特許 6990582出願番号特願 2017-522949
レーザシステム内の利得エレメントを隔離するためのシステム及び方法

出願人エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．（識別番号 504151804）

2026年特許公開件数ランキング 186位 137件（※）

2026年特許取得件数ランキング 330位 64件（※）

公報発行日　2022年1月12

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-6990582　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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[01] 本出願は、一般に、レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）極端紫外（ＥＵＶ）光源に関し、より具体的には、このような光源内の利得エレメント（ｇａｉｎｅｌｅｍｅｎｔ）を通るフィードバックを防止するための方法及びシステム

【図1】 [012]ＬＰＰＥＵＶシステムの一実施形態のコンポーネントのいくつかを示す図である。

【図2】 [013]ＬＰＰＥＵＶシステム内で使用可能なシードレーザモジュール（ｓｅｅｄｌａｓｅｒｍｏｄｕｌｅ）の一実施形態のコンポーネントのいくつかを示す図である。

【図3】 [014]シードレーザモジュールを使用するパルス発生システム（ｐｕｌｓｅｇｅｎｅｒａｔｉｏｎｓｙｓｔｅｍ）の一実施形態の簡略ブロック図である。

【図4A】 [015]音響光学変調器の一実施形態の簡略ブロック図である。

【図4B】 [015]音響光学変調器の一実施形態の簡略ブロック図である。

【図4C】 [015]音響光学変調器の一実施形態の簡略ブロック図である。

【図4D】 [015]音響光学変調器の一実施形態の簡略ブロック図である。

【図4E】 [015]音響光学変調器の一実施形態の簡略ブロック図である。

【図5A】 [016]隔離ステージの一実施形態の簡略ブロック図である。

【図5B】 [016]隔離ステージの一実施形態の簡略ブロック図である。

【図6】 [017]一実施形態において光が隔離ステージによってどのようにそらされるかを描写する簡略タイミング図である。

【図7】 [018]反射光をそらす方法の一実施形態のフローチャートである。

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