特開2026-49708半導体フォトレジスト用組成物およびこれを利用したパターン形成方法

発明の名称　半導体フォトレジスト用組成物およびこれを利用したパターン形成方法

出願人　三星エスディアイ株式会社　（識別番号 590002817）

　　　　特許公開件数ランキング 96 位（106件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 227 位（43件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2026-49708

公報発行日　2026年3月18

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2026-49708

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特開-2026-49708「半導体フォトレジスト用組成物およびこれを利用したパターン形成方法」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録