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特開2025-104266組成物及びその硬化物、成形物、表示装置、並びに固体撮像素子
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2025104266
(43)【公開日】2025-07-09
(54)【発明の名称】組成物及びその硬化物、成形物、表示装置、並びに固体撮像素子
(51)【国際特許分類】
C08G 75/06 20060101AFI20250702BHJP
C07D 301/27 20060101ALI20250702BHJP
C07D 303/34 20060101ALI20250702BHJP
C07D 331/02 20060101ALI20250702BHJP
G02B 1/04 20060101ALI20250702BHJP
【ＦＩ】
C08G75/06
C07D301/27
C07D303/34
C07D331/02
G02B1/04
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024203455
(22)【出願日】2024-11-21
(31)【優先権主張番号】P 2023221175
(32)【優先日】2023-12-27
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000002093
【氏名又は名称】住友化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100088155
【弁理士】
【氏名又は名称】長谷川 芳樹
(74)【代理人】
【識別番号】100128381
【弁理士】
【氏名又は名称】清水 義憲
(74)【代理人】
【識別番号】100124062
【弁理士】
【氏名又は名称】三上 敬史
(72)【発明者】
【氏名】淺津 悠司
(72)【発明者】
【氏名】出▲崎▼ 光
【テーマコード（参考）】
4J030
【Ｆターム（参考）】
4J030BA03
4J030BA04
4J030BA48
4J030BA49
4J030BB02
4J030BB03
4J030BB07
4J030BB67
4J030BB72
4J030BC36
4J030BC43
4J030BE04
4J030BF06
4J030BF19
4J030BG10
4J030BG25
(57)【要約】
【課題】高い屈折率を示す硬化物を与えることが可能であり、さらに製膜性に優れる組成物を提供すること。
【解決手段】チイラン基又はチエタン基を少なくとも一つ有する化合物（Ａ）と、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する化合物（Ｂ）と、塩基触媒（Ｃ）と、を含有し、化合物（Ｂ）が、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有する化合物を含む、組成物。
【選択図】なし
【解決手段】チイラン基又はチエタン基を少なくとも一つ有する化合物（Ａ）と、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する化合物（Ｂ）と、塩基触媒（Ｃ）と、を含有し、化合物（Ｂ）が、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有する化合物を含む、組成物。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
チイラン基又はチエタン基を少なくとも一つ有する化合物（Ａ）と、
（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する化合物（Ｂ）と、
塩基触媒（Ｃ）と、
を含有し、
前記化合物（Ｂ）が、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有する化合物を含む、組成物。
（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する化合物（Ｂ）と、
塩基触媒（Ｃ）と、
を含有し、
前記化合物（Ｂ）が、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有する化合物を含む、組成物。
【請求項2】
前記化合物（Ｂ）が、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ酸性官能基を有しない化合物である、請求項１に記載の組成物。
【請求項3】
重合抑制剤（Ｄ）をさらに含有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項4】
前記化合物（Ａ）が、式（Ａ－１）で表される化合物である、請求項１に記載の組成物。
［式（Ａ－１）中、
Ｌは、単結合又は２価の基を表し、二つあるＬは、同一であっても異なっていてもよい。
Ａ１は、酸素原子又は硫黄原子を表し、二つあるＡ１は同一であっても異なっていてもよい。ただし、二つあるＡ１の少なくとも一方は、硫黄原子である。
ｍは、０又は１を表し、二つあるｍは、同一であっても異なっていてもよい。
ｎは、０～６のいずれかの整数を表す。
Ｒ１は、１価の置換基を表し、Ｒ１が複数ある場合、複数あるＲ１は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２は、水素原子又は１価の置換基を表し、二つあるＲ２は、同一であっても異なっていてもよい。］
【化1】
［式（Ａ－１）中、
Ｌは、単結合又は２価の基を表し、二つあるＬは、同一であっても異なっていてもよい。
Ａ１は、酸素原子又は硫黄原子を表し、二つあるＡ１は同一であっても異なっていてもよい。ただし、二つあるＡ１の少なくとも一方は、硫黄原子である。
ｍは、０又は１を表し、二つあるｍは、同一であっても異なっていてもよい。
ｎは、０～６のいずれかの整数を表す。
Ｒ１は、１価の置換基を表し、Ｒ１が複数ある場合、複数あるＲ１は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２は、水素原子又は１価の置換基を表し、二つあるＲ２は、同一であっても異なっていてもよい。］
【請求項5】
請求項１～４のいずれか一項に記載の組成物を硬化させてなる、成形物。
【請求項6】
請求項１～４のいずれか一項に記載の組成物の硬化物。
【請求項7】
請求項６に記載の硬化物を含む、表示装置。
【請求項8】
請求項６に記載の硬化物を含む、固体撮像素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、組成物及びその硬化物、成形物、表示装置、並びに固体撮像素子に関する。
【背景技術】
【0002】
光学機器の分野において高屈折材料が要望されている。高屈折材料によりレンズを得ることができ、レンズにより光学機器内の光路を制御することができる。固体撮像素子において各光電変換素子への集光効率を向上させる目的でレンズが用いられ、また表示装置において画素からの光の取り出し効率を向上させる目的でレンズが用いられている。従来、種々の高屈折材料の開発がなされている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】国際公開第２０１１／１０２２５８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、従来の硬化性組成物においては、主成分によって製膜時にムラ、ハジキ等の不具合が生じることがあり、製膜性が充分でない場合がある。
【0005】
そこで、本発明は、高い屈折率を示す硬化物を与えることが可能であり、さらに製膜性に優れる組成物を提供することを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、［１］～［４］に記載の組成物、［５］に記載の成形物、［６］に記載の硬化物、［７］に記載の表示装置、及び［８］に記載の固体撮像素子を提供する。
［１］チイラン基又はチエタン基を少なくとも一つ有する化合物（Ａ）と、
（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する化合物（Ｂ）と、
塩基触媒（Ｃ）と、
を含有し、
前記化合物（Ｂ）が、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有する化合物を含む、組成物。
［２］前記化合物（Ｂ）が、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ酸性官能基を有しない化合物である、［１］に記載の組成物。
［３］重合抑制剤（Ｄ）をさらに含有する、［１］又は［２］に記載の組成物。
［４］前記化合物（Ａ）が、式（Ａ－１）で表される化合物である、［１］～［３］のいずれかに記載の組成物。
［式（Ａ－１）中、
Ｌは、単結合又は２価の基を表し、二つあるＬは、同一であっても異なっていてもよい。
Ａ１は、酸素原子又は硫黄原子を表し、二つあるＡ１は同一であっても異なっていてもよい。ただし、二つあるＡ１の少なくとも一方は、硫黄原子である。
ｍは、０又は１を表し、二つあるｍは、同一であっても異なっていてもよい。
ｎは、０～６のいずれかの整数を表す。
Ｒ１は、１価の置換基を表し、Ｒ１が複数ある場合、複数あるＲ１は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２は、水素原子又は１価の置換基を表し、二つあるＲ２は、同一であっても異なっていてもよい。］
［５］［１］～［４］のいずれかに記載の組成物を硬化させてなる、成形物。
［６］［１］～［４］のいずれかに記載の組成物の硬化物。
［７］［６］に記載の硬化物を含む、表示装置。
［８］［６］に記載の硬化物を含む、固体撮像素子。
［１］チイラン基又はチエタン基を少なくとも一つ有する化合物（Ａ）と、
（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する化合物（Ｂ）と、
塩基触媒（Ｃ）と、
を含有し、
前記化合物（Ｂ）が、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有する化合物を含む、組成物。
［２］前記化合物（Ｂ）が、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ酸性官能基を有しない化合物である、［１］に記載の組成物。
［３］重合抑制剤（Ｄ）をさらに含有する、［１］又は［２］に記載の組成物。
［４］前記化合物（Ａ）が、式（Ａ－１）で表される化合物である、［１］～［３］のいずれかに記載の組成物。
【化1】
［式（Ａ－１）中、
Ｌは、単結合又は２価の基を表し、二つあるＬは、同一であっても異なっていてもよい。
Ａ１は、酸素原子又は硫黄原子を表し、二つあるＡ１は同一であっても異なっていてもよい。ただし、二つあるＡ１の少なくとも一方は、硫黄原子である。
ｍは、０又は１を表し、二つあるｍは、同一であっても異なっていてもよい。
ｎは、０～６のいずれかの整数を表す。
Ｒ１は、１価の置換基を表し、Ｒ１が複数ある場合、複数あるＲ１は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２は、水素原子又は１価の置換基を表し、二つあるＲ２は、同一であっても異なっていてもよい。］
［５］［１］～［４］のいずれかに記載の組成物を硬化させてなる、成形物。
［６］［１］～［４］のいずれかに記載の組成物の硬化物。
［７］［６］に記載の硬化物を含む、表示装置。
［８］［６］に記載の硬化物を含む、固体撮像素子。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、高い屈折率を示す硬化物を与えることが可能であり、さらに製膜性に優れる組成物が提供される。いくつかの形態の組成物は、厚膜形成性、耐溶剤性等にも優れる。また、本発明によれば、このような組成物を用いた成形物、このような組成物の硬化物、硬化物を含む表示装置、及び硬化物を含む固体撮像素子が提供される。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【0009】
本明細書において、「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
【0010】
本明細書において、（メタ）アクリレートは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリル酸エステル等の他の類似表現についても同様である。
【0011】
本明細書中、以下で例示する材料は、特に断らない限り、条件に該当する範囲で、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。各成分の含有量は、各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、当該複数の物質の合計量を意味する。
【0012】
＜組成物＞
一実施形態の組成物は、チイラン基又はチエタン基を少なくとも一つ有する化合物（Ａ）（以下、「（Ａ）成分」という場合がある。）と、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する化合物（Ｂ）（以下、「（Ｂ）成分」という場合がある。）と、塩基触媒（Ｃ）（以下、「（Ｃ）成分」という場合がある。）とを含有する。本実施形態の組成物によれば、高い屈折率を示す硬化物を与えることが可能となる。また、本実施形態の組成物は、製膜性に優れる。本実施形態の組成物は、重合抑制剤（Ｄ）等をさらに含有していてもよい。
一実施形態の組成物は、チイラン基又はチエタン基を少なくとも一つ有する化合物（Ａ）（以下、「（Ａ）成分」という場合がある。）と、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する化合物（Ｂ）（以下、「（Ｂ）成分」という場合がある。）と、塩基触媒（Ｃ）（以下、「（Ｃ）成分」という場合がある。）とを含有する。本実施形態の組成物によれば、高い屈折率を示す硬化物を与えることが可能となる。また、本実施形態の組成物は、製膜性に優れる。本実施形態の組成物は、重合抑制剤（Ｄ）等をさらに含有していてもよい。
【0013】
（Ａ）成分：チイラン基又はチエタン基を少なくとも一つ有する化合物
本実施形態の組成物は、（Ａ）成分を含有する。（Ａ）成分は、硬化性化合物であり得る。組成物が（Ａ）成分を含有することにより、（Ａ）成分自体、又は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分が重合して、高い屈折率を示す硬化物を与えることが可能となる。本明細書において、チイラン基又はチエタン基を少なくとも一つ有し、かつ（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する化合物は、（Ａ）成分に包含される。
本実施形態の組成物は、（Ａ）成分を含有する。（Ａ）成分は、硬化性化合物であり得る。組成物が（Ａ）成分を含有することにより、（Ａ）成分自体、又は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分が重合して、高い屈折率を示す硬化物を与えることが可能となる。本明細書において、チイラン基又はチエタン基を少なくとも一つ有し、かつ（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する化合物は、（Ａ）成分に包含される。
【0014】
（Ａ）成分は、チイラン基又はチエタン基を少なくとも一つ有する化合物であれば特に制限なく用いることができる。（Ａ）成分は、例えば、式（Ｘ０）で表される基を少なくとも一つ有する化合物であってよく、好ましくは、式（Ｘ１）で表される基を少なくとも一つ有する化合物である。
【0015】
【化2】
【0016】
式（Ｘ０）中、
ｍは０又は１を表す。
Ｒ２は水素原子又は１価の置換基を表す。
＊は結合位置を表す。
ｍは０又は１を表す。
Ｒ２は水素原子又は１価の置換基を表す。
＊は結合位置を表す。
【0017】
【化3】
【0018】
式（Ｘ１）中、
Ｌは単結合又は２価の基を表す。
ｍは０又は１を表す。
Ｒ２は水素原子又は１価の置換基を表す。
＊は結合位置を表す。
Ｌは単結合又は２価の基を表す。
ｍは０又は１を表す。
Ｒ２は水素原子又は１価の置換基を表す。
＊は結合位置を表す。
【0019】
Ｌで表される２価の基としては、例えば、置換基を有していてもよい２価の脂肪族鎖状炭化水素基；置換基を有していてもよい２価の脂環式炭化水素基；置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基；これらの組み合わせからなる２価の基（例えば、アラルキレン基）等の２価の炭化水素基などが挙げられる。２価の基に含まれるメチレン基（－ＣＨ２－）は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＡ－（ＲＡは水素原子又は炭素原子数１～６のアルキル基を表す。）、－ＣＯ－、又は－ＳＯ２－で置換されていてもよい。
【0020】
２価の脂肪族鎖状炭化水素基としては、例えば、飽和又は不飽和の脂肪族鎖状炭化水素基が挙げられる。より具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、ペンタンジイル基、ヘキサンジイル基、ヘプタンジイル基、オクタンジイル基、ノナンジイル基、デカンジイル基、ウンデカンジイル基、ドデカンジイル基、トリデカンジイル基、テトラデカンジイル基、ペンタデカンジイル基、ヘキサデカンジイル基、ヘプタデカンジイル基、オクタデカンジイル基、ノナデカンジイル基、エイコサンジイル基等のアルカンジイル基などが挙げられる。２価の脂肪族鎖状炭化水素基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。２価の脂肪族鎖状炭化水素基の炭素原子数は、通常１～２０であり、好ましくは１～１０、より好ましくは１～６、さらに好ましくは１～４、特に好ましくは１又は２である。
【0021】
２価の脂肪族鎖状炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ヒドロキシ基；アミノ基；アセチル基；シアノ基などが挙げられる。
【0022】
２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、飽和又は不飽和の脂環式炭化水素基が挙げられる。より具体的には、シクロプロパンジイル基、シクロブタンジイル基、シクロペンタンジイル基、シクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基、シクロノナンジイル基、シクロデカンジイル基等の単環の脂環式炭化水素基；ビシクロ［１．１．０］ブタンジイル基、トリシクロ［２．２．１．０］ヘプタンジイル基、ビシクロ［３．２．１］オクタンジイル基、ビシクロ［２．２．２］オクタンジイル基、アダマンタンジイル基、ビシクロ［４．３．２］ウンデカンジイル基、トリシクロ［５．３．１．１］ドデカンジイル基等の多環の脂環式炭化水素基等が挙げられる。２価の脂環式炭化水素基の炭素原子数は、通常３～２０であり、好ましくは３～１０、より好ましくは３～６、さらに好ましくは５又は６である。
【0023】
２価の脂環式炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等の炭素原子数１～１０（好ましくは炭素原子数１～４）のアルキル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ヒドロキシ基；アミノ基；アセチル基；シアノ基等が挙げられる。
【0024】
２価の芳香族炭化水素基は、単環であっても多環であってもよい。２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アントラセンジイル基、フルオレンジイル基等が挙げられる。２価の芳香族炭化水素基の炭素原子数は、通常６～２０であり、好ましくは６～１０である。
【0025】
２価の芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等の炭素原子数１～１０（好ましくは炭素原子数１～４）のアルキル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ヒドロキシ基；アミノ基；アセチル基；シアノ基等が挙げられる。
【0026】
Ｒ２で表される１価の置換基としては、例えば、置換基を有していてもよい１価の脂肪族鎖状炭化水素基、置換基を有していてもよい１価の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい１価の芳香族炭化水素基、これらの組み合わせからなる１価の基（例えば、アラルキル基）等の１価の炭化水素基；置換基を有していてもよい１価の複素環基；ヒドロキシ基；アミノ基、モノメチルアミノ基、モノエチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基等の一つ又は二つの炭素原子数１～６のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基；ハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；カルボキシ基；スルホ基；チオール基；ホルミル基；－ＳＦ３基；－ＳＦ５基が挙げられる。１価の置換基に含まれるメチレン基（－ＣＨ２－）は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＢ－（ＲＢは水素原子又は炭素原子数１～６のアルキル基を表す。）、－ＣＯ－、又は－ＳＯ２－で置換されていてもよい。なお、１価の置換基に含まれるメチレン基（－ＣＨ２－）が、－Ｏ－で置換された基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等の炭素原子数１～１２のアルコキシ基；メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基等のアルコキシアルキル基などが挙げられる。
【0027】
１価の脂肪族鎖状炭化水素基としては、例えば、飽和又は不飽和の脂肪族鎖状炭化水素基が挙げられる。より具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基等のアルキル基などが挙げられる。１価の脂肪族鎖状炭化水素基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。１価の脂肪族鎖状炭化水素基の炭素原子数は、通常１～２０であり、好ましくは１～１０、より好ましくは１～６、さらに好ましくは１～４、特に好ましくは１又は２である。
【0028】
１価の脂肪族鎖状炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ヒドロキシ基；アミノ基；アセチル基；シアノ基等が挙げられる。
【0029】
１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、飽和又は不飽和の脂環式炭化水素基が挙げられる。より具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等の単環の脂環式炭化水素基；ビシクロ［１．１．０］ブチル基、トリシクロ［２．２．１．０］ヘプチル基、ビシクロ［３．２．１］オクチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、アダマンチル基、ビシクロ［４．３．２］ウンデシル基、トリシクロ［５．３．１．１］ドデシル基等の多環の脂環式炭化水素基等が挙げられる。１価の脂環式炭化水素基の炭素原子数は、通常３～２０であり、好ましくは３～１０、より好ましくは３～６、さらに好ましくは５又は６である。
【0030】
１価の脂環式炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等の炭素原子数１～１０（好ましくは炭素原子数１～４）のアルキル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ヒドロキシ基；アミノ基；アセチル基；シアノ基等が挙げられる。
【0031】
１価の芳香族炭化水素基は、単環であっても多環であってもよい。１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオレニル基等が挙げられる。１価の芳香族炭化水素基の炭素原子数は、通常６～２０であり、好ましくは６～１０である。
【0032】
１価の芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等の炭素原子数１～１０（好ましくは炭素原子数１～４）のアルキル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ヒドロキシ基；アミノ基；アセチル基；シアノ基等が挙げられる。
【0033】
１価の複素環基としては、例えば、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、オキサゾリニル基、チアゾリル基、ピペリジニル基、モルホリニル基、ピペラジニル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基等の炭素原子数４～２０の脂肪族複素環基又は炭素原子数３～２０の芳香族複素環基などが挙げられる。
【0034】
１価の複素環基が有していてもよい置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等の炭素原子数１～１０（好ましくは炭素原子数１～４）のアルキル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ヒドロキシ基；アミノ基；アセチル基；シアノ基等が挙げられる。
【0035】
ｍは０又は１を表す。ｍが０であるとき、チイラン基である三員環構造を表し、ｍが１であるとき、チエタン基である四員環構造を表す。ｍは好ましくは０である。
【0036】
（Ａ）成分は、硬化物の高屈折率の観点から、好ましくは芳香族環を含む化合物である。芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環の芳香族炭化水素環；フラン環、ピロール環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環等の芳香族複素環などが挙げられる。芳香族環は、好ましくはベンゼン環又はナフタレン環、より好ましくはナフタレン環である。
【0037】
（Ａ）成分は、硬化物の高屈折率の観点から、好ましくは式（Ａ－１）で表される化合物（以下、「化合物（Ａ－１）」という場合がある。）である。
【0038】
【化4】
【0039】
式（Ａ－１）中、
Ｌは、単結合又は２価の基を表し、二つあるＬは、同一であっても異なっていてもよい。
Ａ１は、酸素原子又は硫黄原子を表し、二つあるＡ１は同一であっても異なっていてもよい。ただし、二つあるＡ１の少なくとも一方は、硫黄原子である。
ｍは、０又は１を表し、二つあるｍは、同一であっても異なっていてもよい。
ｎは、０～６のいずれかの整数を表す。
Ｒ１は、１価の置換基を表し、Ｒ１が複数ある場合、複数あるＲ１は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２は、水素原子又は１価の置換基を表し、二つあるＲ２は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｌは、単結合又は２価の基を表し、二つあるＬは、同一であっても異なっていてもよい。
Ａ１は、酸素原子又は硫黄原子を表し、二つあるＡ１は同一であっても異なっていてもよい。ただし、二つあるＡ１の少なくとも一方は、硫黄原子である。
ｍは、０又は１を表し、二つあるｍは、同一であっても異なっていてもよい。
ｎは、０～６のいずれかの整数を表す。
Ｒ１は、１価の置換基を表し、Ｒ１が複数ある場合、複数あるＲ１は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２は、水素原子又は１価の置換基を表し、二つあるＲ２は、同一であっても異なっていてもよい。
【0040】
化合物（Ａ－１）において、二つある式（Ｘ）で表される基は、ナフタレン環の１～８位の任意の位置に結合していてもよい。ナフタレン環上の式（Ｘ）で表される基は、例えば、１～４位（５～８位）の任意の二つの位置に結合していてもよく、１～４位（５～８位）の任意の一つの位置と５～８位（１～４位）の任意の一つの位置とに結合していてもよい。ナフタレン環上の式（Ｘ）で表される基は、１～４位（５～８位）の任意の一つの位置と５～８位（１～４位）の任意の一つの位置とに結合していることが好ましい。
【0041】
【化5】
【0042】
式（Ｘ）中、Ｌ、Ａ１、ｍ、及びＲ２は前記と同じ意味を表し、＊は結合位置を表す。
【0043】
化合物（Ａ－１）が１以上のＲ１で表される１価の置換基を有する場合、Ｒ１で表される１価の置換基は、式（Ｘ）で表される基の結合位置を除くナフタレン環の１～８位の任意の位置に結合していてもよい。
【0044】
Ｌは単結合又は２価の基を表し、二つあるＬは同一であっても異なっていてもよい。化合物（Ａ－１）において、二つあるＬは、好ましくは、少なくとも一方がアルカンジイル基であり、より好ましくは、両方がアルカンジイル基である。この場合において、アルカンジイル基の炭素原子数は、好ましくは１～１０、より好ましくは１～６、さらに好ましくは１～４、特に好ましくは１又は２である。
【0045】
Ａ１は酸素原子又は硫黄原子を表し、二つあるＡ１は同一であっても異なっていてもよい。ただし、二つあるＡ１の少なくとも一方は硫黄原子である。化合物（Ａ－１）において、二つあるＡ１は、好ましくは、両方が硫黄原子である。Ａ１としての硫黄原子の数が増えるにつれて、より高い屈折率を示す硬化物を与えることができ、硬化性により優れる傾向がある。
【0046】
ｍは０又は１を表し、二つあるｍは同一であっても異なっていてもよい。化合物（Ａ－１）において、二つあるｍは好ましくは両方が０である。
【0047】
ｎは０～６のいずれかの整数を表す。ｎは、好ましくは０～３のいずれかの整数、より好ましくは０～２のいずれかの整数、さらに好ましくは０又は１であり、特に好ましくは０である。
【0048】
Ｒ１は１価の置換基を表し、Ｒ１が複数ある場合、複数あるＲ１は同一であっても異なっていてもよい。Ｒ１で表される１価の置換基は、Ｒ２で表される１価の置換基と同様のものが例示できる。
【0049】
Ｒ２は水素原子又は１価の置換基を表し、二つあるＲ２は同一であっても異なっていてもよい。化合物（Ａ－１）において、二つあるＲ２は、好ましくは、水素原子又は１価の脂肪族鎖状炭化水素基であり、より好ましくは、水素原子又は炭素原子数１～６の１価の脂肪族鎖状炭化水素基であり、さらに好ましくは、水素原子又は炭素原子数１～６のアルキル基であり、特に好ましくは、水素原子、メチル基、又はエチル基である。
【0050】
（Ａ）成分（化合物（Ａ－１））としては、例えば、式（Ａａ）、式（Ａｂ）、式（Ａｃ）、式（Ａｄ）、式（Ａｅ）、及び式（Ａｆ）で表される化合物等が挙げられる。式（Ａａ）、式（Ａｂ）、式（Ａｃ）、式（Ａｄ）、式（Ａｅ）、及び式（Ａｆ）中のＬ、Ａ１、ｍ、ｎ、Ｒ１、及びＲ２は前記と同じ意味を表す。
【0051】
【化6】
【0052】
式（Ａａ）、式（Ａｂ）、式（Ａｃ）、式（Ａｄ）、式（Ａｅ）、及び式（Ａｆ）において、二つあるＬは、好ましくは、少なくとも一方がアルカンジイル基であり、より好ましくは、両方がアルカンジイル基である。この場合において、アルカンジイル基の炭素原子数は、好ましくは１～１０、より好ましくは１～６、さらに好ましくは１～４、特に好ましくは１又は２である。
【0053】
式（Ａａ）、式（Ａｂ）、式（Ａｃ）、式（Ａｄ）、式（Ａｅ）、及び式（Ａｆ）において、二つあるｍは、それぞれ独立して、０又は１であり、好ましくは０である。式（Ａａ）、式（Ａｂ）、式（Ａｃ）、式（Ａｄ）、式（Ａｅ）、及び式（Ａｆ）において、二つあるｍは、好ましくは両方が０である。
【0054】
式（Ａａ）、式（Ａｂ）、式（Ａｃ）、式（Ａｄ）、式（Ａｅ）、及び式（Ａｆ）において、ｎは、それぞれ独立して、０～６のいずれかの整数であり、好ましくは０～３のいずれかの整数、より好ましくは０～２のいずれかの整数、さらに好ましくは０又は１であり、特に好ましくは０である。
【0055】
式（Ａａ）、式（Ａｂ）、式（Ａｃ）、式（Ａｄ）、式（Ａｅ）、及び式（Ａｆ）において、二つあるＡ１は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子である。ただし、二つあるＡ１の少なくとも一方は硫黄原子である。Ａ１は、好ましくは、両方が硫黄原子である。
【0056】
式（Ａａ）、式（Ａｂ）、式（Ａｃ）、式（Ａｄ）、式（Ａｅ）、及び式（Ａｆ）において、二つあるＲ２は、それぞれ独立して、好ましくは、水素原子又は１価の脂肪族鎖状炭化水素基、より好ましくは、水素原子又は炭素原子数１～６の１価の脂肪族鎖状炭化水素基、さらに好ましくは、水素原子又は炭素原子数１～６のアルキル基であり、特に好ましくは、水素原子、メチル基、又はエチル基である。二つあるＲ２は、好ましくは同一である。
【0057】
以下に化合物（Ａ－１）の具体例を例示するが、これらに限定されるものではない。
【0058】
【化7】
【0059】
【化8】
【0060】
【化9】
【0061】
【化10】
【0062】
【化11】
【0063】
【化12】
【0064】
【化13】
【0065】
【化14】
【0066】
【化15】
【0067】
【化16】
【0068】
【化17】
【0069】
【化18】
【0070】
【化19】
【0071】
【化20】
【0072】
【化21】
【0073】
【化22】
【0074】
（Ａ）成分の分子量は、合成の観点から、好ましくは２０００以下、より好ましくは１０００以下、さらに好ましくは７５０以下である。（Ａ）成分の分子量は、揮発性の観点から、好ましくは５０以上、より好ましくは１００以上、さらに好ましくは１５０以上である。
【0075】
（Ａ）成分としての化合物（Ａ－１）は、式（Ａ－１ａ）で表される化合物（以下、「化合物（Ａ－１ａ）」という場合がある。）を合成し、化合物（Ａ－１ａ）と硫化剤とを反応させることによって得ることができる。
【0076】
【化23】
【0077】
式（Ａ－１ａ）中、Ｌ、ｍ、ｎ、Ｒ１、及びＲ２は前記（式（Ａ－１））と同じ意味を表す。
【0078】
化合物（Ａ－１ａ）は、例えば、式（Ａ－２）で表される化合物（以下、「化合物（Ａ－２）」という場合がある。）と、式（Ａ－３）で表される化合物（以下、「化合物（Ａ－３）」という場合がある。）とを反応させる工程を含む方法によって得ることができる。
【0079】
【化24】
【0080】
式（Ａ－２）中、ｎ及びＲ１は前記と同じ意味を表す。
【0081】
【化25】
【0082】
式（Ａ－３）中、Ｌ、ｍ、及びＲ２は前記と同じ意味を表し、Ｘは脱離基を表す。
【0083】
化合物（Ａ－２）と化合物（Ａ－３）との反応は、例えば、塩基の存在下に行うことができる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素セシウム等の無機塩基；ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、ナトリウムｔ－ブトキシド、カリウムｔ－ブトキシド等の金属アルコキシド；アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリイソプロピルアミン、ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン）、ＤＡＢＣＯ（１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン）、ピリジン、２，６－ジメチルピリジン、２，６－ジｔ－ブチルピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリフェニルホスフィン、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムクロリド等の有機塩基が挙げられる。使用する塩基の量は、化合物（Ａ－２）の１モルに対して、例えば、０．０００１～１０モルであってよく、好ましくは０．００１～５モル、より好ましくは０．０１～４モル、さらに好ましくは０．１～３モルである。
【0084】
また、塩基は２種類以上の塩基を併用してもよい。併用する場合、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、又は、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素セシウム等の炭酸水素塩と、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム等の金属水酸化物、又は、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、ナトリウムｔ－ブトキシド、カリウムｔ－ブトキシド等の金属アルコキシドとの組み合わせであることが好ましく、炭酸水素塩と金属水酸化物の組み合わせであることがより好ましい。併用する場合は２種類を同時に加えてもよいし、段階的に加えてもよい。
【0085】
化合物（Ａ－３）において、Ｘで表される脱離基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、パーフルオロエチルスルホニル基、パーフルオロプロピルスルホニル基、パーフルオロブチルスルホニル基等のアルキルスルホニル基；フェニルスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、ｐ－フルオロフェニルスルホニル基、ペンタフルオロフェニルスルホニル基等のアリールスルホニル基等が挙げられる。化合物（Ａ－３）の具体例としては、エピハロヒドリン化合物（Ｌがメチレン基であり、ｍが０であり、Ｒ２が水素原子であり、Ｘがハロゲン原子である化合物）が挙げられる。使用する化合物（Ａ－３）の量は、化合物（Ａ－２）の１モルに対して、例えば、０．０１～２０モルであってよく、好ましくは０．５～１５モルである。本工程では、２種以上の化合物（Ａ－３）を用いて反応を実施してもよい。
【0086】
化合物（Ａ－２）と化合物（Ａ－３）との反応は、溶媒中で実施されることが好ましい。溶媒としては、水の他、ケトン類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、エーテル類、アルコール類、グライム類、エステル類、脂肪族ニトリル類、スルホキシド類、アミド類等の有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、以下の溶媒が例示される。
【0087】
ケトン類：アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソアミルケトン、２－ヘプタノン、２－オクタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等
芳香族炭化水素類：ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ナフタレン、アニソール、ニトロベンゼン、アニリン、テトラリン、デュレン等
ハロゲン化芳香族炭化水素類：クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロナフタレン等
脂肪族炭化水素類：ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等
ハロゲン化脂肪族炭化水素類：ジクロロメタン、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン等
エーテル類：ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔ－ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン等
アルコール類：メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔ－ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキサフルオロイソプロパノール等
グライム類：メチルジグライム、エチルジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル等
エステル類：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等
脂肪族ニトリル類：アセトニトリル等
スルホキシド類：ジメチルスルホキシド、スルホラン等
アミド類：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等。
芳香族炭化水素類：ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ナフタレン、アニソール、ニトロベンゼン、アニリン、テトラリン、デュレン等
ハロゲン化芳香族炭化水素類：クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロナフタレン等
脂肪族炭化水素類：ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等
ハロゲン化脂肪族炭化水素類：ジクロロメタン、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン等
エーテル類：ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔ－ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン等
アルコール類：メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔ－ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキサフルオロイソプロパノール等
グライム類：メチルジグライム、エチルジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル等
エステル類：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等
脂肪族ニトリル類：アセトニトリル等
スルホキシド類：ジメチルスルホキシド、スルホラン等
アミド類：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等。
【0088】
化合物（Ａ－２）と化合物（Ａ－３）との反応の温度は、例えば、－８０～２００℃であってよく、好ましくは－４０～１５０℃、より好ましくは－２０～１２０℃、さらに好ましくは－５～１００℃である。
【0089】
このようにして、化合物（Ａ－１ａ）を得ることができる。化合物（Ａ－１）の合成に得られた化合物（Ａ－１ａ）を用いる場合、化合物（Ａ－１ａ）は、単離されてから用いてもよく、単離されることなく、そのまま用いてもよい。
【0090】
化合物（Ａ－１）は、例えば、化合物（Ａ－１ａ）と硫化剤とを反応させる工程を含む方法によって得ることができる。
【0091】
化合物（Ａ－１ａ）と硫化剤との反応は、化合物（Ａ－１ａ）が有するエポキシ環又はオキセタニル環の酸素原子を、硫化剤を用いて硫黄原子に置換し、チイラン環（エピスルフィド環）又はチエタン環を形成する反応である。硫化剤としては、例えば、チオ尿素、メチルチオウレア、ジメチルチオウレア、トリメチルチオウレア、テトラメチルチオウレア、テトラエチルチオウレア、エチレンチオウレア、フェニルチオウレア、ジフェニルチオウレア、トリルチオウレア、ジトリルチオウレア、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム等が挙げられる。使用する硫化剤の量は、置換対象である酸素原子に合わせて任意に調整することができる。使用する硫化剤の量は、化合物（Ａ－１ａ）の１モルに対して、例えば、０．０１～２０モルであり、好ましくは０．５～１０モルである。また、使用する硫化剤の量、反応温度、反応時間等を調整することで、化合物（Ａ－１ａ）における酸素原子の両方を硫黄原子に置き換えることもできるし、化合物（Ａ－１ａ）における酸素原子の一つを硫黄原子に置き換えることもできる。
【0092】
化合物（Ａ－１ａ）と硫化剤との反応は、溶媒中で実施されることが好ましい。溶媒としては、化合物（Ａ－２）と化合物（Ａ－３）との反応で例示した溶媒と同様のものが例示できる。化合物（Ａ－１ａ）と硫化剤との反応は、例えば、－８０～２００℃であってよく、好ましくは－４０～１００℃、より好ましくは－２０～８０℃、さらに好ましくは－５～６０℃である。
【0093】
生成した化合物（Ａ－１）の重合を抑制するために重合抑制剤を反応系中に添加してもよい。重合抑制剤としては、例えば、酸、酸無水物等が挙げられる。より具体的には、
硝酸、塩化水素（塩酸）、過塩素酸、次亜塩素酸、二酸化塩素、フッ酸、硫酸、発煙硫酸、塩化スルフリル、ホウ酸、ヒ酸、亜ヒ酸、ピロヒ酸、燐酸、亜リン酸、次亜リン酸、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、硫化リン、三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、青酸、クロム酸、無水硝酸、無水硫酸、酸化ホウ素、五酸化ヒ酸、五酸化燐、無水クロム酸、シリカ、アルミナ、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、リン酸水素リチウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸水素セシウム、リン酸二水素リチウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素セシウム等の無機の酸性化合物；
ギ酸、酢酸、過酢酸、チオ酢酸、蓚酸、酒石酸、プロピオン酸、酪酸、コハク酸、吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、ナフテン酸、メチルメルカプトプロピオネート、マロン酸、グルタル酸、アジピン酸、シクロヘキサンカルボン酸、チオジプロピオン酸、ジチオジプロピオン酸酢酸、マレイン酸、安息香酸、フェニル酢酸、ｏ－トルイル酸、ｍ－トルイル酸、ｐ－トルイル酸、サリチル酸、２－メトキシ安息香酸、３－メトキシ安息香酸、ベンゾイル安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ベンジル酸、α－ナフタレンカルボン酸、β－ナフタレンカルボン酸、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水安息香酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水トリフルオロ酢酸等の有機カルボン酸類；
モノ、ジ及びトリメチルホスフェート、モノ、ジ及びトリエチルホスフェート、モノ、ジ及びトリイソブチルホスフェート、モノ、ジ及びトリブチルホスフェート、モノ、ジ及びトリラウリルホスフェート等のリン酸類及びこれらのホスフェート部分がホスファイトとなった亜リン酸類；
ジメチルジチオリン酸に代表されるジアルキルジチオリン酸類等の有機リン化合物；
フェノール、カテコール、ｔ－ブチルカテコール、２，６－ジ－ｔ－ブチルクレゾール、２，６－ジ－ｔ－ブチルエチルフェノール、レゾルシン、ハイドロキノン、フロログルシン、ピロガロール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール、ヒドロキシフェニル酢酸、ヒドロキシフェニルプロピオン酸、ヒドロキシフェニル酢酸アミド、ヒドロキシフェニル酢酸メチル、ヒドロキシフェニル酢酸エチル、ヒドロキシフェネチルアルコール、ヒドロキシフェネチルアミン、ヒドロキシベンズアルデヒド、フェニルフェノール、ビスフェノール－Ａ、２，２’－メチレン－ビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、ビスフェノール－Ｆ、ビスフェノール－Ｓ、α－ナフトール、β－ナフトール、アミノフェノール、クロロフェノール、２，４，６－トリクロロフェノール等のフェノール類；
メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｏ－トルエンスルホン酸、ｍ－トルエンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ－フェノールスルホン酸、ｏ－クレゾールスルホン酸、メタニル酸、スルファニル酸、４Ｂ－酸、ジアミノスチルベンスルホン酸、ビフェニルスルホン酸、α－ナフタレンスルホン酸、β－ナフタレンスルホン酸、ペリ酸、ローレント酸、フェニルＪ酸等のスルホン酸類
などが挙げられる。
硝酸、塩化水素（塩酸）、過塩素酸、次亜塩素酸、二酸化塩素、フッ酸、硫酸、発煙硫酸、塩化スルフリル、ホウ酸、ヒ酸、亜ヒ酸、ピロヒ酸、燐酸、亜リン酸、次亜リン酸、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、硫化リン、三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、青酸、クロム酸、無水硝酸、無水硫酸、酸化ホウ素、五酸化ヒ酸、五酸化燐、無水クロム酸、シリカ、アルミナ、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、リン酸水素リチウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸水素セシウム、リン酸二水素リチウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素セシウム等の無機の酸性化合物；
ギ酸、酢酸、過酢酸、チオ酢酸、蓚酸、酒石酸、プロピオン酸、酪酸、コハク酸、吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、ナフテン酸、メチルメルカプトプロピオネート、マロン酸、グルタル酸、アジピン酸、シクロヘキサンカルボン酸、チオジプロピオン酸、ジチオジプロピオン酸酢酸、マレイン酸、安息香酸、フェニル酢酸、ｏ－トルイル酸、ｍ－トルイル酸、ｐ－トルイル酸、サリチル酸、２－メトキシ安息香酸、３－メトキシ安息香酸、ベンゾイル安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ベンジル酸、α－ナフタレンカルボン酸、β－ナフタレンカルボン酸、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水安息香酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水トリフルオロ酢酸等の有機カルボン酸類；
モノ、ジ及びトリメチルホスフェート、モノ、ジ及びトリエチルホスフェート、モノ、ジ及びトリイソブチルホスフェート、モノ、ジ及びトリブチルホスフェート、モノ、ジ及びトリラウリルホスフェート等のリン酸類及びこれらのホスフェート部分がホスファイトとなった亜リン酸類；
ジメチルジチオリン酸に代表されるジアルキルジチオリン酸類等の有機リン化合物；
フェノール、カテコール、ｔ－ブチルカテコール、２，６－ジ－ｔ－ブチルクレゾール、２，６－ジ－ｔ－ブチルエチルフェノール、レゾルシン、ハイドロキノン、フロログルシン、ピロガロール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール、ヒドロキシフェニル酢酸、ヒドロキシフェニルプロピオン酸、ヒドロキシフェニル酢酸アミド、ヒドロキシフェニル酢酸メチル、ヒドロキシフェニル酢酸エチル、ヒドロキシフェネチルアルコール、ヒドロキシフェネチルアミン、ヒドロキシベンズアルデヒド、フェニルフェノール、ビスフェノール－Ａ、２，２’－メチレン－ビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、ビスフェノール－Ｆ、ビスフェノール－Ｓ、α－ナフトール、β－ナフトール、アミノフェノール、クロロフェノール、２，４，６－トリクロロフェノール等のフェノール類；
メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｏ－トルエンスルホン酸、ｍ－トルエンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ－フェノールスルホン酸、ｏ－クレゾールスルホン酸、メタニル酸、スルファニル酸、４Ｂ－酸、ジアミノスチルベンスルホン酸、ビフェニルスルホン酸、α－ナフタレンスルホン酸、β－ナフタレンスルホン酸、ペリ酸、ローレント酸、フェニルＪ酸等のスルホン酸類
などが挙げられる。
【0094】
使用する重合抑制剤の量は、化合物（Ａ－１）の１モルに対して、例えば、０．０００１～１．０モルであってよく、好ましくは０．００１～０．５モル、より好ましくは０．０１～０．２５モル、さらに好ましくは０．０５～０．１５モルである。これらの中でも、重合抑制剤は、好ましくは、酢酸、無水酢酸、マレイン酸、無水マレイン酸、リン酸、リン酸水素アルカリ金属塩、又はリン酸二水素アルカリ金属塩である。
【0095】
反応後の生成物溶液は、酸性水溶液を用いて洗浄することによって得られる化合物（Ａ－１）の経時安定性を向上させることができる。酸性水溶液に用いる酸の具体例としては、上記において重合抑制剤として例示した酸等が挙げられる。該酸は単独でも２種類以上を混合して用いてもよい。該酸性水溶液は通常ｐＨ６以下で効果を発現する傾向があるが、より効果的な範囲はｐＨ３以下である。酸性水溶液に用いる酸は、好ましくは塩化水素（塩酸）、硫酸、リン酸及び／又はマレイン酸の水溶液である。
【0096】
さらに、化合物（Ａ－１）の安定性を向上させるために硫化水素吸着剤を使用することもできる。硫化水素吸着剤としては、例えば、水酸化鉄（ＩＩＩ）、酸化亜鉛、ＫＮＫ－３０１（酸化亜鉛系吸着剤、呉羽油脂工業株式会社製）、ニオノン２０２Ａ（酸化鉄系吸着剤、株式会社伊吹正製）、リモニック（水酸化鉄系、株式会社日本リモナイト製）等が挙げられる。硫化水素吸着剤は、反応時に添加してもよいし、反応後の精製において添加して使用することもできる。
【0097】
（Ａ）成分の含有量は、本発明の効果が充分に得られ易いことから、組成物の固形分の総量を基準として、例えば、３０～９８質量％であってよい。（Ａ）成分の含有量は、組成物の全量を基準として、好ましくは４０質量％以上、より好ましくは５０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上であり、好ましくは９７質量％以下、より好ましくは９５質量％以下、さらに好ましくは９２質量％以下である。
【0098】
組成物の固形分の総量とは、組成物に含まれる成分のうち、溶剤を除いた成分の合計を意味する。組成物の固形分中における各成分の含有量は、液体クロマトグラフィ、ガスクロマトグラフィ等の公知の分析手段で測定することができる。組成物の固形分中における各成分の含有量は、組成物調製時の配合から算出されてもよい。
【0099】
（Ｂ）成分：（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する化合物
本実施形態の組成物は、（Ｂ）成分を含有する。（Ｂ）成分は、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有する化合物（以下、「（Ｂ１）成分」という場合がある。））を含む。（Ｂ）成分（（Ｂ１）成分）は、（Ａ）成分と組み合わせることにより、製膜時にムラ、ハジキ等の不具合が生じ難くなる傾向があり、不具合の少ない良好な硬化膜を形成することが可能となる。また、（Ｂ）成分（（Ｂ１）成分）は、（Ａ）成分と組み合わせることにより、組成物の粘度を向上させる（組成物を増粘させる）ことができ、当該組成物を用いることによって、厚膜（例えば、１．０μｍ以上）の硬化膜を形成することが可能となる。すなわち、本実施形態の組成物は、厚膜形成性の点でも優れる。
本実施形態の組成物は、（Ｂ）成分を含有する。（Ｂ）成分は、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有する化合物（以下、「（Ｂ１）成分」という場合がある。））を含む。（Ｂ）成分（（Ｂ１）成分）は、（Ａ）成分と組み合わせることにより、製膜時にムラ、ハジキ等の不具合が生じ難くなる傾向があり、不具合の少ない良好な硬化膜を形成することが可能となる。また、（Ｂ）成分（（Ｂ１）成分）は、（Ａ）成分と組み合わせることにより、組成物の粘度を向上させる（組成物を増粘させる）ことができ、当該組成物を用いることによって、厚膜（例えば、１．０μｍ以上）の硬化膜を形成することが可能となる。すなわち、本実施形態の組成物は、厚膜形成性の点でも優れる。
【0100】
（Ｂ）成分は、好ましくは、硬化性の観点から、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ酸性官能基を有しない化合物である。ここで、酸性官能基とは、カルボン酸基（－ＣＯＯＨ）、スルホン酸基（－ＳＯ３Ｈ）、リン酸基（－ＰＯ４Ｈ２）、ボロン酸基（－ＢＯ２Ｈ２）等のプロトン（Ｈ＋）を放出することが可能な基を意味する。ただし、－ＣＯＯＮａ等のカルボン酸塩基、－ＳＯ３Ｎａ等のスルホン酸塩基、－ＰＯ４Ｎａ２等のリン酸塩基、－ＢＯ２Ｎａ２等のボロン酸塩基などの放出可能なプロトンを有しない（放出可能なプロトンがアルカリ金属イオン等に置換されている）基は、酸性官能基に包含されない。
【0101】
（Ｂ１）成分としては、例えば、分子内にウレタン結合を有するウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレートは、一般に、水酸基を有する（メタ）アクリレートと、ポリイソシアネートと、必要に応じて添加されるポリオールとを反応させることによって製造される。
【0102】
ウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、分子内にポリエステル構造を有するウレタン（メタ）アクリレート、分子内にポリエーテル構造を有するウレタン（メタ）アクリレートが挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、新中村化学工業株式会社製のＮＫオリゴＵシリーズ、ＵＡシリーズ等；亜細亜工業株式会社製のＳＵＡシリーズ、ＲＵＡシリーズ等；共栄社化学株式会社製のＵＦシリーズ、ＡＨシリーズ等；第一工業製薬株式会社製のＲシリーズ、ＲＳＴシリーズ、ＧＸシリーズ等が挙げられる。
【0103】
（Ｂ１）成分の分子量は、合成の観点から、好ましくは１０００００以下、より好ましくは２００００以下、さらに好ましくは１００００以下である。（Ｂ１）成分は、揮発性の観点から、好ましくは１００以上、より好ましくは３００以上、さらに好ましくは５００以上である。
【0104】
（Ｂ１）成分の含有量は、本発明の効果が充分に得られ易いことから、（Ｂ）成分の総量を基準として、例えば、３０～１００質量％であってよい。（Ｂ１）成分の含有量は、（Ｂ）成分の総量を基準として、好ましくは５０～１００質量％、より好ましくは７０～１００質量％、さらに好ましくは８０～１００質量％である。
【0105】
（Ｂ）成分は、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有しない化合物（以下、「（Ｂ２）成分」という場合がある。））を含んでいてもよい。（Ｂ２）成分としては、（メタ）アクリロイル基を一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有しない単官能（メタ）アクリレート化合物、（メタ）アクリロイル基を二つ以上有し、かつ分子内にウレタン結合を有しない多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。多官能（メタ）アクリレート化合物における（メタ）アクリロイル基の数は、好ましくは２～６、より好ましくは２～３である。
【0106】
（メタ）アクリロイル基を一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有しない単官能（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート（ｎ－ラウリル（メタ）アクリレート）、イソミリスチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリルアクリレート等のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート；３－ブテニル（メタ）アクリレート等のアルケニル基を有するアルケニル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族基を有する（メタ）アクリレート；メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシオクタエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシノナエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシヘプタプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート等のアルコキシポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の脂環式基を有する（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【0107】
（メタ）アクリロイル基を二つ以上有し、かつ分子内にウレタン結合を有しない多官能（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を二つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有しない（メタ）アクリレート化合物、（メタ）アクリロイル基を三つ以上有し、かつ分子内にウレタン結合を有しない（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【0108】
（メタ）アクリロイル基を二つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有しない（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオール（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、エチレンオキシド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３－メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0109】
（メタ）アクリロイル基を三つ以上有し、かつ分子内にウレタン結合を有しない（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物等が挙げられる。
【0110】
（Ｂ２）成分の含有量は、（Ｂ）成分の総量を基準として、例えば、０～７０質量％であってよい。（Ｂ１）成分の含有量は、（Ｂ）成分の総量を基準として、好ましくは０～５０質量％、より好ましくは０～３０質量％、さらに好ましくは０～２０質量％である。
【0111】
（Ｂ）成分の含有量は、本発明の効果が充分に得られ易いことから、組成物の固形分の総量を基準として、例えば、１～４０質量％であってよい。（Ｂ）成分の含有量は、組成物の固形分の総量を基準として、好ましくは２質量％以上、より好ましくは３質量％以上、さらに好ましくは５質量％以上であり、好ましくは３５質量％以下、より好ましくは３０質量％以下、さらに好ましくは２５質量％以下である。
【0112】
（Ｃ）成分：塩基触媒
本実施形態の組成物は、（Ｃ）成分を含有する。（Ｃ）成分は、必要に応じて、活性エネルギー線照射及び熱の少なくとも一方によりアニオン重合を開始させる塩基を放出する成分である。（Ｃ）成分としては、アンモニウム塩、ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセニウム）塩、ＤＢＮ（ジアザビシクロノネニウム）塩、ビグアニジウム塩、芳香族ホスホニウム塩、芳香族ジメチルウレア、脂肪族ジメチルウレア、グアジニン塩、ホスファゼン塩、イミダゾール塩等が挙げられる。これらは、構造の違いによって、活性エネルギー線照射及び熱の少なくとも一方でアニオン重合を開始させることができる。活性エネルギー線照射によりアニオン重合を開始させる塩基を放出することができる化合物を光塩基発生剤といい、熱によりアニオン重合を開始させる塩基を放出することができる化合物を熱塩基発生剤という。
本実施形態の組成物は、（Ｃ）成分を含有する。（Ｃ）成分は、必要に応じて、活性エネルギー線照射及び熱の少なくとも一方によりアニオン重合を開始させる塩基を放出する成分である。（Ｃ）成分としては、アンモニウム塩、ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセニウム）塩、ＤＢＮ（ジアザビシクロノネニウム）塩、ビグアニジウム塩、芳香族ホスホニウム塩、芳香族ジメチルウレア、脂肪族ジメチルウレア、グアジニン塩、ホスファゼン塩、イミダゾール塩等が挙げられる。これらは、構造の違いによって、活性エネルギー線照射及び熱の少なくとも一方でアニオン重合を開始させることができる。活性エネルギー線照射によりアニオン重合を開始させる塩基を放出することができる化合物を光塩基発生剤といい、熱によりアニオン重合を開始させる塩基を放出することができる化合物を熱塩基発生剤という。
【0113】
（Ｃ）成分は、一実施形態において、耐溶剤性の観点から、好ましくはＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセニウム）塩を含む。（Ｃ）成分は、一実施形態において、組成物の保管安定性、並びに、硬化物の硬化性及び耐熱性の観点から、好ましくは、グアジニン塩及びホスファゼン塩からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む。
【0114】
塩を構成するアニオンとしては、例えば、無機アニオン、有機アニオン等が挙げられる。アニオンとしては、例えば、水酸化物イオン；塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロゲン化物イオン；炭酸イオン；重炭酸イオン；硝酸イオン；硫酸イオン；亜硫酸イオン；クロム酸イオン；クロム酸イオン；二クロム酸イオン；リン酸イオン；シアン化物イオン；過マンガン酸イオン；ヘキサシアノ鉄（ＩＩＩ）酸イオン等の錯体イオン；ギ酸イオン、酢酸イオン、プロピオン酸イオン、酪酸イオン、吉草酸イオン等の有機カルボン酸イオンなどが挙げられる。アニオンは、硬化性、耐熱性、耐光性、及び保管安定性の観点から、好ましくは有機カルボン酸イオンである。有機カルボン酸イオンを構成する炭素原子数は、好ましくは１～２０、より好ましくは１～１０である。
【0115】
（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分の総量１００質量部に対して、硬化性及び／又は耐熱性を高める観点から、好ましくは０．１質量部以上、より好ましくは０．５質量部以上であり、硬化物の機械的物性等の物性を良好にする観点から、好ましくは１０質量部以下、より好ましくは８質量部以下である。
【0116】
（Ｄ）成分：重合抑制剤
組成物は、１種又は２種以上の（Ｄ）成分を含有していてもよい。重合抑制剤を組成物に含有させるか否かは、例えば、（Ａ）成分の種類を考慮して決定することが好ましい。（Ｄ）成分は、好ましくは溶剤に溶解又は分散されるものである。組成物に含有される（Ｄ）成分は、組成物の調製時に添加されるものであってよく、（Ａ）成分の製造後に添加されるものであってもよい。組成物が（Ｄ）成分を含有することにより、（Ａ）成分の意図しない重合が抑制されるため、組成物の保管安定性を向上させることができる。
組成物は、１種又は２種以上の（Ｄ）成分を含有していてもよい。重合抑制剤を組成物に含有させるか否かは、例えば、（Ａ）成分の種類を考慮して決定することが好ましい。（Ｄ）成分は、好ましくは溶剤に溶解又は分散されるものである。組成物に含有される（Ｄ）成分は、組成物の調製時に添加されるものであってよく、（Ａ）成分の製造後に添加されるものであってもよい。組成物が（Ｄ）成分を含有することにより、（Ａ）成分の意図しない重合が抑制されるため、組成物の保管安定性を向上させることができる。
【0117】
（Ｄ）成分は、生成した化合物（Ａ－１）の重合を抑制するために反応系中に添加される重合抑制剤と同様のものが例示できる。（Ｄ）成分は、好ましくは有機カルボン酸類、より好ましくは炭素原子数１０以下の有機カルボン酸類、さらに好ましくはギ酸又は酢酸である。
【0118】
組成物が（Ｄ）成分を含有する場合、（Ｄ）成分の含有量は、組成物の保管安定性を向上させる観点から、（Ａ）成分の総量１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部以上、より好ましくは０．１質量部以上、さらに好ましくは０．５質量部以上、特に好ましくは１質量部以上であり、好ましくは１００質量部以下、より好ましくは５０質量部以下、さらに好ましくは２５質量部以下、特に好ましくは１０質量部以下である。
【0119】
組成物に含まれる他の成分としては、例えば、樹脂、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外の硬化性化合物、溶剤、添加剤等が挙げられる。添加剤としては、例えば、無機粒子、充填剤、重合開始助剤、増感剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、分散剤等が挙げられる。
【0120】
（樹脂）
組成物は、１種又は２種以上の樹脂を含有していてもよい。組成物が樹脂を含有することにより、組成物の硬化物に現像性を付与したり、硬化物及びそれを含む成形物の機械的特性及び／又は光学特性を調整したりすることが可能である。樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂が挙げられる。硬化性樹脂は、活性エネルギー線の照射により硬化する光硬化性樹脂であってもよいし、熱により硬化する熱硬化性樹脂であってもよい。
組成物は、１種又は２種以上の樹脂を含有していてもよい。組成物が樹脂を含有することにより、組成物の硬化物に現像性を付与したり、硬化物及びそれを含む成形物の機械的特性及び／又は光学特性を調整したりすることが可能である。樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂が挙げられる。硬化性樹脂は、活性エネルギー線の照射により硬化する光硬化性樹脂であってもよいし、熱により硬化する熱硬化性樹脂であってもよい。
【0121】
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂等のオレフィン系樹脂；ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂等の（メタ）アクリル系樹脂；ポリスチレン系樹脂、スチレン－アクリロニトリル系樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン系樹脂等のスチレン系樹脂；ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン－酢酸ビニル系共重合体、エチレン－ビニルアルコール系樹脂等のビニル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、液晶ポリエステル樹脂等のポリエステル系樹脂；ポリアセタール樹脂；ポリアミド樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリウレタン樹脂；ポリフェニレンサルファイド樹脂などが挙げられる。これらの樹脂の１種又は２種以上を、ポリマーブレンド又はポリマーアロイとして使用してもよい。
【0122】
硬化性樹脂としては、光重合性基又は熱重合性基を有する樹脂が挙げられる。より具体的には、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、アルキド樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。
【0123】
樹脂の他の例としては、アルカリ可溶性樹脂が挙げられる。組成物がアルカリ可溶性樹脂を含有することにより、組成物の硬化物に現像性を付与することができる。アルカリ可溶性樹脂とは、アルカリ水溶液に可溶な樹脂を意味する。具体的には、例えば、カルボキシ基及び／又はフェノール性水酸基を有する樹脂が挙げられる。
【0124】
アルカリ可溶性樹脂の酸価は、組成物の硬化物の現像性及び耐溶剤性を高める観点から、好ましくは１０～１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは２０～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、さらに好ましくは３０～１４０ｍｇＫＯＨ／ｇである。酸価は、アルカリ可溶性樹脂１ｇを中和するに必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値であり、例えば、水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。
【0125】
また、樹脂の他の例としては、高屈折率樹脂が挙げられる。高屈折率樹脂とは、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０以上である樹脂を意味する。
【0126】
樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって測定される標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、例えば、５００～２００万であってよく、好ましくは１０００～１００万、より好ましくは１５００～７５万である。樹脂のＭｗは、用いる原料の選択、仕込方法、反応温度、時間等の反応条件を適宜組み合わせて調整することができる。
【0127】
組成物が樹脂を含有する場合、樹脂の含有量は、組成物の固形分の総量を基準として、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上であり、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７０質量％以下である。
【0128】
（（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外の硬化性化合物）
組成物は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外の硬化性化合物を１種又は２種以上を含有していてもよい。組成物が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外の硬化性化合物を含有することにより、組成物の粘度又は硬化性を調整することができ、得られる硬化物及びそれを含む成形物の機械的特性及び／又は光学特性を調整することが可能である。
組成物は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外の硬化性化合物を１種又は２種以上を含有していてもよい。組成物が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外の硬化性化合物を含有することにより、組成物の粘度又は硬化性を調整することができ、得られる硬化物及びそれを含む成形物の機械的特性及び／又は光学特性を調整することが可能である。
【0129】
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外の硬化性化合物としては、例えば、（Ａ）成分以外のエポキシ化合物、（Ａ）成分以外のオキセタン化合物、ヒドロキシ化合物、ビニルエーテル化合物、アリル化合物、チオール化合物、ポリフェノール化合物、イソ（チオ）シアナート化合物、酸無水物等が挙げられる。
【0130】
組成物が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外の硬化性化合物を含有する場合、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外の硬化性化合物の含有量は、組成物の固形分の総量を基準として、好ましくは１質量％以上、より好ましくは２質量％以上であり、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下である。
【0131】
（溶剤）
組成物は、１種又は２種以上の溶剤を含有していてもよい。溶剤は、好ましくは、（Ａ）成分を溶解又は分散させることができるものであり、より好ましくは、さらに（Ａ）成分以外の他の成分を溶解又は分散させることができるものである。溶剤としては、例えば、化合物（Ａ－２）と化合物（Ａ－３）との反応で例示した溶媒（有機溶媒）、エステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－を含み、－Ｏ－を含まない溶剤）、エーテル溶剤（分子内に－Ｏ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、エーテルエステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－と－Ｏ－とを含む溶剤）、ケトン溶剤（分子内に－ＣＯ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、アルコール溶剤（分子内にＯＨを含み、－Ｏ－、－ＣＯ－、及び－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
組成物は、１種又は２種以上の溶剤を含有していてもよい。溶剤は、好ましくは、（Ａ）成分を溶解又は分散させることができるものであり、より好ましくは、さらに（Ａ）成分以外の他の成分を溶解又は分散させることができるものである。溶剤としては、例えば、化合物（Ａ－２）と化合物（Ａ－３）との反応で例示した溶媒（有機溶媒）、エステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－を含み、－Ｏ－を含まない溶剤）、エーテル溶剤（分子内に－Ｏ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、エーテルエステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－と－Ｏ－とを含む溶剤）、ケトン溶剤（分子内に－ＣＯ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、アルコール溶剤（分子内にＯＨを含み、－Ｏ－、－ＣＯ－、及び－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
【0132】
エステル溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、２－ヒドロキシイソブタン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキサノールアセテート、γ－ブチロラクトン等が挙げられる。
【0133】
エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、３－メトキシ－１－ブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４－ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、アニソール、フェネトール、メチルアニソール等が挙げられる。
【0134】
エーテルエステル溶剤としては、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸メチル、２－メトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸プロピル、２－エトキシプロピオン酸メチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－エトキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等が挙げられる。
【0135】
ケトン溶剤としては、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、アセトン、２－ブタノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、４－ヘプタノン、４－メチル－２－ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。
【0136】
アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等が挙げられる。
【0137】
芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等が挙げられる。
【0138】
アミド溶剤としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等が挙げられる。
【0139】
組成物が溶剤を含有する場合、溶剤の含有量は、組成物の固形分の総量１００質量部に対して、好ましくは６０質量部以上、より好ましくは８０質量部以上であり、好ましくは１０００質量部以下、より好ましくは５００質量部以下である。組成物が溶剤を含有する場合、組成物の固形分濃度は、好ましくは５～６０質量％、より好ましくは１０～５０質量％である。
【0140】
＜硬化物及び成形物＞
一実施形態の硬化物は、組成物の硬化物である。一実施形態の成形物は、組成物を硬化させてなるものであり、組成物の硬化物を含む。組成物は製膜性、硬化性等に優れているため、硬化物又はそれを含む成形物を作製するための硬化性材料として好適に用いることができる。硬化物は、活性エネルギー線の照射及び熱の少なくとも一方により、組成物中の（Ａ）成分、（Ｂ）成分等を硬化させることにより得ることができる。硬化物を含む成形物の形状は特に制限されず、フィルム（膜）状、板状、レンズ形状、粉状、粒状、非球粒子状、破砕粒子状、多孔質状、塊状連続体、繊維状、管状、中空糸状等を含んでいてもよく、成形物の用途等に応じた任意の形状であってよい。
一実施形態の硬化物は、組成物の硬化物である。一実施形態の成形物は、組成物を硬化させてなるものであり、組成物の硬化物を含む。組成物は製膜性、硬化性等に優れているため、硬化物又はそれを含む成形物を作製するための硬化性材料として好適に用いることができる。硬化物は、活性エネルギー線の照射及び熱の少なくとも一方により、組成物中の（Ａ）成分、（Ｂ）成分等を硬化させることにより得ることができる。硬化物を含む成形物の形状は特に制限されず、フィルム（膜）状、板状、レンズ形状、粉状、粒状、非球粒子状、破砕粒子状、多孔質状、塊状連続体、繊維状、管状、中空糸状等を含んでいてもよく、成形物の用途等に応じた任意の形状であってよい。
【0141】
組成物から成形物を得る方法としては、特に限定されず、基板上に膜を形成してその後エッチング等により成形を行う方法、射出成形方法、注型重合成形方法等が挙げられる。
【0142】
注型重合成形方法では、例えば、成形モールド内に組成物を注入し、必要に応じて脱泡等を行い、次にオーブンでの加熱等により硬化させ、得られた成形物を取り出す。取り出した成形物に、さらに活性エネルギー線の照射を行い、追加で硬化を行うこともできる。
【0143】
基板上に成形物としての膜を形成する場合、組成物を基板に塗布し、必要に応じて乾燥を行って塗布膜（塗布層）を形成し、塗布膜（塗布層）を硬化させることにより硬化膜（硬化層）である成形物を得ることができる。成形物はパターニングされた硬化膜（硬化層）であってもよい。パターニングされた硬化膜は、フォトリソグラフ法、インクジェット法、印刷法等の方法によってパターニングすることにより得ることができる。パターニング方法は、例えば、フォトリソグラフィ法であってよい。フォトリソグラフィ法は、組成物を基板に塗布し、必要に応じて乾燥を行って塗布膜（塗布層）を形成し、フォトマスクを介して塗布膜（塗布層）を露光し、露光後の塗布膜（塗布層）を現像する方法である。
【0144】
基板としては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミナケイ酸塩ガラス、表面をシリカコートしたソーダライムガラス、無アルカリガラス等のガラス板；ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂板；シリコン；これらの基板上にアルミニウム、銀、銀／銅／パラジウム合金薄膜等が形成された基板などが挙げられる。組成物の基板への塗布方法としては、スピンコート法、スリットコート法、スリットアンドスピンコート法等が挙げられる。
【0145】
露光に用いられる光源は、好ましくは、２５０～４５０ｎｍの波長の光を発生する光源である。例えば、これらの範囲の波長の光から、光重合開始剤の吸収波長に応じて、４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、又は３６５ｎｍ付近の光をバンドパスフィルタにより選択的に取り出してもよい。光源の具体例としては、水銀灯、発光ダイオード、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ等が挙げられる。パターン露光後においては、露光後の塗布膜（塗布層）を現像前に加熱（現像前ベーク）を行ってもよい。
【0146】
現像に用いる現像液としては、例えば、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ性化合物を含む、水溶液、溶剤などが挙げられる。溶剤としては、例えば、化合物（Ａ－２）と化合物（Ａ－３）との反応で例示した溶媒（有機溶媒）又は上記の溶剤を用いることができる。現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。現像方法としては、パドル法、ディッピング法、スプレー法等が挙げられる。現像により得られたパターン状の硬化膜（硬化層）に対してさらに加熱（ポストベーク）を行ってもよい。
【0147】
硬化物又はそれを含む成形物は、組成物から形成されるものであるため、高屈折率を示すことができ、また、それらの屈折率は、組成物の組成等を調整することにより所望の屈折率に制御することができる。硬化物又はそれを含む成形物の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、１．６５以上、１．６８以上、１．７０以上、１．７２以上、又は１．７３以上であってよい。硬化物又はそれを含む成形物の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、例えば、２．００以下であり、１．９０以下であってもよい。
【0148】
硬化物又はそれを含む成形物の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、例えば、以下の方法により測定することができる。まず、基板上に塗布膜を形成し、塗布膜を硬化させ、硬化膜が形成された基板を得る。次に、硬化膜が形成された基板について、積分球ユニット（例えば、日本分光株式会社製、「ＩＳＶ－９２２」）付き可視紫外分光光度計（例えば、日本分光株式会社製、「Ｖ－６５０」）を用いて、波長３００ｎｍから８００ｎｍにおける透過スペクトル及び反射スペクトルを測定する。次いで、透過スペクトル及び反射スペクトルから反射スペクトルの干渉による増減を減算処理して平滑化して得られた真の反射スペクトルのうち、波長５５０ｎｍの値及び基板の屈折率から、硬化物又はそれを含む成形物の波長５５０ｎｍにおける屈折率をフレネルの公式（例えば、ヘクト光学Ｉ原著第５版、丸善出版、２０１８年、ｐ．２０９－２２６）に基づいて算出する。これにより、硬化物又はそれを含む成形物の波長５５０ｎｍにおける屈折率を求めることができる。
【0149】
＜使用用途＞
硬化物又は成形物の用途としては、例えば、ガラス代替品とその表面コーティング材；住居、施設、輸送機器等の窓ガラス、採光ガラス及び光源保護ガラス用のコーティング材；住居、施設、輸送機器等のウインドウフィルム；住居、施設、輸送機器等の内外装材及び内外装用塗料及び該塗料によって形成させる塗膜；アルキド樹脂ラッカー塗料及び該塗料によって形成される塗膜；アクリルラッカー塗料及び該塗料によって形成される塗膜；蛍光灯、水銀灯等の紫外線を発する光源用部材；精密機械、電子電気機器用部材、各種ディスプレイから発生する電磁波等の遮断用材；食品、化学品、薬品等の容器又は包装材；ボトル、ボックス、ブリスター、カップ、特殊包装用、コンパクトディスクコート、農工業用シート又はフィルム材；印刷物、染色物、染顔料等の退色防止剤；ポリマー支持体用（例えば、機械及び自動車部品のプラスチック製部品用）の保護膜；印刷物オーバーコート；インクジェット媒体被膜；積層艶消し；オプティカルライトフィルム；安全ガラス／フロントガラス中間層；エレクトロクロミック／フォトクロミック用途；オーバーラミネートフィルム；太陽熱制御膜；日焼け止めクリーム、シャンプー、リンス、整髪料等の化粧品；スポーツウェア、ストッキング、帽子等の衣料用繊維製品及び繊維；カーテン、絨毯、壁紙等の家庭用内装品；プラスチックレンズ、コンタクトレンズ、義眼等の医療用器具；光学フィルタ、バックライトディスプレーフィルム、プリズム、レンズ（例えば、眼鏡レンズ、カメラレンズ、及び後述するマイクロレンズ、ピックアップレンズ等）、鏡、写真材料等の光学用品；金型膜、転写式ステッカー、落書き防止膜、テープ、インク等の文房具；標示板、標示器等とその表面コーティング材；光学装置等に用いられる基板；光導波路；ホログラム；ＬＥＤ封止材などが挙げられる。
硬化物又は成形物の用途としては、例えば、ガラス代替品とその表面コーティング材；住居、施設、輸送機器等の窓ガラス、採光ガラス及び光源保護ガラス用のコーティング材；住居、施設、輸送機器等のウインドウフィルム；住居、施設、輸送機器等の内外装材及び内外装用塗料及び該塗料によって形成させる塗膜；アルキド樹脂ラッカー塗料及び該塗料によって形成される塗膜；アクリルラッカー塗料及び該塗料によって形成される塗膜；蛍光灯、水銀灯等の紫外線を発する光源用部材；精密機械、電子電気機器用部材、各種ディスプレイから発生する電磁波等の遮断用材；食品、化学品、薬品等の容器又は包装材；ボトル、ボックス、ブリスター、カップ、特殊包装用、コンパクトディスクコート、農工業用シート又はフィルム材；印刷物、染色物、染顔料等の退色防止剤；ポリマー支持体用（例えば、機械及び自動車部品のプラスチック製部品用）の保護膜；印刷物オーバーコート；インクジェット媒体被膜；積層艶消し；オプティカルライトフィルム；安全ガラス／フロントガラス中間層；エレクトロクロミック／フォトクロミック用途；オーバーラミネートフィルム；太陽熱制御膜；日焼け止めクリーム、シャンプー、リンス、整髪料等の化粧品；スポーツウェア、ストッキング、帽子等の衣料用繊維製品及び繊維；カーテン、絨毯、壁紙等の家庭用内装品；プラスチックレンズ、コンタクトレンズ、義眼等の医療用器具；光学フィルタ、バックライトディスプレーフィルム、プリズム、レンズ（例えば、眼鏡レンズ、カメラレンズ、及び後述するマイクロレンズ、ピックアップレンズ等）、鏡、写真材料等の光学用品；金型膜、転写式ステッカー、落書き防止膜、テープ、インク等の文房具；標示板、標示器等とその表面コーティング材；光学装置等に用いられる基板；光導波路；ホログラム；ＬＥＤ封止材などが挙げられる。
【0150】
成形物は、光学機器に用いられる光学用品であるレンズとして好適に用いられる。光学機器としては、固体撮像素子、表示装置等が挙げられる。固体撮像素子においては、各光電変換素子への集光効率を向上させる目的のレンズが用いられる。また、表示装置においては、画素からの光の取り出し効率を向上させる目的のレンズが用いられる。レンズはマイクロレンズであってもよい。表示装置としては、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等が挙げられる。
【0151】
高屈折率材料としては、酸化ジルコニウム、酸化チタン等の無機化合物が従来知られている。しかし、無機化合物からなる高屈折率材料を含む成形物を作製する場合において、エッチングが進行し難いなど成形が容易でないことがあり、また、成形時に高屈折率材料が飛散して汚染の問題を生じる場合がある。このような問題は、有機化合物である本実施形態の高屈折材料を用いることにより解決することが可能となる。
【0152】
本実施形態の組成物の硬化物は、主鎖切断型のポジ型レジストとして好適に用いることができる。本実施形態の組成物の硬化物を用いたレジストパターンの形成では、電離放射線等（例えば、電子線、ＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、ＥＵＶレーザー等）の照射により、レジスト膜の照射部分にて、硬化物を構成する（Ａ）成分、（Ｂ）成分等の重合体の主鎖が切断され、低分子量化する。そのため、露光部分と未露光部分とで現像液に対する溶解性に差が生じて、レジストパターンが形成される。本実施形態の組成物の硬化物を用いたレジストパターンは、ビルドアップ基板等のプリント基板；半導体；フォトマスク；モールドなどの製造においてレジストパターンを形成する際に適用することができる。
【実施例0153】
以下、本発明について、実施例を挙げてより具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、以下においては、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を意味する。
【0154】
［合成例１］
＜化合物（Ａａ－１）の合成＞
・化合物（Ａａ－１ａ）の合成
＜化合物（Ａａ－１）の合成＞
・化合物（Ａａ－１ａ）の合成
【化26】
【0155】
ジムロート冷却管及び温度計を設置した四つ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、１，６－ナフタレンジチオール３０部、アセトン１６５部、純水４５部、及びエピクロロヒドリン１３９部を上記フラスコに加えて氷浴中で１５分撹拌した。続いて、別のフラスコに水酸化ナトリウム１５部、アセトン６６部、及び純水２０３部を加えて完溶させたのちに、上記四つ口フラスコに１時間かけて滴下した。滴下した後に３０℃まで昇温し、３０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を精製し、式（Ａａ－１ａ）で表される化合物（化合物（Ａａ－１ａ））４６部を得た。
【0156】
１Ｈ－ＮＭＲ解析及びＬＣ－ＭＳ測定を行い、化合物（Ａａ－１ａ）が生成したことを確認した。
１Ｈ－ＮＭＲ（重クロロホルム）δ：８．３７～８．３９（１Ｈ）、７．８５（１Ｈ）、７．３９～７．７０（４Ｈ）、３．０８～３．２９（５Ｈ）、２．９４～２．９８（１Ｈ）、２．５７～２．８１（３Ｈ）、２．３９～２．４１（１Ｈ）
ＬＣ－ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３０５．５
１Ｈ－ＮＭＲ（重クロロホルム）δ：８．３７～８．３９（１Ｈ）、７．８５（１Ｈ）、７．３９～７．７０（４Ｈ）、３．０８～３．２９（５Ｈ）、２．９４～２．９８（１Ｈ）、２．５７～２．８１（３Ｈ）、２．３９～２．４１（１Ｈ）
ＬＣ－ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３０５．５
【0157】
・化合物（Ａａ－１）の合成
【化27】
【0158】
ジムロート冷却管及び温度計を設置した四つ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、化合物（Ａａ－１ａ）３部、メタノール３０部、トルエン３０部、無水酢酸０．０５部、及びチオ尿素３．８部を上記フラスコに加えて室温下で２４時間撹拌した。得られた混合物を精製し、式（Ａａ－１）で表される化合物（化合物（Ａａ－１））２．５部を得た。
【0159】
１Ｈ－ＮＭＲ解析及びＬＣ－ＭＳ測定を行い、化合物（Ａａ－１）が生成したことを確認した。
１Ｈ－ＮＭＲ（重クロロホルム）δ：８．３９～８．４３（１Ｈ）、７．８６（１Ｈ）、７．４０～７．７４（４Ｈ）、３．４０～３．５３（２Ｈ）、３．０４～３．１８（２Ｈ）、２．７８～２．９６（２Ｈ）、２．４７～２．４９（１Ｈ）、２．３５～２．３６（１Ｈ）、２．１４～２．１６（１Ｈ）、１．９３～１．９４（１Ｈ）
ＬＣ－ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３３７．５
１Ｈ－ＮＭＲ（重クロロホルム）δ：８．３９～８．４３（１Ｈ）、７．８６（１Ｈ）、７．４０～７．７４（４Ｈ）、３．４０～３．５３（２Ｈ）、３．０４～３．１８（２Ｈ）、２．７８～２．９６（２Ｈ）、２．４７～２．４９（１Ｈ）、２．３５～２．３６（１Ｈ）、２．１４～２．１６（１Ｈ）、１．９３～１．９４（１Ｈ）
ＬＣ－ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３３７．５
【0160】
［実施例１～８及び比較例１、２］
＜組成物の調製＞
表１に示す配合成分を表１に示す添加量（単位：部）でフラスコに入れ、撹拌して液状の実施例１～８及び比較例１、２の組成物を調製した。実施例１～８及び比較例１、２の組成物は、目視したところ透明であり、配合成分が均一に溶解されていることが確認された。
＜組成物の調製＞
表１に示す配合成分を表１に示す添加量（単位：部）でフラスコに入れ、撹拌して液状の実施例１～８及び比較例１、２の組成物を調製した。実施例１～８及び比較例１、２の組成物は、目視したところ透明であり、配合成分が均一に溶解されていることが確認された。
【0161】
表１に示される配合成分の略称の詳細は次のとおりである。
（Ａ）成分：チイラン基又はチエタン基を少なくとも一つ有する化合物（Ａ）
・（Ａ－１）：合成例１で合成した化合物（Ａａ－１）
（Ｂ）成分：（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する化合物（Ｂ）
（Ｂ１）成分：（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有する化合物
・（Ｂ１－１）：ウレタンアクリレート（新中村化学工業株式会社製、「ＮＫオリゴＵＡ－１２２Ｐ」、ポリエステル系、官能基数：２、分子量：１１００）
・（Ｂ１－２）：ウレタンアクリレート（新中村化学工業株式会社製、「ＮＫオリゴＵＡ－１６０ＴＭ」、ポリエーテル系、官能基数：２、分子量：１６００、）
・（Ｂ１－３）：ウレタンアクリレート（亜細亜工業株式会社製、「ＳＵＡ－０２３」、ポリエーテル系、官能基数：２）
・（Ｂ１－４）：ウレタンアクリレート（亜細亜工業株式会社製、「ＲＵＡ－０４９Ｘ」、官能基数：３）
・（Ｂ１－５）：ウレタンアクリレート（共栄社化学株式会社製、「ＵＦ－８００１Ｇ」、官能基数：２、分子量：４５００）
・（Ｂ１－６）：ウレタンアクリレート（共栄社化学株式会社製、「ＡＨ－６００」）
・（Ｂ１－７）：ウレタンアクリレート（第一工業製薬株式会社製、「Ｒ－１２０４Ｂ－Ｈ」）
（Ｂ２）成分：（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有しない化合物
・（Ｂ２－１）：ウレタン結合を有しないアクリレート（新中村化学工業株式会社製、「ＮＫエステルＡ－９５５０」）
（Ｃ）成分：塩基触媒（Ｃ）
・（Ｃ－１）：ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセニウム）塩タイプの熱アニオン重合開始剤（サンアプロ株式会社製、「Ｕ－ＣＡＴ ＳＡ１０２」）
（Ｄ）成分：重合抑制剤（Ｄ）
・（Ｄ－１）：ギ酸
溶剤
・（Ｅ－１）：ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
（Ａ）成分：チイラン基又はチエタン基を少なくとも一つ有する化合物（Ａ）
・（Ａ－１）：合成例１で合成した化合物（Ａａ－１）
（Ｂ）成分：（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する化合物（Ｂ）
（Ｂ１）成分：（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有する化合物
・（Ｂ１－１）：ウレタンアクリレート（新中村化学工業株式会社製、「ＮＫオリゴＵＡ－１２２Ｐ」、ポリエステル系、官能基数：２、分子量：１１００）
・（Ｂ１－２）：ウレタンアクリレート（新中村化学工業株式会社製、「ＮＫオリゴＵＡ－１６０ＴＭ」、ポリエーテル系、官能基数：２、分子量：１６００、）
・（Ｂ１－３）：ウレタンアクリレート（亜細亜工業株式会社製、「ＳＵＡ－０２３」、ポリエーテル系、官能基数：２）
・（Ｂ１－４）：ウレタンアクリレート（亜細亜工業株式会社製、「ＲＵＡ－０４９Ｘ」、官能基数：３）
・（Ｂ１－５）：ウレタンアクリレート（共栄社化学株式会社製、「ＵＦ－８００１Ｇ」、官能基数：２、分子量：４５００）
・（Ｂ１－６）：ウレタンアクリレート（共栄社化学株式会社製、「ＡＨ－６００」）
・（Ｂ１－７）：ウレタンアクリレート（第一工業製薬株式会社製、「Ｒ－１２０４Ｂ－Ｈ」）
（Ｂ２）成分：（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有し、かつ分子内にウレタン結合を有しない化合物
・（Ｂ２－１）：ウレタン結合を有しないアクリレート（新中村化学工業株式会社製、「ＮＫエステルＡ－９５５０」）
（Ｃ）成分：塩基触媒（Ｃ）
・（Ｃ－１）：ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセニウム）塩タイプの熱アニオン重合開始剤（サンアプロ株式会社製、「Ｕ－ＣＡＴ ＳＡ１０２」）
（Ｄ）成分：重合抑制剤（Ｄ）
・（Ｄ－１）：ギ酸
溶剤
・（Ｅ－１）：ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
【0162】
＜評価試験＞
（１）製膜性
実施例１～８及び比較例１、２の組成物をそれぞれ、無アルカリガラス板（厚み０．７ｍｍ、コーニング社製、「Ｅａｇｌｅ ＸＧ」）上に約３ｍＬ滴下し、１０００ｒｐｍ及び２０秒の条件でスピンコーター（ミカサ株式会社製、「ＭＳ－Ｂ１００」）を用いてスピンコートして、塗布膜を形成した。塗布膜が形成された無アルカリガラス板を６０℃で２分間加熱し、溶剤を除去した。
（１）製膜性
実施例１～８及び比較例１、２の組成物をそれぞれ、無アルカリガラス板（厚み０．７ｍｍ、コーニング社製、「Ｅａｇｌｅ ＸＧ」）上に約３ｍＬ滴下し、１０００ｒｐｍ及び２０秒の条件でスピンコーター（ミカサ株式会社製、「ＭＳ－Ｂ１００」）を用いてスピンコートして、塗布膜を形成した。塗布膜が形成された無アルカリガラス板を６０℃で２分間加熱し、溶剤を除去した。
【0163】
得られた塗布膜を観察して、以下の評価基準に従って組成物の製膜性を評価した。製膜性の評価においては、穴あき欠陥が発生したか否かについて、評価した。なお、穴あき欠陥とは、塗布膜に直径１ｍｍ以上の穴状の無アルカリガラス板露出部が生じた状態を意味する。ハジキ欠陥とは、無アルカリガラス板露出部が観察されないものの、環境異物等を中心に部分的に膜厚が薄くなり、直径１ｍｍ未満のクレーター状の欠陥が生じた状態を意味する。結果を表２に示す。
Ａ：穴あき欠陥もハジキ欠陥も発生しなかった。
Ｂ：穴あき欠陥は発生しなかったが、ハジキ欠陥が発生した。
Ｄ：穴あき欠陥及びハジキ欠陥の両方が発生した。
Ａ：穴あき欠陥もハジキ欠陥も発生しなかった。
Ｂ：穴あき欠陥は発生しなかったが、ハジキ欠陥が発生した。
Ｄ：穴あき欠陥及びハジキ欠陥の両方が発生した。
【0164】
（２）硬化膜の形成
実施例１～８及び比較例１、２の組成物をそれぞれ、無アルカリガラス板（厚み０．７ｍｍ、コーニング社製、「Ｅａｇｌｅ ＸＧ」）上に約３ｍＬ滴下し、１０００ｒｐｍ及び２０秒の条件でスピンコーター（ミカサ株式会社製、「ＭＳ－Ｂ１００」）を用いてスピンコートして、塗布膜を形成した。塗布膜が形成された無アルカリガラス板を６０℃で２分間加熱し、溶剤を除去した。次に、塗布膜が形成された無アルカリガラス板に高圧水銀灯プロキシミティＵＶ露光装置（ウシオ電機株式会社製、「ＵＶ－３３００ＳＣ」）を用いて大気雰囲気中、１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射エネルギーで露光した。続いて、露光後の塗布膜が形成された無アルカリガラス板をポストベークとして１２０℃で５分間加熱して、硬化膜が形成された無アルカリガラス板を得た。
実施例１～８及び比較例１、２の組成物をそれぞれ、無アルカリガラス板（厚み０．７ｍｍ、コーニング社製、「Ｅａｇｌｅ ＸＧ」）上に約３ｍＬ滴下し、１０００ｒｐｍ及び２０秒の条件でスピンコーター（ミカサ株式会社製、「ＭＳ－Ｂ１００」）を用いてスピンコートして、塗布膜を形成した。塗布膜が形成された無アルカリガラス板を６０℃で２分間加熱し、溶剤を除去した。次に、塗布膜が形成された無アルカリガラス板に高圧水銀灯プロキシミティＵＶ露光装置（ウシオ電機株式会社製、「ＵＶ－３３００ＳＣ」）を用いて大気雰囲気中、１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射エネルギーで露光した。続いて、露光後の塗布膜が形成された無アルカリガラス板をポストベークとして１２０℃で５分間加熱して、硬化膜が形成された無アルカリガラス板を得た。
【0165】
（３）屈折率の測定
上記（２）で作製した、硬化膜が形成された無アルカリガラス板について、積分球ユニット（日本分光株式会社製、「ＩＳＶ－９２２」）付き可視紫外分光光度計（日本分光株式会社製、「Ｖ－６５０」）を用いて、波長３００ｎｍから８００ｎｍにおける透過スペクトル及び反射スペクトルを測定した。透過スペクトル及び反射スペクトルから反射スペクトルの干渉による増減を減算処理して平滑化して得られた真の反射スペクトルのうち、波長５５０ｎｍの値及び無アルカリガラス板（コーニング社製、「Ｅａｇｌｅ ＸＧ」）の屈折率から波長５５０ｎｍにおける硬化膜の屈折率をフレネルの公式（ヘクト光学Ｉ原著第５版、丸善出版、２０１８年、ｐ．２０９－２２６）に基づいて算出した。結果を表２に示す。
上記（２）で作製した、硬化膜が形成された無アルカリガラス板について、積分球ユニット（日本分光株式会社製、「ＩＳＶ－９２２」）付き可視紫外分光光度計（日本分光株式会社製、「Ｖ－６５０」）を用いて、波長３００ｎｍから８００ｎｍにおける透過スペクトル及び反射スペクトルを測定した。透過スペクトル及び反射スペクトルから反射スペクトルの干渉による増減を減算処理して平滑化して得られた真の反射スペクトルのうち、波長５５０ｎｍの値及び無アルカリガラス板（コーニング社製、「Ｅａｇｌｅ ＸＧ」）の屈折率から波長５５０ｎｍにおける硬化膜の屈折率をフレネルの公式（ヘクト光学Ｉ原著第５版、丸善出版、２０１８年、ｐ．２０９－２２６）に基づいて算出した。結果を表２に示す。
【0166】
（４）厚膜形成性
上記（２）で得られた硬化膜の膜厚を測定して、以下の評価基準に従って組成物の厚膜形成性を評価した。膜厚は触針式膜厚計（Ｂｒｕｋｅｒ社製、「ＤｅｋＴａｋ ＸＴ」）で無アルカリガラス板上の硬化膜の膜厚を測定した。なお、比較例１で得られた硬化膜を測定したところ１．５μｍであった。
Ａ：膜厚が１．６５μｍ以上であった。
Ｂ：膜厚が１．４５μｍ以上１．６５μｍ未満であった。
Ｄ：膜厚が１．４５μｍ未満であった。
上記（２）で得られた硬化膜の膜厚を測定して、以下の評価基準に従って組成物の厚膜形成性を評価した。膜厚は触針式膜厚計（Ｂｒｕｋｅｒ社製、「ＤｅｋＴａｋ ＸＴ」）で無アルカリガラス板上の硬化膜の膜厚を測定した。なお、比較例１で得られた硬化膜を測定したところ１．５μｍであった。
Ａ：膜厚が１．６５μｍ以上であった。
Ｂ：膜厚が１．４５μｍ以上１．６５μｍ未満であった。
Ｄ：膜厚が１．４５μｍ未満であった。
【0167】
（５）耐溶剤性（膜厚保持率）
上記（２）で作製した、硬化膜が形成された無アルカリガラス板を用いて、以下の評価基準に従って、組成物の耐溶剤性（膜厚保持率）を評価した。耐溶剤性は、２３℃のアセトンに、硬化膜が形成された無アルカリガラス板を１０分間浸漬し、浸漬前後の硬化膜の外観変化の観察及び浸漬前後の膜厚保持率（膜厚保持率＝浸漬後の硬化膜の膜厚／浸漬前の硬化膜の膜厚）の算出によって評価した。結果を表２に示す。
Ａ：外観変化がなく、膜厚保持率が１００％以下９０％以上であった。
Ｂ：外観変化がなく、膜厚保持率が９０％未満８０％以上であった。
Ｄ：外観変化がなく、膜厚保持率が８０％未満であった。
上記（２）で作製した、硬化膜が形成された無アルカリガラス板を用いて、以下の評価基準に従って、組成物の耐溶剤性（膜厚保持率）を評価した。耐溶剤性は、２３℃のアセトンに、硬化膜が形成された無アルカリガラス板を１０分間浸漬し、浸漬前後の硬化膜の外観変化の観察及び浸漬前後の膜厚保持率（膜厚保持率＝浸漬後の硬化膜の膜厚／浸漬前の硬化膜の膜厚）の算出によって評価した。結果を表２に示す。
Ａ：外観変化がなく、膜厚保持率が１００％以下９０％以上であった。
Ｂ：外観変化がなく、膜厚保持率が９０％未満８０％以上であった。
Ｄ：外観変化がなく、膜厚保持率が８０％未満であった。
【0168】
【表1】
【0169】
【表2】
【0170】
表２に示すとおり、実施例の組成物は、製膜性及び屈折率の点で、比較例の組成物に比べて優れていた。また、実施例の組成物は、厚膜形成性、耐溶剤性等にも優れていた。これらの結果から、本発明の組成物は、高い屈折率を示す硬化物を与えることが可能であり、さらに製膜性に優れることが確認された。