特開2026-10011基板全体にわたるプラズマプロセス結果の均一性を制御するためにバイアス無線周波数供給において低周波数高調波を使用するためのシステムおよび方法

発明の名称　基板全体にわたるプラズマプロセス結果の均一性を制御するためにバイアス無線周波数供給において低周波数高調波を使用するためのシステムおよび方法

出願人　ラム　リサーチ　コーポレーション　（識別番号 592010081）

　　　　特許公開件数ランキング 156 位（67件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 175 位（54件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2026-10011

公報発行日　2026年1月21

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2026-10011

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