特開2026-164790IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

めっき装置

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】めっき液が撹拌された場合にめっき槽の外部にめっき液が飛散することを抑制することができる技術を提供する。
【解決手段】めっき装置の飛散抑制部材60a、60bは第1部材61と第2部材62とを有し、第1部材は、パドルよりも上方且つめっき槽の外周壁の上端よりも下方の領域に配置されるとともにめっき槽の外周壁と基板ホルダとの間の領域に配置され、且つ、上下方向に延在するとともにめっき槽の外周壁の周方向に曲面状に延在し、第2部材は、水平方向に延在するとともに、めっき槽の外周壁の上端よりも上方に配置され、第1部材との間に第1空間を有して第1部材よりも上方に配置され、且つ、基板ホルダとの間に第2空間を有して基板ホルダの外側に配置され、第1部材の内周面における少なくとも第1部材の上端から所定距離だけ下方側の箇所は、上方に向かうほどめっき槽の中心からの距離が長くなるように傾斜した傾斜面になっている。
【選択図】図7

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

上述したような従来のめっき装置において、めっき液が撹拌された場合に、めっき液がはね上がって、めっき槽の外部に飛散する現象が生じるおそれがある。この点において、従来のめっき装置は、改善の余地があった。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

(態様1) 目的を達成するため、本発明の一態様に係るめっき装置は、めっき液を貯留するように構成されるとともにアノードが配置されためっき槽と、カソードとしての基板を前記アノードに対向するように保持するための基板ホルダと、前記めっき槽の内部における前記アノードよりも上方且つ前記基板ホルダよりも下方の領域に配置されて、前記めっき液を撹拌するように構成された、パドルと、前記パドルによって前記めっ・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 めっき装置の全体構成を示す斜視図である。
【図2】 めっき装置の全体構成を示す平面図である。
【図3】 めっきモジュールの構成を示す模式図である。
【図4】 基板がめっき液に浸漬された状態を示す模式図である。
【図5】 パドルを説明するための模式図である。
【図6】 めっき液の供給からめっき処理の開始までの一連の動作を説明するためのフロー図である。
【図7】 図7A及び図7Bは飛散抑制部材の模式的な斜視図である。
【図8】 飛散抑制部材がめっき槽に配置された様子を示す模式的な拡大断面図である。
【図9】 飛散抑制部材の周辺におけるめっき液の流れを示す模式的な拡大断面図である。
【図10】 オーバーフロー槽の模式的な斜視図である。
【図11】 第1部材の構成を詳細に説明するための模式図である。
【図12】 第1部材の傾斜面の傾斜角度が第1部材の周方向の位置によって異なる場合の例を説明するための模式図である。
【図13】 第1部材のめっき槽への接続態様の他の一例を示す模式的な平面図である。
【図14】 第1部材のめっき槽への接続態様の他の一例を示す模式的な正面図である。
【図15】 第1部材が傾斜面として上段傾斜面のみを有する場合を説明するための模式図である。
【図16】 第1部材が傾斜面として上段傾斜面及び下段傾斜面のみを有する場合を説明するための模式図である。
【図17】 飛散抑制部材の接続態様の他の一例を説明するための模式的な拡大断面図である。

選択図 図7出願人が指定した本件の代表的な図

10 めっき槽 10b めっき槽の外周壁 10ba めっき槽の外周壁の上端 11 アノード 20 オーバーフロー槽 21 オーバーフロー槽の外周壁 21a オーバーフロー槽の外周壁の上端 21b オーバーフロー槽の外周壁の内周壁面 22 支持板 22a 支持板の上面 30 基板ホルダ 60a,60b 飛散抑制部材 61 第1部材 61a 第1部材の内周面 61c 第1部材の上端 61d 第1部材の下端 62 第2部材 62a 第2部材の下面 67 傾斜面 67a 上段傾斜面 67b 中段傾斜面 67c 下段傾斜面 70 パドル 1000 めっき装置 L1 仮想面 Ps めっき液 SP1 空間(第1空間) SP2 空間(第2空間) Wf 基板 d2 所定距離 α1,α2,α3 傾斜角度

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