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特開2026-48632処理システム内の圧力変化時における基板の汚染の防止
発明の名称 処理システム内の圧力変化時における基板の汚染の防止
出願人 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド （識別番号 390040660）
特許公開件数ランキング 26 位（237件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 60 位（126件）（共同出願を含む）
公報番号 特開-2026-48632
公報発行日 2026年3月17
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2026-48632
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