発明の名称 成膜方法、および成膜装置
出願人 東京エレクトロン株式会社 (識別番号 219967)
特許公開件数ランキング 32 位(218件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 24 位(227件)(共同出願を含む)
公報番号 特開-2025-72093
公報発行日 2025年5月9
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2025-72093
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