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特開2025-148119顔料分散物の製造方法、インクジェットインクの製造方法、及び画像記録方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2025148119
(43)【公開日】2025-10-07
(54)【発明の名称】顔料分散物の製造方法、インクジェットインクの製造方法、及び画像記録方法
(51)【国際特許分類】
C09D 17/00 20060101AFI20250930BHJP
C09C 3/10 20060101ALI20250930BHJP
C09D 11/326 20140101ALI20250930BHJP
C09D 11/54 20140101ALI20250930BHJP
B41J 2/01 20060101ALI20250930BHJP
B41M 5/00 20060101ALI20250930BHJP
B32B 27/20 20060101ALI20250930BHJP
【ＦＩ】
C09D17/00
C09C3/10
C09D11/326
C09D11/54
B41J2/01 123
B41M5/00 112
B41M5/00 120
B41M5/00 132
B32B27/20 A
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024048724
(22)【出願日】2024-03-25
(71)【出願人】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001519
【氏名又は名称】弁理士法人太陽国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】井腰 剛生
【テーマコード（参考）】
2C056
2H186
4F100
4J037
4J039
【Ｆターム（参考）】
2C056HA42
2H186AB02
2H186AB05
2H186AB06
2H186AB12
2H186AB27
2H186AB47
2H186AB54
2H186AB56
2H186BA08
2H186DA10
2H186FB11
2H186FB15
2H186FB16
2H186FB17
2H186FB21
2H186FB22
2H186FB25
2H186FB29
2H186FB30
2H186FB48
2H186FB54
4F100AK07
4F100AK07B
4F100AT00B
4F100BA02
4F100BA07
4F100CC00
4F100CC00A
4F100EH46
4F100EH46A
4F100EH61
4F100EH61A
4F100EJ42
4F100EJ86
4J037CC16
4J037DD24
4J037EE03
4J037EE12
4J037EE17
4J037EE28
4J037FF01
4J037FF23
4J039AD09
4J039EA46
4J039EA47
4J039FA01
4J039FA02
4J039FA04
4J039GA24
(57)【要約】
【課題】顔料の分散安定性に優れる顔料分散物を製造できる顔料分散物の製造方法及びその応用を提供する。
【解決手段】炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸エステル単位と、酸基と、を含む高分子分散剤における酸基の一部を中和し、中和後の高分子分散剤により、顔料を分散させて未架橋分散物を得、この未架橋分散物に酸を添加し、次いで架橋することを含み、高分子分散剤における、中和後の酸価ＡＶ１、架橋後の酸価ＡＶ２、中和後の中和度ＮＤ１、及び酸添加後の中和度ＮＤ２が、不等式（１）及び（２）を満たす、顔料分散物の製造方法及びその応用。
０．６０≦ＡＶ１（ＮＤ１－ＮＤ２）／（ＡＶ１－ＡＶ２）≦２．００ … 不等式（１）
０．３０≦（１－ＮＤ１）／（ＮＤ１－ＮＤ２）≦５．００ … 不等式（２）
【選択図】なし
【解決手段】炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸エステル単位と、酸基と、を含む高分子分散剤における酸基の一部を中和し、中和後の高分子分散剤により、顔料を分散させて未架橋分散物を得、この未架橋分散物に酸を添加し、次いで架橋することを含み、高分子分散剤における、中和後の酸価ＡＶ１、架橋後の酸価ＡＶ２、中和後の中和度ＮＤ１、及び酸添加後の中和度ＮＤ２が、不等式（１）及び（２）を満たす、顔料分散物の製造方法及びその応用。
０．６０≦ＡＶ１（ＮＤ１－ＮＤ２）／（ＡＶ１－ＡＶ２）≦２．００ … 不等式（１）
０．３０≦（１－ＮＤ１）／（ＮＤ１－ＮＤ２）≦５．００ … 不等式（２）
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び炭素数１０以上のアルキル基を含むα－オレフィンからなる群から選択される少なくとも１種に由来する構造単位Ｌと、酸基を含む構造単位Ａと、を含み、前記構造単位Ｌの占める割合が２０質量％以上である高分子分散剤Ｎを準備する準備工程と、
前記高分子分散剤Ｎに含まれる前記酸基の一部を中和させて中和度が１００％未満である高分子分散剤Ａを得る中和工程と、
前記高分子分散剤Ａにより、顔料を、水性媒体中に分散させて未架橋分散物を得る分散工程と、
前記未架橋分散物に酸を添加して前記未架橋分散物中の前記高分子分散剤Ａの中和度を低下させて高分子分散剤Ｂを得る酸添加工程と、
前記酸添加工程後の前記未架橋分散物における前記高分子分散剤Ｂを架橋して高分子分散剤Ｃを得る架橋工程と、
を含み、
前記高分子分散剤ＡのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ１、前記高分子分散剤ＣのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ２、前記高分子分散剤Ａの％表記での中和度であるＮＤ１、及び、前記高分子分散剤Ｂの％表記での中和度であるＮＤ２が、下記不等式（１）及び下記不等式（２）を満たす、
顔料分散物の製造方法。
０．６０≦０．０１×ＡＶ１×（ＮＤ１－ＮＤ２）／（ＡＶ１－ＡＶ２）≦２．００ … 不等式（１）
０．３０≦（１００－ＮＤ１）／（ＮＤ１－ＮＤ２）≦５．００ … 不等式（２）
前記高分子分散剤Ｎに含まれる前記酸基の一部を中和させて中和度が１００％未満である高分子分散剤Ａを得る中和工程と、
前記高分子分散剤Ａにより、顔料を、水性媒体中に分散させて未架橋分散物を得る分散工程と、
前記未架橋分散物に酸を添加して前記未架橋分散物中の前記高分子分散剤Ａの中和度を低下させて高分子分散剤Ｂを得る酸添加工程と、
前記酸添加工程後の前記未架橋分散物における前記高分子分散剤Ｂを架橋して高分子分散剤Ｃを得る架橋工程と、
を含み、
前記高分子分散剤ＡのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ１、前記高分子分散剤ＣのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ２、前記高分子分散剤Ａの％表記での中和度であるＮＤ１、及び、前記高分子分散剤Ｂの％表記での中和度であるＮＤ２が、下記不等式（１）及び下記不等式（２）を満たす、
顔料分散物の製造方法。
０．６０≦０．０１×ＡＶ１×（ＮＤ１－ＮＤ２）／（ＡＶ１－ＡＶ２）≦２．００ … 不等式（１）
０．３０≦（１００－ＮＤ１）／（ＮＤ１－ＮＤ２）≦５．００ … 不等式（２）
【請求項2】
前記ＡＶ１及び前記ＡＶ２が、下記不等式（３）を満たす、請求項１に記載の顔料分散物の製造方法。
１２０≦（１．２×ＡＶ２）≦ＡＶ１≦３３０ … 不等式（３）
１２０≦（１．２×ＡＶ２）≦ＡＶ１≦３３０ … 不等式（３）
【請求項3】
前記準備工程で準備する前記高分子分散剤Ｎにおいて、前記構造単位Ｌに対する前記構造単位Ａの質量比率であるＡ／Ｌ比が、０．５～２．０である、請求項１に記載の顔料分散物の製造方法。
【請求項4】
前記構造単位Ａが、（メタ）アクリル酸に由来する構造単位である、請求項１に記載の顔料分散物の製造方法。
【請求項5】
請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の顔料分散物の製造方法によって顔料分散物を製造する工程と、
前記顔料分散物を用いてインクジェットインクを製造する工程と
を含む、インクジェットインクの製造方法。
前記顔料分散物を用いてインクジェットインクを製造する工程と
を含む、インクジェットインクの製造方法。
【請求項6】
請求項５に記載のインクジェットインクの製造方法により、インクジェットインクを製造する工程と、
基材上に、前記インクジェットインクを、インクジェット方式にて付与するインク付与工程と、
を含む、画像記録方法。
基材上に、前記インクジェットインクを、インクジェット方式にて付与するインク付与工程と、
を含む、画像記録方法。
【請求項7】
前記基材が、非浸透性基材であって、
前記インク付与工程よりも前に、前記非浸透性基材上に、水及び凝集剤を含有する前処理液を付与する工程を更に含み、
前記インク付与工程は、前記非浸透性基材上の前記前処理液が付与された領域上に、前記インクジェットインクを付与する、
請求項６に記載の画像記録方法。
前記インク付与工程よりも前に、前記非浸透性基材上に、水及び凝集剤を含有する前処理液を付与する工程を更に含み、
前記インク付与工程は、前記非浸透性基材上の前記前処理液が付与された領域上に、前記インクジェットインクを付与する、
請求項６に記載の画像記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、顔料分散物の製造方法、インクジェットインクの製造方法、及び画像記録方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、インクジェットインクの製造に用いる顔料分散物を製造するための製造方法に関し、様々な検討がなされている。
【0003】
例えば、下記特許文献１には、下記工程１～３を有する、水系顔料分散体（即ち、顔料分散物）の製造方法及び水系インクの製造方法が開示されている。
工程１：イオン性基を有するモノマー（ａ）と疎水性モノマー（ｂ）とを、イオン性基を有する重合開始剤（ｘ）、及びイオン性基を有する重合連鎖移動剤（ｙ）を用いて重合して、イオン性基を有するポリマーＡを得る工程。
工程２：工程１で得られたポリマーＡと顔料とを水系媒体中で混合して分散し、顔料水分散液を得る工程。
工程３：工程２で得られた顔料水分散液中のポリマーＡを多官能化合物で架橋して、水系顔料分散体を得る工程。
特許文献１には、これらの製造方法により、インク吐出ノズルでの顔料やポリマーの固化による吐出ノズルの目詰りを抑制できる優れた再分散性と高流動性を確保できる、と記載されている。
工程１：イオン性基を有するモノマー（ａ）と疎水性モノマー（ｂ）とを、イオン性基を有する重合開始剤（ｘ）、及びイオン性基を有する重合連鎖移動剤（ｙ）を用いて重合して、イオン性基を有するポリマーＡを得る工程。
工程２：工程１で得られたポリマーＡと顔料とを水系媒体中で混合して分散し、顔料水分散液を得る工程。
工程３：工程２で得られた顔料水分散液中のポリマーＡを多官能化合物で架橋して、水系顔料分散体を得る工程。
特許文献１には、これらの製造方法により、インク吐出ノズルでの顔料やポリマーの固化による吐出ノズルの目詰りを抑制できる優れた再分散性と高流動性を確保できる、と記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０１９－１４８７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、インクジェットインクの経時後の吐出安定性（即ち、インクジェットヘッドからの吐出安定性）をより向上させる観点から、インクジェットインクの製造に用いる顔料分散物における顔料の分散安定性をより向上させることが求められる場合がある。
【0006】
本開示の一実施形態の課題は、顔料の分散安定性に優れる顔料分散物を製造できる顔料分散物の製造方法、経時後の吐出安定性に優れるインクジェットインク、及び、滲みが抑制された画像を記録できる画像記録方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示は以下の態様を含む。
＜１＞ 炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び炭素数１０以上のアルキル基を含むα－オレフィンからなる群から選択される少なくとも１種に由来する構造単位Ｌと、酸基を含む構造単位Ａと、を含み、構造単位Ｌの占める割合が２０質量％以上である高分子分散剤Ｎを準備する準備工程と、
高分子分散剤Ｎに含まれる酸基の一部を中和させて中和度が１００％未満である高分子分散剤Ａを得る中和工程と、
高分子分散剤Ａにより、顔料を、水性媒体中に分散させて未架橋分散物を得る分散工程と、
未架橋分散物に酸を添加して未架橋分散物中の高分子分散剤Ａの中和度を低下させて高分子分散剤Ｂを得る酸添加工程と、
酸添加工程後の未架橋分散物における高分子分散剤Ｂを架橋して高分子分散剤Ｃを得る架橋工程と、
を含み、
高分子分散剤ＡのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ１、高分子分散剤ＣのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ２、高分子分散剤Ａの％表記での中和度であるＮＤ１、及び、高分子分散剤Ｂの％表記での中和度であるＮＤ２が、下記不等式（１）及び下記不等式（２）を満たす、
顔料分散物の製造方法。
０．６０≦０．０１×ＡＶ１×（ＮＤ１－ＮＤ２）／（ＡＶ１－ＡＶ２）≦２．００ … 不等式（１）
０．３０≦（１００－ＮＤ１）／（ＮＤ１－ＮＤ２）≦５．００ … 不等式（２）
＜１＞ 炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び炭素数１０以上のアルキル基を含むα－オレフィンからなる群から選択される少なくとも１種に由来する構造単位Ｌと、酸基を含む構造単位Ａと、を含み、構造単位Ｌの占める割合が２０質量％以上である高分子分散剤Ｎを準備する準備工程と、
高分子分散剤Ｎに含まれる酸基の一部を中和させて中和度が１００％未満である高分子分散剤Ａを得る中和工程と、
高分子分散剤Ａにより、顔料を、水性媒体中に分散させて未架橋分散物を得る分散工程と、
未架橋分散物に酸を添加して未架橋分散物中の高分子分散剤Ａの中和度を低下させて高分子分散剤Ｂを得る酸添加工程と、
酸添加工程後の未架橋分散物における高分子分散剤Ｂを架橋して高分子分散剤Ｃを得る架橋工程と、
を含み、
高分子分散剤ＡのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ１、高分子分散剤ＣのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ２、高分子分散剤Ａの％表記での中和度であるＮＤ１、及び、高分子分散剤Ｂの％表記での中和度であるＮＤ２が、下記不等式（１）及び下記不等式（２）を満たす、
顔料分散物の製造方法。
０．６０≦０．０１×ＡＶ１×（ＮＤ１－ＮＤ２）／（ＡＶ１－ＡＶ２）≦２．００ … 不等式（１）
０．３０≦（１００－ＮＤ１）／（ＮＤ１－ＮＤ２）≦５．００ … 不等式（２）
【0008】
＜２＞ ＡＶ１及びＡＶ２が、下記不等式（３）を満たす、＜１＞に記載の顔料分散物の製造方法。
１２０≦（１．２×ＡＶ２）≦ＡＶ１≦３３０ … 不等式（３）
＜３＞ 準備工程で準備する高分子分散剤Ｎにおいて、構造単位Ｌに対する構造単位Ａの質量比率であるＡ／Ｌ比が、０．５～２．０である、＜１＞又は＜２＞に記載の顔料分散物の製造方法。
＜４＞ 構造単位Ａが、（メタ）アクリル酸に由来する構造単位である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の顔料分散物の製造方法。
＜５＞ ＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の顔料分散物の製造方法によって顔料分散物を製造する工程と、
顔料分散物を用いてインクジェットインクを製造する工程と
を含む、インクジェットインクの製造方法。
＜６＞ ＜５＞に記載のインクジェットインクの製造方法により、インクジェットインクを製造する工程と、
基材上に、インクジェットインクを、インクジェット方式にて付与するインク付与工程と、
を含む、画像記録方法。
＜７＞ 基材が、非浸透性基材であって、
インク付与工程よりも前に、非浸透性基材上に、水及び凝集剤を含有する前処理液を付与する工程を更に含み、
インク付与工程は、非浸透性基材上の前処理液が付与された領域上に、インクジェットインクを付与する、
＜６＞に記載の画像記録方法。
１２０≦（１．２×ＡＶ２）≦ＡＶ１≦３３０ … 不等式（３）
＜３＞ 準備工程で準備する高分子分散剤Ｎにおいて、構造単位Ｌに対する構造単位Ａの質量比率であるＡ／Ｌ比が、０．５～２．０である、＜１＞又は＜２＞に記載の顔料分散物の製造方法。
＜４＞ 構造単位Ａが、（メタ）アクリル酸に由来する構造単位である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の顔料分散物の製造方法。
＜５＞ ＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の顔料分散物の製造方法によって顔料分散物を製造する工程と、
顔料分散物を用いてインクジェットインクを製造する工程と
を含む、インクジェットインクの製造方法。
＜６＞ ＜５＞に記載のインクジェットインクの製造方法により、インクジェットインクを製造する工程と、
基材上に、インクジェットインクを、インクジェット方式にて付与するインク付与工程と、
を含む、画像記録方法。
＜７＞ 基材が、非浸透性基材であって、
インク付与工程よりも前に、非浸透性基材上に、水及び凝集剤を含有する前処理液を付与する工程を更に含み、
インク付与工程は、非浸透性基材上の前処理液が付与された領域上に、インクジェットインクを付与する、
＜６＞に記載の画像記録方法。
【発明の効果】
【0009】
本開示の一実施形態によれば、顔料の分散安定性に優れる顔料分散物を製造できる顔料分散物の製造方法、経時後の吐出安定性に優れるインクジェットインク、及び、滲みが抑制された画像を記録できる画像記録方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【発明を実施するための形態】
【0011】
本明細書において「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。
本明細書に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本明細書において、「工程」という語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含する概念である。また、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念である。
本明細書に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本明細書において、「工程」という語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含する概念である。また、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念である。
【0012】
〔顔料分散物の製造方法〕
本開示の顔料分散物の製造方法は、
炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び炭素数１０以上のアルキル基を含むα－オレフィンからなる群から選択される少なくとも１種に由来する構造単位Ｌと、酸基を含む構造単位Ａと、を含み、構造単位Ｌの占める割合が２０質量％以上である高分子分散剤Ｎを準備する準備工程と、
高分子分散剤Ｎに含まれる酸基の一部を中和させて中和度が１００％未満である高分子分散剤Ａを得る中和工程と、
高分子分散剤Ａにより、顔料を、水性媒体中に分散させて未架橋分散物を得る分散工程と、
未架橋分散物に酸を添加して未架橋分散物中の高分子分散剤Ａの中和度を低下させて高分子分散剤Ｂを得る酸添加工程と、
酸添加工程後の未架橋分散物における高分子分散剤Ｂを架橋して高分子分散剤Ｃを得る架橋工程と、
を含み、
高分子分散剤ＡのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ１、高分子分散剤ＣのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ２、高分子分散剤Ａの％表記での中和度であるＮＤ１、及び、高分子分散剤Ｂの％表記での中和度であるＮＤ２が、下記不等式（１）及び下記不等式（２）を満たす、
顔料分散物の製造方法である。
０．６０≦０．０１×ＡＶ１×（ＮＤ１－ＮＤ２）／（ＡＶ１－ＡＶ２）≦２．００ … 不等式（１）
０．３０≦（１００－ＮＤ１）／（ＮＤ１－ＮＤ２）≦５．００ … 不等式（２）
本開示の顔料分散物の製造方法は、
炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び炭素数１０以上のアルキル基を含むα－オレフィンからなる群から選択される少なくとも１種に由来する構造単位Ｌと、酸基を含む構造単位Ａと、を含み、構造単位Ｌの占める割合が２０質量％以上である高分子分散剤Ｎを準備する準備工程と、
高分子分散剤Ｎに含まれる酸基の一部を中和させて中和度が１００％未満である高分子分散剤Ａを得る中和工程と、
高分子分散剤Ａにより、顔料を、水性媒体中に分散させて未架橋分散物を得る分散工程と、
未架橋分散物に酸を添加して未架橋分散物中の高分子分散剤Ａの中和度を低下させて高分子分散剤Ｂを得る酸添加工程と、
酸添加工程後の未架橋分散物における高分子分散剤Ｂを架橋して高分子分散剤Ｃを得る架橋工程と、
を含み、
高分子分散剤ＡのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ１、高分子分散剤ＣのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ２、高分子分散剤Ａの％表記での中和度であるＮＤ１、及び、高分子分散剤Ｂの％表記での中和度であるＮＤ２が、下記不等式（１）及び下記不等式（２）を満たす、
顔料分散物の製造方法である。
０．６０≦０．０１×ＡＶ１×（ＮＤ１－ＮＤ２）／（ＡＶ１－ＡＶ２）≦２．００ … 不等式（１）
０．３０≦（１００－ＮＤ１）／（ＮＤ１－ＮＤ２）≦５．００ … 不等式（２）
【0013】
本開示の顔料分散物の製造方法によれば、顔料の分散安定性に優れた顔料分散物を製造できる。
本開示において、顔料分散物における顔料の分散安定性は、この顔料分散物を用いて製造されたインクジェットインクの経時後の吐出安定性を指標として評価される。
本開示において、顔料分散物における顔料の分散安定性は、この顔料分散物を用いて製造されたインクジェットインクの経時後の吐出安定性を指標として評価される。
【0014】
本開示の顔料分散物の製造方法による上記効果は、以下のようにして得られると考えられる。
【0015】
本開示の顔料分散物の製造方法では、まず、構造単位Ｌの占める割合が２０質量％以上である高分子分散剤Ｎを準備する。構造単位Ｌは、炭素数が１０以上である長鎖のアルキル基を含む構造単位である。この長鎖のアルキル基が顔料への吸着性に優れる。このため、高分子分散剤Ｎは、顔料の分散安定性の効果の前提となる、顔料への吸着性に優れる効果を有する。
この高分子分散剤Ｎは、その後、中和、酸添加、及び架橋を経る過程で、高分子分散剤Ａ、高分子分散剤Ｂ、及び高分子分散剤Ｃに順次変化する。しかし、構造単位Ｌは、この変化の過程でも、高分子分散剤中（即ち、高分子分散剤Ａ、高分子分散剤Ｂ、及び高分子分散剤Ｃ中）に維持される。
また、高分子分散剤Ｎは、酸基を含む構造単位Ａを含む。構造単位Ａにおける酸基は、顔料の分散安定性の効果の前提となる、水性媒体（即ち、水、又は、水と水溶性有機溶剤との混合溶媒）に対する親和性に寄与し得る。
本開示における酸基の概念には、中和されていない酸基（例えば、－ＣＯＯＨ基（カルボキシ基））及び中和された酸基（例えば、－ＣＯＯ－基（カルボキシラト基））の両方が包含される。
この高分子分散剤Ｎは、その後、中和、酸添加、及び架橋を経る過程で、高分子分散剤Ａ、高分子分散剤Ｂ、及び高分子分散剤Ｃに順次変化する。しかし、構造単位Ｌは、この変化の過程でも、高分子分散剤中（即ち、高分子分散剤Ａ、高分子分散剤Ｂ、及び高分子分散剤Ｃ中）に維持される。
また、高分子分散剤Ｎは、酸基を含む構造単位Ａを含む。構造単位Ａにおける酸基は、顔料の分散安定性の効果の前提となる、水性媒体（即ち、水、又は、水と水溶性有機溶剤との混合溶媒）に対する親和性に寄与し得る。
本開示における酸基の概念には、中和されていない酸基（例えば、－ＣＯＯＨ基（カルボキシ基））及び中和された酸基（例えば、－ＣＯＯ－基（カルボキシラト基））の両方が包含される。
【0016】
本開示の顔料分散物の製造方法は、高分子分散剤Ｎに含まれる酸基の一部を中和させて、中和度（ＮＤ１）が１００％未満である高分子分散剤Ａを得る中和工程を含む。
ここで、中和度は、中和されていない酸基及び中和された酸基の総数に対する中和された酸基の％（百分率）を意味する。
中和された酸基は、中和されていない酸基と比較して、水性媒体に対する親和性に優れる。
従って、中和工程により、高分子分散剤の水性媒体に対する親和性が上昇する。
高分子分散剤の水性媒体に対するある程度の親和性は、顔料の分散安定性の向上に寄与する。
しかし、高分子分散剤の水性媒体に対する親和性が高すぎた場合には、顔料に対する吸着状態を維持することができないので、顔料の分散安定性はむしろ低下する。この点を考慮し、中和工程では、中和度（ＮＤ１）が１００％未満となる程度に、中和を行う。
ここで、中和度は、中和されていない酸基及び中和された酸基の総数に対する中和された酸基の％（百分率）を意味する。
中和された酸基は、中和されていない酸基と比較して、水性媒体に対する親和性に優れる。
従って、中和工程により、高分子分散剤の水性媒体に対する親和性が上昇する。
高分子分散剤の水性媒体に対するある程度の親和性は、顔料の分散安定性の向上に寄与する。
しかし、高分子分散剤の水性媒体に対する親和性が高すぎた場合には、顔料に対する吸着状態を維持することができないので、顔料の分散安定性はむしろ低下する。この点を考慮し、中和工程では、中和度（ＮＤ１）が１００％未満となる程度に、中和を行う。
【0017】
本開示の顔料分散物の製造方法は、高分子分散剤Ａにより、顔料を、水性媒体中に分散させて未架橋分散物を得る分散工程を含む。
分散工程では、中和度が低すぎずかつ高すぎない程度に調整されている高分子分散剤Ａを用い、顔料を、水性媒体中に分散させる。
分散工程で得られる未架橋分散物では、顔料の表面に高分子分散剤Ａが吸着した状態で、顔料が水性媒体中に分散されていると考えられる。
前述のとおり、高分子分散剤Ａは、顔料に対する優れた吸着性を有し、かつ、水性媒体に対する親和性にもある程度優れる。
従って、未架橋分散物では、顔料の分散安定性の効果の前提となる、ある程度の顔料分散性が実現されていると考えられる。
分散工程では、中和度が低すぎずかつ高すぎない程度に調整されている高分子分散剤Ａを用い、顔料を、水性媒体中に分散させる。
分散工程で得られる未架橋分散物では、顔料の表面に高分子分散剤Ａが吸着した状態で、顔料が水性媒体中に分散されていると考えられる。
前述のとおり、高分子分散剤Ａは、顔料に対する優れた吸着性を有し、かつ、水性媒体に対する親和性にもある程度優れる。
従って、未架橋分散物では、顔料の分散安定性の効果の前提となる、ある程度の顔料分散性が実現されていると考えられる。
【0018】
本開示の顔料分散物の製造方法は、未架橋分散物に酸を添加して未架橋分散物中の高分子分散剤Ａの中和度を低下させて高分子分散剤Ｂを得る酸添加工程を含む。
酸添加工程では、高分子分散剤Ａにおける１００％未満である中和度（ＮＤ１）を低下させて、中和度がＮＤ２である高分子分散剤Ｂを得る。酸添加工程により、高分子分散剤において、中和された酸基の数が減り、中和されていない酸基の数が増える。このようにして、酸添加工程では、顔料の表面に吸着している高分子分散剤Ａの水性媒体に対する親和性を下げて高分子分散剤Ｂに変化させ、これにより、顔料の表面からの高分子分散剤Ｂの脱離を抑制する。
酸添加工程では、高分子分散剤Ａにおける１００％未満である中和度（ＮＤ１）を低下させて、中和度がＮＤ２である高分子分散剤Ｂを得る。酸添加工程により、高分子分散剤において、中和された酸基の数が減り、中和されていない酸基の数が増える。このようにして、酸添加工程では、顔料の表面に吸着している高分子分散剤Ａの水性媒体に対する親和性を下げて高分子分散剤Ｂに変化させ、これにより、顔料の表面からの高分子分散剤Ｂの脱離を抑制する。
【0019】
本開示の顔料分散物の製造方法は、酸添加工程後の未架橋分散物における高分子分散剤Ｂを架橋して高分子分散剤Ｃを得る架橋工程を含む。
架橋工程では、酸添加工程後の未架橋分散物において、顔料の表面に吸着している高分子分散剤Ｂを架橋させて高分子分散剤Ｃを得る。これにより、顔料の表面からの高分子分散剤Ｃの脱離を更に抑制する。
架橋工程では、酸添加工程後の未架橋分散物において、顔料の表面に吸着している高分子分散剤Ｂを架橋させて高分子分散剤Ｃを得る。これにより、顔料の表面からの高分子分散剤Ｃの脱離を更に抑制する。
【0020】
架橋工程では、中和されていない酸基及び中和された酸基の少なくとも一方が、架橋の形成のために消費されるので、高分子分散剤の酸価が低下する。
ここで、高分子分散剤の酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）は、高分子分散剤における酸基の数（即ち、中和されていない酸基と中和された酸基と合計数）に対応する。
本開示の顔料分散物の製造方法では、高分子分散剤Ｎ、高分子分散剤Ａ、及び高分子分散剤Ｂにおいて、酸価は変化しないが、高分子分散剤Ｂから高分子分散剤Ｃに変化する過程で、酸価が低下する。
本開示では、高分子分散剤Ａの酸価をＡＶ１（ｍｇＫＯＨ／ｇ）とし、高分子分散剤Ｃの酸価をＡＶ２（ｍｇＫＯＨ／ｇ）としている。
前述のとおり、架橋によって酸基が消費されるために、ＡＶ２は、ＡＶ１よりも低い値となる。
ここで、高分子分散剤の酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）は、高分子分散剤における酸基の数（即ち、中和されていない酸基と中和された酸基と合計数）に対応する。
本開示の顔料分散物の製造方法では、高分子分散剤Ｎ、高分子分散剤Ａ、及び高分子分散剤Ｂにおいて、酸価は変化しないが、高分子分散剤Ｂから高分子分散剤Ｃに変化する過程で、酸価が低下する。
本開示では、高分子分散剤Ａの酸価をＡＶ１（ｍｇＫＯＨ／ｇ）とし、高分子分散剤Ｃの酸価をＡＶ２（ｍｇＫＯＨ／ｇ）としている。
前述のとおり、架橋によって酸基が消費されるために、ＡＶ２は、ＡＶ１よりも低い値となる。
【0021】
本開示の顔料分散物の製造方法は、高分子分散剤ＡのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ１、高分子分散剤ＣのｍｇＫＯＨ／ｇ単位での酸価であるＡＶ２、高分子分散剤Ａの％表記での中和度であるＮＤ１、及び、高分子分散剤Ｂの％表記での中和度であるＮＤ２が、下記不等式（１）及び下記不等式（２）を満たす。
【0022】
０．６０≦０．０１×ＡＶ１×（ＮＤ１－ＮＤ２）／（ＡＶ１－ＡＶ２）≦２．００ … 不等式（１）
０．３０≦（１００－ＮＤ１）／（ＮＤ１－ＮＤ２）≦５．００ … 不等式（２）
０．３０≦（１００－ＮＤ１）／（ＮＤ１－ＮＤ２）≦５．００ … 不等式（２）
【0023】
不等式（１）において、以下、「０．０１×ＡＶ１×（ＮＤ１－ＮＤ２）／（ＡＶ１－ＡＶ２）」を、値（１）とする。
不等式（１）は、０．６０≦値（１）≦２．００のように書き直すことができる。
不等式（１）は、０．６０≦値（１）≦２．００のように書き直すことができる。
【0024】
値（１）における分子「０．０１×ＡＶ１×（ＮＤ１－ＮＤ２）」は、酸添加工程によって減少する、中和された酸基の数（即ち、酸添加工程による、中和された酸基の減少度合い）に対応する。
値（１）における分母「（ＡＶ１－ＡＶ２）」は、架橋工程によって減少する酸基の数（即ち、架橋工程による酸基の減少度合い）に対応する。
値（１）における分母「（ＡＶ１－ＡＶ２）」は、架橋工程によって減少する酸基の数（即ち、架橋工程による酸基の減少度合い）に対応する。
【0025】
不等式（１）において、「０．６０≦値（１）」は、分子の観点からみて、酸添加工程による、中和された酸基の減少度合いが、ある程度大きいことを意味する。
この「０．６０≦値（１）」により、高分子分散剤Ｂの水性溶媒に対する親和性が高くなりすぎることが抑制され、その結果、顔料表面からの高分子分散剤Ｂの離脱が抑制される。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
この「０．６０≦値（１）」により、高分子分散剤Ｂの水性溶媒に対する親和性が高くなりすぎることが抑制され、その結果、顔料表面からの高分子分散剤Ｂの離脱が抑制される。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
【0026】
また、不等式（１）において、「０．６０≦値（１）」は、分母の観点からみて、架橋工程による酸基の減少度合いが、大きすぎないことを意味する。
この「０．６０≦値（１）」により、高分子分散剤Ｃの水性溶媒に対する親和性が低くなりすぎることが抑制され、その結果、高分子分散剤Ｃが吸着している顔料の沈降が抑制される。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
この「０．６０≦値（１）」により、高分子分散剤Ｃの水性溶媒に対する親和性が低くなりすぎることが抑制され、その結果、高分子分散剤Ｃが吸着している顔料の沈降が抑制される。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
【0027】
不等式（１）において、「値（１）≦２．００」は、分子の観点からみて、酸添加工程による、中和された酸基の減少度合いが、大きすぎないことを意味する。
この「値（１）≦２．００」により、高分子分散剤Ｂの水性溶媒に対する親和性が低すぎることが抑制され、その結果、高分子分散剤Ｂが吸着している顔料の沈降が抑制される。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
この「値（１）≦２．００」により、高分子分散剤Ｂの水性溶媒に対する親和性が低すぎることが抑制され、その結果、高分子分散剤Ｂが吸着している顔料の沈降が抑制される。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
【0028】
不等式（１）において、「値（１）≦２．００」は、分母の観点からみて、架橋工程による酸基の減少度合いが、小さすぎないことを意味する。
この「値（１）≦２．００」により、高分子分散剤Ｃの水性溶媒に対する親和性が高くなりすぎることが抑制され、その結果、顔料表面からの高分子分散剤Ｃの離脱が抑制される。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
この「値（１）≦２．００」により、高分子分散剤Ｃの水性溶媒に対する親和性が高くなりすぎることが抑制され、その結果、顔料表面からの高分子分散剤Ｃの離脱が抑制される。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
【0029】
不等式（２）において、以下、「（１００－ＮＤ１）／（ＮＤ１－ＮＤ２）」を、値（２）とする。
不等式（２）は、０．３０≦値（２）≦５．００のように書き直すことができる。
不等式（２）は、０．３０≦値（２）≦５．００のように書き直すことができる。
【0030】
値（２）における分子「（１００－ＮＤ１）」は、中和工程後に残存する、中和されていない酸基の数（即ち、中和工程後に残存する、中和されていない酸基の残存度合い）に対応する。
値（２）における分母「（ＮＤ１－ＮＤ２）」は、酸添加工程によって減少する、中和された酸基の数（即ち、酸添加工程による、中和された酸基の減少度合い）に対応する。
値（２）における分母「（ＮＤ１－ＮＤ２）」は、酸添加工程によって減少する、中和された酸基の数（即ち、酸添加工程による、中和された酸基の減少度合い）に対応する。
【0031】
不等式（２）において、「０．３０≦値（２）」は、分子の観点からみて、中和工程後に残存する、中和されていない酸基の数がある程度大きいことを意味する。
「０．３０≦値（２）」により、高分子分散剤Ａの水性溶媒に対する親和性が高すぎることが抑制され、その結果、分散工程において、高分子分散剤Ａが顔料の表面に吸着しやすくなる。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
「０．３０≦値（２）」により、高分子分散剤Ａの水性溶媒に対する親和性が高すぎることが抑制され、その結果、分散工程において、高分子分散剤Ａが顔料の表面に吸着しやすくなる。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
【0032】
不等式（２）において、「０．３０≦値（２）」は、分母の観点からみて、酸添加工程による、中和された酸基の減少度合いが、大きすぎないことを意味する。
この「０．３０≦値（２）」により、高分子分散剤Ｂの水性溶媒に対する親和性が低すぎることが抑制され、その結果、高分子分散剤Ｂが吸着している顔料の沈降が抑制される。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
この「０．３０≦値（２）」により、高分子分散剤Ｂの水性溶媒に対する親和性が低すぎることが抑制され、その結果、高分子分散剤Ｂが吸着している顔料の沈降が抑制される。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
【0033】
不等式（２）において、「値（２）≦５．００」は、分子の観点からみて、中和工程後に残存する、中和されていない酸基の数が多すぎないことを意味する。
「値（２）≦５．００」により、高分子分散剤Ａの水性溶媒に対する親和性が低すぎることが抑制され、その結果、分散工程において、高分子分散剤Ａが吸着している顔料が、水性媒体中に分散しやすくなる。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
「値（２）≦５．００」により、高分子分散剤Ａの水性溶媒に対する親和性が低すぎることが抑制され、その結果、分散工程において、高分子分散剤Ａが吸着している顔料が、水性媒体中に分散しやすくなる。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
【0034】
不等式（２）において、「値（２）≦５．００」は、分母の観点からみて、酸添加工程による、中和された酸基の減少度合いが、小さすぎないことを意味する。
この「値（２）≦５．００」により、高分子分散剤Ｂの水性溶媒に対する親和性が高すぎることが抑制され、その結果、高分子分散剤Ｂが吸着している顔料からの高分子分散剤Ｂの剥がれが抑制される。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
この「値（２）≦５．００」により、高分子分散剤Ｂの水性溶媒に対する親和性が高すぎることが抑制され、その結果、高分子分散剤Ｂが吸着している顔料からの高分子分散剤Ｂの剥がれが抑制される。これにより、顔料の分散安定性が向上する。
【0035】
本開示の顔料分散物の製造方法によれば、以上のようにして、顔料の分散安定性に優れる効果が発揮されると考えられる。
【0036】
以下、本開示の顔料分散物の製造方法について、より詳細に説明する。
【0037】
＜準備工程＞
本開示の顔料分散物の製造方法は、炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位Ｌと、酸基を含む構造単位Ａと、を含み、構造単位Ｌの占める割合が２０質量％以上である高分子分散剤Ｎを準備する準備工程を含む。
準備工程は、高分子分散剤Ｎを合成する工程であってもよいし、既に合成された高分子分散剤Ｎを、本開示の顔料分散物の製造方法の実施のために準備するだけの工程であってもよい。
本開示の顔料分散物の製造方法は、炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位Ｌと、酸基を含む構造単位Ａと、を含み、構造単位Ｌの占める割合が２０質量％以上である高分子分散剤Ｎを準備する準備工程を含む。
準備工程は、高分子分散剤Ｎを合成する工程であってもよいし、既に合成された高分子分散剤Ｎを、本開示の顔料分散物の製造方法の実施のために準備するだけの工程であってもよい。
【0038】
（高分子分散剤Ｎ）
高分子分散剤Ｎは、炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び炭素数１０以上のアルキル基を含むα－オレフィンからなる群から選択される少なくとも１種に由来する構造単位Ｌと、酸基を含む構造単位Ａと、を含み、構造単位Ｌの占める割合（即ち、高分子分散剤の全体に占める構造単位Ｌの占める割合）が２０質量％以上である高分子分散剤である。
高分子分散剤Ｎは、炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び炭素数１０以上のアルキル基を含むα－オレフィンからなる群から選択される少なくとも１種に由来する構造単位Ｌと、酸基を含む構造単位Ａと、を含み、構造単位Ｌの占める割合（即ち、高分子分散剤の全体に占める構造単位Ｌの占める割合）が２０質量％以上である高分子分散剤である。
【0039】
－構造単位Ｌ－
構造単位Ｌは、炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び炭素数１０以上のアルキル基を含むα－オレフィンからなる群から選択される少なくとも１種に由来する構造単位である。
高分子分散剤Ｎは、構造単位Ｌを、１種のみ含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
高分子分散剤Ｎは、構造単位Ｌとして、炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位の少なくとも１種と、炭素数１０以上のアルキル基を含むα－オレフィンに由来する構造単位の少なくとも1種と、を含んでいてもよい。
構造単位Ｌは、炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び炭素数１０以上のアルキル基を含むα－オレフィンからなる群から選択される少なくとも１種に由来する構造単位である。
高分子分散剤Ｎは、構造単位Ｌを、１種のみ含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
高分子分散剤Ｎは、構造単位Ｌとして、炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位の少なくとも１種と、炭素数１０以上のアルキル基を含むα－オレフィンに由来する構造単位の少なくとも1種と、を含んでいてもよい。
【0040】
構造単位Ｌにおいて、炭素数１０以上のアルキル基（例えば、後述の式（Ｌ１）中のＲ２）は、顔料の表面への吸着性に寄与する。これにより、本開示における分散安定性の効果が発揮される。
分散安定性の効果により優れる観点から、このアルキル基の炭素数は、好ましくは１４以上、より好ましくは１６以上である。
アルキル基の炭素数の上限には特に制限はないが、このアルキル基の炭素数は、好ましくは３０以下、より好ましくは２６以下、更に好ましくは２２以下である。
分散安定性の効果により優れる観点から、このアルキル基の炭素数は、好ましくは１４以上、より好ましくは１６以上である。
アルキル基の炭素数の上限には特に制限はないが、このアルキル基の炭素数は、好ましくは３０以下、より好ましくは２６以下、更に好ましくは２２以下である。
【0041】
構造単位Ｌのうち、炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位は、下記式（Ｌ１）で表される構造単位である。
【0042】
【化1】
【0043】
式（Ｌ１）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は、炭素数１０以上のアルキル基を表す。
【0044】
Ｒ２で表されるアルキル基の炭素数の好ましい範囲は前述のとおりである。
【0045】
高分子分散剤の全体に占める構造単位Ｌの割合は、２０質量％以上である。
これにより、本開示における分散安定性の効果が発揮される。
分散安定性の効果により優れる観点から、高分子分散剤の全体に占める構造単位Ｌの割合は、好ましくは２５質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上である。
高分子分散剤の全体に占める構造単位Ｌの割合の上限は、特に制限はない。構造単位Ｌの割合は、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７０質量％以下、更に好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下である。
これにより、本開示における分散安定性の効果が発揮される。
分散安定性の効果により優れる観点から、高分子分散剤の全体に占める構造単位Ｌの割合は、好ましくは２５質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上である。
高分子分散剤の全体に占める構造単位Ｌの割合の上限は、特に制限はない。構造単位Ｌの割合は、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７０質量％以下、更に好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下である。
【0046】
－構造単位Ａ－
高分子分散剤Ｎは、酸基を含む構造単位Ａを含む。
酸基は、前述の通り、中和された酸基であってもよいし、中和されていない酸基であってもよい。
高分子分散剤Ｎは、構造単位Ａを１種のみ含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
高分子分散剤Ｎは、酸基を含む構造単位Ａを含む。
酸基は、前述の通り、中和された酸基であってもよいし、中和されていない酸基であってもよい。
高分子分散剤Ｎは、構造単位Ａを１種のみ含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
【0047】
中和されていない酸基として、好ましくは、カルボキシ基（－ＣＯＯＨ基）である。
中和された酸基として、好ましくは、－ＣＯＯＭ基（ここで、Ｍは、アルカリ金属イオン、アンモニウムイオン、又は有機カチオンを表す）である。
アルカリ金属として、好ましくは、カリウムイオン又はナトリウムイオンであり、より好ましくはナトリウムである。
有機カチオンとしては、炭素数１～１０のアルキルアンモニウムカチオン、炭素数１～１０のヒドロキシ置換アルキルアンモニウムカチオン、炭素数２～１０のカルボキシ置換アルキルアンモニウムカチオン、及び炭素数２～４のアルキレンイミン単位を２～１０個有する有機カチオン、等が挙げられる。
中和された酸基として、好ましくは、－ＣＯＯＭ基（ここで、Ｍは、アルカリ金属イオン、アンモニウムイオン、又は有機カチオンを表す）である。
アルカリ金属として、好ましくは、カリウムイオン又はナトリウムイオンであり、より好ましくはナトリウムである。
有機カチオンとしては、炭素数１～１０のアルキルアンモニウムカチオン、炭素数１～１０のヒドロキシ置換アルキルアンモニウムカチオン、炭素数２～１０のカルボキシ置換アルキルアンモニウムカチオン、及び炭素数２～４のアルキレンイミン単位を２～１０個有する有機カチオン、等が挙げられる。
【0048】
構造単位Ａは、（メタ）アクリル酸に由来する構造単位であることが好ましい。
【0049】
高分子分散剤Ｎの全体に占める構造単位Ａの割合は、好ましくは２０質量％以上、より好ましくは２５質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上である。
高分子分散剤Ｎの全体に占める構造単位Ａの割合の上限は、特に制限はない。構造単位Ａの割合は、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７０質量％以下、更に好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下である。
高分子分散剤Ｎの全体に占める構造単位Ａの割合の上限は、特に制限はない。構造単位Ａの割合は、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７０質量％以下、更に好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下である。
【0050】
高分子分散剤Ｎにおいて、構造単位Ｌに対する構造単位Ａの質量比率であるＡ／Ｌ比は、好ましくは０．３～３．０、より好ましくは０．５～２．０、更に好ましくは０．５～１．５である。
【0051】
－その他の構造単位－
高分子分散剤Ｎは、上記以外のその他の構造単位を少なくとも１種含んでいてもよい。
高分子分散剤Ｎは、上記以外のその他の構造単位を少なくとも１種含んでいてもよい。
【0052】
その他の構造単位として、例えば、下記式（２）で表される構造単位（以下、式（２）単位ともいう）が挙げられる。
【0053】
【化2】
【0054】
式（２）中、
Ｒ２１は、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表し、
Ｒ２２は、炭素数２～５のアルキレン基を表し、
Ｒ２３は、芳香族基を表し、
Ｘ２１及びＸ２２は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－ＮＨ－を表し、
ｍは、２以上の整数を表す。
Ｒ２１は、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表し、
Ｒ２２は、炭素数２～５のアルキレン基を表し、
Ｒ２３は、芳香族基を表し、
Ｘ２１及びＸ２２は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－ＮＨ－を表し、
ｍは、２以上の整数を表す。
【0055】
式（２）中、Ｒ２１は、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
Ｒ２１として、好ましくは水素原子又は炭素数１～３のアルキル基、より好ましくは水素原子、メチル基、又はエチル基、更に好ましくは水素原子又はメチル基である。
Ｒ２１として、好ましくは水素原子又は炭素数１～３のアルキル基、より好ましくは水素原子、メチル基、又はエチル基、更に好ましくは水素原子又はメチル基である。
【0056】
式（２）中、Ｒ２２は、炭素数２～５のアルキレン基を表す。
Ｒ２２として、好ましくは炭素数２～４のアルキレン基、より好ましくは炭素数２又は３のアルキレン基、更に好ましくは炭素数２のアルキレン基である。
Ｒ２２として、好ましくは炭素数２～４のアルキレン基、より好ましくは炭素数２又は３のアルキレン基、更に好ましくは炭素数２のアルキレン基である。
【0057】
式（２）中、Ｒ２３は、芳香族基を表す。
Ｒ２３で表される芳香族基は、芳香環を少なくとも１つ含む。
Ｒ２３で表される芳香族基における芳香環は、単環であっても多環（縮環）であってもよい。
Ｒ２３で表される芳香族基は、単環が連結してなる基（例えば、ビフェニル基）を含んでいてもよい。
Ｒ２３で表される芳香族基は、ヘテロ原子（例えば、酸素原子）を含んでいてもよい。
Ｒ２３で表される芳香族基は、芳香環を少なくとも１つ含む。
Ｒ２３で表される芳香族基における芳香環は、単環であっても多環（縮環）であってもよい。
Ｒ２３で表される芳香族基は、単環が連結してなる基（例えば、ビフェニル基）を含んでいてもよい。
Ｒ２３で表される芳香族基は、ヘテロ原子（例えば、酸素原子）を含んでいてもよい。
【0058】
Ｒ２３で表される芳香族基における芳香環は、置換基を有していてもよい。
芳香環に対する置換基としては、例えば、炭素数１～３０（より好ましくは１～２０）の直鎖又は分岐の炭化水素基（例えば、直鎖又は分岐のアルキル基、直鎖又は分岐のアルケニル基、直鎖又は分岐のアルキニル基、等）、ハロゲン原子、等が挙げられる。
芳香環に対する置換基としては、例えば、炭素数１～３０（より好ましくは１～２０）の直鎖又は分岐の炭化水素基（例えば、直鎖又は分岐のアルキル基、直鎖又は分岐のアルケニル基、直鎖又は分岐のアルキニル基、等）、ハロゲン原子、等が挙げられる。
【0059】
Ｒ２３で表される芳香族基の炭素数は、好ましくは４～３０、より好ましくは６～３０、更に好ましくは６～２５、更に好ましくは６～２０である。
【0060】
Ｒ２３で表される芳香族基として、好ましくは、フェニル基、ナフチル基、フリル基、ビフェニル基、炭素数７～３０（好ましくは炭素数７～２５、更に好ましくは炭素数７～２０）のアルキルフェニル基である。
【0061】
式（２）中、Ｘ２１及びＸ２２は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－ＮＨ－を表す。
Ｘ２１及びＸ２２は、好ましくは－Ｏ－である。
Ｘ２１及びＸ２２は、好ましくは－Ｏ－である。
【0062】
式（２）中、ｍは、２以上の整数を表す。
ｍは、好ましくは２～３０の整数、より好ましくは２～２０の整数、更に好ましくは２～１０の整数である。
ｍは、好ましくは２～３０の整数、より好ましくは２～２０の整数、更に好ましくは２～１０の整数である。
【0063】
高分子分散剤Ｎが式（２）単位を含む場合、高分子分散剤Ｎの全体に占める式（２）単位の割合は、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは２質量％～５０質量％、より好ましくは３質量％～４０質量％、更に好ましくは１０質量％～４０質量％である。
【0064】
その他の構造単位として、例えば、メチル（メタ）アクリレートに由来する構造単位も挙げられる。
高分子分散剤Ｎがメチル（メタ）アクリレートに由来する構造単位を含む場合、高分子分散剤Ｎの全体に占めるメチル（メタ）アクリレートに由来する構造単位の割合は、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは１質量％～１０質量％、より好ましくは１質量％～５質量％である。
高分子分散剤Ｎがメチル（メタ）アクリレートに由来する構造単位を含む場合、高分子分散剤Ｎの全体に占めるメチル（メタ）アクリレートに由来する構造単位の割合は、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは１質量％～１０質量％、より好ましくは１質量％～５質量％である。
【0065】
－高分子分散剤Ｎの重量平均分子量（Ｍｗ）－
高分子分散剤Ｎの重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に制限されないが、顔料の分散性の観点から、好ましくは３０００～１０００００、より好ましくは５０００～８００００、更に好ましくは１００００～６００００、更に好ましくは１５０００～５００００である。
高分子分散剤Ｎの重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に制限されないが、顔料の分散性の観点から、好ましくは３０００～１０００００、より好ましくは５０００～８００００、更に好ましくは１００００～６００００、更に好ましくは１５０００～５００００である。
【0066】
本開示において、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定される。ＧＰＣは、ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（いずれも東ソー（株）製の商品名）を用いて３本直列につなぎ、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いる。また、条件としては、試料濃度を０．４５質量％、流速を０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ、測定温度を４０℃とし、示差屈折率検出器を用いて行なう。また、検量線は、東ソー（株）製「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ－４０」、「Ｆ－２０」、「Ｆ－４」、「Ｆ－１」、「Ａ－５０００」、「Ａ－２５００」、「Ａ－１０００」、「ｎ－プロピルベンゼン」の８サンプルから作成する。
【0067】
＜中和工程＞
本開示の顔料分散物の製造方法は、高分子分散剤Ｎに含まれる酸基の一部を中和させて中和度（即ち、ＮＤ１）が１００％未満である高分子分散剤Ａを得る中和工程を含む。
中和度ＮＤ１は、好ましくは４０％～９５％、好ましくは５０％～９０％である。
本開示の顔料分散物の製造方法は、高分子分散剤Ｎに含まれる酸基の一部を中和させて中和度（即ち、ＮＤ１）が１００％未満である高分子分散剤Ａを得る中和工程を含む。
中和度ＮＤ１は、好ましくは４０％～９５％、好ましくは５０％～９０％である。
【0068】
中和は、中和されていない酸基を含む高分子分散剤Ｎに対し、塩基（以下、「中和塩基」ともいう）を反応させることによって行うことができる。
中和塩基としては、例えば；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；アンモニア；ジメチルエタノールアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン；等があげられる。
中和塩基としては、例えば；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；アンモニア；ジメチルエタノールアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン；等があげられる。
【0069】
＜分散工程＞
本開示の顔料分散物の製造方法は、高分子分散剤Ａにより、顔料を、水性媒体中に分散させて未架橋分散物を得る工程である。
本開示の顔料分散物の製造方法は、高分子分散剤Ａにより、顔料を、水性媒体中に分散させて未架橋分散物を得る工程である。
【0070】
本開示において、水性媒体とは、水、又は、水及び水溶性有機溶剤の混合溶媒を意味する。
【0071】
本開示において、「水溶性」とは、２５℃の水１００ｇ対して１ｇ以上溶解する性質を意味する。
【0072】
水溶性有機溶剤の具体例は、後述のインクジェットインクに含有され得る水溶性有機溶媒と同様である。
【0073】
顔料としては特に制限は無く、有機顔料及び無機顔料のいずれであってもよい。
顔料としては、例えば、伊藤征司郎編「顔料の事典」（２０００年刊）、Ｗ．Ｈｅｒｂｓｔ，Ｋ．Ｈｕｎｇｅｒ「Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ」、特開２００２－１２６０７号公報、特開２００２－１８８０２５号公報、特開２００３－２６９７８号公報、特開２００３－３４２５０３号公報、特開２０１５－１９３７２９号、等の公知文献に記載の顔料が挙げられる。
顔料としては、例えば、伊藤征司郎編「顔料の事典」（２０００年刊）、Ｗ．Ｈｅｒｂｓｔ，Ｋ．Ｈｕｎｇｅｒ「Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ」、特開２００２－１２６０７号公報、特開２００２－１８８０２５号公報、特開２００３－２６９７８号公報、特開２００３－３４２５０３号公報、特開２０１５－１９３７２９号、等の公知文献に記載の顔料が挙げられる。
【0074】
顔料としては、
例えば、アゾレーキ顔料、アゾ顔料、フタロシアニン顔料、ペリレン顔料、ペリノン顔料、アントラキノン顔料、キナクリドン顔料、ジオキサジン顔料、ジケトピロロピロール顔料、チオインジゴ顔料、イソインドリノン顔料、キノフタロン顔料等の多環式顔料；
ニトロ顔料、ニトロソ顔料、アニリンブラック、昼光蛍光顔料等の有機顔料；
酸化チタン、酸化鉄系、カーボンブラック系等の無機顔料；
等が挙げられる。
顔料として、好ましくは、アゾ顔料、フタロシアニン顔料、アントラキノン顔料、キナクリドン顔料、又はカーボンブラック顔料である。
顔料については、特許第５４０４６６９号公報等の公知文献の記載を適宜参照してもよい。
例えば、アゾレーキ顔料、アゾ顔料、フタロシアニン顔料、ペリレン顔料、ペリノン顔料、アントラキノン顔料、キナクリドン顔料、ジオキサジン顔料、ジケトピロロピロール顔料、チオインジゴ顔料、イソインドリノン顔料、キノフタロン顔料等の多環式顔料；
ニトロ顔料、ニトロソ顔料、アニリンブラック、昼光蛍光顔料等の有機顔料；
酸化チタン、酸化鉄系、カーボンブラック系等の無機顔料；
等が挙げられる。
顔料として、好ましくは、アゾ顔料、フタロシアニン顔料、アントラキノン顔料、キナクリドン顔料、又はカーボンブラック顔料である。
顔料については、特許第５４０４６６９号公報等の公知文献の記載を適宜参照してもよい。
【0075】
色相の観点からみて例示すると、顔料としては、例えば、シアン顔料、マゼンタ顔料、イエロー顔料、ブラック顔料、白色顔料、等が挙げられる。
【0076】
顔料分散物の全量に対する顔料の含有量は、好ましくは１質量％～４０質量％、より好ましくは３質量％～３０質量％、更に好ましくは５質量％～２５質量％、更に好ましくは１０質量％～２０質量％である。
【0077】
分散工程は、ビーズミル等の分散装置を用いた公知の方法によって実施できる。
【0078】
未架橋分散物の全量中に占める、水性媒体、顔料、及び、高分子分散剤Ｎの合計量は、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは８０質量％以上、更に好ましくは９０質量％以上である。
【0079】
中和工程及び分散工程は、中和工程、分散工程の順に、実施してもよいし、同時に実施してもよい。
同時に実施する場合には、顔料、高分子分散剤Ｎ、水性媒体、及び、中和用の中和塩基を仕込み、分散を実施する。これにより、高分子分散剤Ａを形成しながら顔料を分散させる。
同時に実施する場合には、顔料、高分子分散剤Ｎ、水性媒体、及び、中和用の中和塩基を仕込み、分散を実施する。これにより、高分子分散剤Ａを形成しながら顔料を分散させる。
【0080】
＜酸添加工程＞
本開示の顔料分散物の製造方法は、未架橋分散物に酸を添加して未架橋分散物中の高分子分散剤Ａの中和度を低下させて高分子分散剤Ｂを得る酸添加工程を含む。
酸添加工程は、中和工程によって中和された酸基を、中和されていない酸基に戻す操作である。
酸添加工程は、水性媒体との親和性に優れる中和された酸基の量を、多すぎず少なすぎず適切な量に調節する工程のうちの一つである。
本開示の顔料分散物の製造方法は、未架橋分散物に酸を添加して未架橋分散物中の高分子分散剤Ａの中和度を低下させて高分子分散剤Ｂを得る酸添加工程を含む。
酸添加工程は、中和工程によって中和された酸基を、中和されていない酸基に戻す操作である。
酸添加工程は、水性媒体との親和性に優れる中和された酸基の量を、多すぎず少なすぎず適切な量に調節する工程のうちの一つである。
【0081】
酸添加工程では、未架橋分散物中において、顔料の表面に吸着している高分子分散剤Ａの中和度が低下することにより、中和度がＮＤ２である高分子分散剤Ｂが得られると考えられる。
【0082】
酸添加工程に用いる酸としては、塩酸、酢酸、クエン酸、マロン酸、ホウ酸、マレイン酸、等が挙げられる。
【0083】
酸添加工程の具体的な操作としては、未架橋分散物を攪拌しながら、ここに酸を加え、更に攪拌する、といった一般的な操作が挙げられる。
【0084】
＜架橋工程＞
本開示の顔料分散物の製造方法は、酸添加工程後の未架橋分散物における高分子分散剤Ｂを架橋して高分子分散剤Ｃを得る架橋工程を含む。
架橋工程により、架橋された高分子である高分子分散剤Ｃによって顔料が分散されている、架橋分散物（即ち、顔料分散物）が得られる。
本開示の顔料分散物の製造方法は、酸添加工程後の未架橋分散物における高分子分散剤Ｂを架橋して高分子分散剤Ｃを得る架橋工程を含む。
架橋工程により、架橋された高分子である高分子分散剤Ｃによって顔料が分散されている、架橋分散物（即ち、顔料分散物）が得られる。
【0085】
本開示における架橋工程により、顔料の表面に吸着している高分子分散剤Ｂを架橋して脱離しにくくすること、及び、架橋によって高分子分散剤Ｂの酸基の量を多すぎず少なすぎず適切な量に調節することが行われる。
【0086】
－架橋剤－
架橋は、架橋剤を用いて実施できる。
この場合の高分子分散剤Ｃは、好ましくは、酸基を含む高分子分散剤Ｂと、架橋剤と、の反応生成物である。この場合の架橋構造は、酸基と架橋剤（例えばエポキシ化合物におけるエポキシ基）との反応（例えば、酸－エポキシ反応）によって形成される構造である。
架橋剤としては、酸基を含む高分子分散剤Ｂとの反応部位（好ましくはエポキシ基）を２つ以上有する化合物が好ましい。
架橋は、架橋剤を用いて実施できる。
この場合の高分子分散剤Ｃは、好ましくは、酸基を含む高分子分散剤Ｂと、架橋剤と、の反応生成物である。この場合の架橋構造は、酸基と架橋剤（例えばエポキシ化合物におけるエポキシ基）との反応（例えば、酸－エポキシ反応）によって形成される構造である。
架橋剤としては、酸基を含む高分子分散剤Ｂとの反応部位（好ましくはエポキシ基）を２つ以上有する化合物が好ましい。
【0087】
架橋剤の好ましい態様である２官能以上のエポキシ化合物の具体例としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、１，６－へキサンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル等が挙げられる。
中でも、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、又はトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルが好ましい。
中でも、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、又はトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルが好ましい。
【0088】
架橋剤としては、市販品を用いることもできる。
市販品としては、例えば、Ｄｅｎａｃｏｌ ＥＸ－３２１、ＥＸ－８２１、ＥＸ－８３０、ＥＸ－８５０、ＥＸ－８５１（ナガセケムテックス（株）製）等を用いることができる。
市販品としては、例えば、Ｄｅｎａｃｏｌ ＥＸ－３２１、ＥＸ－８２１、ＥＸ－８３０、ＥＸ－８５０、ＥＸ－８５１（ナガセケムテックス（株）製）等を用いることができる。
【0089】
＜その他の工程＞
本開示の顔料分散物の製造方法は、上述した工程以外のその他の工程を含んでいてもよい。
その他の工程としては、架橋工程で得られた架橋分散物から、遠心処理、ろ過等により、粗大粒子を除去する工程、等が挙げられる。
本開示の顔料分散物の製造方法は、上述した工程以外のその他の工程を含んでいてもよい。
その他の工程としては、架橋工程で得られた架橋分散物から、遠心処理、ろ過等により、粗大粒子を除去する工程、等が挙げられる。
【0090】
＜不等式（１）＞
０．６０≦０．０１×ＡＶ１×（ＮＤ１－ＮＤ２）／（ＡＶ１－ＡＶ２）〔＝値（１）〕≦２．００ … 不等式（１）
０．６０≦０．０１×ＡＶ１×（ＮＤ１－ＮＤ２）／（ＡＶ１－ＡＶ２）〔＝値（１）〕≦２．００ … 不等式（１）
【0091】
不等式（１）の意味については前述のとおりである。
値（１）は、０．６０以上であり、好ましくは０．６２以上、より好ましくは０．６５以上である。
値（１）は、２．００以下であり、好ましくは１．５０以下、より好ましくは１．２０以下である。
値（１）は、０．６０以上であり、好ましくは０．６２以上、より好ましくは０．６５以上である。
値（１）は、２．００以下であり、好ましくは１．５０以下、より好ましくは１．２０以下である。
【0092】
高分子分散剤Ａの酸価であるＡＶ１（単位：ｍｇＫＯＨ／ｇ）は、好ましくは１００～３５０、より好ましくは１５０～３３０、更に好ましくは１５０～３００である。
高分子分散剤Ｃの酸価であるＡＶ２（単位：ｍｇＫＯＨ／ｇ）は、好ましくは１００～３００、より好ましくは１００～２５０である。ＡＶ２は、原理的に、ＡＶ１よりも小さい値である。
高分子分散剤Ｃの酸価であるＡＶ２（単位：ｍｇＫＯＨ／ｇ）は、好ましくは１００～３００、より好ましくは１００～２５０である。ＡＶ２は、原理的に、ＡＶ１よりも小さい値である。
【0093】
ＡＶ１及びＡＶ２は、下記不等式（３）を満たすことが好ましい。
１２０≦（１．２×ＡＶ２）≦ＡＶ１≦３３０ … 不等式（３）
不等式（３）における「１２０≦（１．２×ＡＶ２）」は、ＡＶ２の１．２倍の値が１２０以上であることを意味する。
不等式（３）における「（１．２×ＡＶ２）≦ＡＶ１」は、ＡＶ１が、ＡＶ２の１．２倍の値以上であることを意味する。
不等式（３）における「ＡＶ１≦３３０」は、ＡＶ１が３３０以下であることを意味する。
１２０≦（１．２×ＡＶ２）≦ＡＶ１≦３３０ … 不等式（３）
不等式（３）における「１２０≦（１．２×ＡＶ２）」は、ＡＶ２の１．２倍の値が１２０以上であることを意味する。
不等式（３）における「（１．２×ＡＶ２）≦ＡＶ１」は、ＡＶ１が、ＡＶ２の１．２倍の値以上であることを意味する。
不等式（３）における「ＡＶ１≦３３０」は、ＡＶ１が３３０以下であることを意味する。
【0094】
本開示において、高分子分散剤の酸価（ＡＶ１及びＡＶ２）は、以下の方法で算出する。
ＡＶ１については、高分子分散剤Ａの溶液をテトラヒドロフラン水溶液（ＴＨＦ／純水＝４：１の水溶液）で１００体積倍に希釈した希釈液を作製し、得られた希釈液をＫＯＨで完全中和した後、ＨＣｌで滴定することによって算出する。
ＡＶ２については、高分子分散剤Ｃによって顔料が分散されている顔料分散液（即ち、架橋後の顔料分散液）を、テトラヒドロフラン水溶液（ＴＨＦ／純水＝４：１の水溶液）で２０体積倍に希釈した希釈液を作製し、得られた希釈液をＫＯＨで完全中和した後、ＨＣｌで滴定することによって算出する。
ＡＶ１及びＡＶ２の各々の測定において、分散剤がＴＨＦに溶解しない場合は、ＴＨＦ以外の溶媒を使用することができる。ＴＨＦ以外の溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、２－メチルピロリドン、又はこれらの水溶液を使用することができるが、これらに限らない。
ＡＶ１については、高分子分散剤Ａの溶液をテトラヒドロフラン水溶液（ＴＨＦ／純水＝４：１の水溶液）で１００体積倍に希釈した希釈液を作製し、得られた希釈液をＫＯＨで完全中和した後、ＨＣｌで滴定することによって算出する。
ＡＶ２については、高分子分散剤Ｃによって顔料が分散されている顔料分散液（即ち、架橋後の顔料分散液）を、テトラヒドロフラン水溶液（ＴＨＦ／純水＝４：１の水溶液）で２０体積倍に希釈した希釈液を作製し、得られた希釈液をＫＯＨで完全中和した後、ＨＣｌで滴定することによって算出する。
ＡＶ１及びＡＶ２の各々の測定において、分散剤がＴＨＦに溶解しない場合は、ＴＨＦ以外の溶媒を使用することができる。ＴＨＦ以外の溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、２－メチルピロリドン、又はこれらの水溶液を使用することができるが、これらに限らない。
【0095】
高分子分散剤Ａの中和度であるＮＤ１（％）は、好ましくは４０～９５、より好ましくは５０～９０である。
高分子分散剤Ｂの中和度であるＮＤ２（％）は、好ましくは２０～８０、より好ましくは３０～７０である。ＮＤ２は、原理的に、ＮＤ１よりも小さい値である。
高分子分散剤Ｂの中和度であるＮＤ２（％）は、好ましくは２０～８０、より好ましくは３０～７０である。ＮＤ２は、原理的に、ＮＤ１よりも小さい値である。
【0096】
本開示において、高分子分散剤の中和度（ＮＤ１及びＮＤ２）は以下の方法で算出する。
ＮＤ１については、以下のようにして算出する。
分散工程で得られる未架橋分散物（即ち、高分子分散剤Ａによって顔料が分散されている未架橋分散物）をテトラヒドロフラン水溶液（ＴＨＦ／純水＝４：１の水溶液）で２０体積倍に希釈した希釈液を作製し、得られた希釈液をＨＣｌで滴定することにより、中和された酸基の酸価を算出する。得られた酸価を、前述のＡＶ１で割り、得られた値を百分率（％）にて表記することにより、ＮＤ１が得られる。
ＮＤ２については、以下のようにして算出する。
高分子分散剤Ｃによって顔料が分散されている顔料分散液（即ち、架橋後の顔料分散液）をテトラヒドロフラン水溶液（ＴＨＦ／純水＝４：１の水溶液）で２０体積倍に希釈した希釈液を作製し、得られた希釈液をＨＣｌで滴定することにより、中和された酸基の酸価を算出する。得られた酸価を、前述のＡＶ２で割り、得られた値を百分率（％）にて表記することにより、ＮＤ２が得られる。
ＮＤ１については、以下のようにして算出する。
分散工程で得られる未架橋分散物（即ち、高分子分散剤Ａによって顔料が分散されている未架橋分散物）をテトラヒドロフラン水溶液（ＴＨＦ／純水＝４：１の水溶液）で２０体積倍に希釈した希釈液を作製し、得られた希釈液をＨＣｌで滴定することにより、中和された酸基の酸価を算出する。得られた酸価を、前述のＡＶ１で割り、得られた値を百分率（％）にて表記することにより、ＮＤ１が得られる。
ＮＤ２については、以下のようにして算出する。
高分子分散剤Ｃによって顔料が分散されている顔料分散液（即ち、架橋後の顔料分散液）をテトラヒドロフラン水溶液（ＴＨＦ／純水＝４：１の水溶液）で２０体積倍に希釈した希釈液を作製し、得られた希釈液をＨＣｌで滴定することにより、中和された酸基の酸価を算出する。得られた酸価を、前述のＡＶ２で割り、得られた値を百分率（％）にて表記することにより、ＮＤ２が得られる。
【0097】
＜不等式（２）＞
０．３０≦（１００－ＮＤ１）／（ＮＤ１－ＮＤ２）〔＝値（２）〕≦５．００ … 不等式（２）
０．３０≦（１００－ＮＤ１）／（ＮＤ１－ＮＤ２）〔＝値（２）〕≦５．００ … 不等式（２）
【0098】
不等式（２）の意味については前述のとおりである。
値（２）は、０．３０以上であり、好ましくは０．４０以上、より好ましくは０．５０以上である。
値（２）は、５．００以下であり、好ましくは３．５０以下、より好ましくは２．５０以下である。
値（２）は、０．３０以上であり、好ましくは０．４０以上、より好ましくは０．５０以上である。
値（２）は、５．００以下であり、好ましくは３．５０以下、より好ましくは２．５０以下である。
【0099】
〔インクジェットインクの製造方法〕
本開示のインクジェットインク（以下、単に「インク」ともいう）の製造方法は、
上述した本開示の顔料分散物の製造方法によって顔料分散物を製造する工程と、
上記顔料分散物を用いてインクを製造する工程と、
を含む。
本開示のインクの製造方法は、必要に応じ、その他の工程を含んでもよい。
本開示のインクジェットインク（以下、単に「インク」ともいう）の製造方法は、
上述した本開示の顔料分散物の製造方法によって顔料分散物を製造する工程と、
上記顔料分散物を用いてインクを製造する工程と、
を含む。
本開示のインクの製造方法は、必要に応じ、その他の工程を含んでもよい。
【0100】
本開示のインクの製造方法では、顔料の分散安定性に優れる顔料分散物を用いてインクを製造するので、経時後の吐出安定性に優れるインクを製造できる。
【0101】
＜顔料分散物を製造する工程＞
顔料分散物を製造する工程については、前述した本開示の顔料分散物の製造方法を参照できる。
顔料分散物を製造する工程については、前述した本開示の顔料分散物の製造方法を参照できる。
【0102】
＜インクを製造する工程＞
インクを製造する工程は、上記顔料分散物を用いてインクを製造する工程である。
インクを製造する工程は、好ましくは、少なくとも、上記顔料分散物と、水と、水溶性有機溶剤と、（必要に応じその他の成分と、）を混合してインクジェットインクを製造する。
各成分を混合する方法については特に制限はなく、攪拌を行いながら各成分を混合する方法等、一般的な方法を適用できる。混合後、必要に応じ、ろ過を行ってもよい。
インクを製造する工程は、上記顔料分散物を用いてインクを製造する工程である。
インクを製造する工程は、好ましくは、少なくとも、上記顔料分散物と、水と、水溶性有機溶剤と、（必要に応じその他の成分と、）を混合してインクジェットインクを製造する。
各成分を混合する方法については特に制限はなく、攪拌を行いながら各成分を混合する方法等、一般的な方法を適用できる。混合後、必要に応じ、ろ過を行ってもよい。
【0103】
（顔料）
製造されるインクにおいて、顔料の含有量は、画像濃度及び吐出性の観点から、インクの全量に対して、１質量％～２５質量％であることが好ましく、２質量％～２５質量％であることがより好ましく、３質量％～２０質量％であることがさらに好ましい。
製造されるインクにおいて、顔料の含有量は、画像濃度及び吐出性の観点から、インクの全量に対して、１質量％～２５質量％であることが好ましく、２質量％～２５質量％であることがより好ましく、３質量％～２０質量％であることがさらに好ましい。
【0104】
（高分子分散剤Ｃ）
製造されるインクにおいて、顔料の含有量と、高分子分散剤Ｃ（即ち、架橋構造が形成された高分子分散剤）の含有量と、の比率は、質量基準で、１：０．０４～１：３が好ましく、１：０．０５～１：１がより好ましく、１：０．０５～１：０．５がさらに好ましい。
製造されるインクにおいて、顔料の含有量と、高分子分散剤Ｃ（即ち、架橋構造が形成された高分子分散剤）の含有量と、の比率は、質量基準で、１：０．０４～１：３が好ましく、１：０．０５～１：１がより好ましく、１：０．０５～１：０．５がさらに好ましい。
【0105】
製造されるインクにおいて、高分子分散剤Ｃの含有量は、インクの全量に対して、０．１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．３質量％～５質量％であることがより好ましく、０．５質量％～２．５質量％であることがさらに好ましい。
【0106】
（水）
製造されるインクにおいて、水の含有量は、インクの全量に対し、好ましくは１０質量％以上であり、より好ましくは２０質量％以上であり、さらに好ましくは３０質量％以上であり、特に好ましくは５０質量％以上である。
インクの全量に対する水の含有量の上限は、他の成分の含有量に応じて適宜定まるが、例えば９９質量％であり、好ましくは９５質量％であり、より好ましくは９０質量％である。
なお、ここでいう水の含有量は、顔料分散物中に含有されている量と、インクの製造段階で追加される量と、の合計量である。
製造されるインクにおいて、水の含有量は、インクの全量に対し、好ましくは１０質量％以上であり、より好ましくは２０質量％以上であり、さらに好ましくは３０質量％以上であり、特に好ましくは５０質量％以上である。
インクの全量に対する水の含有量の上限は、他の成分の含有量に応じて適宜定まるが、例えば９９質量％であり、好ましくは９５質量％であり、より好ましくは９０質量％である。
なお、ここでいう水の含有量は、顔料分散物中に含有されている量と、インクの製造段階で追加される量と、の合計量である。
【0107】
（水溶性有機溶剤）
本開示において、「水溶性有機溶剤」における「水溶性」とは、２５℃の水１００ｇに対して１ｇ以上溶解する性質を意味する。
本開示において、「水溶性有機溶剤」における「水溶性」とは、２５℃の水１００ｇに対して１ｇ以上溶解する性質を意味する。
【0108】
インクの製造に使用し得る水溶性有機溶剤の種類は限定されず、例えば；
炭素数１～４のモノアルコール；
１，３－プロパンジオール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、２－ブテン－１，４－ジオール、２－エチル－１，３－ヘキサンジオール、２－メチル－２，４－ペンタンジオール、１，２－オクタンジオール、１，２－ヘキサンジオール、１，２－ペンタンジオール、４－メチル－１，２－ペンタンジオール等のジオール；
グリセリン、１，２，６－ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン等のトリオール；
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコール；
エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル等のアルキレングリコールモノアルキルエーテル；
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール；
ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル、トリプロピレングリコールモノアルキルエーテル、ポリオキシプロピレングリセリルエーテル等のポリアルキレングリコールエーテル；
２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン；
等が挙げられる。
炭素数１～４のモノアルコール；
１，３－プロパンジオール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、２－ブテン－１，４－ジオール、２－エチル－１，３－ヘキサンジオール、２－メチル－２，４－ペンタンジオール、１，２－オクタンジオール、１，２－ヘキサンジオール、１，２－ペンタンジオール、４－メチル－１，２－ペンタンジオール等のジオール；
グリセリン、１，２，６－ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン等のトリオール；
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコール；
エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル等のアルキレングリコールモノアルキルエーテル；
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール；
ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル、トリプロピレングリコールモノアルキルエーテル、ポリオキシプロピレングリセリルエーテル等のポリアルキレングリコールエーテル；
２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン；
等が挙げられる。
【0109】
インクの製造に使用し得る水溶性有機溶剤は、吐出安定性の観点から、アルキレングリコール及びアルキレングリコールモノアルキルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
【0110】
製造されるインクにおいて、水溶性有機溶剤の含有量は、インクの全量に対して、１０質量％～４０質量％であることが好ましく、１５質量％～３０質量％であることがより好ましい。
なお、ここでいう水溶性有機溶剤の含有量は、顔料分散物中に含有されている量と、インクの製造段階で追加される量と、の合計量である。
なお、ここでいう水溶性有機溶剤の含有量は、顔料分散物中に含有されている量と、インクの製造段階で追加される量と、の合計量である。
【0111】
－樹脂－
インクを製造する工程は、上述した成分に加え、樹脂を少なくとも１種添加してもよい。
樹脂は、インクの造膜性（即ち、インク膜の形成性）に寄与し得る。
インクを製造する工程は、上述した成分に加え、樹脂を少なくとも１種添加してもよい。
樹脂は、インクの造膜性（即ち、インク膜の形成性）に寄与し得る。
【0112】
樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，０００～３００，０００であることが好ましく、２，０００～２００，０００であることがより好ましく、５，０００～１００，０００であることが更に好ましい。
【0113】
本開示において、重量平均分子量（Ｍｗ）は、特別な記載がない限り、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された値を意味する。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による測定は、測定装置として、ＨＬＣ（登録商標）－８０２０ＧＰＣ（東ソー（株））を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ（登録商標）Ｓｕｐｅｒ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＺ－Ｈ（４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ、東ソー（株））を３本用い、溶離液として、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いる。また、測定条件としては、試料濃度を０．４５質量％、流速を０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ、及び測定温度を４０℃とし、ＲＩ検出器を用いて行う。
検量線は、東ソー（株）の「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ－４０」、「Ｆ－２０」、「Ｆ－４」、「Ｆ－１」、「Ａ－５０００」、「Ａ－２５００」、「Ａ－１０００」、及び「ｎ－プロピルベンゼン」の８サンプルから作製する。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による測定は、測定装置として、ＨＬＣ（登録商標）－８０２０ＧＰＣ（東ソー（株））を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ（登録商標）Ｓｕｐｅｒ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＺ－Ｈ（４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ、東ソー（株））を３本用い、溶離液として、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いる。また、測定条件としては、試料濃度を０．４５質量％、流速を０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ、及び測定温度を４０℃とし、ＲＩ検出器を用いて行う。
検量線は、東ソー（株）の「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ－４０」、「Ｆ－２０」、「Ｆ－４」、「Ｆ－１」、「Ａ－５０００」、「Ａ－２５００」、「Ａ－１０００」、及び「ｎ－プロピルベンゼン」の８サンプルから作製する。
【0114】
樹脂としては、樹脂粒子が好ましい。
樹脂粒子を構成する樹脂は、水不溶性樹脂であることが好ましい。水不溶性樹脂における「水不溶性」とは、２５℃の蒸留水１００ｇに対する溶解量が２ｇ未満である性質を意味する。
樹脂粒子を構成する樹脂は、水不溶性樹脂であることが好ましい。水不溶性樹脂における「水不溶性」とは、２５℃の蒸留水１００ｇに対する溶解量が２ｇ未満である性質を意味する。
【0115】
樹脂粒子の体積平均粒径は、１ｎｍ～３００ｎｍであることが好ましく、３ｎｍ～２００ｎｍであることがより好ましく、５ｎｍ～１５０ｎｍであることが更に好ましい。
【0116】
本開示において、体積平均粒径は、レーザー回折・散乱式粒度分布計により測定された値を意味する。
測定装置としては、例えば、粒度分布測定装置「マイクロトラックＭＴ－３３００ＩＩ」（日機装（株）製）が挙げられる。
測定装置としては、例えば、粒度分布測定装置「マイクロトラックＭＴ－３３００ＩＩ」（日機装（株）製）が挙げられる。
【0117】
樹脂粒子としては、アクリル樹脂粒子、エステル樹脂粒子、アクリル樹脂粒子及びエステル樹脂粒子の混合物、アクリル樹脂とエステル樹脂とを含む複合粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、並びにポリウレタン樹脂粒子からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【0118】
本開示において、アクリル樹脂とは、アクリル酸、アクリル酸の誘導体（例えば、アクリル酸エステル等）、メタクリル酸、及びメタクリル酸の誘導体（例えば、メタクリル酸エステル等）からなる群から選択される少なくとも１種を含む原料モノマーの重合体（単独重合体又は共重合体）を意味する。
【0119】
樹脂粒子のガラス転移温度（Ｔｇ）は、画像の耐擦性をより向上させる観点より、５０℃～２５０℃であることが好ましく、５０℃～１５０℃であることがより好ましい。
ここで、樹脂粒子のガラス転移温度（Ｔｇ）は、実測によって得られる測定Ｔｇを適用する。測定Ｔｇの測定方法については、特開２０１５－２５０７６号公報の段落０１１１を参照できる。
ここで、樹脂粒子のガラス転移温度（Ｔｇ）は、実測によって得られる測定Ｔｇを適用する。測定Ｔｇの測定方法については、特開２０１５－２５０７６号公報の段落０１１１を参照できる。
【0120】
樹脂粒子については、例えば、国際公開第２０２１／１９２７２０号の段落００３８～０１１４、特開２０１５－２５０７６号公報の段落０１０９～０１２０、等を参照してもよい。
【0121】
インクが樹脂粒子を含有する場合、インクにおける樹脂粒子の含有量は、インクの全量に対して、好ましくは１質量％～２０質量％、より好ましくは２質量％～１５質量％、更に好ましくは２質量％～１０質量％である。
【0122】
－添加剤－
インクを製造する工程は、上述した成分に加え、添加剤を少なくとも１種添加してもよい。
添加剤としては、例えば、界面活性剤、水溶性樹脂、共増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、褪色防止剤、導電性塩、塩基性化合物等が挙げられる。
インクを製造する工程は、上述した成分に加え、添加剤を少なくとも１種添加してもよい。
添加剤としては、例えば、界面活性剤、水溶性樹脂、共増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、褪色防止剤、導電性塩、塩基性化合物等が挙げられる。
【0123】
－物性－
製造されるインクのｐＨ（２５℃）は、吐出安定性を向上させる観点から、７～１０であることが好ましく、７．５～９．５であることがより好ましい。
インクのｐＨは、ｐＨメーターを用いて２５℃で測定され、例えば、東亜ＤＤＫ社製のｐＨメーター（製品名「ＷＭ－５０ＥＧ」）を用いて測定される。
製造されるインクのｐＨ（２５℃）は、吐出安定性を向上させる観点から、７～１０であることが好ましく、７．５～９．５であることがより好ましい。
インクのｐＨは、ｐＨメーターを用いて２５℃で測定され、例えば、東亜ＤＤＫ社製のｐＨメーター（製品名「ＷＭ－５０ＥＧ」）を用いて測定される。
【0124】
製造されるインクの粘度（２５℃）は、０．５ｍＰａ・ｓ～３０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２ｍＰａ・ｓ～２０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、２ｍＰａ・ｓ～１５ｍＰａ・ｓであることが好ましく、３ｍＰａ・ｓ～１０ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましい。
インクの粘度は、粘度計を用いて２５℃で測定され、例えば、東機産業社製のＴＶ－２２型粘度計を用いて測定される。
インクの粘度は、粘度計を用いて２５℃で測定され、例えば、東機産業社製のＴＶ－２２型粘度計を用いて測定される。
【0125】
製造されるインクの表面張力は、６０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２０ｍＮ／ｍ～５０ｍＮ／ｍであることがより好ましく、２５ｍＮ／ｍ～４０ｍＮ／ｍであることがさらに好ましい。
インクの表面張力は、表面張力計を用いて２５℃で測定され、例えば、協和界面科学社製の自動表面張力計（製品名「ＣＢＶＰ－Ｚ」）を用いて、プレート法によって測定される。
インクの表面張力は、表面張力計を用いて２５℃で測定され、例えば、協和界面科学社製の自動表面張力計（製品名「ＣＢＶＰ－Ｚ」）を用いて、プレート法によって測定される。
【0126】
〔画像記録方法〕
本開示の画像記録方法は、
本開示のインクの製造方法により、インクを製造する工程と、
基材上に、上記インクを、インクジェット方式にて付与するインク付与工程と、
を含む。
本開示の画像記録方法は、
本開示のインクの製造方法により、インクを製造する工程と、
基材上に、上記インクを、インクジェット方式にて付与するインク付与工程と、
を含む。
【0127】
本開示のインクの製造方法によって製造されたインクは、経時における吐出安定性に優れるので、本開示の画像記録方法では、滲みが抑制された画像を記録できる。
【0128】
＜インクを製造する工程＞
インクを製造する工程については、前述した本開示のインクの製造方法を参照できる。
インクを製造する工程については、前述した本開示のインクの製造方法を参照できる。
【0129】
＜インク付与工程＞
インク付与工程は、基材上に、上記インクを、インクジェット方式にて付与する工程である。
インク付与工程は、基材上に、上記インクを、インクジェット方式にて付与する工程である。
【0130】
（基材）
基材としては、紙等の浸透性基材、樹脂基材等の非浸透性基材（詳細は後述する）、等を特に制限なく使用できる。
基材としては、紙等の浸透性基材、樹脂基材等の非浸透性基材（詳細は後述する）、等を特に制限なく使用できる。
【0131】
本開示において、非浸透性基材における非浸透性とは、ＡＳＴＭ Ｄ５７０－９８（２０１８）に準拠して測定された２４時間での吸水率が２．５％以下である性質をいう。ここで、吸水率の単位である「％」は、質量基準である。上記吸水率は、１．０％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましい。
【0132】
非浸透性基材の材質としては、例えば、ガラス、金属（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）及び樹脂（例えば、ポリ塩化ビニル、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ナイロン、アクリル樹脂等）が挙げられる。
【0133】
非浸透性基材の材質は、樹脂であることが好ましい。すなわち、非浸透性基材は、樹脂基材であることが好ましい。
【0134】
中でも、汎用性の点から、非浸透性基材の材質は、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ナイロン、アクリル樹脂、又はポリ塩化ビニルであることが好ましい。
【0135】
非浸透性基材の形状は、シート状（フィルム状）又は板状であることが好ましい。このような形状を有する非浸透性基材としては、ガラス板、金属板、樹脂シート（樹脂フィルム）、プラスチックがラミネートされた紙、金属がラミネート又は蒸着された紙、及び、金属がラミネート又は蒸着されたプラスチックシート（プラスチックフィルム）が挙げられる。
【0136】
樹脂製の非浸透性基材としては、樹脂シート（樹脂フィルム）が挙げられ、具体的には、食品等を包装する軟包装材、及び、量販店のフロア案内用のパネルが挙げられる。
【0137】
非浸透性基材としては、シート状（フィルム状）又は板状の非浸透性基材以外にも、非浸透性を有する繊維によって形成された、テキスタイル（織物）及び不織布も挙げられる。
【0138】
非浸透性基材には、親水化処理が施されてもよい。親水化処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理、熱処理、摩耗処理、光照射処理（例えばＵＶ処理）及び火炎処理が挙げられるが、これらに限定されるものではない。コロナ処理は、例えば、コロナマスター（製品名「ＰＳ－１０Ｓ」、信光電気計社製）を用いて行うことができる。コロナ処理の条件は、非浸透性基材の種類等に応じて適宜選択すればよい。
【0139】
非浸透性基材は、透明性を有する非浸透性基材であってもよい。
ここで、透明性を有するとは、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの可視光の透過率が、８０％以上（好ましくは９０％以上）であることを意味する。
非浸透性基材が、透明性を有する非浸透性基材である場合には、非浸透性基材の画像非記録面側から非浸透性基材を通して画像を視認しやすい。
例えば、非浸透性基材が、透明性を有する非浸透性基材である場合には、非浸透性基材上に、後述の前処理液、非白色インク、及び白色インクをこの順に付与して画像を記録する場合に、非浸透性基材の画像非記録面側から非浸透性基材を通し、白色画像（例えばベタ画像）を背景とする非白色画像（例えば、文字、図形等のパターン画像）を視認しやすい。
ここで、透明性を有するとは、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの可視光の透過率が、８０％以上（好ましくは９０％以上）であることを意味する。
非浸透性基材が、透明性を有する非浸透性基材である場合には、非浸透性基材の画像非記録面側から非浸透性基材を通して画像を視認しやすい。
例えば、非浸透性基材が、透明性を有する非浸透性基材である場合には、非浸透性基材上に、後述の前処理液、非白色インク、及び白色インクをこの順に付与して画像を記録する場合に、非浸透性基材の画像非記録面側から非浸透性基材を通し、白色画像（例えばベタ画像）を背景とする非白色画像（例えば、文字、図形等のパターン画像）を視認しやすい。
【0140】
（インクジェット方式）
インクジェット方式におけるインクの吐出方式には特に制限はなく、公知の方式、例えば、静電誘引力を利用してインクを吐出させる電荷制御方式、ピエゾ素子の振動圧力を利用するドロップオンデマンド方式（圧力パルス方式）、電気信号を音響ビームに変えインクに照射して放射圧を利用してインクを吐出させる音響インクジェット方式、及びインクを加熱して気泡を形成し、生じた圧力を利用するサーマルインクジェット（バブルジェット（登録商標））方式のいずれであってもよい。
インクジェット方式におけるインクの吐出方式には特に制限はなく、公知の方式、例えば、静電誘引力を利用してインクを吐出させる電荷制御方式、ピエゾ素子の振動圧力を利用するドロップオンデマンド方式（圧力パルス方式）、電気信号を音響ビームに変えインクに照射して放射圧を利用してインクを吐出させる音響インクジェット方式、及びインクを加熱して気泡を形成し、生じた圧力を利用するサーマルインクジェット（バブルジェット（登録商標））方式のいずれであってもよい。
【0141】
インクジェット方式としては、特に、特開昭５４－５９９３６号公報に記載の方法で、熱エネルギーの作用を受けたインクが急激な体積変化を生じ、この状態変化による作用力によって、インクをノズルから吐出させるインクジェット方式を有効に利用することができる。インクジェット方式として、特開２００３－３０６６２３号公報の段落番号００９３～０１０５に記載の方法も適用できる。
【0142】
基材上へのインクジェット方式によるインクの付与は、インクジェットヘッドのノズルからインクを吐出することにより行う。
【0143】
インクジェットヘッドの方式としては、短尺のシリアルヘッドを、被記録媒体の幅方向
に走査させながら記録を行なうシャトル方式と、被記録媒体の１辺の全域に対応して記録素子が配列されているラインヘッドを用いたライン方式と、がある。
に走査させながら記録を行なうシャトル方式と、被記録媒体の１辺の全域に対応して記録素子が配列されているラインヘッドを用いたライン方式と、がある。
【0144】
ライン方式では、記録素子の配列方向と交差する方向に被記録媒体を走査させることで被記録媒体の全面に画像記録を行なうことができる。ライン方式では、シャトル方式における、短尺ヘッドを走査するキャリッジ等の搬送系が不要となる。また、ライン方式では、シャトル方式と比較して、キャリッジの移動と被記録媒体との複雑な走査制御が不要になり、被記録媒体だけが移動する。このため、ライン方式によれば、シャトル方式と比較して、画像記録の高速化が実現される。
但し、本開示の画像記録方法におけるインクジェットヘッドの方式は、ライン方式には限定されず、シャトル方式であってもよく、いずれの方式を適用した場合においても、前述した本開示の画像記録方法による効果が奏される。
但し、本開示の画像記録方法におけるインクジェットヘッドの方式は、ライン方式には限定されず、シャトル方式であってもよく、いずれの方式を適用した場合においても、前述した本開示の画像記録方法による効果が奏される。
【0145】
インクの付与は、３００ｄｐｉ以上（より好ましくは６００ｄｐｉ以上、さらに好ましくは８００ｄｐｉ以上）の解像度を有するインクジェットヘッドを用いて行うことが好ましい。ここで、ｄｐｉは、ｄｏｔ ｐｅｒ ｉｎｃｈの略であり、１ｉｎｃｈ（１インチ）は２．５４ｃｍである。
【0146】
インクジェットヘッドのノズルから吐出されるインクの液滴量は、高精細な画像を得る観点から、１ｐＬ（ピコリットル）～１０ｐＬが好ましく、１．５ｐＬ～６ｐＬがより好ましい。
【0147】
インク付与工程は、基材上に付与されたインクを加熱乾燥させることを含んでいてもよいし、インクを加熱乾燥させることを含まなくてもよい。
【0148】
インクを加熱乾燥させることを含む場合、加熱乾燥の方法としては特に制限はないが、例えば、赤外線（ＩＲ）乾燥、温風乾燥（例えば、ドライヤー等）、加熱装置（例えば、ヒーター、ホットプレート、加熱炉等）による加熱乾燥等が挙げられる。
加熱乾燥の方法としては、これらのうちの２つ以上を組み合わせた方法であってもよい。
加熱乾燥は、基材の画像記録面側及び非画像記録面側の少なくとも一方からインクを加熱することによって行うことができる。
加熱乾燥の方法としては、これらのうちの２つ以上を組み合わせた方法であってもよい。
加熱乾燥は、基材の画像記録面側及び非画像記録面側の少なくとも一方からインクを加熱することによって行うことができる。
【0149】
インクを加熱乾燥させることを含む場合、インクの加熱乾燥における加熱温度は、３５℃以上が好ましく、４０℃以上がより好ましく、５０℃以上が更に好ましく、６０℃以上がさらに好ましい。
加熱温度の上限値は特に制限はないが、１００℃が好ましく、９０℃がより好ましい。
加熱温度の上限値は特に制限はないが、１００℃が好ましく、９０℃がより好ましい。
【0150】
インクを加熱乾燥させることを含む場合、インクの加熱乾燥における加熱時間は特に制限されないが、１秒～１８０秒が好ましく、１秒～１２０秒がより好ましく、１秒～６０秒がさらに好ましい。
【0151】
インク付与工程は、基材上に、２種以上のインク（例えば、２色以上のインク）を付与してもよい。
基材上に２種以上のインクを付与する場合、２種以上のインクのうちの少なくとも１種が、本開示のインクの製造方法によって製造されたインクであればよい。
基材上に２種以上のインクを付与する場合、２種以上のインクを重ねて付与してもよい。
基材上に、２種以上のインクを重ねて付与することにより、多次色画像が記録される。 本開示のインクの製造方法によって製造されたインクは、経時における吐出安定性に優れるので、記録された多次色画像では、滲み（以下、多次色滲みともいう）が抑制される。
以下、基材上に２種以上のインクを付与する場合の基材上に付与する１種目（即ち１番目）のインクを第１インク称することがあり、基材上に付与するｎ種目（即ちｎ番目）のインクを第ｎインクと称することがある（ここで、ｎは、２以上の整数である）。
基材上に２種以上のインクを付与する場合、２種以上のインクのうちの少なくとも１種が、本開示のインクの製造方法によって製造されたインクであればよい。
基材上に２種以上のインクを付与する場合、２種以上のインクを重ねて付与してもよい。
基材上に、２種以上のインクを重ねて付与することにより、多次色画像が記録される。 本開示のインクの製造方法によって製造されたインクは、経時における吐出安定性に優れるので、記録された多次色画像では、滲み（以下、多次色滲みともいう）が抑制される。
以下、基材上に２種以上のインクを付与する場合の基材上に付与する１種目（即ち１番目）のインクを第１インク称することがあり、基材上に付与するｎ種目（即ちｎ番目）のインクを第ｎインクと称することがある（ここで、ｎは、２以上の整数である）。
【0152】
＜前処理液を付与する工程＞
本開示の画像記録方法の実施形態として、インク付与工程よりも前に、非浸透性基材上に、水及び凝集剤を含有する前処理液を付与する工程を更に含む実施形態が挙げられる。
この場合、インク付与工程では、非浸透性基材上の前処理液が付与された領域上にインクを付与する。
本開示の画像記録方法の実施形態として、インク付与工程よりも前に、非浸透性基材上に、水及び凝集剤を含有する前処理液を付与する工程を更に含む実施形態が挙げられる。
この場合、インク付与工程では、非浸透性基材上の前処理液が付与された領域上にインクを付与する。
【0153】
（前処理液）
－水－
前処理液は、水を含有する。
水の含有量は、前処理液の全量に対し、好ましくは５０質量％以上であり、より好ましくは６０質量％以上である。
水の含有量の上限は、他の成分の量にもよるが、前処理液の全量に対し、好ましくは９０質量％以下であり、より好ましくは８０質量％以下である。
－水－
前処理液は、水を含有する。
水の含有量は、前処理液の全量に対し、好ましくは５０質量％以上であり、より好ましくは６０質量％以上である。
水の含有量の上限は、他の成分の量にもよるが、前処理液の全量に対し、好ましくは９０質量％以下であり、より好ましくは８０質量％以下である。
【0154】
－凝集剤－
前処理液は、凝集剤を少なくとも１種含有する。
前処理液中の凝集剤は、非浸透性基材上において、インク中の成分を凝集させる。これにより、画像の画質が向上し得る。
凝集剤は、有機酸及び多価金属化合物からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
前処理液は、凝集剤を少なくとも１種含有する。
前処理液中の凝集剤は、非浸透性基材上において、インク中の成分を凝集させる。これにより、画像の画質が向上し得る。
凝集剤は、有機酸及び多価金属化合物からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【0155】
凝集剤としては、国際公開第２０２０／１９５３６０号の段落０１２２～０１３０に記載の凝集剤が好ましく挙げられる。
以下、凝集剤として用いられ得る、有機酸、多価金属化合物、金属錯体、及びカチオンポリマーのそれぞれの好ましい態様について説明する。
以下、凝集剤として用いられ得る、有機酸、多価金属化合物、金属錯体、及びカチオンポリマーのそれぞれの好ましい態様について説明する。
【0156】
－－有機酸－－
有機酸としては、酸性基を有する有機化合物が挙げられる。
有機酸としては、酸性基を有する有機化合物が挙げられる。
【0157】
酸性基としては、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、硫酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基、及びカルボキシ基が挙げられる。
【0158】
中でも、インクの凝集速度の観点から、酸性基は、リン酸基又はカルボキシ基であることが好ましく、カルボキシ基であることがより好ましい。
【0159】
酸性基は、前処理液中において、少なくとも一部が解離していることが好ましい。
【0160】
カルボキシ基を有する有機化合物としては、（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリル酸、酢酸、蟻酸、安息香酸、グリコール酸、マロン酸、リンゴ酸（好ましくは、ＤＬ－リンゴ酸）、マレイン酸、コハク酸、グルタル酸、ピメリン酸、アジピン酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸、フタル酸、４－メチルフタル酸、乳酸、ピロリドンカルボン酸、ピロンカルボン酸、ピロールカルボン酸、フランカルボン酸、ピリジンカルボン酸、クマリン酸、チオフェンカルボン酸及びニコチン酸が挙げられる。
【0161】
中でも、インクの凝集速度の観点から、カルボキシ基を有する有機化合物は、２価以上のカルボン酸（以下、多価カルボン酸ともいう。）であることが好ましく、ジカルボン酸であることがより好ましい。
【0162】
具体的には、多価カルボン酸は、マロン酸、リンゴ酸、マレイン酸、コハク酸、グルタル酸、ピメリン酸、アジピン酸、フマル酸、酒石酸、４－メチルフタル酸、又はクエン酸であることが好ましく、マロン酸、リンゴ酸、酒石酸、コハク酸、グルタル酸、ピメリン酸、アジピン酸又はクエン酸であることがより好ましい。
【0163】
有機酸は、ｐＫａが低い（例えば、１．０～５．０）ことが好ましい。これにより、カルボキシ基等の弱酸性の官能基で分散安定化しているインク中の顔料、樹脂粒子等の粒子の表面電荷を、よりｐＫａの低い有機酸と接触させることにより減じ、分散安定性を低下させることができる。
【0164】
有機酸は、ｐＫａが低く、水に対する溶解度が高く、価数が２価以上であることが好ましい。また、有機酸は、インク中の粒子を分散安定化させている官能基（例えば、カルボキシ基等）のｐＫａよりも低いｐＨ領域に高い緩衝能を有することがより好ましい。
【0165】
－－多価金属化合物－－
多価金属化合物としては、多価金属塩が挙げられる。
多価金属塩としては、有機酸多価金属塩及び無機酸多価金属塩が挙げられる。
有機酸多価金属塩としては、上述した有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、乳酸、安息香酸等）の多価金属塩が好ましい。
無機酸多価金属塩としては、硝酸多価金属塩、塩酸多価金属塩、又はチオシアン酸多価金属塩）が好ましい。
多価金属化合物としては、多価金属塩が挙げられる。
多価金属塩としては、有機酸多価金属塩及び無機酸多価金属塩が挙げられる。
有機酸多価金属塩としては、上述した有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、乳酸、安息香酸等）の多価金属塩が好ましい。
無機酸多価金属塩としては、硝酸多価金属塩、塩酸多価金属塩、又はチオシアン酸多価金属塩）が好ましい。
【0166】
多価金属塩としては、例えば、周期表の第２族のアルカリ土類金属（例えば、マグネシウム、カルシウム）の塩、周期表の第３族の遷移金属（例えば、ランタン）の塩、周期表の第１３族の金属（例えば、アルミニウム）の塩、及びランタニド類（例えば、ネオジム）の塩が挙げられる。
多価金属塩としては、カルシウム塩、マグネシウム塩、又はアルミニウム塩が好ましく、カルシウム塩又はマグネシウム塩がより好ましい。
多価金属塩としては、カルシウム塩、マグネシウム塩、又はアルミニウム塩が好ましく、カルシウム塩又はマグネシウム塩がより好ましい。
【0167】
多価金属化合物としては、有機酸多価金属塩が好ましく、有機酸カルシウム塩又は有機酸マグネシウム塩がより好ましい。
【0168】
多価金属化合物は、前処理液中において、少なくとも一部が多価金属イオンと対イオンとに解離していることが好ましい。
【0169】
前処理液中における凝集剤の含有量は、前処理液の全量に対し、好ましくは０．１質量％～４０質量％、より好ましくは０．１質量％～３０質量％、更に好ましくは１質量％～２０質量％、更に好ましくは１質量％～１０質量％である。
【0170】
－樹脂－
前処理液は、樹脂を少なくとも１種含有する。
前処理液中の樹脂は、前処理液の造膜性（即ち、前処理液膜の形成性）に寄与する。
前処理液中の樹脂としては、インク中の樹脂と同様のもの（例えば、樹脂粒子）を用いることができる。
前処理液は、樹脂を少なくとも１種含有する。
前処理液中の樹脂は、前処理液の造膜性（即ち、前処理液膜の形成性）に寄与する。
前処理液中の樹脂としては、インク中の樹脂と同様のもの（例えば、樹脂粒子）を用いることができる。
【0171】
前処理液中における樹脂の含有量には特に制限はない。
前処理液の全量に対する樹脂の含有量は、０．５質量％～３０質量％であることが好ましく、１質量％～２０質量％であることがより好ましく、１質量％～１５質量％であることが特に好ましい。
前処理液の全量に対する樹脂の含有量は、０．５質量％～３０質量％であることが好ましく、１質量％～２０質量％であることがより好ましく、１質量％～１５質量％であることが特に好ましい。
【0172】
－水溶性有機溶剤－
前処理液は、水溶性有機溶剤を少なくとも１種含有してもよい。
前処理液中の水溶性有機溶剤としては、インクに含有され得る水溶性有機溶剤と同様のものを用いることができる。
前処理液は、水溶性有機溶剤を少なくとも１種含有してもよい。
前処理液中の水溶性有機溶剤としては、インクに含有され得る水溶性有機溶剤と同様のものを用いることができる。
【0173】
－添加剤－
前処理液は、必要に応じて、界面活性剤、水溶性樹脂、共増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、褪色防止剤、導電性塩、塩基性化合物等の添加剤を含有してもよい。
前処理液は、必要に応じて、界面活性剤、水溶性樹脂、共増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、褪色防止剤、導電性塩、塩基性化合物等の添加剤を含有してもよい。
【0174】
－物性－
前処理液のｐＨ（２５℃）は、２．０～７．０であることが好ましく、２．０～４．０であることがより好ましい。前処理液のｐＨは、インクのｐＨと同様の方法によって測定する。
前処理液のｐＨ（２５℃）は、２．０～７．０であることが好ましく、２．０～４．０であることがより好ましい。前処理液のｐＨは、インクのｐＨと同様の方法によって測定する。
【0175】
前処理液の粘度は、前処理液の塗布性の観点から、０．５ｍＰａ・ｓ～１０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、１ｍＰａ・ｓ～５ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。粘度は、粘度計を用い、２５℃で測定される値である。前処理液の粘度は、インクの粘度と同様の方法によって測定する。
【0176】
前処理液の表面張力は、６０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２０ｍＮ／ｍ～５０ｍＮ／ｍであることがより好ましく、３０ｍＮ／ｍ～４５ｍＮ／ｍであることがさらに好ましい。表面張力は、２５℃の温度下で測定される値である。前処理液の表面張力は、インクの表面張力と同様の方法によって測定する。
【0177】
（前処理液の付与方法）
前処理液の付与方法は特に限定されず、塗布法、浸漬法、インクジェット記録方式等の公知の方法が挙げられる。
前処理液の付与方法は特に限定されず、塗布法、浸漬法、インクジェット記録方式等の公知の方法が挙げられる。
【0178】
塗布法としては、バーコーター、エクストルージョンダイコーター、エアードクターコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター等を用いた公知の方法が挙げられる。
【0179】
前処理液の付与は、塗布法にて行うことが好ましい。
【0180】
本開示の画像記録方法は、前処理液付与工程の後に、基材上に付与された前処理液を乾燥させる工程を含んでもよい。
前処理液を付与する工程は、非浸透性基材上に付与された前処理液を乾燥させることを含んでもよい。
前処理液の乾燥の方法としては特に制限はないが、例えば、後述する、インクの乾燥の方法として例示した方法と同様の方法を適用できる。
前処理液の乾燥条件（例えば、加熱温度及び加熱時間）の好ましい範囲は、後述する、インクの乾燥条件の好ましい範囲と同様である。
前処理液を付与する工程は、非浸透性基材上に付与された前処理液を乾燥させることを含んでもよい。
前処理液の乾燥の方法としては特に制限はないが、例えば、後述する、インクの乾燥の方法として例示した方法と同様の方法を適用できる。
前処理液の乾燥条件（例えば、加熱温度及び加熱時間）の好ましい範囲は、後述する、インクの乾燥条件の好ましい範囲と同様である。
【0181】
＜画像記録装置の一例＞
図１は、本開示の画像記録方法に用いる画像記録装置の一例を概念的に示す図である。
図１に示されるように、インクジェット記録装置の一実施形態は、ロールツーロール方式で樹脂基材を搬送する搬送機構を備えるインクジェット記録装置の一例であり、ロール状に巻き取られている長尺フィルム形状の非浸透性基材Ａ１を、巻き出し装置Ｒ１によって巻き出し、巻き出された非浸透性基材Ａ１を、張力が印加された状態でブロック矢印の方向に搬送させ、前処理液付与装置Ｐ１、前処理液乾燥ゾーンＤＰ１、第１インクジェットヘッドＩＪ１、第１乾燥ゾーンＤ１、第２インクジェットヘッドＩＪ２、及び乾燥ゾーンＤ２をこの順に通過させ、最後に、張力Ｐが印加された状態で、巻き芯を含む巻取り装置Ｒ２によって巻き取る装置である。
図１は、本開示の画像記録方法に用いる画像記録装置の一例を概念的に示す図である。
図１に示されるように、インクジェット記録装置の一実施形態は、ロールツーロール方式で樹脂基材を搬送する搬送機構を備えるインクジェット記録装置の一例であり、ロール状に巻き取られている長尺フィルム形状の非浸透性基材Ａ１を、巻き出し装置Ｒ１によって巻き出し、巻き出された非浸透性基材Ａ１を、張力が印加された状態でブロック矢印の方向に搬送させ、前処理液付与装置Ｐ１、前処理液乾燥ゾーンＤＰ１、第１インクジェットヘッドＩＪ１、第１乾燥ゾーンＤ１、第２インクジェットヘッドＩＪ２、及び乾燥ゾーンＤ２をこの順に通過させ、最後に、張力Ｐが印加された状態で、巻き芯を含む巻取り装置Ｒ２によって巻き取る装置である。
【0182】
非浸透性基材Ａ１は、張力が印加された状態で搬送され、張力Ｐが印加された状態で巻き取られる。搬送中の張力は、巻き取り時の張力Ｐと同じ張力であっても異なる張力であってもよい。また、搬送方向の位置により、張力が異なっていてもよいし、一様の張力であってもよい。
一実施形態に係る画像記録装置は、非浸透性基材に張力を調整するための張力調整手段を備えていてもよい。
張力調整手段としては、
巻き出し装置Ｒ１及び／又は巻き取り装置Ｒ２に設けられるパウダーブレーキ、
搬送経路の途中に設けられるダンサーロール、
画像記録装置の各条件の調整によって各張力を制御する制御装置（例えばテンションコン
トローラー）、
等が挙げられる。
また、一実施形態に係る画像記録装置は、非浸透性基材の張力を測定するための張力測定手段（例えばテンションメーター）を備えていてもよい。
一実施形態に係る画像記録装置は、非浸透性基材に張力を調整するための張力調整手段を備えていてもよい。
張力調整手段としては、
巻き出し装置Ｒ１及び／又は巻き取り装置Ｒ２に設けられるパウダーブレーキ、
搬送経路の途中に設けられるダンサーロール、
画像記録装置の各条件の調整によって各張力を制御する制御装置（例えばテンションコン
トローラー）、
等が挙げられる。
また、一実施形態に係る画像記録装置は、非浸透性基材の張力を測定するための張力測定手段（例えばテンションメーター）を備えていてもよい。
【0183】
なお、図１は、概念図であるため、非浸透性基材Ａ１の搬送経路を簡略化し、非浸透性基材Ａ１が一方向に搬送されるかのように図示しているが、実際には、非浸透性基材Ａ１の搬送経路は蛇行する場合があることは言うまでもない。
非浸透性基材Ａ１の搬送方式としては、胴、ロール等の各種ウェブ搬送方式を適宜選択することができる。
非浸透性基材Ａ１の搬送方式としては、胴、ロール等の各種ウェブ搬送方式を適宜選択することができる。
【0184】
非浸透性基材Ａ１を巻き出すための巻き出し装置Ｒ１に対し、非浸透性基材Ａ１の搬送方向下流側には、非浸透性基材Ａ１の搬送方向上流側から順に、前処理液付与装置Ｐ１、前処理液乾燥ゾーンＤＰ１、第１インクジェットヘッドＩＪ１、第１乾燥ゾーンＤ１、第２インクジェットヘッドＩＪ２、及び乾燥ゾーンＤ２が、この順に配置されている。
前処理液付与装置Ｐ１、第１インクジェットヘッドＩＪ１、及び第２インクジェットヘッドＩＪ２により、それぞれ、前処理液の付与、第１インクの付与、及び第２インクの付与が行われる。
この際、前処理液乾燥ゾーンＤＰ１での前処理液の加熱乾燥、第１乾燥ゾーンＤ１での第１インクの加熱乾燥、及び第２乾燥ゾーンＤ２での第２インクの加熱乾燥のうちの少なくとも１つを行うことができる。
第１乾燥ゾーンＤ１では、第１インクの加熱乾燥に加え、実質的に前処理液の加熱乾燥が行われてもよい。
第２乾燥ゾーンＤ２では、第２インクの加熱乾燥に加え、実質的に、前処理液の加熱乾燥及び／又は第１インクの加熱乾燥が行われてもよい。
また、これらの各乾燥ゾーンの温度を室温とした状態で樹脂基板が各乾燥ゾーンを通過するようにすれば、加熱乾燥を省略することもできる。
前処理液付与装置Ｐ１、第１インクジェットヘッドＩＪ１、及び第２インクジェットヘッドＩＪ２により、それぞれ、前処理液の付与、第１インクの付与、及び第２インクの付与が行われる。
この際、前処理液乾燥ゾーンＤＰ１での前処理液の加熱乾燥、第１乾燥ゾーンＤ１での第１インクの加熱乾燥、及び第２乾燥ゾーンＤ２での第２インクの加熱乾燥のうちの少なくとも１つを行うことができる。
第１乾燥ゾーンＤ１では、第１インクの加熱乾燥に加え、実質的に前処理液の加熱乾燥が行われてもよい。
第２乾燥ゾーンＤ２では、第２インクの加熱乾燥に加え、実質的に、前処理液の加熱乾燥及び／又は第１インクの加熱乾燥が行われてもよい。
また、これらの各乾燥ゾーンの温度を室温とした状態で樹脂基板が各乾燥ゾーンを通過するようにすれば、加熱乾燥を省略することもできる。
【0185】
前処理液付与装置Ｐ１に対して上流側には、非浸透性基材Ａ１のオモテ面及び裏面の少なくとも一方に表面処理（好ましくはコロナ処理）を施すための表面処理部（不図示）が設けられていてもよい。
また、第２乾燥ゾーンＤ２の下流側には、記録された多次色画像を冷却する冷却ゾーンが設けられていてもよい。
また、第２乾燥ゾーンＤ２の下流側には、記録された多次色画像を冷却する冷却ゾーンが設けられていてもよい。
【0186】
第１インクジェットヘッドＩＪ１及び第２インクジェットヘッドＩＪ２は、シャトルヘッドでも構わないが、画像記録の高速化の観点から、長尺フィルム形状の非浸透性基材Ａ１の幅方向にわたって多数の吐出口（ノズル）が配列されたラインヘッドが好ましい。
第１インクジェットヘッドＩＪ１及び第２インクジェットヘッドＩＪ２は、それぞれ、１つのみであってもよいし複数であってもよい。
第１インクジェットヘッドＩＪ１及び第２インクジェットヘッドＩＪ２の組み合わせの例として、例えば、第１インクジェットヘッドＩＪ１が、シアン、マゼンタ、イエロー、及びブラックの４色に対応した４つのインクジェットヘッド（注；これら４つのインクジェットヘッドは、樹脂基材の搬送方向に配列されている）であり、かつ、第２インクジェットヘッドＩＪ２が白色（即ち、白色）に対応した１つのインクジェットヘッドである組み合わせが挙げられる。
また、第１インクジェットヘッドＩＪ１及び第２インクジェットヘッドＩＪ２の組み合わせの別の例として、第１インクジェットヘッドＩＪ１が、白色に対応した１つのインクジェットヘッドであり、第２インクジェットヘッドＩＪ２が、シアン、マゼンタ、イエロー、及びブラックの４色に対応した４つのインクジェットヘッド（注；これら４つのインクジェットヘッドは、基材の搬送方向に配列されている）である組み合わせも挙げられる。
第１インクジェットヘッドＩＪ１及び第２インクジェットヘッドＩＪ２は、それぞれ、１つのみであってもよいし複数であってもよい。
第１インクジェットヘッドＩＪ１及び第２インクジェットヘッドＩＪ２の組み合わせの例として、例えば、第１インクジェットヘッドＩＪ１が、シアン、マゼンタ、イエロー、及びブラックの４色に対応した４つのインクジェットヘッド（注；これら４つのインクジェットヘッドは、樹脂基材の搬送方向に配列されている）であり、かつ、第２インクジェットヘッドＩＪ２が白色（即ち、白色）に対応した１つのインクジェットヘッドである組み合わせが挙げられる。
また、第１インクジェットヘッドＩＪ１及び第２インクジェットヘッドＩＪ２の組み合わせの別の例として、第１インクジェットヘッドＩＪ１が、白色に対応した１つのインクジェットヘッドであり、第２インクジェットヘッドＩＪ２が、シアン、マゼンタ、イエロー、及びブラックの４色に対応した４つのインクジェットヘッド（注；これら４つのインクジェットヘッドは、基材の搬送方向に配列されている）である組み合わせも挙げられる。
【0187】
一実施形態に係る画像記録装置を用いたインクジェット記録では、
まず、ロール状に巻き取られている長尺フィルム形状の非浸透性基材Ａ１を、巻き出し装置Ｒ１によって巻き出し、
巻き出された非浸透性基材Ａ１を、張力が印加された状態でブロック矢印の方向に搬送し、
搬送される非浸透性基材Ａ１上に、前処理液付与装置Ｐ１によって前処理液の付与を行い、
次いで必要に応じて前処理液乾燥ゾーンＤＰ１にて前処理液を乾燥させ、
次いで第１インクジェットヘッドＩＪ１によって第１インク（即ち、非白色インク及び白色インクのいずれか一方）の付与を行い、
次いで必要に応じて第１乾燥ゾーンＤ１にて第１インクを乾燥させ、
次いで第２インクジェットヘッドＩＪ２によって第２インク（即ち、非白色インク及び白色インクの他方）の付与を行い、
次いで必要に応じて第２乾燥ゾーンＤ２にて第２インクを乾燥させる。
これにより、第１インク由来の第１画像（即ち、非白色画像及び白色画像のいずれか一方）と、第２インク由来の第２画像（即ち、非白色画像及び白色画像の他方）と、を含む多次色画像が得られる。
次いで必要に応じ、得られた多次色画像の冷却が行われ、最後に、巻き芯を含む巻き取り装置Ｒ２により、張力Ｐが印加された状態の多次色画像付きの非浸透性基材Ａ１が巻き取られる。
まず、ロール状に巻き取られている長尺フィルム形状の非浸透性基材Ａ１を、巻き出し装置Ｒ１によって巻き出し、
巻き出された非浸透性基材Ａ１を、張力が印加された状態でブロック矢印の方向に搬送し、
搬送される非浸透性基材Ａ１上に、前処理液付与装置Ｐ１によって前処理液の付与を行い、
次いで必要に応じて前処理液乾燥ゾーンＤＰ１にて前処理液を乾燥させ、
次いで第１インクジェットヘッドＩＪ１によって第１インク（即ち、非白色インク及び白色インクのいずれか一方）の付与を行い、
次いで必要に応じて第１乾燥ゾーンＤ１にて第１インクを乾燥させ、
次いで第２インクジェットヘッドＩＪ２によって第２インク（即ち、非白色インク及び白色インクの他方）の付与を行い、
次いで必要に応じて第２乾燥ゾーンＤ２にて第２インクを乾燥させる。
これにより、第１インク由来の第１画像（即ち、非白色画像及び白色画像のいずれか一方）と、第２インク由来の第２画像（即ち、非白色画像及び白色画像の他方）と、を含む多次色画像が得られる。
次いで必要に応じ、得られた多次色画像の冷却が行われ、最後に、巻き芯を含む巻き取り装置Ｒ２により、張力Ｐが印加された状態の多次色画像付きの非浸透性基材Ａ１が巻き取られる。
【0188】
一実施形態に係る画像記録装置は、必要に応じ、第２インクジェットヘッドＩＪ２の下流側であって第２乾燥ゾーンＤ２よりも上流側に、その他のインクジェットヘッド（例えば、第３インク用の第３インクジェットヘッド、第４インク用の第４インクジェットヘッド、及び、白色インク用のインクジェットヘッド等）を含んでいてもよい。
【実施例0189】
以下、本開示を実施例によりさらに具体的に説明するが、本開示はその主旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【0190】
〔実施例１～７、比較例１～５〕
＜準備工程（高分子分散剤Ｎの合成）＞
実施例１～６及び比較例１～３の高分子分散剤Ｎは、以下のようにして合成した。
ガス導入管、温度計、コンデンサー、及び攪拌機を備えた反応容器に、反応溶媒としてのトリプロピレングリコールモノメチルエーテル（製品名「ＭＦＴＧ」、日本乳化剤株式会社製）１５３．５質量部を仕込み、次いで反応容器内を窒素ガスで置換した。
次に、反応容器内を８５℃に加熱し、ここに、反応溶媒としてのＭＦＴＧ（７６．８質量部）、表１に示す種類及び質量比の原料モノマー（合計で１００質量部）、及び、重合開始剤としてのＶ－６０１（富士フイルム和光純薬株式会社製）（３．０質量部）の混合物を、３時間かけて滴下して重合反応を行い、滴下終了後、更に８５℃で３時間反応させることにより重合を完結させ、高分子分散剤Ｎを含む溶液を得た。
得られた高分子分散剤Ｎの重量平均分子量を表１に示す。
＜準備工程（高分子分散剤Ｎの合成）＞
実施例１～６及び比較例１～３の高分子分散剤Ｎは、以下のようにして合成した。
ガス導入管、温度計、コンデンサー、及び攪拌機を備えた反応容器に、反応溶媒としてのトリプロピレングリコールモノメチルエーテル（製品名「ＭＦＴＧ」、日本乳化剤株式会社製）１５３．５質量部を仕込み、次いで反応容器内を窒素ガスで置換した。
次に、反応容器内を８５℃に加熱し、ここに、反応溶媒としてのＭＦＴＧ（７６．８質量部）、表１に示す種類及び質量比の原料モノマー（合計で１００質量部）、及び、重合開始剤としてのＶ－６０１（富士フイルム和光純薬株式会社製）（３．０質量部）の混合物を、３時間かけて滴下して重合反応を行い、滴下終了後、更に８５℃で３時間反応させることにより重合を完結させ、高分子分散剤Ｎを含む溶液を得た。
得られた高分子分散剤Ｎの重量平均分子量を表１に示す。
【0191】
実施例７の高分子分散剤Ｎは、以下のようにして合成した。
［第一反応］
ガス導入管、温度計、コンデンサー、滴下ロート、および撹拌機を備えた反応容器に、モノマー混合物として、無水マレイン酸を６１質量部、α－オレフィンとしての１－ヘキサデセンを８７質量部、アリル化ポリエーテル１としての下記「ユニルーブＰＫＡ－５０１３」を６３質量部、さらにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を１００質量部、連鎖移動剤としてチオグリコール酸オクチルを０．５質量部仕込み、窒素置換した後、撹拌しながら１０５℃に加熱した。そこへ、ラジカル重合開始剤としてのアソビスイソ酪酸ジメチル（富士フイルム和光純薬社製、商品名：Ｖ－６０１）２．０質量部と、ＭＥＫ５質量部と、の混合物を、１時間かけて滴下した。その後、温度８５℃で攪拌しながら、Ｖ－６０１（５質量部）とＭＥＫ（１２質量部）との混合物を６時間かけて滴下し、温度８５℃に保ったまま１時間反応させ、酸無水物基として無水マレイン酸を有する重合体を得た。
［第二反応］
続いて、イソプロピルアルコールを３７質量部、触媒としてジアザビシクロウンデセンを０．１質量部添加し、温度を８５℃に保ったまま６時間撹拌して反応させ、無水マレイン酸を開環し、ハーフエステル化した。得られた生成物の溶剤を減圧留去し、ＭＦＴＧで分散剤固形分濃度が３５質量％となるように調整し、高分子分散剤Ｎを含む溶液を得た。
得られた高分子分散剤Ｎの重量平均分子量を表１に示す。
［第一反応］
ガス導入管、温度計、コンデンサー、滴下ロート、および撹拌機を備えた反応容器に、モノマー混合物として、無水マレイン酸を６１質量部、α－オレフィンとしての１－ヘキサデセンを８７質量部、アリル化ポリエーテル１としての下記「ユニルーブＰＫＡ－５０１３」を６３質量部、さらにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を１００質量部、連鎖移動剤としてチオグリコール酸オクチルを０．５質量部仕込み、窒素置換した後、撹拌しながら１０５℃に加熱した。そこへ、ラジカル重合開始剤としてのアソビスイソ酪酸ジメチル（富士フイルム和光純薬社製、商品名：Ｖ－６０１）２．０質量部と、ＭＥＫ５質量部と、の混合物を、１時間かけて滴下した。その後、温度８５℃で攪拌しながら、Ｖ－６０１（５質量部）とＭＥＫ（１２質量部）との混合物を６時間かけて滴下し、温度８５℃に保ったまま１時間反応させ、酸無水物基として無水マレイン酸を有する重合体を得た。
［第二反応］
続いて、イソプロピルアルコールを３７質量部、触媒としてジアザビシクロウンデセンを０．１質量部添加し、温度を８５℃に保ったまま６時間撹拌して反応させ、無水マレイン酸を開環し、ハーフエステル化した。得られた生成物の溶剤を減圧留去し、ＭＦＴＧで分散剤固形分濃度が３５質量％となるように調整し、高分子分散剤Ｎを含む溶液を得た。
得られた高分子分散剤Ｎの重量平均分子量を表１に示す。
【0192】
表１に示す原料モノマーの詳細は以下のとおりである。
・ＭＡＡ … メタクリル酸
・Ｃ１８ＭＡ … ステアリルメタクリレート
・ＩＢＯＭＡ … イソボルニルメタクリレート
・ＰＤＥＧＡ … フェノキシジエチレングリコールアクリレート
・ＭＭＡ … メチルメタクリレート
・アリル化ポリエーテル１ … 日油社製「ユニルーブ（登録商標）ＫＰＡ－５０１３」（ポリエチレングリコール－ポリプロピレングリコール－アリルエーテル ランダム重合体）
・α－オレフィン … １－ヘキサデセン（東京化成工業株式会社製）
・ＭＡＡ … メタクリル酸
・Ｃ１８ＭＡ … ステアリルメタクリレート
・ＩＢＯＭＡ … イソボルニルメタクリレート
・ＰＤＥＧＡ … フェノキシジエチレングリコールアクリレート
・ＭＭＡ … メチルメタクリレート
・アリル化ポリエーテル１ … 日油社製「ユニルーブ（登録商標）ＫＰＡ－５０１３」（ポリエチレングリコール－ポリプロピレングリコール－アリルエーテル ランダム重合体）
・α－オレフィン … １－ヘキサデセン（東京化成工業株式会社製）
【0193】
＜中和工程＞
上記で得られた高分子分散剤Ｎを含む溶液を、室温まで冷却した後、ここに、中和塩基の水溶液としてのＮａＯＨ水溶液を添加して、高分子分散剤Ｎ中のカルボキシ基の８０ｍｏｌ％を中和した。これにより、中和度ＮＤ１が８０％である高分子分散剤Ａ（即ち、高分子分散剤Ｎを中和して得られた高分子分散剤）を含む溶液を得た。
得られた溶液における固形分濃度を３０質量％に調整し、高分子分散剤ＡのＭＦＴＧ溶液（３０質量％固形分濃度）を得た。
なお、ＮａＯＨ水溶液は、表１の各実施例の中和度ＮＤ１に応じて添加した。
上記で得られた高分子分散剤Ｎを含む溶液を、室温まで冷却した後、ここに、中和塩基の水溶液としてのＮａＯＨ水溶液を添加して、高分子分散剤Ｎ中のカルボキシ基の８０ｍｏｌ％を中和した。これにより、中和度ＮＤ１が８０％である高分子分散剤Ａ（即ち、高分子分散剤Ｎを中和して得られた高分子分散剤）を含む溶液を得た。
得られた溶液における固形分濃度を３０質量％に調整し、高分子分散剤ＡのＭＦＴＧ溶液（３０質量％固形分濃度）を得た。
なお、ＮａＯＨ水溶液は、表１の各実施例の中和度ＮＤ１に応じて添加した。
【0194】
高分子分散剤Ａの酸価ＡＶ１（ｍｇＫＯＨ／ｇ）は表１に示すとおりである。
なお、酸価は、中和されていない酸基（－ＣＯＯＨ基）と中和された酸基（－ＣＯＯ－基）との合計量に関係するので、中和工程によって酸価は変わらない。従って、高分子分散剤Ａの酸価ＡＶ１（ｍｇＫＯＨ／ｇ）は、高分子分散剤Ｎの酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）と同じである。
なお、酸価は、中和されていない酸基（－ＣＯＯＨ基）と中和された酸基（－ＣＯＯ－基）との合計量に関係するので、中和工程によって酸価は変わらない。従って、高分子分散剤Ａの酸価ＡＶ１（ｍｇＫＯＨ／ｇ）は、高分子分散剤Ｎの酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）と同じである。
【0195】
＜分散工程＞
下記の組成の混合物を均一になるように予備分散した後、ビーズミル（アシザワファインテックス社製スターミル、ビーズ径：０．３ｍｍφ、ジルコニアビーズ）を用いて、３時間分散処理を行った。これにより、高分子分散剤Ａによってマゼンタ顔料が分散されている、未架橋分散物Ａを得た。
下記の組成の混合物を均一になるように予備分散した後、ビーズミル（アシザワファインテックス社製スターミル、ビーズ径：０．３ｍｍφ、ジルコニアビーズ）を用いて、３時間分散処理を行った。これにより、高分子分散剤Ａによってマゼンタ顔料が分散されている、未架橋分散物Ａを得た。
【0196】
－組成－
・ピグメントレッド１２２（以下、「ＰＲ－１２２」ともいう）（キナクリドン顔料であるマゼンタ顔料）
… １２０．質量部
・高分子分散剤ＡのＭＦＴＧ溶液（３０質量％固形分濃度）
… １２０．０質量部
・ＭＦＴＧ
… ６．０質量部
・水
… ２３０．０質量部
・ピグメントレッド１２２（以下、「ＰＲ－１２２」ともいう）（キナクリドン顔料であるマゼンタ顔料）
… １２０．質量部
・高分子分散剤ＡのＭＦＴＧ溶液（３０質量％固形分濃度）
… １２０．０質量部
・ＭＦＴＧ
… ６．０質量部
・水
… ２３０．０質量部
【0197】
＜酸添加工程＞
未架橋分散物Ａを、顔料濃度が１５質量％となるようにイオン交換水で希釈し、未架橋分散物Ａ希釈液を得た。
得られた未架橋分散物Ａ希釈液（５００質量部）を攪拌しながら、ここに、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（１９．４質量部）と超純水（２２５．２質量部）との混合物を、５分間かけて添加することにより、未架橋分散物Ａ希釈液中の高分子分散剤Ａの中和度を８０％から６０％に低下させ、次いで、６０分間マグネチックスターラーで攪拌した。これにより、中和度ＮＤ２が６０％である高分子分散剤Ｂ（即ち、高分子分散剤Ａの中和度を６０％に低下させて得られた高分子分散剤）によってマゼンタ顔料が分散されている未架橋分散物Ｂを得た。
未架橋分散物Ａを、顔料濃度が１５質量％となるようにイオン交換水で希釈し、未架橋分散物Ａ希釈液を得た。
得られた未架橋分散物Ａ希釈液（５００質量部）を攪拌しながら、ここに、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（１９．４質量部）と超純水（２２５．２質量部）との混合物を、５分間かけて添加することにより、未架橋分散物Ａ希釈液中の高分子分散剤Ａの中和度を８０％から６０％に低下させ、次いで、６０分間マグネチックスターラーで攪拌した。これにより、中和度ＮＤ２が６０％である高分子分散剤Ｂ（即ち、高分子分散剤Ａの中和度を６０％に低下させて得られた高分子分散剤）によってマゼンタ顔料が分散されている未架橋分散物Ｂを得た。
【0198】
＜架橋工程＞
次に、下記の組成の混合物を、７０℃で６時間反応させて、２５℃に冷却することで、未架橋分散物Ｂにおける高分子分散剤Ｂを架橋剤によって架橋し、高分子分散剤Ｃ（即ち、高分子分散剤Ｂを架橋させて得られた高分子分散剤）とマゼンタ顔料とを含む架橋分散物（即ち、顔料分散物）を得た。
－組成－
・未架橋分散物Ｂ
… ７４４．６質量部
・「Ｄｅｎａｃｏｌ ＥＸ－３２１」（ナガセケムテックス社製）（トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル；架橋剤）
… ５．４質量部
次に、下記の組成の混合物を、７０℃で６時間反応させて、２５℃に冷却することで、未架橋分散物Ｂにおける高分子分散剤Ｂを架橋剤によって架橋し、高分子分散剤Ｃ（即ち、高分子分散剤Ｂを架橋させて得られた高分子分散剤）とマゼンタ顔料とを含む架橋分散物（即ち、顔料分散物）を得た。
－組成－
・未架橋分散物Ｂ
… ７４４．６質量部
・「Ｄｅｎａｃｏｌ ＥＸ－３２１」（ナガセケムテックス社製）（トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル；架橋剤）
… ５．４質量部
【0199】
高分子分散剤Ｃの酸価ＡＶ２（ｍｇＫＯＨ／ｇ）は表１に示すとおりである。
架橋工程では、高分子分散剤中の中和されていない酸基（－ＣＯＯＨ基）及び中和された酸基（－ＣＯＯ－基）の少なくとも一方と、架橋剤の持つエポキシ基（詳細にはグリシジル基の構造中のエポキシ基）と、の反応により、高分子化合物に架橋構造が形成される。
このようにして、架橋工程では、中和されていない酸基及び中和された酸基の少なくとも一方が、架橋の形成のために消費されるので、高分子分散剤の酸価は、架橋工程によって低下する。
従って、高分子分散剤Ｃの酸価ＡＶ２（ｍｇＫＯＨ／ｇ）は、原理的に、高分子分散剤Ａの酸価ＡＶ１（ｍｇＫＯＨ／ｇ）よりも低い値となる。
架橋工程では、高分子分散剤中の中和されていない酸基（－ＣＯＯＨ基）及び中和された酸基（－ＣＯＯ－基）の少なくとも一方と、架橋剤の持つエポキシ基（詳細にはグリシジル基の構造中のエポキシ基）と、の反応により、高分子化合物に架橋構造が形成される。
このようにして、架橋工程では、中和されていない酸基及び中和された酸基の少なくとも一方が、架橋の形成のために消費されるので、高分子分散剤の酸価は、架橋工程によって低下する。
従って、高分子分散剤Ｃの酸価ＡＶ２（ｍｇＫＯＨ／ｇ）は、原理的に、高分子分散剤Ａの酸価ＡＶ１（ｍｇＫＯＨ／ｇ）よりも低い値となる。
【0200】
＜顔料分散物の遠心処理及びろ過＞
上記で得られた架橋分散物（即ち、顔料分散物）を、遠心分離機で７０００Ｇ、２０分間遠心処理し、粗大粒子を除去した。
次に、遠心処理を施した架橋分散物を、ロキ社製ＬＡＢＯ－ＰＵＲＥフィルター（０．５μｍ）でろ過し、粗大粒子を更に除去した。
次に、ろ過後の架橋分散物を、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳＵ）膜（微細孔のサイズ：０．１μｍ）を備えた限外ろ過装置（クロスフロー型ウルトラフィルター（ＵＦ）、ザルトリウス社製）に、１分間に６００ｍＬの流量で流して、限外ろ過を行った。このとき、液温が２５℃となるように調整し、仕込んだ液の体積倍率の１倍を１回として１０回限外ろ過を行った。
その後、マゼンタ顔料の濃度が１５質量％となるようにイオン交換水を添加し、以下のインクの調製に用いる顔料分散物１（マゼンタ顔料濃度１５質量％）を得た。
上記で得られた架橋分散物（即ち、顔料分散物）を、遠心分離機で７０００Ｇ、２０分間遠心処理し、粗大粒子を除去した。
次に、遠心処理を施した架橋分散物を、ロキ社製ＬＡＢＯ－ＰＵＲＥフィルター（０．５μｍ）でろ過し、粗大粒子を更に除去した。
次に、ろ過後の架橋分散物を、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳＵ）膜（微細孔のサイズ：０．１μｍ）を備えた限外ろ過装置（クロスフロー型ウルトラフィルター（ＵＦ）、ザルトリウス社製）に、１分間に６００ｍＬの流量で流して、限外ろ過を行った。このとき、液温が２５℃となるように調整し、仕込んだ液の体積倍率の１倍を１回として１０回限外ろ過を行った。
その後、マゼンタ顔料の濃度が１５質量％となるようにイオン交換水を添加し、以下のインクの調製に用いる顔料分散物１（マゼンタ顔料濃度１５質量％）を得た。
【0201】
＜第１インクの調製＞
下記組成の混合物を、６０分間マグネチックスターラーで攪拌し、ロキ社製ＬＡＢＯ－ＰＵＲＥフィルター（０．５μｍ）でろ過し、第１インクとして、マゼンタインクを得た。
下記組成の混合物を、６０分間マグネチックスターラーで攪拌し、ロキ社製ＬＡＢＯ－ＰＵＲＥフィルター（０．５μｍ）でろ過し、第１インクとして、マゼンタインクを得た。
【0202】
－第１インクの組成－
・顔料分散物１
… マゼンタ顔料の含有量として５．５質量％
・プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧｍＭＥ）〔水溶性有機溶剤〕
…３質量％
・プロピレングリコール（ＰＧ）〔水溶性有機溶剤〕
…２０質量％
・Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ－１１０５（アクリル樹脂粒子分散液）（ＤＳＭ社製）
… 樹脂粒子の含有量として３．４質量％
・オルフィンＥ１０１０（日信化学工業社製のアセチレングリコール系界面活性剤）
… １．０質量％
・ＢＹＫ３４５０（ＢＹＫ社製のシリコン系界面活性剤）
… １．０質量％
・ＰＶＰＫ１５（ポリビニルピロリドンＫ１５）
… ０．１５質量％
・ＳＴ－ＸＳ（コロイダルシリカ分散液）（日産化学株式会社製）
… コロイダルシリカ粒子の含有量として０．０５質量％
・水
… インク全体で１００質量％となる残量
・顔料分散物１
… マゼンタ顔料の含有量として５．５質量％
・プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧｍＭＥ）〔水溶性有機溶剤〕
…３質量％
・プロピレングリコール（ＰＧ）〔水溶性有機溶剤〕
…２０質量％
・Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ－１１０５（アクリル樹脂粒子分散液）（ＤＳＭ社製）
… 樹脂粒子の含有量として３．４質量％
・オルフィンＥ１０１０（日信化学工業社製のアセチレングリコール系界面活性剤）
… １．０質量％
・ＢＹＫ３４５０（ＢＹＫ社製のシリコン系界面活性剤）
… １．０質量％
・ＰＶＰＫ１５（ポリビニルピロリドンＫ１５）
… ０．１５質量％
・ＳＴ－ＸＳ（コロイダルシリカ分散液）（日産化学株式会社製）
… コロイダルシリカ粒子の含有量として０．０５質量％
・水
… インク全体で１００質量％となる残量
【0203】
＜第２インクの調製＞
顔料の種類をシアン顔料（ピグメントブルー１５：３）に変更したこと以外は第１インクの調製と同様にして、第２インクを調製した。
顔料の種類をシアン顔料（ピグメントブルー１５：３）に変更したこと以外は第１インクの調製と同様にして、第２インクを調製した。
【0204】
＜前処理液の調製＞
以下に示す成分を混合し、下記組成の前処理液を調製した。
以下に示す成分を混合し、下記組成の前処理液を調製した。
【0205】
－前処理液の組成－
・酢酸カルシウム〔凝集剤〕
…０．２質量％
・ギ酸カルシウム〔凝集剤〕
…１．７質量％
・乳酸カルシウム〔凝集剤〕
…２．２質量％
・プロピレングリコール〔溶剤〕
…２．０質量％
・オルフィンＥ１０１０（日信化学社製）〔界面活性剤〕
…０．５質量％
・スーパーフレックス５００Ｍ（第１工業製薬）〔ウレタン樹脂粒子の水分散物〕
…９．３質量％
・超純水
…前処理液全体で１００質量％となる残量
・酢酸カルシウム〔凝集剤〕
…０．２質量％
・ギ酸カルシウム〔凝集剤〕
…１．７質量％
・乳酸カルシウム〔凝集剤〕
…２．２質量％
・プロピレングリコール〔溶剤〕
…２．０質量％
・オルフィンＥ１０１０（日信化学社製）〔界面活性剤〕
…０．５質量％
・スーパーフレックス５００Ｍ（第１工業製薬）〔ウレタン樹脂粒子の水分散物〕
…９．３質量％
・超純水
…前処理液全体で１００質量％となる残量
【0206】
＜画像記録装置の準備＞
評価に用いる画像記録装置として、図１に示す画像記録装置を準備した。
前処理液付与装置Ｐ１としては、グラビアコーターを用いた。
前処理液乾燥ゾーンＤＰ１における乾燥方法は、温風乾燥とした。
第１インクジェットヘッドＩＪ１として、第１インクを吐出するためのインクジェットヘッドを配置し、第２インクジェットヘッドＩＪ２として、第２インクを吐出するためのインクジェットヘッドを配置した。
第１乾燥ゾーンＤ１は素通りさせた。
第２乾燥ゾーンＤ２における乾燥方法は、温風乾燥とした。
第２乾燥ゾーンＤ２と巻き取り装置Ｒ２との間には、空冷ゾーン（不図示）を設けた。
第１インクジェットヘッドＩＪ１及び第２インクジェットヘッドＩＪ２としては、いずれも、１２００ｄｐｉ（ｄｏｔ ｐｅｒ ｉｎｃｈ、１ｉｎｃｈは２．５４ｃｍ）／２０ｉｎｃｈ幅ピエゾフルラインヘッド（全ノズル数２０４８）を用いた。
第１インクジェットヘッドＩＪ１及び第２インクジェットヘッドＩＪ２の駆動周波数は、いずれも３０ｋＨｚとした。
評価に用いる画像記録装置として、図１に示す画像記録装置を準備した。
前処理液付与装置Ｐ１としては、グラビアコーターを用いた。
前処理液乾燥ゾーンＤＰ１における乾燥方法は、温風乾燥とした。
第１インクジェットヘッドＩＪ１として、第１インクを吐出するためのインクジェットヘッドを配置し、第２インクジェットヘッドＩＪ２として、第２インクを吐出するためのインクジェットヘッドを配置した。
第１乾燥ゾーンＤ１は素通りさせた。
第２乾燥ゾーンＤ２における乾燥方法は、温風乾燥とした。
第２乾燥ゾーンＤ２と巻き取り装置Ｒ２との間には、空冷ゾーン（不図示）を設けた。
第１インクジェットヘッドＩＪ１及び第２インクジェットヘッドＩＪ２としては、いずれも、１２００ｄｐｉ（ｄｏｔ ｐｅｒ ｉｎｃｈ、１ｉｎｃｈは２．５４ｃｍ）／２０ｉｎｃｈ幅ピエゾフルラインヘッド（全ノズル数２０４８）を用いた。
第１インクジェットヘッドＩＪ１及び第２インクジェットヘッドＩＪ２の駆動周波数は、いずれも３０ｋＨｚとした。
【0207】
＜画像記録＞
上記画像記録装置を用いて、画像記録を行った。
画像記録装置に、上記前処理液、第１インク、及び第２インクを搭載した。
非浸透性基材として、ＯＰＰフィルム（製品名「パイレンフィルム－ＯＴ」、東洋紡社製、厚さ２５μｍ）を用いた。
まず、非浸透性基材を、巻き出し装置Ｒ１によって巻き出し、巻き出された非浸透性基材を、張力が印加された状態で搬送した。搬送されている非浸透性基材に、前処理液付与装置Ｐ１としてのグラビアコーターによって前処理液の付与を行った。
次いで前処理液乾燥ゾーンＤＰ１にて前処理液を乾燥させた。
次いで、非浸透性基材の前処理液が付与された領域上に、第１インクジェットヘッドＩＪ１によって第１インクをベタ画像状に付与し、次いで第１乾燥ゾーンＤ１を素通りさせた。
次いで、非浸透性基材の前処理液及び第１インクが付与された領域上に、第２インクジェットヘッドＩＪ２によって第２インクをベタ画像状に付与した。
次いで第２乾燥ゾーンＤ２にて、第２インクを乾燥させた。
以上の操作により、長さ１００ｍの非浸透性基材上に、第１インク由来のベタ画像上に第２インク由来のベタ画像が重なった構造を有する多次色画像（ベタ画像）を記録し、画像記録物を得た。
次に、得られた画像記録物を空冷した後、巻き芯を含む巻き取り装置Ｒ２によって巻き取り、画像記録物のロールを得た。
前処理液の付与量は、１．７ｇ／ｍ２とした。
前処理液の乾燥条件は、４０℃、３秒とした。
第２インクの乾燥条件は、７０℃、２０秒とした。
上記画像記録装置を用いて、画像記録を行った。
画像記録装置に、上記前処理液、第１インク、及び第２インクを搭載した。
非浸透性基材として、ＯＰＰフィルム（製品名「パイレンフィルム－ＯＴ」、東洋紡社製、厚さ２５μｍ）を用いた。
まず、非浸透性基材を、巻き出し装置Ｒ１によって巻き出し、巻き出された非浸透性基材を、張力が印加された状態で搬送した。搬送されている非浸透性基材に、前処理液付与装置Ｐ１としてのグラビアコーターによって前処理液の付与を行った。
次いで前処理液乾燥ゾーンＤＰ１にて前処理液を乾燥させた。
次いで、非浸透性基材の前処理液が付与された領域上に、第１インクジェットヘッドＩＪ１によって第１インクをベタ画像状に付与し、次いで第１乾燥ゾーンＤ１を素通りさせた。
次いで、非浸透性基材の前処理液及び第１インクが付与された領域上に、第２インクジェットヘッドＩＪ２によって第２インクをベタ画像状に付与した。
次いで第２乾燥ゾーンＤ２にて、第２インクを乾燥させた。
以上の操作により、長さ１００ｍの非浸透性基材上に、第１インク由来のベタ画像上に第２インク由来のベタ画像が重なった構造を有する多次色画像（ベタ画像）を記録し、画像記録物を得た。
次に、得られた画像記録物を空冷した後、巻き芯を含む巻き取り装置Ｒ２によって巻き取り、画像記録物のロールを得た。
前処理液の付与量は、１．７ｇ／ｍ２とした。
前処理液の乾燥条件は、４０℃、３秒とした。
第２インクの乾燥条件は、７０℃、２０秒とした。
【0208】
＜評価＞
上記で得られた第１インク及び第２インクについて、以下の評価を行った。
結果を表１に示す。
上記で得られた第１インク及び第２インクについて、以下の評価を行った。
結果を表１に示す。
【0209】
（経時後のインクの吐出安定性）
第１インク及び第２インクとして、それぞれ、インク調製後、８０℃で１日加熱したインクを用い、上記画像記録により、画像記録物のロールを得た。
得られた画像記録物のロールを巻きほぐし、１００ｍ地点での画像１ヘッド分を目視で観察し、画像記録物のベタ画像において、非浸透性基材の搬送方向に沿って発生したスジの数を確認した。
確認した結果に基づき、下記評価基準により、経時後のインクの吐出安定性を評価した。
以下の評価基準において、経時後のインクの吐出安定性に最も優れるランクはＡである。
第１インク及び第２インクとして、それぞれ、インク調製後、８０℃で１日加熱したインクを用い、上記画像記録により、画像記録物のロールを得た。
得られた画像記録物のロールを巻きほぐし、１００ｍ地点での画像１ヘッド分を目視で観察し、画像記録物のベタ画像において、非浸透性基材の搬送方向に沿って発生したスジの数を確認した。
確認した結果に基づき、下記評価基準により、経時後のインクの吐出安定性を評価した。
以下の評価基準において、経時後のインクの吐出安定性に最も優れるランクはＡである。
【0210】
－－経時後のインクの吐出安定性の評価基準－－
Ａ：スジが、０本以上１０本未満である。
Ｂ：スジが、１０本以上２０本未満である。
Ｃ：スジが、２０本以上３０本未満である。
Ｄ：スジが、３０本以上である。
Ａ：スジが、０本以上１０本未満である。
Ｂ：スジが、１０本以上２０本未満である。
Ｃ：スジが、２０本以上３０本未満である。
Ｄ：スジが、３０本以上である。
【0211】
－多次色滲みの評価－
第２インクを文字画像状に吐出したこと以外は上記画像記録と同様の条件にて、第１インクによるベタ画像上に第２インクによる文字画像が記録された構造の多次色画像を記録した。第２インクによる文字画像は、図２に示す文字画像とした。この文字画像を、６ｐｔ、８ｐｔ、１０ｐｔ、及び１２ｐｔのサイズにて記録した。
得られた多次色画像中の文字画像を目視で観察し、下記評価基準により、画像の滲みを評価した。
第２インクを文字画像状に吐出したこと以外は上記画像記録と同様の条件にて、第１インクによるベタ画像上に第２インクによる文字画像が記録された構造の多次色画像を記録した。第２インクによる文字画像は、図２に示す文字画像とした。この文字画像を、６ｐｔ、８ｐｔ、１０ｐｔ、及び１２ｐｔのサイズにて記録した。
得られた多次色画像中の文字画像を目視で観察し、下記評価基準により、画像の滲みを評価した。
【0212】
－－多次色滲みの評価基準－－
Ａ：６ｐｔ、８ｐｔ、１０ｐｔ、及び１２ｐｔの全サイズにおいて、文字画像の潰れが無い。
Ｂ：８ｐｔ、１０ｐｔ、及び１２ｐｔのサイズにおいて文字画像の潰れが無いが、６ｐｔサイズにおいて潰れが見られた。
Ｃ：１０ｐｔ及び１２ｐｔのサイズにおいて文字画像の潰れが無いが、６ｐｔ及び８ｐｔのサイズにおいて潰れが見られた。
Ｄ：１２ｐｔのサイズにおいて文字画像の潰れが無いが、６ｐｔ、８ｐｔ、及び１０ｐｔのサイズにおいて潰れが見られた。または、６ｐｔ、８ｐｔ、１０ｐｔ、及び１２ｐｔの全サイズにおいて、文字画像の潰れ見られた
Ａ：６ｐｔ、８ｐｔ、１０ｐｔ、及び１２ｐｔの全サイズにおいて、文字画像の潰れが無い。
Ｂ：８ｐｔ、１０ｐｔ、及び１２ｐｔのサイズにおいて文字画像の潰れが無いが、６ｐｔサイズにおいて潰れが見られた。
Ｃ：１０ｐｔ及び１２ｐｔのサイズにおいて文字画像の潰れが無いが、６ｐｔ及び８ｐｔのサイズにおいて潰れが見られた。
Ｄ：１２ｐｔのサイズにおいて文字画像の潰れが無いが、６ｐｔ、８ｐｔ、及び１０ｐｔのサイズにおいて潰れが見られた。または、６ｐｔ、８ｐｔ、１０ｐｔ、及び１２ｐｔの全サイズにおいて、文字画像の潰れ見られた
【0213】
【表1】
【0214】
表１に示すように、本開示の顔料分散物の製造方法、インクの製造方法、及び画像記録方法に該当する各実施例では、各比較例と比較して、インクの経時後の吐出安定性に優れ、かつ、多次色画像において滲み（即ち、多次色滲み）が抑制されていた。
ここで、各実施例は、中和度ＮＤ１が１００％未満であり、かつ、酸価がＡＶ１である高分子分散剤Ａを用いて顔料を分散させ、次いで、酸の添加により未架橋分散物中の高分子分散剤Ａの中和度を低下させ、中和度ＮＤ２である高分子分散剤Ｂを得、次いで、未架橋分散物における高分子分散剤Ｂを架橋させて酸価がＡＶ２である高分子分散剤Ｃを得ることにより、顔料分散物を製造した例であり、以下の不等式（１）及び（２）を満足する。
０．６０≦値（１）≦２．００ … 不等式（１）
０．３０≦値（２）≦５．００ … 不等式（２）
高分子分散剤Ａは、高分子分散剤Ｎに含まれる酸基の一部を中和させて得られた高分子分散剤である。
高分子分散剤Ｎは、炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び炭素数１０以上のアルキル基を含むα－オレフィンからなる群から選択される少なくとも１種に由来する構造単位Ｌと、酸基を含む構造単位Ａと、を含み、構造単位Ｌの占める割合が２０質量％以上である高分子分散剤である。
ここで、各実施例は、中和度ＮＤ１が１００％未満であり、かつ、酸価がＡＶ１である高分子分散剤Ａを用いて顔料を分散させ、次いで、酸の添加により未架橋分散物中の高分子分散剤Ａの中和度を低下させ、中和度ＮＤ２である高分子分散剤Ｂを得、次いで、未架橋分散物における高分子分散剤Ｂを架橋させて酸価がＡＶ２である高分子分散剤Ｃを得ることにより、顔料分散物を製造した例であり、以下の不等式（１）及び（２）を満足する。
０．６０≦値（１）≦２．００ … 不等式（１）
０．３０≦値（２）≦５．００ … 不等式（２）
高分子分散剤Ａは、高分子分散剤Ｎに含まれる酸基の一部を中和させて得られた高分子分散剤である。
高分子分散剤Ｎは、炭素数１０以上のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び炭素数１０以上のアルキル基を含むα－オレフィンからなる群から選択される少なくとも１種に由来する構造単位Ｌと、酸基を含む構造単位Ａと、を含み、構造単位Ｌの占める割合が２０質量％以上である高分子分散剤である。
【0215】
これに対し、比較例１は、不等式（１）における「０．６０≦値（１）」を満足しない例である。
比較例２及び３の各々は、値（２）が０の例、即ち、高分子分散剤Ｎに含まれる酸基の全部を中和させて中和度ＮＤ１を１００％とした得た例である。
このうち、比較例３では、中和度を下げるための酸の添加を行わなかった例である（中和度ＮＤ１＝中和度ＮＤ２＝１００％）。
比較例２では、不等式（２）における「０．３０≦値（２）」を満足しない。
比較例３では、不等式（１）における「０．６０≦値（１）」を満足しない。不等式（２）については、値（２）が「０／０」となるため、不等式（２）を満足するともしないともいえない。
比較例４は、不等式（１）における「値（１）≦２．００」を満足しない例である。
比較例５は、高分子分散剤Ｎに占める構成単位Ｌが２０質量％未満である例である。
比較例２及び３の各々は、値（２）が０の例、即ち、高分子分散剤Ｎに含まれる酸基の全部を中和させて中和度ＮＤ１を１００％とした得た例である。
このうち、比較例３では、中和度を下げるための酸の添加を行わなかった例である（中和度ＮＤ１＝中和度ＮＤ２＝１００％）。
比較例２では、不等式（２）における「０．３０≦値（２）」を満足しない。
比較例３では、不等式（１）における「０．６０≦値（１）」を満足しない。不等式（２）については、値（２）が「０／０」となるため、不等式（２）を満足するともしないともいえない。
比較例４は、不等式（１）における「値（１）≦２．００」を満足しない例である。
比較例５は、高分子分散剤Ｎに占める構成単位Ｌが２０質量％未満である例である。
【図1】
【図2】
