０２が第１軸部１００を中心に回動したときに同様に回動し、上下動する。この凸部１２６は、以下の（Ｘ）、（Ｙ）を満たす位置に設けられる。
（Ｘ）凸部１２６が奥側ヒンジ部１１０２の回動を妨げない。
（Ｙ）蓋体１２が開口１１ａを閉じている状態から、奥側ヒンジ部１１０２を介して所望の角度（例えば１８０°）まで開けられたときに、回動中の凸部１２６の高さが、最後が最も低い。
（Ｘ）凸部１２６が奥側ヒンジ部１１０２の回動を妨げない。
（Ｙ）蓋体１２が開口１１ａを閉じている状態から、奥側ヒンジ部１１０２を介して所望の角度（例えば１８０°）まで開けられたときに、回動中の凸部１２６の高さが、最後が最も低い。
【0044】
凸部１２６の高さの状態は、前述の検出部９０に検出される。
凸部１２６は、例えば、円柱状に形成され、当該凸部１２６の水平な中心軸を中心に回転可能に、奥側ヒンジ部１１０２に支持されていてもよい。
凸部１２６は、例えば、円柱状に形成され、当該凸部１２６の水平な中心軸を中心に回転可能に、奥側ヒンジ部１１０２に支持されていてもよい。
【0045】
＜検出部９０＞
次に、検出部９０の構成について、図５及び図６を用いて、説明する。図５は、検出部９０の背面図である。図６は、検出部９０の側面図である。なお、図５では、後述のキーガイド２３０の図示を省略している。
次に、検出部９０の構成について、図５及び図６を用いて、説明する。図５は、検出部９０の背面図である。図６は、検出部９０の側面図である。なお、図５では、後述のキーガイド２３０の図示を省略している。
【0046】
【0047】
キー２００は、奥側ヒンジ部１１０２の凸部１２６に従動して上下動するものであり、接触ブロック２０１と、キー本体２０２と、を有する。
接触ブロック２０１は、凸部１２６が接触する部材である。接触ブロック２０１は、少なくとも、奥側ヒンジ部１１０２の凸部１２６が所定の高さ以下のときに、接触した当該凸部１２６と共に、上下動する。
キー本体２０２は、その下端部が接触ブロック２０１に接続されており、接触ブロック２０１と共に上下動する。キー本体２０２の上側部分は、キースイッチ２１０の後述の孔に挿入される。
接触ブロック２０１は、凸部１２６が接触する部材である。接触ブロック２０１は、少なくとも、奥側ヒンジ部１１０２の凸部１２６が所定の高さ以下のときに、接触した当該凸部１２６と共に、上下動する。
キー本体２０２は、その下端部が接触ブロック２０１に接続されており、接触ブロック２０１と共に上下動する。キー本体２０２の上側部分は、キースイッチ２１０の後述の孔に挿入される。
【0048】
キースイッチ２１０は、孔２１１と、検知部としてのセンサ２１２と、を有する。
孔２１１は、キー２００（具体的にはキー本体２０２）が挿入されるものであり、鉛直方向（図のＺ方向）に延びるように形成されている。
センサ２１２は、孔２１１へのキー２００（具体的にはキー本体２０２）の挿抜を検知するものである。センサ２１２は、例えば、キー本体２０２の少なくとも一部が孔２１１に挿入されているときに、ＯＦＦ信号を出力し、キー本体２０２の全体が孔２１１から抜かれているときに、ＯＮ信号を出力する。また、センサ２１２によるキー本体２０２の孔２１１への挿入の検知は例えば光学的に行われる。
孔２１１は、キー２００（具体的にはキー本体２０２）が挿入されるものであり、鉛直方向（図のＺ方向）に延びるように形成されている。
センサ２１２は、孔２１１へのキー２００（具体的にはキー本体２０２）の挿抜を検知するものである。センサ２１２は、例えば、キー本体２０２の少なくとも一部が孔２１１に挿入されているときに、ＯＦＦ信号を出力し、キー本体２０２の全体が孔２１１から抜かれているときに、ＯＮ信号を出力する。また、センサ２１２によるキー本体２０２の孔２１１への挿入の検知は例えば光学的に行われる。
【0049】
弾性部材２２０は、キー２００をキースイッチ２１０に向けて付勢し、具体的には、キー２００のキー本体２０２がキースイッチ２１０の孔２１１に挿入されるよう、キー２００を付勢する。
【0050】
検出部９０は、さらにキーガイド２３０を有していてもよい。
キーガイド２３０は、キー本体２０２の孔２１１への挿入をガイドする。
キーガイド２３０は、キー本体２０２の孔２１１への挿入をガイドする。
【0051】
このような検出部９０による検出結果（具体的にはキースイッチ２１０のセンサ２１２による検知結果）は制御部Ｕに出力される。制御部Ｕでは、検出部９０の検出結果（センサ２１２による検知結果）に基づいて、開閉機構２０による蓋体１２の開動作を停止させる。
【0052】
＜蓋体１２の開動作時のシーケンス＞
次いで、蓋体１２の開動作時に成膜装置１により実行されるシーケンスについて説明する。図７は、上記シーケンスの主な工程を示すフローチャートである。図８は、上記処理シーケンス中の開閉機構２０の状態を示す図である。図９は、上記処理シーケンス中の検出部９０の状態を示す図である。蓋体１２は例えば成膜装置１のメンテナンス時等に開かれる。
次いで、蓋体１２の開動作時に成膜装置１により実行されるシーケンスについて説明する。図７は、上記シーケンスの主な工程を示すフローチャートである。図８は、上記処理シーケンス中の開閉機構２０の状態を示す図である。図９は、上記処理シーケンス中の検出部９０の状態を示す図である。蓋体１２は例えば成膜装置１のメンテナンス時等に開かれる。
【0053】
（ステップＳ１：大気開放）
蓋体１２が開かれる際は、図７に示すように、まず、処理容器１０内が大気開放される。
具体的には、排気装置Ｖによる処理容器１０内の排気が停止され、処理容器１０内に大気が導入される。
蓋体１２が開かれる際は、図７に示すように、まず、処理容器１０内が大気開放される。
具体的には、排気装置Ｖによる処理容器１０内の排気が停止され、処理容器１０内に大気が導入される。
【0054】
（ステップＳ２：開動作開始）
次いで、蓋体１２の開動作が開始される。
具体的には、駆動機構１３０が駆動され、蓋体１２を開くための、ヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が開始される。
開始されると、ヒンジ部１１０の先端面１２３と、蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１とが当接する。具体的には、ヒンジ部１１０の先端面１２３の大面積部１２４と、蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１とが当接する。これにより、ヒンジ部１１０の先端側部１１２と蓋体１２の凹所１５０とが係合し、蓋体１２が、ヒンジ部１１０の先端側部１１２に支持され、ヒンジ部１１０と共に第１軸部１００を中心として回動する。その結果、蓋体１２が徐々に開かれていく。
次いで、蓋体１２の開動作が開始される。
具体的には、駆動機構１３０が駆動され、蓋体１２を開くための、ヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が開始される。
開始されると、ヒンジ部１１０の先端面１２３と、蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１とが当接する。具体的には、ヒンジ部１１０の先端面１２３の大面積部１２４と、蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１とが当接する。これにより、ヒンジ部１１０の先端側部１１２と蓋体１２の凹所１５０とが係合し、蓋体１２が、ヒンジ部１１０の先端側部１１２に支持され、ヒンジ部１１０と共に第１軸部１００を中心として回動する。その結果、蓋体１２が徐々に開かれていく。
【0055】
ヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が継続され、蓋体１２が約９０°まで開かれると、図８に示すように、ヒンジ部１１０の先端面１２３の小面積部１２５と蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１との当接により、ヒンジ部１１０の先端側部１１２と蓋体１２の凹所１５０とが係合するようになる。
【0056】
（ステップＳ３：センサ２１２による検知）
その後もヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が継続され、蓋体１２が許容角度（例えば１８０°）まで開かれると、図９に示すように、奥側ヒンジ部１１０２に設けられた凸部１２６と従動するキー２００がキースイッチ２１０の孔２１１から抜かれたことを、センサ２１２により検知される。
具体的には、蓋体１２が１８０°付近まで開かれると、奥側ヒンジ部１１０２の回動に伴って凸部１２６が下降していき、接触ブロック２０１に接触し、接触ブロック２０１も下降する。その結果、接触ブロック２０１に接続されたキー本体２０２が、キースイッチ２１０の孔２１１から抜かれ、そのことがセンサ２１２により検知され、ＯＮ信号が制御部Ｕに出力される。
その後もヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が継続され、蓋体１２が許容角度（例えば１８０°）まで開かれると、図９に示すように、奥側ヒンジ部１１０２に設けられた凸部１２６と従動するキー２００がキースイッチ２１０の孔２１１から抜かれたことを、センサ２１２により検知される。
具体的には、蓋体１２が１８０°付近まで開かれると、奥側ヒンジ部１１０２の回動に伴って凸部１２６が下降していき、接触ブロック２０１に接触し、接触ブロック２０１も下降する。その結果、接触ブロック２０１に接続されたキー本体２０２が、キースイッチ２１０の孔２１１から抜かれ、そのことがセンサ２１２により検知され、ＯＮ信号が制御部Ｕに出力される。
【0057】
（ステップＳ４）
制御部Ｕがセンサ２１２からＯＮ信号を受けると、蓋体１２の開動作が停止される。
具体的には、駆動機構１３０による駆動が停止され、蓋体１２を開くための、ヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が停止される。
制御部Ｕがセンサ２１２からＯＮ信号を受けると、蓋体１２の開動作が停止される。
具体的には、駆動機構１３０による駆動が停止され、蓋体１２を開くための、ヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が停止される。
【0058】
これで、蓋体１２の開動作時のシーケンスが完了する。
【0059】
＜蓋体１２の閉動作時のシーケンス＞
次いで、蓋体１２の閉動作時に成膜装置１により実行されるシーケンスについて説明する。図１０は、上記シーケンスの主な工程を示すフローチャートである。図１１は、上記処理シーケンス中の開閉機構２０の状態を示す図である。図１２及び図１３は、閉動作完了時の蓋体１２の状態を示す図である。
次いで、蓋体１２の閉動作時に成膜装置１により実行されるシーケンスについて説明する。図１０は、上記シーケンスの主な工程を示すフローチャートである。図１１は、上記処理シーケンス中の開閉機構２０の状態を示す図である。図１２及び図１３は、閉動作完了時の蓋体１２の状態を示す図である。
【0060】
（ステップＳ１１：閉動作開始）
蓋体１２が閉じられる際は、図１０に示すように、まず、蓋体１２の閉動作が開始される。
具体的には、駆動機構１３０が駆動され、蓋体１２を閉じるための、ヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が開始される。その際、ヒンジ部１１０の先端面１２３の小面積部１２５と蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１との当接によりヒンジ部１１０の先端側部１１２と蓋体１２の凹所１５０が係合し、蓋体１２がヒンジ部１１０に支持されているため、ヒンジ部１１０の回動に伴って蓋体１２が閉じられていく。
また、蓋体１２を閉じるための、ヒンジ部１１０の回動が開始されると、奥側ヒンジ部１１０２の回動に伴って凸部１２６が上昇していき、また、接触ブロック２０１も弾性部材２２０からの付勢力により上昇する。その結果、接触ブロック２０１に接続されたキー本体２０２が、キースイッチ２１０の孔２１１に再び挿入され、そのことがセンサ２１２により検知され、ＯＦＦ信号が制御部Ｕに出力される。
蓋体１２が閉じられる際は、図１０に示すように、まず、蓋体１２の閉動作が開始される。
具体的には、駆動機構１３０が駆動され、蓋体１２を閉じるための、ヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が開始される。その際、ヒンジ部１１０の先端面１２３の小面積部１２５と蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１との当接によりヒンジ部１１０の先端側部１１２と蓋体１２の凹所１５０が係合し、蓋体１２がヒンジ部１１０に支持されているため、ヒンジ部１１０の回動に伴って蓋体１２が閉じられていく。
また、蓋体１２を閉じるための、ヒンジ部１１０の回動が開始されると、奥側ヒンジ部１１０２の回動に伴って凸部１２６が上昇していき、また、接触ブロック２０１も弾性部材２２０からの付勢力により上昇する。その結果、接触ブロック２０１に接続されたキー本体２０２が、キースイッチ２１０の孔２１１に再び挿入され、そのことがセンサ２１２により検知され、ＯＦＦ信号が制御部Ｕに出力される。
【0061】
ヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が継続され、蓋体１２が約９０°まで閉じられると、図１１に示すように、ヒンジ部１１０の先端面１２３の大面積部１２４と蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１との当接により、ヒンジ部１１０の先端側部１１２と蓋体１２の凹所１５０とが係合するようになる。
【0062】
（ステップＳ１２：閉角度到達検知）
その後もヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が継続されていくと、蓋体１２が閉じられたことが検知される。
具体的には、例えば、ヒンジ部１１０が０°に到達したことが、駆動機構１３０のエンコーダ（図示せず）により検知される。
また、処理容器１０に設けられた開閉センサ（図示せず）により、蓋体１２が閉じられたことが検知される。開閉センサは、例えば、所定の光を発する発光部及び上記所定の光を受ける受光部のうちの一方が蓋体１２に設けられ、他方が容器本体１１に設けられ、受光部の受光結果に基づいて、蓋体１２が閉じられたことを検知するものである。開閉センサは物理的な接触により蓋体が閉じられたことを検知するものであってもよい。具体的には、開閉センサは、容器本体１１に設けられたボタンに蓋体１２が接触したか否か、または、蓋体１２に設けられたボタンに容器本体１１が接触したか否かに基づいて、蓋体１２が閉じられたことを検知するものであってもよい。
その後もヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が継続されていくと、蓋体１２が閉じられたことが検知される。
具体的には、例えば、ヒンジ部１１０が０°に到達したことが、駆動機構１３０のエンコーダ（図示せず）により検知される。
また、処理容器１０に設けられた開閉センサ（図示せず）により、蓋体１２が閉じられたことが検知される。開閉センサは、例えば、所定の光を発する発光部及び上記所定の光を受ける受光部のうちの一方が蓋体１２に設けられ、他方が容器本体１１に設けられ、受光部の受光結果に基づいて、蓋体１２が閉じられたことを検知するものである。開閉センサは物理的な接触により蓋体が閉じられたことを検知するものであってもよい。具体的には、開閉センサは、容器本体１１に設けられたボタンに蓋体１２が接触したか否か、または、蓋体１２に設けられたボタンに容器本体１１が接触したか否かに基づいて、蓋体１２が閉じられたことを検知するものであってもよい。
【0063】
（ステップＳ１３：閉動作停止）
蓋体１２が閉じられたことが検知されると、蓋体１２の閉動作が停止される。
具体的には、駆動機構１３０による駆動が停止され、蓋体１２を閉じるための、ヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が停止される。
蓋体１２が閉じられたことが検知されると、蓋体１２の閉動作が停止される。
具体的には、駆動機構１３０による駆動が停止され、蓋体１２を閉じるための、ヒンジ部１１０の第１軸部１００を中心とした回動が停止される。
【0064】
（ステップＳ１４：排気開始）
その後、処理容器１０内の排気が開始される。
具体的には、排気装置Ｖによる処理容器１０内の排気が開始される。
前述したステップＳ１３の閉動作停止時に、図１２及び図１３に示すように蓋体１２が容器本体１１に対して傾くことがある。具体的には、蓋体１２の下面が容器本体１１の上面に対して傾く場合がある。このままでは、開口１１ａの周囲における蓋体１２と容器本体１１との間の隙間が、開口１１ａの周方向で不均一となってしまい、処理容器１０内を排気したときにＯリング１３が潰される量が上記周方向で不均一となってしまい、蓋体１２で開口１１ａを密閉させることができない。
その後、処理容器１０内の排気が開始される。
具体的には、排気装置Ｖによる処理容器１０内の排気が開始される。
前述したステップＳ１３の閉動作停止時に、図１２及び図１３に示すように蓋体１２が容器本体１１に対して傾くことがある。具体的には、蓋体１２の下面が容器本体１１の上面に対して傾く場合がある。このままでは、開口１１ａの周囲における蓋体１２と容器本体１１との間の隙間が、開口１１ａの周方向で不均一となってしまい、処理容器１０内を排気したときにＯリング１３が潰される量が上記周方向で不均一となってしまい、蓋体１２で開口１１ａを密閉させることができない。
【0065】
それに対し、本実施形態では、蓋体１２が、第１軸部１００を中心とした回動とは独立して第２軸部１２２を中心に回動可能である。そのため、ステップＳ１３の閉動作停止時に蓋体１２が容器本体１１に対して傾いていたとしても、排気による処理容器１０内の負圧等によって、蓋体１２が第２軸部１２２を中心に回動し、上記傾きが低減される。したがって、開口１１ａの周囲における蓋体１２と容器本体１１との間の隙間の、開口１１ａの周方向における不均一性が低減され、Ｏリング１３が潰される量の上記周方向における不均一性が低減される。よって、開口１１ａを蓋体１２でより確実に密閉させることができる。
【0066】
なお、処理容器１０内の排気開始後、処理容器１０内が所定の真空度に到達すると、蓋体１２の閉動作時のシーケンスが完了する。
【0067】
＜本実施形態の主な効果＞
上述のように、本実施形態によれば、開口１１ａを蓋体１２でより確実に密閉させることができる。
上述のように、本実施形態によれば、開口１１ａを蓋体１２でより確実に密閉させることができる。
【0068】
また、本実施形態では、蓋体１２が第２軸部１２２を中心に回動可能であるため、処理容器１０内が負圧になることによる負荷及び蓋体１２の重量による負荷が、駆動機構１３０の駆動源や減速機に作用するのを抑制することができる。
【0069】
さらに、本実施形態では、蓋体１２が所望の角度以上に開かないように制限するための機構（以下、開角度制限機構という。）として、キースイッチ２１０を利用した検出部９０を用いている。本実施形態と異なる開角度制限機構としては、本実施形態のメカニカルストッパＭＳと同様なものが考えられる。ただし、本実施形態のように検出部９０とメカニカルストッパＭＳを併用する形態では、蓋体１２がメカニカルストッパＭＳに当接する状況は限られるため、メカニカルストッパＭＳを簡易化し小型化することができる。成膜装置が小型化または省フットプリント化がなされたものであっても、これら検出部９０とメカニカルストッパＭＳを搭載することができる。それに対し、メカニカルストッパのみを用いる形態では、蓋体１２が繰り返しメカニカルストッパに当接するため、メカニカルストッパを大型にする必要がある。このような大型のメカニカルストッパを小型化または省フットプリント化が図られた装置に搭載することは難しい。
【0070】
さらにまた、検出部９０は蓋体１２を安全に開くためのものであり、本実施形態では、この検出部９０にキースイッチ２１０を用いている。キースイッチ２１０は、安全インターロックとして広く利用されており、安全カテゴリ（ＩＳＯ
１３８４９－１）のカテゴリ１に「十分吟味された」部品に該当する。したがって、本実施形態によれば、高い安全カテゴリを確保することができる。
１３８４９－１）のカテゴリ１に「十分吟味された」部品に該当する。したがって、本実施形態によれば、高い安全カテゴリを確保することができる。
【0071】
上述したように、ヒンジ部１１０の先端面１２３は、蓋体１２が閉状態のときにおいて、容器本体１１側の部分１２４とその反対側の部分１２５とが、第１軸部１００の軸方向視で、鉛直方向に対する傾き方向が互いに異なってもよく、容器本体１１側の部分１２４の方が、その反対側の部分１２５よりも、面積が大きくされてもよい。蓋体１２が当接するヒンジ部１１０の先端面１２３には、容器本体１１に密着していた蓋体１２を開けるときに最も負荷が掛かるため、この負荷を、面積が大きい上記部分１２４で受けることにより、ヒンジ部１１０の先端面１２３を大きくせずに、ヒンジ部１１０が破損するのを抑制することができる。
【0072】
＜開閉機構の他の例＞
図１４は、開閉機構の他の例を示す図である。
図１４の開閉機構２０Ａは、第１軸部１００の軸方向視におけるヒンジ部１１０Ａとの間に、弾性部材３００を有する。
具体的には、開閉機構２０Ａは、蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１とヒンジ部１１０Ａの先端側部１１２Ａの先端面１２３Ａとの間に、弾性部材３００を有する。
図の例では、ヒンジ部１１０Ａの先端側部１１２Ａが、先端面１２３から凹む切込部３１０を有し、弾性部材３００の一端部が、切込部３１０に収容された状態で当該切込部３１０に収容され、弾性部材３００他端部が、蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１に接続されている。
図１４は、開閉機構の他の例を示す図である。
図１４の開閉機構２０Ａは、第１軸部１００の軸方向視におけるヒンジ部１１０Ａとの間に、弾性部材３００を有する。
具体的には、開閉機構２０Ａは、蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１とヒンジ部１１０Ａの先端側部１１２Ａの先端面１２３Ａとの間に、弾性部材３００を有する。
図の例では、ヒンジ部１１０Ａの先端側部１１２Ａが、先端面１２３から凹む切込部３１０を有し、弾性部材３００の一端部が、切込部３１０に収容された状態で当該切込部３１０に収容され、弾性部材３００他端部が、蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１に接続されている。
【0073】
この弾性部材３００を設けることで以下の効果がある。すなわち、蓋体１２が約９０°まで開かれ、または、閉じられたときに、ヒンジ部１１０Ａの先端面１２３の大面積部１２４に蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１が当接した状態と、ヒンジ部１１０の先端面１２３の小面積部１２５に蓋体１２の凹所１５０の奥側面１５１が当接した状態との間で切り替わる。弾性部材３００を設けることにより、上述の切り替わりの際に、蓋体１２が第２軸部１２２を中心として急激に回動するのを抑制することができる。その結果、蓋体１２の急激な回動による衝撃が、ヒンジ部１１０Ａ等に生じるのを抑制することができる。
【0074】
＜変形例＞
以上の例では、奥側ヒンジ部１１０２に凸部１２６が設けられていたが、このような凸部１２６は、手前側ヒンジ部１１０１に設けられていてもよいし、手前側ヒンジ部１１０１及び奥側ヒンジ部１１０２の両方に設けられていてもよい。
なお、凸部１２６は、前述の（Ｘ）、（Ｙ）を満たす位置に設けられていたが、前述の（Ｘ）と以下の（Ｙ´）を満たす位置に設けられていてもよい。
（Ｙ´）蓋体１２が開口１１ａを閉じている状態から、奥側ヒンジ部１１０２を介して所望の角度（例えば１８０°）まで開けられたときに、回動中の凸部１２６の高さが、最後が最も低い。
以上の例では、奥側ヒンジ部１１０２に凸部１２６が設けられていたが、このような凸部１２６は、手前側ヒンジ部１１０１に設けられていてもよいし、手前側ヒンジ部１１０１及び奥側ヒンジ部１１０２の両方に設けられていてもよい。
なお、凸部１２６は、前述の（Ｘ）、（Ｙ）を満たす位置に設けられていたが、前述の（Ｘ）と以下の（Ｙ´）を満たす位置に設けられていてもよい。
（Ｙ´）蓋体１２が開口１１ａを閉じている状態から、奥側ヒンジ部１１０２を介して所望の角度（例えば１８０°）まで開けられたときに、回動中の凸部１２６の高さが、最後が最も低い。
【0075】
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。例えば、上記実施形態の構成要件は任意に組み合わせることができる。当該任意の組み合せからは、組み合わせにかかるそれぞれの構成要件についての作用及び効果が当然に得られるとともに、本明細書の記載から当業者には明らかな他の作用及び他の効果が得られる。
【0076】
また、本明細書に記載された効果は、あくまで説明的または例示的なものであって限定的ではない。つまり、本開示に係る技術は、上記の効果とともに、又は、上記の効果に代えて、本明細書の記載から当業者には明らかな他の効果を奏しうる。
【0077】
なお、以下のような構成も本開示の技術的範囲に属する。
（１）基板に減圧雰囲気下で処理を施す基板処理装置であって、
減圧可能に構成され、処理対象の基板を収容する処理容器を備え、
前記処理容器は、上部に開口を有する容器本体と、前記開口を塞ぎ得る蓋体と、を有し、
前記蓋体により前記開口を開閉する開閉機構をさらに備え、
前記開閉機構は、
前記容器本体の一方の端部に設けられ、水平方向に延びる第１軸部と、
前記第１軸部に接続され、前記第１軸部側とは反対側の部分である先端側部で前記蓋体を支持するヒンジ部と、
前記第１軸部を中心に前記ヒンジ部を回動させる駆動機構と、を有し、
前記ヒンジ部は、前記第１軸部と平行に延びる第２軸部を前記先端側部に有し、
前記蓋体は、
前記第１軸部を中心とした前記ヒンジ部の回動とは独立して前記第２軸部を中心に回動可能に前記第２軸部に軸支され、
前記第１軸部を中心に前記ヒンジ部が回動する際に、前記ヒンジ部の前記先端側部における前記第２軸部とは異なる部分との係合により当該ヒンジ部の前記先端側部に支持され、前記ヒンジ部と共に前記第１軸部を中心に回動する、基板処理装置。
（２）前記蓋体は、
前記ヒンジ部側の端部に、当該ヒンジ部が延在する方向に凹む凹所を有し、
前記凹所内に前記ヒンジ部の前記先端側部が収まった状態で、前記第２軸部を中心に回動可能に当該第２軸部に軸支され、
前記凹所の奥側面と、当該奥側面と対向する前記ヒンジ部の前記先端側部の先端面との係合により、当該ヒンジ部の前記先端側部に支持される、前記（１）に記載の基板処理装置。
（３）前記先端面は、
前記蓋体が閉状態のときにおける前記容器本体側の部分とその反対側の部分とが、前記第１軸部の軸方向視で、前記ヒンジ部が延在する方向と直交する方向に対する傾き方向が互い異なり、
前記容器本体側の部分の方が、前記反対側の部分より、面積が大きい、前記（２）に記載の基板処理装置。
（４）前記開閉機構は、前記第１軸部の軸方向視における前記ヒンジ部と前記蓋体との間に、弾性部材を有する、前記（１）～（３）のいずれか１に記載の基板処理装置。
（５）前記開閉機構は、前記蓋体の前記凹所の前記奥側面と前記ヒンジ部の前記先端側部の前記先端面との間に、弾性部材を有する、前記（２）または（３）に記載の基板処理装置。
（６）前記ヒンジ部は、前記第１軸部の軸方向視における当該第１軸部からオフセットされた位置に設けられた凸部を有し、
前記凸部の高さの状態を検出する検出部と、
前記検出部による検出結果に基づいて、前記開閉機構による前記蓋体の開動作を停止させる制御部と、をさらに備える、前記（１）～（５）のいずれか１に記載の基板処理装置。
（７）前記検出部は、
前記ヒンジ部が前記第１軸部を中心に回動したときに上下動する前記凸部に従動して上下動するキーと、
前記キーが挿入される孔、及び、前記孔への前記キーの挿抜を検知する検知部と、が設けられたキースイッチと、を有し、
前記制御部は、前記検知部による検知結果に基づいて、前記開閉機構による前記蓋体の開動作を停止させる、前記（６）に記載の基板処理装置。
（１）基板に減圧雰囲気下で処理を施す基板処理装置であって、
減圧可能に構成され、処理対象の基板を収容する処理容器を備え、
前記処理容器は、上部に開口を有する容器本体と、前記開口を塞ぎ得る蓋体と、を有し、
前記蓋体により前記開口を開閉する開閉機構をさらに備え、
前記開閉機構は、
前記容器本体の一方の端部に設けられ、水平方向に延びる第１軸部と、
前記第１軸部に接続され、前記第１軸部側とは反対側の部分である先端側部で前記蓋体を支持するヒンジ部と、
前記第１軸部を中心に前記ヒンジ部を回動させる駆動機構と、を有し、
前記ヒンジ部は、前記第１軸部と平行に延びる第２軸部を前記先端側部に有し、
前記蓋体は、
前記第１軸部を中心とした前記ヒンジ部の回動とは独立して前記第２軸部を中心に回動可能に前記第２軸部に軸支され、
前記第１軸部を中心に前記ヒンジ部が回動する際に、前記ヒンジ部の前記先端側部における前記第２軸部とは異なる部分との係合により当該ヒンジ部の前記先端側部に支持され、前記ヒンジ部と共に前記第１軸部を中心に回動する、基板処理装置。
（２）前記蓋体は、
前記ヒンジ部側の端部に、当該ヒンジ部が延在する方向に凹む凹所を有し、
前記凹所内に前記ヒンジ部の前記先端側部が収まった状態で、前記第２軸部を中心に回動可能に当該第２軸部に軸支され、
前記凹所の奥側面と、当該奥側面と対向する前記ヒンジ部の前記先端側部の先端面との係合により、当該ヒンジ部の前記先端側部に支持される、前記（１）に記載の基板処理装置。
（３）前記先端面は、
前記蓋体が閉状態のときにおける前記容器本体側の部分とその反対側の部分とが、前記第１軸部の軸方向視で、前記ヒンジ部が延在する方向と直交する方向に対する傾き方向が互い異なり、
前記容器本体側の部分の方が、前記反対側の部分より、面積が大きい、前記（２）に記載の基板処理装置。
（４）前記開閉機構は、前記第１軸部の軸方向視における前記ヒンジ部と前記蓋体との間に、弾性部材を有する、前記（１）～（３）のいずれか１に記載の基板処理装置。
（５）前記開閉機構は、前記蓋体の前記凹所の前記奥側面と前記ヒンジ部の前記先端側部の前記先端面との間に、弾性部材を有する、前記（２）または（３）に記載の基板処理装置。
（６）前記ヒンジ部は、前記第１軸部の軸方向視における当該第１軸部からオフセットされた位置に設けられた凸部を有し、
前記凸部の高さの状態を検出する検出部と、
前記検出部による検出結果に基づいて、前記開閉機構による前記蓋体の開動作を停止させる制御部と、をさらに備える、前記（１）～（５）のいずれか１に記載の基板処理装置。
（７）前記検出部は、
前記ヒンジ部が前記第１軸部を中心に回動したときに上下動する前記凸部に従動して上下動するキーと、
前記キーが挿入される孔、及び、前記孔への前記キーの挿抜を検知する検知部と、が設けられたキースイッチと、を有し、
前記制御部は、前記検知部による検知結果に基づいて、前記開閉機構による前記蓋体の開動作を停止させる、前記（６）に記載の基板処理装置。
【符号の説明】
【0078】
１ 成膜装置
１０ 処理容器
１１ 容器本体
１１ａ 開口
１２ 蓋体
２０、２０Ａ 開閉機構
１００ 第１軸部
１１０、１１０Ａ ヒンジ部
１１２、１１２Ａ 先端側部
１２２ 第２軸部
１３０ 駆動機構
Ｗ ウェハ
１０ 処理容器
１１ 容器本体
１１ａ 開口
１２ 蓋体
２０、２０Ａ 開閉機構
１００ 第１軸部
１１０、１１０Ａ ヒンジ部
１１２、１１２Ａ 先端側部
１２２ 第２軸部
１３０ 駆動機構
Ｗ ウェハ
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】