特開 2025-28672 ロータリーキルンの操業方法、熱処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025028672

(43)【公開日】2025-03-03

(54)【発明の名称】ロータリーキルンの操業方法、熱処理装置

(51)【国際特許分類】

   F27B 7/34 20060101AFI20250221BHJP

   F27B 7/32 20060101ALI20250221BHJP

   C22B 23/00 20060101ALI20250221BHJP

   C22B 1/02 20060101ALI20250221BHJP

【ＦＩ】

F27B7/34

F27B7/32

C22B23/00 101

C22B1/02

【審査請求】未請求

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023133624

(22)【出願日】2023-08-18

(71)【出願人】

【識別番号】000183303

【氏名又は名称】住友金属鉱山株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100107766

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠重

(74)【代理人】

【識別番号】100070150

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠彦

(72)【発明者】

【氏名】内藤 大志

【テーマコード（参考）】

4K001

4K061

【Ｆターム（参考）】

4K001AA19

4K001BA02

4K001CA16

4K001GA07

4K061AA08

4K061BA04

4K061DA01

4K061DA05

(57)【要約】

【課題】ロータリーキルン内の炉壁表面に形成された固着物について、操業を止めることなく除去できるロータリーキルンの操業方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ロータリーキルン内の炉壁表面に形成された固着物に対してマイクロ波を照射して加熱する加熱工程を有するロータリーキルンの操業方法。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ロータリーキルン内の炉壁表面に形成された固着物に対してマイクロ波を照射して加熱する加熱工程を有するロータリーキルンの操業方法。

【請求項2】

前記加熱工程では、マイクロ波の照射領域が、前記ロータリーキルン内の上方に位置する前記固着物の前記ロータリーキルンと接する部分を含むように、マイクロ波を照射する請求項１に記載のロータリーキルンの操業方法。

【請求項3】

前記ロータリーキルンの長手方向の両端部間にスクープフィーダを有しており、前記スクープフィーダを介して前記ロータリーキルン内の原料に添加材を投入する添加材投入工程をさらに有する請求項１または請求項２に記載のロータリーキルンの操業方法。

【請求項4】

前記ロータリーキルンに供給する原料がニッケル酸化鉱である請求項１または請求項２に記載のロータリーキルンの操業方法。

【請求項5】

ロータリーキルンと、
前記ロータリーキルン内の炉壁表面に形成された固着物に対してマイクロ波を照射するマイクロ波照射装置と、を有する熱処理装置。

【請求項6】

前記マイクロ波照射装置は、マイクロ波を発振する発振機と、前記発振機で発振したマイクロ波を前記ロータリーキルン内に導波する導波路と、前記導波路の前記ロータリーキルン内に配置された端部の位置を変更する位置変更装置と、を有する請求項５に記載の熱処理装置。

【請求項7】

前記マイクロ波照射装置は、前記ロータリーキルンの外周に沿って配置された架線と、前記架線と接することで前記架線を介して電力を取得する集電装置と、を有する請求項５または請求項６に記載の熱処理装置。

【請求項8】

前記ロータリーキルンの長手方向の両端部間に配置されたスクープフィーダを有する請求項５または請求項６に記載の熱処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ロータリーキルンの操業方法、熱処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、フェロニッケル製錬において、原料のニッケル酸化鉱を乾燥するとともに部分還元を行うロータリーキルンの操業方法であって、前記ロータリーキルンの途中にスクープフィーダを設け、該スクープフィーダを介して、水分が２～５重量％の石炭を該ロータリーキルン内に投入することを特徴とするロータリーキルンの操業方法が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１４－１４１７１９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

ロータリーキルンは略円筒形状を有しており、通常、一方の端部側から原料である被処理物を投入し、他方の端部側からバーナー等の加熱手段で加熱される。ロータリーキルンは他方の端部側が低くなるように配置され、中心軸を軸として回転することで、投入された被処理物は他方の端部側へと徐々に移動しながら加熱される。そして、他方の端部側に設けられた排出口から、熱処理を終え、得られた生成物が排出されることになる。

【0005】

ところで、ロータリーキルンを操業していると、供給された原料等が、他方の端部側に設けられた加熱手段近くの高温部で一部溶融し、炉壁に付着して盛り上がり、リングとも呼ばれる固着物を形成する場合がある。上記固着物は、例えばロータリーキルン内の炉壁表面に環状に形成されるが、固着物が成長するとロータリーキルンが閉塞状態に近づく場合もある。ロータリーキルンが固着物により閉塞状態に近づくと、原料の移動が阻害されることになるので、操業を続けることができなくなる。

【0006】

炉壁に付着した固着物の除去には、該固着物を棒等でつついたり、ロータリーキルン全体に衝撃を与えたりして物理的に落としたり、加熱手段を止めた後に小型バーナーを炉内に持ち込んで、固着物を溶かすなどの作業が必要であった。

【0007】

そこで上記従来技術が有する問題に鑑み、本発明の一側面では、ロータリーキルン内の炉壁表面に形成された固着物について、操業を止めることなく除去できるロータリーキルンの操業方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記課題を解決するため本発明の一態様によれば、
ロータリーキルン内の炉壁表面に形成された固着物に対してマイクロ波を照射して加熱する加熱工程を有するロータリーキルンの操業方法を提供する。

【発明の効果】

【0009】

本発明の一態様によれば、ロータリーキルン内の炉壁表面に形成された固着物について、操業を止めることなく除去できるロータリーキルンの操業方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】図１は、本発明の実施形態に係る熱処理装置の模式図である。

【図2】図２は、図１のＡ－Ａ´線での断面図である。

【図3】図３は、図２のＢ－Ｂ´線での断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、本発明を実施するための形態について図面を用いながら説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。
［ロータリーキルンの操業方法］
本実施形態のロータリーキルンの操業方法は、ロータリーキルン内の炉壁表面に形成された固着物に対してマイクロ波を照射して加熱する加熱工程を有することができる。

【0012】

本実施形態のロータリーキルンの操業方法によれば、ロータリーキルン内の炉壁表面にリング等とも呼ばれる固着物が形成された場合でも、マイクロ波により該固着物を選択的に加熱できる。このため、ロータリーキルンの操業を止めることなく、該固着物を炉壁から剥離し、除去できる。

【0013】

本実施形態のロータリーキルンの操業方法を好適に適用できる熱処理装置の構成を説明した後、本実施形態のロータリーキルンの操業方法について説明する。
（１）熱処理装置
本実施形態のロータリーキルンの操業方法を好適に実施できるロータリーキルンを含む熱処理装置の構成例について、図１～図３を用いて説明する。図１は熱処理装置１０の斜視図であり、図２は図１のＡ－Ａ´線での断面図であり、図３は図２のＢ－Ｂ´線での断面図である。いずれも装置の構成を説明するための模式図であり、サイズ等を正確に示すものではない。また、図２、図３では後述する架線１０５３の記載を省略している。
（１－１）ロータリーキルンについて
図１に示した熱処理装置１０は、ロータリーキルン１００を有している。ロータリーキルン１００の炉体となる胴体部１０１は、略円筒形状を有しており、該胴体部１０１は、図中のＸ軸と平行な中心軸ＣＡを回転軸として回転可能に構成されている。ロータリーキルン１００は、長手方向の一方の端部である導入端１０２から、長手方向の他方の端部である排出端１０３に向かって下方に傾斜して設けられている。このため、導入端１０２側から導入した原料である被処理物は、回転する胴体部１０１の内部を排出端１０３側へと移動する。すなわち、図１中のＸ軸方向が原料の搬送方向になる。後述するように、排出端１０３側にはバーナー１０４が設けられており、バーナー１０４で焚かれた化石燃料の燃焼熱が、原料である被処理物の移動方向とは逆に、すなわち排出端１０３の側から導入端１０２の側へと移動することで、被処理物を向流加熱する。

【0014】

ロータリーキルン１００は、長手方向の一方の端部である導入端１０２に、投入口１０２１を有しており、該投入口１０２１から胴体部１０１の内部に原料である被処理物を投入できる。

【0015】

ロータリーキルン１００の長手方向の他方の端部である排出端１０３には、排出口１０３１である排出用のシュートが設けられており、胴体部１０１の内部で熱処理を終えた被処理物を排出できるように構成できる。熱処理を終えた被処理物は必要に応じて他の処理を行う電気炉等の装置へと搬送できる。また、排出端１０３には、バーナー１０４が設けられており、重油等の化石燃料を燃焼させ、ロータリーキルン１００の胴体部１０１の内部に投入した被処理物等を加熱できる。
（１－２）マイクロ波照射装置について
マイクロ波照射装置１０５は、原料等の固着物３１が形成された場合に、該固着物３１に対してマイクロ波を照射できるように構成できる。

【0016】

図３に示すように、マイクロ波照射装置１０５は、マイクロ波を発振する発振機１０５１と、発振機１０５１で発振したマイクロ波をロータリーキルン内に導波する導波路２３とを有することができる。

【0017】

発振機１０５１は、マイクロ波を発振できる装置であればよく、例えばジャイロトロンや、マグネトロン、クライストロン、進行波管等を用いることができる。本明細書において、マイクロ波とは周波数が３００ＭＨｚ以上３０ＧＨｚ以下の電磁波を意味するが、発振機１０５１が発振するマイクロ波の周波数は、電波法等の法規に沿って、加熱に用いることができ、かつ用いる原料や、添加材等に応じて選択した周波数とすることができる。発振機１０５１の出力は特に限定されず、原料や添加材の種類や、加熱する温度等に応じて選択でき、例えば１ｋＷ以上の出力であることが好ましい。

【0018】

発振機１０５１は、図１等に示すようにロータリーキルン１００の胴体部１０１の回転を阻害しないように設けることが好ましく、例えば図１に示すように胴体部１０１の外表面に設けることができる。なお、発振機１０５１や、導波路２３については、ロータリーキルン１００の熱により破損しないようにその表面に断熱材等を設けておくことが好ましい。

【0019】

図３に示すように、導波路２３は、一方の端部が発振機１０５１と接続され、他方の端部２３Ａは、ロータリーキルン１００内に配置される。導波路２３は、マイクロ波を導波できればよく、その構成は特に限定されないが、例えば管状の導波管や、電線とすることができる。導波路が導波管の場合、導波管内部に原料や添加材が入らないように、ロータリーキルン１００内に配置された端部２３Ａには、マイクロ波透過板を配置することが好ましい。マイクロ波透過板の材料は特に限定されないが、例えば石英、アルミナ、ジルコニア、マグネシア、炭化ケイ素等から選択された１種類以上を用いることができる。

【0020】

そして、導波路２３のロータリーキルン１００内に配置された端部２３Ａからは、該導波路２３を通過したマイクロ波を照射できる。このため、導波路２３のロータリーキルン１００内に配置された端部２３Ａは、ロータリーキルン１００内に形成された固着物に対して、マイクロ波を照射できる位置に配置されることが好ましい。

【0021】

導波路２３からマイクロ波を照射する方向は、ロータリーキルン１００内に形成された固着物の少なくとも一部に照射できるように選択されていればよく、限定されない。

【0022】

固着物は、主にロータリーキルン１００の加熱手段であるバーナー１０４近くの高温部で原料等の一部が溶融し、炉壁に付着（固着）することで形成される。このため、導波路２３の端部２３Ａは、例えば図３に示すように排出端１０３側へ向けておくことができる。

【0023】

ただし、固着物が発生する位置は常に一定であるとは限らず、ロータリーキルン１００の運転条件等により変化する場合がある。そこで、マイクロ波照射装置１０５は、ロータリーキルン１００内に配置された導波路２３の端部２３Ａの位置を変更する位置変更装置２４を有することが好ましい。マイクロ波照射装置１０５が位置変更装置２４を有することで、より適切に固着物を加熱し、除去できる。

【0024】

位置変更装置２４の構成は特に限定されない。位置変更装置としては、例えば、ロータリージョイントなどを用いることが出来る。また、位置変更装置２４は、例えばロータリーキルン１００の胴体部１０１の外表面から端部２３Ａを支持する棒状体を有し、該棒状体の位置を変化させることで端部２３Ａの位置を変化させるように構成してもよい。この場合、導波路２３は変形可能に構成されていることが好ましく、導波路２３として、例えば蛇腹構造を有する導波管や、電線を用いることができる。

【0025】

なお、ロータリーキルン１００内に形成された固着物の位置は、例えばロータリーキルン１００内に配置されたカメラ等の撮像装置により観察して検知できる。また、固着物の位置は、ロータリーキルン１００の外壁に設置した熱電対や放射温度計等の温度測定装置により測定した温度や温度分布から検知することもできる。

【0026】

ロータリーキルン１００の内壁に固着物３１が形成されると、ロータリーキルン１００の外壁において、該固着物３１部分について温度分布が変化する。このため、上述のようにロータリーキルン１００の外壁の温度や、温度分布を測定することで、固着物３１の位置を特定できる。

【0027】

そこで、本実施形態の熱処理装置１０は、固着物の位置を検知するため、ロータリーキルン１００内に設置された撮像装置、およびロータリーキルン１００の外壁の温度、もしくは温度分布を測定する温度測定装置から選択された１種類以上を有することもできる。

【0028】

そして、位置変更装置２４は、位置を検知した固着物３１に対してマイクロ波を照射できるように、導波路２３の端部２３Ａの位置を変更、調整できる。

【0029】

また、マイクロ波照射装置１０５の発振機１０５１に電力を供給するため、マイクロ波照射装置１０５は、架線１０５３と、集電装置１０５２とを有することもできる。架線１０５３は、ロータリーキルン１００の外周に沿って配置でき、図示しない電力供給源と接続しておくことができる。集電装置１０５２は、架線１０５３と接することで架線１０５３を介して電力を取得できる。集電装置１０５２の構成は特に限定されないが、例えば架線１０５３と接する導電性の摺動部と、該摺動部の位置を変位させ、架線１０５３に押し当てる伸縮部とを有することができ、電車等で用いられるパンタグラフと同様の構成にできる。

【0030】

図１～図３において、マイクロ波照射装置１０５を一方のスクープフィーダ１３０の近傍に１台配置した例を示しているが、本実施形態の熱処理装置１０は加熱の程度等に応じて複数台のマイクロ波照射装置を有することもできる。
（１－３）スクープフィーダについて
熱処理装置１０は、ロータリーキルン１００の途中、すなわち導入端１０２と、排出端１０３との間に、スクープフィーダを有することもできる。スクープフィーダが設けられた位置における中心軸ＣＡと垂直な面での断面、すなわちＡ－Ａ´線での断面図である図２を用いながら説明する。

【0031】

図２に示すように、ロータリーキルン１００は、回転する胴体部１０１と、胴体部１０１を覆う外殻部１１０とを有することができる。なお、外殻部１１０は、胴体部１０１の表面全体を覆うように設ける必要は無く、例えば図１に示すように、スクープフィーダを設ける箇所等、必要な箇所にのみ設けることもできる。

【0032】

胴体部１０１内には、投入口１０２１から投入された原料である被処理物２１が導入され、胴体部１０１の回転に伴って排出端１０３側へと移動できる。

【0033】

胴体部１０１と外殻部１１０との間に空間部１２０が形成されており、外殻部１１０に設けられた添加材供給口１１１を介して、空間部１２０に添加材を供給できる。添加材供給口１１１には、必要に応じて各種添加材を供給する添加材供給手段２２１を接続しておくことができる。

【0034】

添加材供給手段２２１により添加する添加材は特に限定されないが、例えば還元剤や、融着防止剤から選択された１種類以上が挙げられる。

【0035】

添加材供給手段２２１の構成は特に限定されず、添加材供給口１１１側に設けられた開口部の開度を添加材の供給量にあわせて調整可能に構成し、該開口部を介して自由落下する添加材の供給量を調整できるようにしてもよい。また、例えばスクリューコンベア等の搬送手段を有し、該搬送手段による添加材の搬送速度を調整可能とし、該搬送速度により添加材の供給量を調整できるように構成してもよい。

【0036】

スクープフィーダ１３０は、例えば先端部１３１と、直線部１３２との間が屈曲したＬ字形状の管で形成できる。

【0037】

スクープフィーダ１３０は、胴体部１０１と共に、例えば図２中、矢印で示すように、時計回り（右回り）に回転できる。係る回転の際に、先端部１３１で空間部１２０に供給された添加材２２を掬い上げ、掬い上げた添加材２２を直線部１３２内に通過させて胴体部１０１内にフィードできる。

【0038】

ロータリーキルン１００において、スクープフィーダを設ける箇所は特に限定されず、ロータリーキルン１００の胴体部１０１内部の温度分布や、添加する添加材の種類等に応じて任意の場所に設けることができる。

【0039】

スクープフィーダを設ける箇所は特に限定されない。例えば排出端１０３からスクープフィーダを設けた外殻部１１０の導入端１０２側の端部までの距離Ｌ１１０は、ロータリーキルン１００の胴体部１０１長手方向の長さＬ１０１の５％以上９５％以下が好ましく、１０％以上９０％以下がより好ましい。
（２）ロータリーキルンの運転条件について
ロータリーキルンの運転条件は特に限定されず、原料である被処理物の種類や実施する処理等に応じて任意に選択できる。

【0040】

既述のように、熱処理装置１０は還元処理等を行うこともできる。

【0041】

ロータリーキルン１００の回転数、すなわちロータリーキルン１００を構成する胴体部１０１の回転数についても特に限定されないが、例えば０．５ｒｐｍ以上１．５ｒｐｍ以下程度であることが好ましい。

【0042】

ロータリーキルン１００の回転数を０．５ｒｐｍ以上とすることで、ロータリーキルン１００内の撹拌力を十分に高め、途中で投入した添加材等を露出させながら反応を十分に進行させることができる。また、ロータリーキルン１００の回転数を０．５ｒｐｍ以上とすることで、高温となるキルン本体が軟化した場合の自重変形を小さくすることができる。

【0043】

また、ロータリーキルンの回転数を１．５ｒｐｍ以下とすることで、ロータリーキルン１００内に導入された原料である被処理物等がロータリーキルン１００内に十分な時間留まることができ、所望の熱処置時間を確保できる。
（３）各工程について
（３－１）加熱工程
加熱工程では、ロータリーキルン内の炉壁表面に形成された固着物に対してマイクロ波を照射して加熱できる。

【0044】

加熱工程では、既述のマイクロ波照射装置１０５を用いて、導波路２３の端部２３Ａからマイクロ波を照射できる。

【0045】

固着物３１のうち、マイクロ波を照射する位置、領域は特に限定されない。ただし、より効率的に固着物３１を加熱し、除去できるように、加熱工程では、マイクロ波の照射領域が、ロータリーキルン内の上方に位置する固着物３１のロータリーキルンと接する部分３１１Ａを含むように、マイクロ波を照射することが好ましい。

【0046】

マイクロ波の照射領域が、ロータリーキルン内の上方に位置する固着物３１である上方固着物３１１のうち、ロータリーキルンと接する部分３１１Ａを含むように、マイクロ波を照射することで、該固着物の炉壁に近い部分の温度を上げて粘度を下げられる。ロータリーキルン内の上方に位置する固着物３１の、炉壁との接着部の粘度が下がることで、該固着物について、自重により落下させ、容易に除去できる。このため、該固着物が大きく成長して閉塞に至るトラブルをより確実に回避できる。

【0047】

なお、ロータリーキルン１００は回転していることから、ロータリーキルン内の上方に位置する固着物３１は経時的に変化する。このため、ロータリーキルン内の上方に位置する固着物のロータリーキルンと接する部分とは、マイクロ波照射時において、ロータリーキルン内の上方に位置している固着物の、ロータリーキルンと接する部分を意味する。

【0048】

図１～図３では、マイクロ波照射装置１０５を一方のスクープフィーダ１３０の近傍に１台配置した例を示しているが、もう一方のスクープフィーダ１３０の近傍等にも同様にして配置してもよい。

【0049】

用いるマイクロ波の周波数は既述のように特に限定されず、電波法等の法規に沿って、加熱に用いることができ、かつ用いる原料や添加材等に応じて選択できる。

【0050】

本実施形態のロータリーキルンの操業方法は、加熱工程以外の任意の工程を有することもできる。以下、任意の工程について説明する。
（３－２）添加材投入工程
既述のように、熱処理装置１０は、ロータリーキルン１００の長手方向の両端部間にスクープフィーダ１３０を有することができる。そして、本実施形態のロータリーキルンの操業方法は、該スクープフィーダを介してロータリーキルン内、具体的には熱処理を行っている胴体部内の原料に添加材を投入する添加材投入工程を有することもできる。

【0051】

添加材投入工程は、添加する添加材の種類等に応じて任意のタイミングで実施できる。
（添加材について）
添加材投入工程で添加する添加材の種類は特に限定されず、既述のように還元剤や、融着防止剤から選択された１種類以上が挙げられる。添加材は特に還元剤を含むことが好ましい。

【0052】

還元剤としては、石炭や、木質ペレット、廃プラスチック等の炭素含有材料が挙げられる。

【0053】

また、融着防止剤は、ロータリーキルン１００の内壁に原料である被処理物が付着して固着物を形成し、リング状に成長することを抑制できる材料であればよく、例えば高融点のセラミックス材料を好適に用いることができる。高融点のセラミックス材料を融着防止剤として用いることで、例えば溶融状態の被処理物をコートし、被処理物が炉の内壁に付着し、固着物が成長することを抑制できる。

【0054】

融着防止剤は、被処理物の成分に悪影響を与えないように、被処理物に応じて選択でき、特に限定されないが、例えば酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウムから選択された１種類以上を含むことが好ましい。
（原料について）
本実施形態のロータリーキルンの操業方法に供する原料である被処理物は特に限定されず、例えば各種金属成分を含む鉱石や、セラミックス原料を挙げることができる。

【0055】

特に、被処理物としては、各種鉱石を挙げることができる。特に、精錬を行うことが求められる金属の鉱石は一般的に水分を多く含み、酸化されている。そして、本実施形態のロータリーキルンの操業方法によれば、各種還元剤を用い、乾燥と還元とを効率的に行うことができるため、被処理物としては、金属の鉱石を含むことが好ましい。なお、被還元物は金属の鉱石から構成されてもよい。

【0056】

金属の鉱石が含む金属は特に限定されないが、例えば非鉄金属を含む金属であることが好ましく、ニッケル、亜鉛等から選択された１種類以上の金属を含む鉱石であることがより好ましい。

【0057】

フェロニッケル精錬において、原料のニッケル酸化鉱に付着した水分の一部をドライヤーで除去した鉱石（乾燥鉱石）に対して、さらに乾燥処理と、還元処理とを施す場合がある。このため、本実施形態のロータリーキルンの操業方法は、原料である被処理物としてニッケル酸化鉱を好適に用いることができる。

【0058】

ニッケル酸化鉱（酸化ニッケル鉱石）としては、特に限定されないが、ガーニエライト鉱等が好ましく用いられる。このガーニエライト鉱の代表的な組成としては、乾燥鉱換算でＮｉ品位が２．１質量％以上２．５質量％以下、Ｆｅ品位が１１質量％以上２３質量％以下、ＭｇＯ品位が２０質量％以上２８質量％以下、ＳｉＯ_２品位が２９質量％以上３９質量％以下、ＣａＯ品位が０．５質量％未満、灼熱減量が１０質量％以上１５質量％以下、の例が挙げられる。

【0059】

なお、被処理物は事前に予備乾燥を行い、一部の付着水分を低減、除去しておくこともできる。
（３－３）固着物検知工程、照射位置調整工程
本実施形態のロータリーキルンの操業方法は、ロータリーキルン内の炉壁表面である内壁に固着物が形成されたこと、もしくは固着物の位置を検知する固着物検知工程を有することもできる。

【0060】

固着物の生成や、固着物の位置は、ロータリーキルン内部をカメラ等の撮像装置により観察することで、もしくはロータリーキルンの外壁の温度分布の変化を測定することで検知できる。

【0061】

固着物検知工程を実施する場合、加熱工程を開始する前、もしくは加熱工程を開始した後、検知した固着物３１の位置に応じて、導波路２３の端部２３Ａの位置を変更、調整する、照射位置調整工程を実施することもできる。
［熱処理装置］
本実施形態の熱処理装置は、ロータリーキルンと、マイクロ波照射装置と、を有することができる。

【0062】

マイクロ波照射装置は、ロータリーキルン内の炉壁表面に形成された固着物に対してマイクロ波を照射できる。

【0063】

本実施形態の熱処理装置によれば、既述のロータリーキルンの操業方法を実施できる。このため、既に説明した事項については説明を省略する。

【0064】

また、本実施形態の熱処理装置は、スクープフィーダを有することもでき、スクープフィーダは、ロータリーキルンの長手方向の両端部間に配置できる。

【0065】

ロータリーキルン、マイクロ波照射装置、スクープフィーダの好適な構成例については既に説明したので説明を省略する。

【0066】

以上に説明した本実施形態の熱処理装置によれば、マイクロ波照射装置により、固着物に対してマイクロ波を照射し、加熱できる。このため、ロータリーキルン内の炉壁表面に形成された固着物について、操業を止めることなく除去できる。

【符号の説明】

【0067】

１０ 熱処理装置
１００ ロータリーキルン
１０１ 胴体部
１０２ 導入端
１０２１ 投入口
１０３ 排出端
１０３１ 排出口
１０４ バーナー
１０５ マイクロ波照射装置
１０５１ 発振機
１０５２ 集電装置
１０５３ 架線
１１０ 外殻部
１１１ 添加材供給口
１２０ 空間部
１３０ スクープフィーダ
１３１ 先端部
１３２ 直線部
２１ 被処理物
２２ 添加材
２２１ 添加材供給手段
２３ 導波路
２３Ａ 端部
２４ 位置変更装置
ＣＡ 中心軸
Ｌ１１０ 距離
Ｌ１０１ 長さ
３１ 固着物
３１１Ａ 部分
３１１ 上方固着物

【図1】

【図2】

【図3】