特開2026-37575酸化物半導体薄膜、薄膜半導体装置及びその製造方法

発明の名称　酸化物半導体薄膜、薄膜半導体装置及びその製造方法

出願人　株式会社アルバック　（識別番号 231464）

　　　　特許公開件数ランキング 499 位（27件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 643 位（12件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2026-37575

公報発行日　2026年3月6

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2026-37575

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