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特許7001097含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2021-12-28
(45)【発行日】2022-01-19
(54)【発明の名称】含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法
(51)【国際特許分類】
C08G 65/336 20060101AFI20220112BHJP
C09D 171/02 20060101ALI20220112BHJP
C09K 3/18 20060101ALI20220112BHJP
【ＦＩ】
C08G65/336
C09D171/02
C09K3/18 104
【請求項の数】
15
(21)【出願番号】P 2019537567
(86)(22)【出願日】2018-08-13
(86)【国際出願番号】 JP2018030221
(87)【国際公開番号】W WO2019039341
(87)【国際公開日】2019-02-28
【審査請求日】2021-02-09
(31)【優先権主張番号】P 2017159697
(32)【優先日】2017-08-22
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000000044
【氏名又は名称】ＡＧＣ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100103894
【弁理士】
【氏名又は名称】家入 健
(72)【発明者】
【氏名】星野 泰輝
(72)【発明者】
【氏名】室谷 英介
(72)【発明者】
【氏名】松浦 啓吾
(72)【発明者】
【氏名】宇野 誠人
【審査官】堀 洋樹
(56)【参考文献】
【文献】特開平１０－２３７３８３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０７－０５３９１９（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１７／０３８８３２（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０８Ｇ ６５／００－６５／４８
Ｃ０９Ｄ １／００－２０１／１０
Ｃ０９Ｋ ３／１８
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
下式１で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。【化1】
Ａは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、
Ｒｆ１は、フルオロアルキレン基であり、
ｍは、２～５００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒｆ２は、フルオロアルキレン基であり、
Ｒ１は、少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
Ｒ２は、水素原子、１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
Ｒ１における加水分解性シリル基の数とＲ２における加水分解性シリル基の数との合計が２以上であり、
前記少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基が、下式ｇ１で表される基であり、
－Ｑ １ ［－ＳｉＲ ３ ｎ Ｌ ３－ｎ ］ ｐ 式ｇ１
Ｑ １ は、（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
Ｒ ３ は、水素原子または１価の炭化水素基であり、
Ｌは、加水分解性基であり、
ｎは、０～２の整数であり、
ｐは、１以上の整数であり、
ｐが２以上の場合、ｐ個の［－ＳｉＲ ３ ｎ Ｌ ３－ｎ ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【請求項2】
前記式ｇ１で表される基が、下式ｇ２で表される基または下式ｇ３で表される基である、請求項１に記載の含フッ素エーテル化合物。【化2】
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ２－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎであり、
ｑは、０～１０の整数であり、
ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ４Ｒ５）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ６は、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ－Ｑ２－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎであり、
ｒは、０～４の整数であり、
ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ６は、同一であっても異なっていてもよく、
ｓは、１または２であり、
ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ６）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｚは、単結合、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ７）－または－Ｃ（Ｏ）Ｏ－であり、
Ｒ７は、水素原子またはアルキル基であり、
Ｑ２は、炭素数２～１０のアルキレン基であり、
Ｒ３は、水素原子または１価の炭化水素基であり、
Ｌは、加水分解性基であり、
ｎは、０～２の整数であり、
複数の－Ｑ２－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎは、同一であっても異なっていてもよい。
【請求項3】
前記Ｒ１および前記Ｒ２が、いずれも前記式ｇ１で表される基（ただし、ｐは１～３の整数である。）である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項4】
前記Ｒ１が、前記式ｇ１で表される基（ただし、ｐは２または３である。）であり、前記Ｒ２が、水素原子または１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項5】
請求項１～４のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含むことを特徴とする含フッ素エーテル組成物。
【請求項6】
請求項１～４のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物または請求項５に記載の含フッ素エーテル組成物と、液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。
【請求項7】
請求項１～４のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物または請求項５に記載の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を基材の表面に有することを特徴とする物品。
【請求項8】
タッチパネルの指で触れる面を構成する部材の表面に前記表面層を有する、請求項７に記載の物品。
【請求項9】
請求項１～４のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物または請求項５に記載の含フッ素エーテル組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項10】
ウェットコーティング法によって請求項６に記載のコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項11】
下式２で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。【化3】
Ａは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、
Ｒｆ１は、フルオロアルキレン基であり、
ｍは、２～５００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒｆ２は、フルオロアルキレン基であり、
Ｒ１ａは、少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
Ｒ２ａは、水素原子、１価の有機基（ただし、ω－アルケニル基を有するものおよび加水分解性シリル基を有するものを除く。）または少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
Ｒ１ａにおけるω－アルケニル基の数とＲ２ａにおけるω－アルケニル基の数との合計が２以上である。
【請求項12】
前記少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基が、下式ｇ４で表される基である、請求項１１に記載の含フッ素エーテル化合物。－Ｑ１ａ［－ＣＨ＝ＣＨ２］ｐ 式ｇ４
ただし、
Ｑ１ａは、単結合（ただし、ｐが１のときに限る。）または（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
ｐは、１以上の整数である。
【請求項13】
前記式ｇ４で表される基が、下式ｇ５で表される基または下式ｇ６で表される基である、請求項１２に記載の含フッ素エーテル化合物。【化4】
Ｒ４ａおよびＲ５ａは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ２ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、
ｑは、０～１０の整数であり、
ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ４ａＲ５ａ）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ６ａは、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ－Ｑ２ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、
ｒは、０～４の整数であり、
ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ６ａは、同一であっても異なっていてもよく、
ｓは、１または２であり、
ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ６ａ）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｚは、単結合、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ７）－または－Ｃ（Ｏ）Ｏ－であり、
Ｒ７は、水素原子またはアルキル基であり、
Ｑ２ａは、単結合または炭素数１～８のアルキレン基であり、
複数のＱ２ａは、同一であっても異なっていてもよい。
【請求項14】
前記Ｒ１ａおよび前記Ｒ２ａが、いずれも前記式ｇ４で表される基（ただし、ｐは１～３の整数である。）である、請求項１２または１３に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項15】
前記Ｒ１ａが、前記式ｇ４で表される基（ただし、ｐは２または３である。）であり、前記Ｒ２ａが、水素原子または１価の有機基（ただし、ω－アルケニル基を有するものおよび加水分解性シリル基を有するものを除く。）である、請求項１２または１３に記載の含フッ素エーテル化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示す表面層を基材の表面に形成できるため、表面処理剤に好適に用いられる。含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、表面層が指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）および拭き取りによって表面層に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長期間維持されることが求められる用途、たとえば、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材、メガネレンズ、ウェアラブル端末のディスプレイの表面処理剤として用いられる。
【0003】
耐摩擦性および指紋汚れ除去性に優れる表面層を基材の表面に形成できる含フッ素エーテル化合物としては、下記のものが提案されている。
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の一方の末端に窒素原子による分岐を介して２個の加水分解性シリル基を導入した含フッ素エーテル化合物（特許文献１、２）。
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の一方の末端に窒素原子による分岐を介して２個の加水分解性シリル基を導入した含フッ素エーテル化合物（特許文献１、２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】国際公開第２０１７／０３８８３２号
【文献】特開２０００－３２７７７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
最近では、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材等の表面層には、さらなる耐摩擦性、耐光性および耐薬品性の向上が求められることがある。そのため、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物が必要となることがある。
【0006】
本発明は、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を有する物品およびその製造方法の提供を目的とする。
また、本発明は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な含フッ素エーテル化合物の提供を目的とする。
また、本発明は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な含フッ素エーテル化合物の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、下記［１］～［１６］の構成を有する含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、物品の製造方法、含フッ素エーテル化合物の他の態様を提供する。
【0008】
［１］下式１で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。
ただし、Ａは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、Ｒｆ１は、フルオロアルキレン基であり、ｍは、２～５００の整数であり、（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、Ｒｆ２は、フルオロアルキレン基であり、Ｒ１は、少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、Ｒ２は、水素原子、１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、Ｒ１における加水分解性シリル基の数とＲ２における加水分解性シリル基の数との合計が２以上である。
［２］前記少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基が、下式ｇ１で表される基である、［１］の含フッ素エーテル化合物。
－Ｑ１［－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎ］ｐ 式ｇ１
ただし、Ｑ１は、（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、Ｒ３は、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは、加水分解性基であり、ｎは、０～２の整数であり、ｐは、１以上の整数であり、ｐが２以上の場合、ｐ個の［－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【化1】
［２］前記少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基が、下式ｇ１で表される基である、［１］の含フッ素エーテル化合物。
－Ｑ１［－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎ］ｐ 式ｇ１
ただし、Ｑ１は、（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、Ｒ３は、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは、加水分解性基であり、ｎは、０～２の整数であり、ｐは、１以上の整数であり、ｐが２以上の場合、ｐ個の［－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【0009】
［３］前記式ｇ１で表される基が、下式ｇ２で表される基または下式ｇ３で表される基である、［２］の含フッ素エーテル化合物。
ただし、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ２－ＳｉＲ３
ｎＬ３－ｎであり、ｑは、０～１０の整数であり、ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ４Ｒ５）は、同一であっても異なっていてもよく、Ｒ６は、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ－Ｑ２－ＳｉＲ３
ｎＬ３－ｎであり、ｒは、０～４の整数であり、ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ６は、同一であっても異なっていてもよく、ｓは、１または２であり、ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ６）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、Ｚは、単結合、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ７）－または－Ｃ（Ｏ）Ｏ－であり、Ｒ７は、水素原子またはアルキル基であり、Ｑ２は、炭素数２～１０のアルキレン基であり、Ｒ３は、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは、加水分解性基であり、ｎは、０～２の整数であり、複数の－Ｑ２－ＳｉＲ３
ｎＬ３－ｎは、同一であっても異なっていてもよい。
【化2】
【0010】
［４］前記Ｒ１および前記Ｒ２が、いずれも前記式ｇ１で表される基（ただし、ｐは１～３の整数である。）である、［２］または［３］の含フッ素エーテル化合物。
［５］前記Ｒ１が、前記式ｇ１で表される基（ただし、ｐは２または３である。）であり、前記Ｒ２が、水素原子または１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）である、［２］または［３］の含フッ素エーテル化合物。
［６］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含むことを特徴とする含フッ素エーテル組成物。
［７］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［６］の含フッ素エーテル組成物と、液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。
［８］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［６］の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を基材の表面に有することを特徴とする物品。
［９］タッチパネルの指で触れる面を構成する部材の表面に前記表面層を有する、［８］の物品。
［１０］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［６］の含フッ素エーテル組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
［１１］ウェットコーティング法によって［７］のコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
［５］前記Ｒ１が、前記式ｇ１で表される基（ただし、ｐは２または３である。）であり、前記Ｒ２が、水素原子または１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）である、［２］または［３］の含フッ素エーテル化合物。
［６］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含むことを特徴とする含フッ素エーテル組成物。
［７］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［６］の含フッ素エーテル組成物と、液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。
［８］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［６］の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を基材の表面に有することを特徴とする物品。
［９］タッチパネルの指で触れる面を構成する部材の表面に前記表面層を有する、［８］の物品。
［１０］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［６］の含フッ素エーテル組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
［１１］ウェットコーティング法によって［７］のコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
【0011】
［１２］下式２で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。
ただし、Ａは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、Ｒｆ１は、フルオロアルキレン基であり、ｍは、２～５００の整数であり、（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、Ｒｆ２は、フルオロアルキレン基であり、Ｒ１ａは、少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、Ｒ２ａは、水素原子、１価の有機基（ただし、ω－アルケニル基を有するものおよび加水分解性シリル基を有するものを除く。）または少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、Ｒ１ａにおけるω－アルケニル基の数とＲ２ａにおけるω－アルケニル基の数との合計が２以上である。
［１３］前記少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基が、下式ｇ４で表される基である、［１２］の含フッ素エーテル化合物。
－Ｑ１ａ［－ＣＨ＝ＣＨ２］ｐ 式ｇ４
ただし、Ｑ１ａは、単結合（ただし、ｐが１のときに限る。）または（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、ｐは、１以上の整数である。
【化3】
［１３］前記少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基が、下式ｇ４で表される基である、［１２］の含フッ素エーテル化合物。
－Ｑ１ａ［－ＣＨ＝ＣＨ２］ｐ 式ｇ４
ただし、Ｑ１ａは、単結合（ただし、ｐが１のときに限る。）または（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、ｐは、１以上の整数である。
【0012】
［１４］前記式ｇ４で表される基が、下式ｇ５で表される基または下式ｇ６で表される基である、［１３］の含フッ素エーテル化合物。
ただし、Ｒ４ａおよびＲ５ａは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ２ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｑは、０～１０の整数であり、ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ４ａＲ５ａ）は、同一であっても異なっていてもよく、Ｒ６ａは、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ－Ｑ２ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｒは、０～４の整数であり、ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ６ａは、同一であっても異なっていてもよく、ｓは、１または２であり、ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ６ａ）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、Ｚは、単結合、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ７）－または－Ｃ（Ｏ）Ｏ－であり、Ｒ７は、水素原子またはアルキル基であり、Ｑ２ａは、単結合または炭素数１～８のアルキレン基であり、複数のＱ２ａは、同一であっても異なっていてもよい。
［１５］前記Ｒ１ａおよび前記Ｒ２ａが、いずれも前記式ｇ４で表される基（ただし、ｐは１～３の整数である。）である、［１３］または［１４］の含フッ素エーテル化合物。
［１６］前記Ｒ１ａが、前記式ｇ４で表される基（ただし、ｐは２または３である。）であり、前記Ｒ２ａが、水素原子または１価の有機基（ただし、ω－アルケニル基を有するものおよび加水分解性シリル基を有するものを除く。）である、［１３］または［１４］の含フッ素エーテル化合物。
【化4】
［１５］前記Ｒ１ａおよび前記Ｒ２ａが、いずれも前記式ｇ４で表される基（ただし、ｐは１～３の整数である。）である、［１３］または［１４］の含フッ素エーテル化合物。
［１６］前記Ｒ１ａが、前記式ｇ４で表される基（ただし、ｐは２または３である。）であり、前記Ｒ２ａが、水素原子または１価の有機基（ただし、ω－アルケニル基を有するものおよび加水分解性シリル基を有するものを除く。）である、［１３］または［１４］の含フッ素エーテル化合物。
【発明の効果】
【0013】
本発明の含フッ素エーテル化合物によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
本発明の含フッ素エーテル組成物によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
本発明のコーティング液によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
本発明の物品は、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を有する。
本発明の物品の製造方法によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を有する物品を製造できる。
本発明の含フッ素エーテル化合物の他の態様は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル組成物によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
本発明のコーティング液によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
本発明の物品は、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を有する。
本発明の物品の製造方法によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を有する物品を製造できる。
本発明の含フッ素エーテル化合物の他の態様は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
【発明を実施するための形態】
【0014】
本明細書において、式１で表される化合物を化合物１と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
また、式ｇ１で表される基を基ｇ１と記す。他の式で表される基も同様に記す。
本明細書における以下の用語の意味は、以下の通りである。
オキシフルオロアルキレン単位の化学式は、その酸素原子をフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応してシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）を形成し得る基を意味し、式ｇ１中のＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎである。
「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、１Ｈ－ＮＭＲおよび１９Ｆ－ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン単位の数（平均値）を求めて算出される。末端基は、たとえば式１中のＡまたは加水分解性シリル基である。
また、式ｇ１で表される基を基ｇ１と記す。他の式で表される基も同様に記す。
本明細書における以下の用語の意味は、以下の通りである。
オキシフルオロアルキレン単位の化学式は、その酸素原子をフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応してシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）を形成し得る基を意味し、式ｇ１中のＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎである。
「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、１Ｈ－ＮＭＲおよび１９Ｆ－ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン単位の数（平均値）を求めて算出される。末端基は、たとえば式１中のＡまたは加水分解性シリル基である。
【0015】
［含フッ素エーテル化合物］
本発明の含フッ素エーテル化合物は、化合物１である。
本発明の含フッ素エーテル化合物は、化合物１である。
【0016】
【化5】
【0017】
ただし、Ａは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、Ｒｆ１は、フルオロアルキレン基であり、ｍは、２～５００の整数であり、（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、Ｒｆ２は、フルオロアルキレン基であり、Ｒ１は、少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、Ｒ２は、水素原子、１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、Ｒ１における加水分解性シリル基の数とＲ２における加水分解性シリル基の数との合計が２以上である。
【0018】
Ａの炭素数は、化合物１によって形成される表面層の潤滑性および耐摩擦性がさらに優れる点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３が特に好ましい。
【0019】
Ｒｆ１の炭素数は、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、１～６が好ましい。
Ｒｆ１としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、直鎖のフルオロアルキレン基が好ましい。
Ｒｆ１としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、ペルフルオロアルキレン基が好ましい。ペルフルオロアルキレン基以外のＲｆ１としては、水素原子を１～４個とフッ素原子を２個以上とを有する炭素数２～６のポリフルオロアルキレン基が好ましく、水素原子を１または２個とフッ素原子を２個以上とを有する炭素数２～６のポリフルオロアルキレン基がより好ましい。
全Ｒｆ１のうちのペルフルオロアルキレン基の割合は、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、６０モル％以上が好ましく、８０モル％以上がより好ましく、１００モル％が特に好ましい。
Ｒｆ１としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、直鎖のフルオロアルキレン基が好ましい。
Ｒｆ１としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、ペルフルオロアルキレン基が好ましい。ペルフルオロアルキレン基以外のＲｆ１としては、水素原子を１～４個とフッ素原子を２個以上とを有する炭素数２～６のポリフルオロアルキレン基が好ましく、水素原子を１または２個とフッ素原子を２個以上とを有する炭素数２～６のポリフルオロアルキレン基がより好ましい。
全Ｒｆ１のうちのペルフルオロアルキレン基の割合は、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、６０モル％以上が好ましく、８０モル％以上がより好ましく、１００モル％が特に好ましい。
【0020】
ｍは、２～２００が好ましく、５～１５０の整数がより好ましく、１０～１００の整数が特に好ましい。ｍが前記範囲の下限値以上であれば、表面層の撥水撥油性がさらに優れる。ｍが前記範囲の上限値以下であれば、表面層の耐摩擦性がさらに優れる。すなわち、化合物１の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量あたりに存在する加水分解性シリル基の数が減少し、表面層の耐摩擦性が低下する。
【0021】
（Ｒｆ１Ｏ）ｍにおいて、２種以上のＲｆ１Ｏが存在する場合、各Ｒｆ１Ｏの結合順序は限定されない。たとえば、ＣＦ２ＯとＣＦ２ＣＦ２Ｏが存在する場合、ＣＦ２ＯとＣＦ２ＣＦ２Ｏがランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
２種以上のＲｆ１Ｏが存在するとは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在すること、水素原子数が異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在すること、水素原子の位置が異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在すること、および炭素数が同一であっても側鎖の有無や側鎖の種類（側鎖の数や側鎖の炭素数等）が異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在することをいう。
２種以上のＲｆ１Ｏの配置については、たとえば、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２｝で表される構造は、ｍ１個の（ＣＦ２Ｏ）とｍ２個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とがランダムに配置されていることを表す。また、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５で表される構造は、ｍ５個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とｍ５個の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とが交互に配置されていることを表す。
２種以上のＲｆ１Ｏが存在するとは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在すること、水素原子数が異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在すること、水素原子の位置が異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在すること、および炭素数が同一であっても側鎖の有無や側鎖の種類（側鎖の数や側鎖の炭素数等）が異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在することをいう。
２種以上のＲｆ１Ｏの配置については、たとえば、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２｝で表される構造は、ｍ１個の（ＣＦ２Ｏ）とｍ２個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とがランダムに配置されていることを表す。また、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５で表される構造は、ｍ５個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とｍ５個の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とが交互に配置されていることを表す。
【0022】
（Ｒｆ１Ｏ）ｍとしては、（Ｒｆ１Ｏ）ｍの少なくとも一部に下記の構造を有するものが好ましい。
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２｝
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ３
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
ただし、ｍ１は１以上の整数であり、ｍ２は１以上の整数であり、ｍ１＋ｍ２は２～５００の整数であり、ｍ３およびｍ４は、それぞれ、２～５００の整数であり、ｍ５は、１～２５０の整数であり、ｍ６およびｍ７は、それぞれ１以上の整数であり、ｍ６＋ｍ７は、２～５００の整数であり、ｍ８は、１～２５０の整数である。
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２｝
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ３
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
ただし、ｍ１は１以上の整数であり、ｍ２は１以上の整数であり、ｍ１＋ｍ２は２～５００の整数であり、ｍ３およびｍ４は、それぞれ、２～５００の整数であり、ｍ５は、１～２５０の整数であり、ｍ６およびｍ７は、それぞれ１以上の整数であり、ｍ６＋ｍ７は、２～５００の整数であり、ｍ８は、１～２５０の整数である。
【0023】
（Ｒｆ１Ｏ）ｍとしては、化合物１を製造しやすい点から、下記のものが好ましい。
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－３｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－３｝ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－２｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２Ｏ
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－２｝ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－２｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－２｝ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４－３ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４－３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４－２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４－２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４－２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４－２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
ただし、ｍ２－３、ｍ２－２、ｍ４－３、ｍ４－２およびｍ５－２が１以上の整数となるように、ｍ２、ｍ４およびｍ５の数は選択される。
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－３｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－３｝ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－２｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２Ｏ
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－２｝ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－２｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－２｝ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４－３ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４－３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４－２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４－２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４－２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４－２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
ただし、ｍ２－３、ｍ２－２、ｍ４－３、ｍ４－２およびｍ５－２が１以上の整数となるように、ｍ２、ｍ４およびｍ５の数は選択される。
【0024】
Ｒｆ２の炭素数は、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、１～８が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が特に好ましい。
Ｒｆ２としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、ペルフルオロアルキレン基が好ましい。
Ｒｆ２の構造は、化合物１を製造する際の原料および合成方法に依存する。Ｒｆ２としては、原料を入手しやすい点から、－ＣＦ２ＣＦ２－が好ましい。
Ｒｆ２としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、ペルフルオロアルキレン基が好ましい。
Ｒｆ２の構造は、化合物１を製造する際の原料および合成方法に依存する。Ｒｆ２としては、原料を入手しやすい点から、－ＣＦ２ＣＦ２－が好ましい。
【0025】
Ｒ１における加水分解性シリル基の数とＲ２における加水分解性シリル基の数との合計は、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２または３が特に好ましい。加水分解性シリル基の数が前記範囲の下限値以上であれば、化合物１が強固に基材の表面に結合し、表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる。加水分解性シリル基の数が前記範囲の上限値以下であれば、原料を入手しやすくなり、化合物１を製造しやすい。また、化合物１の加水分解性シリル基側の末端が嵩高くならないため、基材の表面における化合物１の密度が比較的高くなる。その結果、表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる。
【0026】
Ｒ２における１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）の炭素数は、１～８が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が特に好ましい。
Ｒ２が少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基でない場合、Ｒ２としては、原料を入手しやすい点から、水素原子または炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ｒ２が少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基でない場合、Ｒ２としては、原料を入手しやすい点から、水素原子または炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
【0027】
少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基としては、本発明の効果が発揮されやすい点から、基ｇ１が好ましい。
－Ｑ１［－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎ］ｐ 式ｇ１
ただし、Ｑ１は、（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、Ｒ３は、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは、加水分解性基であり、ｎは、０～２の整数であり、ｐは、１以上の整数であり、ｐが２以上の場合、ｐ個の［－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
－Ｑ１［－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎ］ｐ 式ｇ１
ただし、Ｑ１は、（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、Ｒ３は、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは、加水分解性基であり、ｎは、０～２の整数であり、ｐは、１以上の整数であり、ｐが２以上の場合、ｐ個の［－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【0028】
ｐは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、１～３が好ましい。
Ｑ１における有機基としては、表面層の耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、飽和炭化水素基もしくは芳香族炭化水素基、またはこれらを組み合わせた基が好ましい。Ｑ１の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２が特に好ましい。
Ｑ１における有機基としては、表面層の耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、飽和炭化水素基もしくは芳香族炭化水素基、またはこれらを組み合わせた基が好ましい。Ｑ１の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２が特に好ましい。
【0029】
ＳｉＲ３
ｎＬ３－ｎは、加水分解性シリル基である。
化合物１は、末端に加水分解性シリル基を２個以上有する。末端に加水分解性シリル基を２個以上有する化合物１は基材と強固に化学結合するため、表面層は耐摩擦性に優れる。
また、化合物１は、一方の末端のみに加水分解性シリル基を有する。一方の末端のみに加水分解性シリル基を有する化合物１は凝集しにくいため、表面層は外観に優れる。
化合物１は、末端に加水分解性シリル基を２個以上有する。末端に加水分解性シリル基を２個以上有する化合物１は基材と強固に化学結合するため、表面層は耐摩擦性に優れる。
また、化合物１は、一方の末端のみに加水分解性シリル基を有する。一方の末端のみに加水分解性シリル基を有する化合物１は凝集しにくいため、表面層は外観に優れる。
【0030】
Ｌは、加水分解性基である。加水分解性基は、加水分解反応によって水酸基となる基である。すなわち、化合物１の末端のＳｉ－Ｌは、加水分解反応によってシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）となる。シラノール基は、さらに分子間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材－ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材－Ｏ－Ｓｉ）を形成する。
【0031】
Ｌとしては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イソシアナート基等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が特に好ましい。
Ｌとしては、化合物１の製造をしやすい点から、アルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物１の保存安定性に優れる点から、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、化合物１の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
Ｌとしては、化合物１の製造をしやすい点から、アルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物１の保存安定性に優れる点から、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、化合物１の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
【0032】
Ｒ３は、水素原子または１価の炭化水素基である。１価の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基等が挙げられる。
Ｒ３としては、１価の炭化水素基が好ましく、１価の飽和炭化水素基が特に好ましい。１価の飽和炭化水素基の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。Ｒ３の炭素数がこの範囲であると、化合物１を製造しやすい。
Ｒ３としては、１価の炭化水素基が好ましく、１価の飽和炭化水素基が特に好ましい。１価の飽和炭化水素基の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。Ｒ３の炭素数がこの範囲であると、化合物１を製造しやすい。
【0033】
ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。１個の加水分解性シリル基にＬが複数存在することによって、基材との密着性がより強固になる。
【0034】
ＳｉＲ３
ｎＬ３－ｎとしては、Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、ＳｉＣｌ３、Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、Ｓｉ（ＮＣＯ）３が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、Ｓｉ（ＯＣＨ３）３が特に好ましい。
化合物１中の２個以上のＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎは、同一であっても異なっていてもよい。化合物１を製造しやすい点から、同一の基であることが好ましい。
化合物１中の２個以上のＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎは、同一であっても異なっていてもよい。化合物１を製造しやすい点から、同一の基であることが好ましい。
【0035】
基ｇ１としては、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、基ｇ２または基ｇ３が好ましい。
【0036】
【化6】
【0037】
ただし、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ２－ＳｉＲ３
ｎＬ３－ｎであり、ｑは、０～１０の整数であり、ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ４Ｒ５）は、同一であっても異なっていてもよく、Ｒ６は、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ－Ｑ２－ＳｉＲ３
ｎＬ３－ｎであり、ｒは、０～４の整数であり、ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ６は、同一であっても異なっていてもよく、ｓは、１または２であり、ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ６）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、Ｚは、単結合、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ７）－または－Ｃ（Ｏ）Ｏ－であり、Ｒ７は、水素原子またはアルキル基であり、Ｑ２は、炭素数２～１０のアルキレン基であり、Ｒ３は、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは、加水分解性基であり、ｎは、０～２の整数であり、複数の－Ｑ２－ＳｉＲ３
ｎＬ３－ｎは、同一であっても異なっていてもよい。
【0038】
Ｒ４およびＲ５における１価の有機基としては、炭素数１～４の１価の有機基が特に好ましい。
－Ｑ２－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎでない場合のＲ４およびＲ５としては、原料を入手しやすい点から、それぞれ独立に、水素原子および炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
ｑは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、０～２の整数が好ましい。
－Ｑ２－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎでない場合のＲ４およびＲ５としては、原料を入手しやすい点から、それぞれ独立に、水素原子および炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
ｑは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、０～２の整数が好ましい。
【0039】
Ｒ６における１価の有機基としては、炭素数１～４の１価の有機基が特に好ましい。
－Ｚ－Ｑ２－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎでない場合のＲ６としては、原料を入手しやすい点から、炭素数１～４のアルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
ｒは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、０～２の整数が好ましく、０または１がより好ましく、０が特に好ましい。
ｓは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、１が好ましい。
－Ｚ－Ｑ２－ＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎでない場合のＲ６としては、原料を入手しやすい点から、炭素数１～４のアルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
ｒは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、０～２の整数が好ましく、０または１がより好ましく、０が特に好ましい。
ｓは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、１が好ましい。
【0040】
Ｚは、表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、単結合が好ましい。
Ｒ７としては、化合物１を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。Ｒ７のアルキル基の炭素数は、１～３が好ましく、１が特に好ましい。
Ｑ２の炭素数は、２～６が好ましく、２～４が特に好ましい。
Ｒ７としては、化合物１を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。Ｒ７のアルキル基の炭素数は、１～３が好ましく、１が特に好ましい。
Ｑ２の炭素数は、２～６が好ましく、２～４が特に好ましい。
【0041】
基ｇ２としては、たとえば、下式の基が挙げられる。ただし、式中の＊は、結合手を示す。
【0042】
【化7】
【0043】
基ｇ３としては、たとえば、下式の基が挙げられる。ただし、式中の＊は、結合手を示す。
【0044】
【化8】
【0045】
Ｒ１およびＲ２との組み合わせとしては、表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、下記の組み合わせが好ましい。
・Ｒ１およびＲ２が、いずれも基ｇ１（ただし、式ｇ１中のｐは１～３の整数である。）である。
・Ｒ１が、基ｇ１（ただし、式ｇ１中のｐは２または３である。）であり、Ｒ２が、水素原子または１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）である。
・Ｒ１およびＲ２が、いずれも基ｇ１（ただし、式ｇ１中のｐは１～３の整数である。）である。
・Ｒ１が、基ｇ１（ただし、式ｇ１中のｐは２または３である。）であり、Ｒ２が、水素原子または１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）である。
【0046】
化合物１としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。下式の化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、耐薬品性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から好ましい。
【0047】
【化9】
【0048】
ただし、Ｇはポリフルオロポリエーテル鎖、すなわちＡ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－である。Ｇの好ましい形態は、上述した好ましいＡ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２を組み合わせたものとなる。
【0049】
（化合物１の製造方法）
化合物１は、化合物２とＨＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎとをヒドロシリル化反応させる方法によって製造できる。
化合物１は、化合物２とＨＳｉＲ３ ｎＬ３－ｎとをヒドロシリル化反応させる方法によって製造できる。
【0050】
【化10】
【0051】
ただし、Ｒ１ａは、少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、Ｒ２ａは、水素原子、１価の有機基（ただし、ω－アルケニル基を有するものおよび加水分解性シリル基を有するものを除く。）または少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、Ｒ１ａにおけるω－アルケニル基の数とＲ２ａにおけるω－アルケニル基の数との合計が２以上である。Ｒ１ａおよびＲ２ａは、ヒドロシリル化後に化合物１におけるＲ１およびＲ２となる。
Ａ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物１で説明したＡ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。
Ａ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物１で説明したＡ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。
【0052】
Ｒ１ａにおけるω－アルケニル基の数とＲ２ａにおけるω－アルケニル基の数との合計は、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２または３が特に好ましい。ω－アルケニル基の数が前記範囲の下限値以上であれば、化合物２から得られる化合物１が強固に基材の表面に結合し、表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる。ω－アルケニル基の数が前記範囲の上限値以下であれば、原料を入手しやすくなり、化合物２を製造しやすい。また、化合物２から得られる化合物１の加水分解性シリル基側の末端が嵩高くならないため、基材の表面における化合物１の密度が比較的高くなる。その結果、表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる。
【0053】
少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基としては、好ましい化合物１が得られる点から、基ｇ４が好ましい。
－Ｑ１ａ［－ＣＨ＝ＣＨ２］ｐ 式ｇ４
ただし、Ｑ１ａは、単結合（ただし、ｐが１のときに限る。）または（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）である。基ｇ４は、ヒドロシリル化後に基ｇ１におけるＱ１となる。
ｐは、基ｇ１で説明したｐと同じであり、好ましい形態も同様である。
－Ｑ１ａ［－ＣＨ＝ＣＨ２］ｐ 式ｇ４
ただし、Ｑ１ａは、単結合（ただし、ｐが１のときに限る。）または（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）である。基ｇ４は、ヒドロシリル化後に基ｇ１におけるＱ１となる。
ｐは、基ｇ１で説明したｐと同じであり、好ましい形態も同様である。
【0054】
基ｇ４としては、好ましい化合物１が得られる点から、基ｇ５または基ｇ６が好ましい。
【0055】
【化11】
【0056】
ただし、Ｒ４ａおよびＲ５ａは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ２ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ４ａＲ５ａ）は、同一であっても異なっていてもよく、Ｒ６ａは、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ－Ｑ２ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ６ａは、同一であっても異なっていてもよく、ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ６ａ）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、Ｑ２ａは、単結合または炭素数１～８のアルキレン基であり、複数のＱ２ａは、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ４ａ、Ｒ５ａおよびＲ６ａは、ヒドロシリル化後に基ｇ２または基ｇ３におけるＲ４、Ｒ５およびＲ６となる。－Ｑ２ａ－ＣＨ＝ＣＨ２は、ヒドロシリル化後に基ｇ２または基ｇ３におけるＱ２となる。
ｑ、ｒ、ｓおよびＺは、基ｇ２または基ｇ３で説明したｑ、ｒ、ｓおよびＺと同じであり、好ましい形態も同様である。
Ｒ４ａ、Ｒ５ａおよびＲ６ａは、ヒドロシリル化後に基ｇ２または基ｇ３におけるＲ４、Ｒ５およびＲ６となる。－Ｑ２ａ－ＣＨ＝ＣＨ２は、ヒドロシリル化後に基ｇ２または基ｇ３におけるＱ２となる。
ｑ、ｒ、ｓおよびＺは、基ｇ２または基ｇ３で説明したｑ、ｒ、ｓおよびＺと同じであり、好ましい形態も同様である。
【0057】
Ｒ１ａおよびＲ２ａとの組み合わせとしては、好ましい化合物１が得られる点から、下記の組み合わせが好ましい。
・Ｒ１ａおよびＲ２ａが、いずれも基ｇ４（ただし、式ｇ４中のｐは１～３の整数である。）である。
・Ｒ１ａが、基ｇ４（ただし、式ｇ４中のｐは２または３である。）であり、Ｒ２ａが、水素原子または１価の有機基（ただし、ω－アルケニル基を有するものおよび加水分解性シリル基を有するものを除く。）である。
・Ｒ１ａおよびＲ２ａが、いずれも基ｇ４（ただし、式ｇ４中のｐは１～３の整数である。）である。
・Ｒ１ａが、基ｇ４（ただし、式ｇ４中のｐは２または３である。）であり、Ｒ２ａが、水素原子または１価の有機基（ただし、ω－アルケニル基を有するものおよび加水分解性シリル基を有するものを除く。）である。
【0058】
（化合物２の製造方法）
方法ｉ：化合物２は、たとえば、下記のようにして製造できる。
方法ｉ：化合物２は、たとえば、下記のようにして製造できる。
【0059】
アミンの存在下に、化合物３と－ＳＯ２Ｆの保護基となる化合物（たとえば、ｐ－ニトロフェノール）とを反応させて化合物４を得る。
ＣＦ２＝ＣＦ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｆ 式３
ＣＦ２＝ＣＦ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２－ＯＰｈＮＯ２ 式４
ただし、Ｐｈは、フェニレン基であり、ｔは、０または１であり、ｕは、０～５の整数であり、ｕが２以上の場合、（Ｒｆ１Ｏ）ｕは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよい。
ＣＦ２＝ＣＦ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｆ 式３
ＣＦ２＝ＣＦ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２－ＯＰｈＮＯ２ 式４
ただし、Ｐｈは、フェニレン基であり、ｔは、０または１であり、ｕは、０～５の整数であり、ｕが２以上の場合、（Ｒｆ１Ｏ）ｕは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよい。
【0060】
化合物３としては、反応性および入手性の点から、下式の化合物が好ましい。
ＣＦ２＝ＣＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ、
ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ、
ＣＦ２＝ＣＦＯ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ。
化合物３は、Ｄ．Ｊ．Ｖａｕｇｈａｍ著，”Ｄｕ Ｐｏｎｔ Ｉｎｏｖａｔｉｏｎ”，第４３巻、第３号，１９７３年、ｐ．１０に記載の方法、米国特許第４３５８４１２号明細書の実施例に記載の方法等によって製造できる。
ＣＦ２＝ＣＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ、
ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ、
ＣＦ２＝ＣＦＯ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ。
化合物３は、Ｄ．Ｊ．Ｖａｕｇｈａｍ著，”Ｄｕ Ｐｏｎｔ Ｉｎｏｖａｔｉｏｎ”，第４３巻、第３号，１９７３年、ｐ．１０に記載の方法、米国特許第４３５８４１２号明細書の実施例に記載の方法等によって製造できる。
【0061】
塩基性化合物の存在下に、化合物４と化合物５を反応させて化合物６を得る。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｘ－Ｒｆ１１ＣＨ２ＯＨ 式５
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｘ－Ｒｆ１１ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２－ＯＰｈＮＯ２ 式６
ただし、ｘは１以上の整数であり、ｘ＋２＋ｕは、５００以下の整数であり、Ｒｆ１１は、炭素数１～５のペルフルオロアルキレン基であり、ｘが２以上の場合、（Ｒｆ１Ｏ）ｘは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよい。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｘ－Ｒｆ１１ＣＨ２ＯＨ 式５
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｘ－Ｒｆ１１ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２－ＯＰｈＮＯ２ 式６
ただし、ｘは１以上の整数であり、ｘ＋２＋ｕは、５００以下の整数であり、Ｒｆ１１は、炭素数１～５のペルフルオロアルキレン基であり、ｘが２以上の場合、（Ｒｆ１Ｏ）ｘは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよい。
【0062】
化合物５は、国際公開第２００９／００８３８０号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１５／０８７９０２号、国際公開第２０１７／０３８８３０号、国際公開第２０１７／０３８８３２号等に記載の方法によって製造できる。
【0063】
化合物６と化合物７とを反応させて化合物２１を得る。
ＨＮ（Ｒ１ａ）（Ｒ２ａ） 式７
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｘ－Ｒｆ１１ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｎ（Ｒ１ａ）（Ｒ２ａ） 式２１
式２１は、オキシフルオロアルキレン基を一つにまとめると、式２に書き換えることができる。
化合物７としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
ＨＮ（Ｒ１ａ）（Ｒ２ａ） 式７
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｘ－Ｒｆ１１ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｎ（Ｒ１ａ）（Ｒ２ａ） 式２１
式２１は、オキシフルオロアルキレン基を一つにまとめると、式２に書き換えることができる。
化合物７としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
【0064】
【化12】
【0065】
方法ｉｉ：化合物２は、Ｒｆ１およびＲｆ２がペルフルオロアルキレン基である場合、たとえば、下記のようにして製造できる。
【0066】
化合物６とＫＦとを反応させて化合物８を得る。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｘ－Ｒｆ１１ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｆ 式８
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｘ－Ｒｆ１１ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｆ 式８
【0067】
化合物８をフッ素化処理して化合物９を得る。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｘ－Ｒｆ１１ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｆ 式９
ただし、Ｒｆ１、Ｒｆ１１およびＲｆ２は、ペルフルオロアルキレン基である。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｘ－Ｒｆ１１ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｆ 式９
ただし、Ｒｆ１、Ｒｆ１１およびＲｆ２は、ペルフルオロアルキレン基である。
【0068】
アミンの存在下に、化合物９と化合物７とを反応させて化合物２２を得る。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｘ－Ｒｆ１１ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｎ（Ｒ１ａ）（Ｒ２ａ） 式２２
式２２は、オキシペルフルオロアルキレン基を一つにまとめると、式２に書き換えることができる。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｘ－Ｒｆ１１ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｎ（Ｒ１ａ）（Ｒ２ａ） 式２２
式２２は、オキシペルフルオロアルキレン基を一つにまとめると、式２に書き換えることができる。
【0069】
方法ｉｉｉ：化合物２は、下記の合成ルートでも製造できる。
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第１２５巻，２００４年，ｐ．１２３１に記載の方法にしたがい、化合物３から化合物１１を得る。
ＣＦ２ＢｒＣＦＢｒ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｆ 式１１
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第１２５巻，２００４年，ｐ．１２３１に記載の方法にしたがい、化合物３から化合物１１を得る。
ＣＦ２ＢｒＣＦＢｒ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｆ 式１１
【0070】
化合物１１と化合物７とを反応させて化合物１２を得る。
ＣＦ２ＢｒＣＦＢｒ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｎ（Ｒ１ａ）（Ｒ２ａ） 式１２
ＣＦ２ＢｒＣＦＢｒ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｎ（Ｒ１ａ）（Ｒ２ａ） 式１２
【0071】
化合物１２から脱臭素によって化合物１３を得る。
ＣＦ２＝ＣＦ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｎ（Ｒ１ａ）（Ｒ２ａ） 式１３
塩基性化合物の存在下に、化合物１３と化合物５を反応させて化合物２１を得る。
ＣＦ２＝ＣＦ（ＣＦ２）ｔＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｕ－Ｒｆ２－ＳＯ２Ｎ（Ｒ１ａ）（Ｒ２ａ） 式１３
塩基性化合物の存在下に、化合物１３と化合物５を反応させて化合物２１を得る。
【0072】
以上説明した化合物１にあっては、下記の理由から、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
化合物１は、Ａが末端にＣＦ３－を有するため、化合物１の一方の末端がＣＦ３－となり、他方の末端が加水分解性シリル基となる。一方の末端がＣＦ３－であり、他方の末端が加水分解性シリル基である化合物１によれば、低表面エネルギーの表面層を形成できるため、表面層は潤滑性および耐摩擦性に優れる。一方、両末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物では、表面層の潤滑性および耐摩擦性が不充分である。
化合物１は、（Ｒｆ１Ｏ）ｍを有するため、フッ素原子の含有量が多い。そのため、化合物１は、初期撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面層を形成できる。
化合物１は、ポリフルオロポリエーテル鎖の一方の末端にＳＯ２Ｎを有する連結基を介して複数の加水分解性シリル基が導入されているため、ポリフルオロポリエーテル鎖と加水分解性シリル基との間の結合が摩擦、光、薬品等によって切断されにくい。そのため、化合物１は、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
化合物１は、Ａが末端にＣＦ３－を有するため、化合物１の一方の末端がＣＦ３－となり、他方の末端が加水分解性シリル基となる。一方の末端がＣＦ３－であり、他方の末端が加水分解性シリル基である化合物１によれば、低表面エネルギーの表面層を形成できるため、表面層は潤滑性および耐摩擦性に優れる。一方、両末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物では、表面層の潤滑性および耐摩擦性が不充分である。
化合物１は、（Ｒｆ１Ｏ）ｍを有するため、フッ素原子の含有量が多い。そのため、化合物１は、初期撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面層を形成できる。
化合物１は、ポリフルオロポリエーテル鎖の一方の末端にＳＯ２Ｎを有する連結基を介して複数の加水分解性シリル基が導入されているため、ポリフルオロポリエーテル鎖と加水分解性シリル基との間の結合が摩擦、光、薬品等によって切断されにくい。そのため、化合物１は、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
【0073】
［含フッ素エーテル組成物］
本発明の含フッ素エーテル組成物（以下、「本組成物」とも記す。）は、化合物１の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含む。
本発明の含フッ素エーテル組成物（以下、「本組成物」とも記す。）は、化合物１の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含む。
【0074】
他の含フッ素エーテル化合物としては、化合物１の製造工程で副生する含フッ素エーテル化合物（以下、「副生含フッ素エーテル化合物」とも記す。）、化合物１と同様の用途に用いられる公知の含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。
他の含フッ素エーテル化合物としては、化合物１の特性を低下させるおそれが少ない化合物が好ましい。
他の含フッ素エーテル化合物としては、化合物１の特性を低下させるおそれが少ない化合物が好ましい。
【0075】
副生含フッ素エーテル化合物としては、未反応の化合物２、化合物５～８、および、化合物１の製造におけるヒドロシリル化の際に、アリル基の一部がインナーオレフィンに異性化した含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。
公知の含フッ素エーテル化合物としては、市販の含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。本組成物が公知の含フッ素エーテル化合物を含む場合、化合物１の特性を補う等の新たな作用効果が発揮される場合がある。
公知の含フッ素エーテル化合物としては、市販の含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。本組成物が公知の含フッ素エーテル化合物を含む場合、化合物１の特性を補う等の新たな作用効果が発揮される場合がある。
【0076】
化合物１の含有量は、本組成物のうち、６０質量％以上１００質量％未満が好ましく、７０質量％以上１００質量％未満がより好ましく、８０質量％以上１００質量％未満が特に好ましい。
他の含フッ素エーテル化合物の含有量は、本組成物のうち、０質量％超４０質量％以下が好ましく、０質量％超３０質量％以下がより好ましく、０質量％超２０質量％以下が特に好ましい。
化合物１の含有量および他の含フッ素エーテル化合物の含有量の合計は、本組成物のうち、８０～１００質量％が好ましく、８５～１００質量％が特に好ましい。
化合物１の含有量および他の含フッ素エーテル化合物の含有量が前記範囲内であれば、表面層の初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる。
他の含フッ素エーテル化合物の含有量は、本組成物のうち、０質量％超４０質量％以下が好ましく、０質量％超３０質量％以下がより好ましく、０質量％超２０質量％以下が特に好ましい。
化合物１の含有量および他の含フッ素エーテル化合物の含有量の合計は、本組成物のうち、８０～１００質量％が好ましく、８５～１００質量％が特に好ましい。
化合物１の含有量および他の含フッ素エーテル化合物の含有量が前記範囲内であれば、表面層の初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる。
【0077】
本組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、化合物１および他の含フッ素エーテル化合物以外の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、化合物１や公知の含フッ素エーテル化合物の製造工程で生成した副生物（ただし、副生含フッ素エーテル化合物を除く。）、未反応の原料等の製造上不可避の化合物が挙げられる。
また、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の添加剤が挙げられる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等が挙げられる。塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等が挙げられる。
他の成分の含有量は、本組成物のうち、０～１０質量％が好ましく、０～１質量％が特に好ましい。
他の成分としては、化合物１や公知の含フッ素エーテル化合物の製造工程で生成した副生物（ただし、副生含フッ素エーテル化合物を除く。）、未反応の原料等の製造上不可避の化合物が挙げられる。
また、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の添加剤が挙げられる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等が挙げられる。塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等が挙げられる。
他の成分の含有量は、本組成物のうち、０～１０質量％が好ましく、０～１質量％が特に好ましい。
【0078】
［コーティング液］
本発明のコーティング液（以下、「本コーティング液」とも記す。）は、化合物１または本組成物と液状媒体とを含む。本コーティング液は、溶液であっても分散液であってもよい。
本発明のコーティング液（以下、「本コーティング液」とも記す。）は、化合物１または本組成物と液状媒体とを含む。本コーティング液は、溶液であっても分散液であってもよい。
【0079】
液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、含フッ素有機溶媒でも非フッ素有機溶媒でもよく、両溶媒を含んでもよい。
含フッ素有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素化アルカンとしては、炭素数４～８の化合物が好ましい。市販品としては、Ｃ６Ｆ１３Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（ケマーズ社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４～１２の化合物が好ましい。市販品としては、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７１００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）、Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７３００）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
非フッ素有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素、アルコール、ケトン、エーテル、エステルが挙げられる。
液状媒体は、２種以上を混合した混合媒体であってもよい。
含フッ素有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素化アルカンとしては、炭素数４～８の化合物が好ましい。市販品としては、Ｃ６Ｆ１３Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（ケマーズ社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４～１２の化合物が好ましい。市販品としては、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７１００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）、Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７３００）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
非フッ素有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素、アルコール、ケトン、エーテル、エステルが挙げられる。
液状媒体は、２種以上を混合した混合媒体であってもよい。
【0080】
化合物１または本組成物の含有量は、本コーティング液のうち、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％が特に好ましい。
液状媒体の含有量は、本コーティング液のうち、９０～９９．９９９質量％が好ましく、９９～９９．９９質量％が特に好ましい。
液状媒体の含有量は、本コーティング液のうち、９０～９９．９９９質量％が好ましく、９９～９９．９９質量％が特に好ましい。
【0081】
［物品］
本発明の物品（以下、「本物品」とも記す。）は、化合物１または本組成物から形成された表面層を基材の表面に有する。
表面層は、化合物１を、化合物１の加水分解性シリル基の一部または全部が加水分解反応し、かつ脱水縮合反応した状態で含む。
本発明の物品（以下、「本物品」とも記す。）は、化合物１または本組成物から形成された表面層を基材の表面に有する。
表面層は、化合物１を、化合物１の加水分解性シリル基の一部または全部が加水分解反応し、かつ脱水縮合反応した状態で含む。
【0082】
表面層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍが特に好ましい。表面層の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。表面層の厚さが前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。表面層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＲＩＧＡＫＵ社製、ＡＴＸ－Ｇ）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、干渉パターンの振動周期から算出できる。
【0083】
基材としては、撥水撥油性の付与が求められている基材が挙げられる。基材の材料としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材の表面にはＳｉＯ２膜等の下地膜が形成されていてもよい。
基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材、メガネレンズが好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。
基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材、メガネレンズが好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。
【0084】
［物品の製造方法］
本物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・化合物１または本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、化合物１または本組成物から形成された表面層を基材の表面に形成する方法。
・ウェットコーティング法によって本コーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、化合物１または本組成物から形成された表面層を基材の表面に形成する方法。
本物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・化合物１または本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、化合物１または本組成物から形成された表面層を基材の表面に形成する方法。
・ウェットコーティング法によって本コーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、化合物１または本組成物から形成された表面層を基材の表面に形成する方法。
【0085】
ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。化合物１の分解を抑える点、および装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好ましい。真空蒸着時には、鉄、鋼等の金属多孔体に化合物１または本組成物を含浸させたペレット状物質を用いてもよい。本コーティング液を鉄、鋼等の金属多孔体に含浸させ、液状媒体を乾燥させて、化合物１または本組成物が含浸したペレット状物質を用いてもよい。
【0086】
ウェットコーティング法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法等が挙げられる。
【実施例】
【0087】
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において「％」は特に断りのない限り「質量％」である。なお、例１～５、８～１１は実施例であり、例６、７、１２、１３は比較例である。
【0088】
［例１］
（例１－１）
１，０００ｍＬのナスフラスコに、ｐ－ニトロフェノールの１６．４ｇ、トリエチルアミンの１６．２ｇ、ジメチルアミノピリジンの０．０６６ｇ、ジクロロペンタフルオロプロパン（旭硝子社製、ＡＫ－２２５）の３００ｍＬを入れ、氷冷下撹拌した。その後、国際公開第２０１１／０１３５７７号の実施例に記載の化合物３－１の５０ｇをゆっくり添加し、２５℃で５時間撹拌した。トリエチルアミンの１６．２ｇをさらに添加し、１５時間撹拌した。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物４－１の３９ｇ（収率６５％）を得た。
ＣＦ２＝ＣＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ 式３－１
ＣＦ２＝ＣＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２－ＯＰｈＮＯ２ 式４－１
（例１－１）
１，０００ｍＬのナスフラスコに、ｐ－ニトロフェノールの１６．４ｇ、トリエチルアミンの１６．２ｇ、ジメチルアミノピリジンの０．０６６ｇ、ジクロロペンタフルオロプロパン（旭硝子社製、ＡＫ－２２５）の３００ｍＬを入れ、氷冷下撹拌した。その後、国際公開第２０１１／０１３５７７号の実施例に記載の化合物３－１の５０ｇをゆっくり添加し、２５℃で５時間撹拌した。トリエチルアミンの１６．２ｇをさらに添加し、１５時間撹拌した。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物４－１の３９ｇ（収率６５％）を得た。
ＣＦ２＝ＣＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ 式３－１
ＣＦ２＝ＣＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２－ＯＰｈＮＯ２ 式４－１
【0089】
化合物４－１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）） δ（ｐｐｍ）：７．５（２Ｈ）、８．４（２Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８４（２Ｆ）、－１１２（３Ｆ）、－１２１（１Ｆ）、－１３４（１Ｆ）、－１４４（１Ｆ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）） δ（ｐｐｍ）：７．５（２Ｈ）、８．４（２Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８４（２Ｆ）、－１１２（３Ｆ）、－１２１（１Ｆ）、－１３４（１Ｆ）、－１４４（１Ｆ）。
【0090】
（例１－２）
国際公開第２０１７／０３８８３２号の実施例の例３に記載の方法にしたがって化合物５－１を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ 式５－１
単位数ｘ３の平均値：１２、化合物５－１の数平均分子量：３，８００。
国際公開第２０１７／０３８８３２号の実施例の例３に記載の方法にしたがって化合物５－１を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ 式５－１
単位数ｘ３の平均値：１２、化合物５－１の数平均分子量：３，８００。
【0091】
（例１－３）
５００ｍＬのナスフラスコに、例１－２で得た化合物５－１の１００ｇ、例１－１で得た化合物４－１の１５．０ｇ、２－メチル－２－プロパノールの１１．７ｇ、４８質量％の水酸化カリウム水溶液の３．４ｇ、水の３．４ｇを入れ、７０℃で２０時間撹拌した。２５℃に冷却し、メタノールを入れ、充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れ、充分に撹拌した。ＡＣ－６０００層を回収し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物６－１の８．４４ｇ（収率７．４％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２－ＯＰｈＮＯ２ 式６－１
５００ｍＬのナスフラスコに、例１－２で得た化合物５－１の１００ｇ、例１－１で得た化合物４－１の１５．０ｇ、２－メチル－２－プロパノールの１１．７ｇ、４８質量％の水酸化カリウム水溶液の３．４ｇ、水の３．４ｇを入れ、７０℃で２０時間撹拌した。２５℃に冷却し、メタノールを入れ、充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れ、充分に撹拌した。ＡＣ－６０００層を回収し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物６－１の８．４４ｇ（収率７．４％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２－ＯＰｈＮＯ２ 式６－１
【0092】
化合物６－１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：７．５（２Ｈ）、８．４（２Ｈ）、６．０（１Ｈ）、４．５（２Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１２（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：７．５（２Ｈ）、８．４（２Ｈ）、６．０（１Ｈ）、４．５（２Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１２（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
【0093】
（例１－４）
１００ｍＬのナスフラスコに、例１－３で得た化合物６－１の５．０ｇ、１，３－ジ（トリフルオロメチル）ベンゼンの６ｍＬ、化合物７－１の０．３７ｇを入れ、加熱還流で一晩撹拌した。２５℃に冷却し、メタノールを入れ、充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れ、充分に撹拌した。ＡＣ－６０００層を回収し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物２－１の４．６ｇ（収率９２％）を得た。
Ｈ２Ｎ－ＣＨ２－Ｃ［－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２］３ 式７－１
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２ＮＨ－ＣＨ２－Ｃ［－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２］３ 式２－１
１００ｍＬのナスフラスコに、例１－３で得た化合物６－１の５．０ｇ、１，３－ジ（トリフルオロメチル）ベンゼンの６ｍＬ、化合物７－１の０．３７ｇを入れ、加熱還流で一晩撹拌した。２５℃に冷却し、メタノールを入れ、充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れ、充分に撹拌した。ＡＣ－６０００層を回収し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物２－１の４．６ｇ（収率９２％）を得た。
Ｈ２Ｎ－ＣＨ２－Ｃ［－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２］３ 式７－１
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２ＮＨ－ＣＨ２－Ｃ［－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２］３ 式２－１
【0094】
化合物２－１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（４Ｈ）、５．０（６Ｈ）、４．５（２Ｈ）、２．６（２Ｈ）、１．９（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（４Ｈ）、５．０（６Ｈ）、４．５（２Ｈ）、２．６（２Ｈ）、１．９（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
【0095】
（例１－５）
５０ｍＬのナスフラスコに、例１－４で得た化合物２－１の１．０ｇ、トリメトキシシランの０．１１ｇ、アニリンの０．００１１ｇ、ＡＣ－６０００の１．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００３３ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。その後濃縮し、化合物１－１の１．０ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２ＮＨ－ＣＨ２－Ｃ［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］３ 式１－１
５０ｍＬのナスフラスコに、例１－４で得た化合物２－１の１．０ｇ、トリメトキシシランの０．１１ｇ、アニリンの０．００１１ｇ、ＡＣ－６０００の１．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００３３ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。その後濃縮し、化合物１－１の１．０ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２ＮＨ－ＣＨ２－Ｃ［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］３ 式１－１
【0096】
化合物１－１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（１Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．０（２７Ｈ）、２．６（２Ｈ）、１．３（１２Ｈ）、０．７（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２、化合物１－１の数平均分子量：４，７００。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（１Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．０（２７Ｈ）、２．６（２Ｈ）、１．３（１２Ｈ）、０．７（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２、化合物１－１の数平均分子量：４，７００。
【0097】
［例２］
（例２－１）
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第１２５巻，２００４年，ｐ．１２３１に記載の方法にしたがい、化合物１１－１を得た。
ＣＦ２ＢｒＣＦＢｒＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ 式１１－１
（例２－１）
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第１２５巻，２００４年，ｐ．１２３１に記載の方法にしたがい、化合物１１－１を得た。
ＣＦ２ＢｒＣＦＢｒＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ 式１１－１
【0098】
（例２－２）
１００ｍＬのナスフラスコに、例２－１で得た化合物１１－１の１０ｇ、ピリジンの１３ｇ、例１－４でも使用した化合物７－１の３ｇを入れ、１００℃で２０時間撹拌した。その後水を添加し、１０分間撹拌した後に塩化メチレンで２層分離し、有機層を回収し、溶媒を留去した。得られた粗液をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物１２－１の４．２ｇ（収率３４％）を得た。
ＣＦ２ＢｒＣＦＢｒＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２ＮＨ－ＣＨ２－Ｃ［ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２］３ 式１２－１
１００ｍＬのナスフラスコに、例２－１で得た化合物１１－１の１０ｇ、ピリジンの１３ｇ、例１－４でも使用した化合物７－１の３ｇを入れ、１００℃で２０時間撹拌した。その後水を添加し、１０分間撹拌した後に塩化メチレンで２層分離し、有機層を回収し、溶媒を留去した。得られた粗液をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物１２－１の４．２ｇ（収率３４％）を得た。
ＣＦ２ＢｒＣＦＢｒＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２ＮＨ－ＣＨ２－Ｃ［ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２］３ 式１２－１
【0099】
化合物１２－１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（３Ｈ）、５．１（６Ｈ）、３．２（２Ｈ）、２．１（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－７０（１Ｆ）、－７８（５Ｆ）、－８１（１Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１４５（１Ｆ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（３Ｈ）、５．１（６Ｈ）、３．２（２Ｈ）、２．１（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－７０（１Ｆ）、－７８（５Ｆ）、－８１（１Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１４５（１Ｆ）。
【0100】
（例２－３）
１００ｍＬのナスフラスコに、亜鉛粉末の０．７０ｇ、例２－２で得た化合物１２－１の４．２８ｇ、アセトニトリルの１６ｇを入れ、６０℃で２時間撹拌した。その後固体をろ過し、溶媒を留去し、化合物１３－１の３．３ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ２＝ＣＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２ＮＨ－ＣＨ２－Ｃ［ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２］３ 式１３－１
１００ｍＬのナスフラスコに、亜鉛粉末の０．７０ｇ、例２－２で得た化合物１２－１の４．２８ｇ、アセトニトリルの１６ｇを入れ、６０℃で２時間撹拌した。その後固体をろ過し、溶媒を留去し、化合物１３－１の３．３ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ２＝ＣＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２ＮＨ－ＣＨ２－Ｃ［ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２］３ 式１３－１
【0101】
化合物１３－１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（３Ｈ）、５．１（６Ｈ）、３．２（２Ｈ）、２．１（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８４（２Ｆ）、－１１３（１Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２２（１Ｆ）、－１３５（１Ｆ）、－１４５（１Ｆ）
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（３Ｈ）、５．１（６Ｈ）、３．２（２Ｈ）、２．１（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８４（２Ｆ）、－１１３（１Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２２（１Ｆ）、－１３５（１Ｆ）、－１４５（１Ｆ）
【0102】
（例２－４）
５０ｍＬのナスフラスコに、例１－２で得た化合物５－１の２．４６ｇ、例２－３で得た化合物１３－１の０．３７ｇ、２－メチル－２－プロパノールの０．２３ｇ、４８質量％の水酸化カリウム水溶液の０．０８ｇ、水の０．０８ｇを入れ、７０℃で４８時間撹拌した。２５℃に冷却し、メタノールを入れ、充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れ、充分に撹拌した。ＡＣ－６０００層を回収し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物２－１の２．５５ｇ（収率９１％）を得た。
以下、例２－４で得た化合物２－１を用いても、例１－５と同様にして化合物１－１を得ることができる。
５０ｍＬのナスフラスコに、例１－２で得た化合物５－１の２．４６ｇ、例２－３で得た化合物１３－１の０．３７ｇ、２－メチル－２－プロパノールの０．２３ｇ、４８質量％の水酸化カリウム水溶液の０．０８ｇ、水の０．０８ｇを入れ、７０℃で４８時間撹拌した。２５℃に冷却し、メタノールを入れ、充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れ、充分に撹拌した。ＡＣ－６０００層を回収し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物２－１の２．５５ｇ（収率９１％）を得た。
以下、例２－４で得た化合物２－１を用いても、例１－５と同様にして化合物１－１を得ることができる。
【0103】
［例３］
（例３－１）
５０ｍＬのナスフラスコに、例１－３と同様にして得た化合物６－１の１５ｇ、ＫＦの０．４０ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドの１０ｍＬを入れ、８０℃で８時間撹拌した。固体をろ別し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物８－１の１２．１ｇ（収率８５％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ 式８－１
（例３－１）
５０ｍＬのナスフラスコに、例１－３と同様にして得た化合物６－１の１５ｇ、ＫＦの０．４０ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドの１０ｍＬを入れ、８０℃で８時間撹拌した。固体をろ別し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物８－１の１２．１ｇ（収率８５％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ 式８－１
【0104】
化合物８－１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（１Ｈ）、４．５（２Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：＋４５（１Ｆ）、－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１２（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（１Ｈ）、４．５（２Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：＋４５（１Ｆ）、－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１２（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
【0105】
（例３－２）
５００ｍＬのニッケル製反応器に、ＣｌＣＦ２ＣＦＣｌＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｃｌ（ＣＦＥ－４１９）の２５０ｍＬを入れ、窒素をバブリングした。酸素濃度が充分に下がった後、２０％フッ素ガス（窒素で希釈）を１時間バブリングした。排ガスはアルカリで中和した。例３－１で得た化合物８－１のＣＦＥ－４１９溶液（２０質量％、化合物８－１の質量１２ｇ）を２時間かけて添加した。フッ素導入速度（ｍｏｌ／時間）と化合物８－１中のＨ原子導入速度（ｍｏｌ／時間）との比は２：１になるように制御した。化合物８－１の添加が終わった後、ベンゼン０．５ｇのＣＦＥ－４１９溶液（０．１質量％）を断続的に投入した。ベンゼンの投入が終わった後、フッ素ガスを１時間バブリングし、最後に窒素ガスで反応容器内を充分に置換した。溶媒を留去し、化合物９－１の１０．５ｇ得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ 式９－１
５００ｍＬのニッケル製反応器に、ＣｌＣＦ２ＣＦＣｌＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｃｌ（ＣＦＥ－４１９）の２５０ｍＬを入れ、窒素をバブリングした。酸素濃度が充分に下がった後、２０％フッ素ガス（窒素で希釈）を１時間バブリングした。排ガスはアルカリで中和した。例３－１で得た化合物８－１のＣＦＥ－４１９溶液（２０質量％、化合物８－１の質量１２ｇ）を２時間かけて添加した。フッ素導入速度（ｍｏｌ／時間）と化合物８－１中のＨ原子導入速度（ｍｏｌ／時間）との比は２：１になるように制御した。化合物８－１の添加が終わった後、ベンゼン０．５ｇのＣＦＥ－４１９溶液（０．１質量％）を断続的に投入した。ベンゼンの投入が終わった後、フッ素ガスを１時間バブリングし、最後に窒素ガスで反応容器内を充分に置換した。溶媒を留去し、化合物９－１の１０．５ｇ得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｆ 式９－１
【0106】
化合物９－１のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：＋４５（１Ｆ）、－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１２（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（１Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：＋４５（１Ｆ）、－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１２（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（１Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
【0107】
（例３－３）
５０ｍＬのナスフラスコに、例３－２で得た化合物９－１の６．０ｇ、１，３－ジ（トリフルオロメチル）ベンゼンの７．０ｍＬ、トリエチルアミンの０．４５ｇ、化合物７－１の０．４５ｇを入れ、加熱還流で一晩撹拌した。メタノールを入れ、充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れ、充分に撹拌した。ＡＣ－６０００層を回収し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物２－２の５．４ｇ（収率９０％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２ＮＨ－ＣＨ２－Ｃ［－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２］３ 式２－２
５０ｍＬのナスフラスコに、例３－２で得た化合物９－１の６．０ｇ、１，３－ジ（トリフルオロメチル）ベンゼンの７．０ｍＬ、トリエチルアミンの０．４５ｇ、化合物７－１の０．４５ｇを入れ、加熱還流で一晩撹拌した。メタノールを入れ、充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れ、充分に撹拌した。ＡＣ－６０００層を回収し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物２－２の５．４ｇ（収率９０％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２ＮＨ－ＣＨ２－Ｃ［－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２］３ 式２－２
【0108】
化合物２－２のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（３Ｈ）、５．０（６Ｈ）、２．６（２Ｈ）、１．９（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（１Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（３Ｈ）、５．０（６Ｈ）、２．６（２Ｈ）、１．９（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（１Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
【0109】
（例３－４）
５０ｍＬのナスフラスコに、例３－３で得た化合物２－２の１ｇ、トリメトキシシランの０．１１ｇ、アニリンの０．００１１ｇ、ＡＣ－６０００の１．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００３３ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。その後濃縮し、化合物１－２の１．０ｇ（収率１００％）得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２ＮＨ－ＣＨ２－Ｃ［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］３ 式１－２
５０ｍＬのナスフラスコに、例３－３で得た化合物２－２の１ｇ、トリメトキシシランの０．１１ｇ、アニリンの０．００１１ｇ、ＡＣ－６０００の１．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００３３ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。その後濃縮し、化合物１－２の１．０ｇ（収率１００％）得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２ＮＨ－ＣＨ２－Ｃ［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］３ 式１－２
【0110】
化合物１－２のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．０（２７Ｈ）２．６（２Ｈ）、１．３（１２Ｈ）、０．７（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（１Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２、化合物１－２の数平均分子量：４，７００。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．０（２７Ｈ）２．６（２Ｈ）、１．３（１２Ｈ）、０．７（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（１Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２、化合物１－２の数平均分子量：４，７００。
【0111】
［例４］
（例４－１）
１００ｍＬのナスフラスコに、例１－３と同様にして得た化合物６－１の４．０ｇ、１，３－ジ（トリフルオロメチル）ベンゼンの５．０ｍＬ、化合物７－２（東京化成工業社製、Ｄ００６９）の０．１８ｇを入れ、加熱還流で一晩撹拌した。２５℃に冷却し、メタノールを入れ、充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れ、充分に撹拌した。ＡＣ－６０００層を回収し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物２－３の３．５ｇ（収率９０％）を得た。
ＨＮ［－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２］２ 式７－２
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｎ［－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２］２ 式２－３
（例４－１）
１００ｍＬのナスフラスコに、例１－３と同様にして得た化合物６－１の４．０ｇ、１，３－ジ（トリフルオロメチル）ベンゼンの５．０ｍＬ、化合物７－２（東京化成工業社製、Ｄ００６９）の０．１８ｇを入れ、加熱還流で一晩撹拌した。２５℃に冷却し、メタノールを入れ、充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れ、充分に撹拌した。ＡＣ－６０００層を回収し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物２－３の３．５ｇ（収率９０％）を得た。
ＨＮ［－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２］２ 式７－２
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｎ［－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２］２ 式２－３
【0112】
化合物２－３のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（３Ｈ）、５．２（４Ｈ）、４．５（２Ｈ）、３．３（４Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（３Ｈ）、５．２（４Ｈ）、４．５（２Ｈ）、３．３（４Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
【0113】
（例４－２）
５０ｍＬのナスフラスコに、例４－１で得た化合物２－３の１．０ｇ、トリメトキシシランの０．０８３ｇ、アニリンの０．００１ｇ、ＡＣ－６０００の１．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００３３ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。その後濃縮し、化合物１－３の１．０ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｎ［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］２ 式１－３
５０ｍＬのナスフラスコに、例４－１で得た化合物２－３の１．０ｇ、トリメトキシシランの０．０８３ｇ、アニリンの０．００１ｇ、ＡＣ－６０００の１．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００３３ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。その後濃縮し、化合物１－３の１．０ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－ＣＦ２ＣＨＦＯ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｎ［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］２ 式１－３
【0114】
化合物１－３のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（１Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．０（１８Ｈ）、３．３（４Ｈ）、１．５（４Ｈ）、０．７（４Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２、化合物１－３の数平均分子量：４，７００。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（１Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．０（１８Ｈ）、３．３（４Ｈ）、１．５（４Ｈ）、０．７（４Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２、化合物１－３の数平均分子量：４，７００。
【0115】
［例５］
（例５－１）
５０ｍＬのナスフラスコに、例３－２と同様にして得た化合物９－１の３．０ｇ、１，３－ジ（トリフルオロメチル）ベンゼンの３．５ｍＬ、トリエチルアミンの０．２１ｇ、化合物７－２の０．１４ｇを入れ、加熱還流で一晩撹拌した。メタノールを入れ、充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れ、充分に撹拌した。ＡＣ－６０００層を回収し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物２－４の２．６ｇ（収率９０％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｎ［－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２］２ 式２－４
（例５－１）
５０ｍＬのナスフラスコに、例３－２と同様にして得た化合物９－１の３．０ｇ、１，３－ジ（トリフルオロメチル）ベンゼンの３．５ｍＬ、トリエチルアミンの０．２１ｇ、化合物７－２の０．１４ｇを入れ、加熱還流で一晩撹拌した。メタノールを入れ、充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れ、充分に撹拌した。ＡＣ－６０００層を回収し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製した。化合物２－４の２．６ｇ（収率９０％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｎ［－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２］２ 式２－４
【0116】
化合物２－４のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（２Ｈ）、５．０（４Ｈ）、１．９（４Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（１Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（２Ｈ）、５．０（４Ｈ）、１．９（４Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（１Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２。
【0117】
（例５－２）
５０ｍＬのナスフラスコに、例５－１で得た化合物２－４の１．０ｇ、トリメトキシシランの０．０８４ｇ、アニリンの０．００１０ｇ、ＡＣ－６０００の１．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００３３ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。その後濃縮し、化合物１－４の１．０ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｎ［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］２ 式１－４
５０ｍＬのナスフラスコに、例５－１で得た化合物２－４の１．０ｇ、トリメトキシシランの０．０８４ｇ、アニリンの０．００１０ｇ、ＡＣ－６０００の１．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００３３ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。その後濃縮し、化合物１－４の１．０ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２－ＳＯ２Ｎ［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］２ 式１－４
【0118】
化合物１－４のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．０（１８Ｈ）、３．３（４Ｈ）、１．５（４Ｈ）、０．７（４Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（１Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２、化合物１－４の数平均分子量：４，７００。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．０（１８Ｈ）、３．３（４Ｈ）、１．５（４Ｈ）、０．７（４Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－７９（３Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８５（１Ｆ）、－８８（５０Ｆ）、－９０（４Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２５（４８Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４４（１Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１２、化合物１－４の数平均分子量：４，７００。
【0119】
［例６］
国際公開第２０１７／０３８８３２号の実施例の例３に記載の方法にしたがって化合物１０－１を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＣＨ２－Ｎ［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］２ 式１０－１
国際公開第２０１７／０３８８３２号の実施例の例３に記載の方法にしたがって化合物１０－１を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＣＨ２－Ｎ［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］２ 式１０－１
【0120】
［例７］
国際公開第２０１３／１２１９８４号の実施例６に記載の方法にしたがって化合物１０－２を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 式１０－２
国際公開第２０１３／１２１９８４号の実施例６に記載の方法にしたがって化合物１０－２を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 式１０－２
【0121】
［例８～１３：物品の製造および評価］
例１および３～７で得た各化合物を用いて基材を表面処理し、例８～１３の物品を得た。表面処理方法として、各例について下記のドライコーティング法およびウェットコーティング法をそれぞれ用いた。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、下記の方法で評価した。結果を表１に示す。
例１および３～７で得た各化合物を用いて基材を表面処理し、例８～１３の物品を得た。表面処理方法として、各例について下記のドライコーティング法およびウェットコーティング法をそれぞれ用いた。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、下記の方法で評価した。結果を表１に示す。
【0122】
（ドライコーティング法）
ドライコーティングは、真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製、ＶＴＲ－３５０Ｍ）を用いて行った（真空蒸着法）。例１および３～７で得た各化合物の０．５ｇを真空蒸着装置のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を１×１０－３Ｐａ以下に排気した。化合物を配置したボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への製膜を開始させた。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への製膜を終了させた。化合物が堆積された基材を、２００℃で３０分間加熱処理し、ＡＫ－２２５にて洗浄して基材の表面に表面層を有する物品を得た。
ドライコーティングは、真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製、ＶＴＲ－３５０Ｍ）を用いて行った（真空蒸着法）。例１および３～７で得た各化合物の０．５ｇを真空蒸着装置のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を１×１０－３Ｐａ以下に排気した。化合物を配置したボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への製膜を開始させた。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への製膜を終了させた。化合物が堆積された基材を、２００℃で３０分間加熱処理し、ＡＫ－２２５にて洗浄して基材の表面に表面層を有する物品を得た。
【0123】
（ウェットコーティング法）
例１および３～７で得た各化合物と、媒体としてのＣ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。コーティング液に基材をディッピングし、３０分間放置後、基材を引き上げた（ディップコート法）。塗膜を２００℃で３０分間乾燥させ、ＡＫ－２２５にて洗浄して基材の表面に表面層を有する物品を得た。
例１および３～７で得た各化合物と、媒体としてのＣ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。コーティング液に基材をディッピングし、３０分間放置後、基材を引き上げた（ディップコート法）。塗膜を２００℃で３０分間乾燥させ、ＡＫ－２２５にて洗浄して基材の表面に表面層を有する物品を得た。
【0124】
（評価方法）
＜接触角の測定方法＞
表面層の表面に置いた、約２μＬの蒸留水またはｎ－ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ－５００）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。
＜接触角の測定方法＞
表面層の表面に置いた、約２μＬの蒸留水またはｎ－ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ－５００）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。
【0125】
＜初期接触角＞
表面層について、初期水接触角および初期ｎ－ヘキサデカン接触角を前記測定方法で測定した。評価基準は下記のとおりである。
初期水接触角：
◎（優） ：１１５度以上。
○（良） ：１１０度以上１１５度未満。
△（可） ：１００度以上１１０度未満。
×（不可）：１００度未満。
初期ｎ－ヘキサデカン接触角：
◎（優） ：６６度以上。
○（良） ：６５度以上６６度未満。
△（可） ：６３度以上６５度未満。
×（不可）：６３度未満。
表面層について、初期水接触角および初期ｎ－ヘキサデカン接触角を前記測定方法で測定した。評価基準は下記のとおりである。
初期水接触角：
◎（優） ：１１５度以上。
○（良） ：１１０度以上１１５度未満。
△（可） ：１００度以上１１０度未満。
×（不可）：１００度未満。
初期ｎ－ヘキサデカン接触角：
◎（優） ：６６度以上。
○（良） ：６５度以上６６度未満。
△（可） ：６３度以上６５度未満。
×（不可）：６３度未満。
【0126】
＜耐光性＞
表面層に対し、卓上型キセノンアークランプ式促進耐光性試験機（東洋精機社製、ＳＵＮＴＥＳＴ ＸＬＳ＋）を用いて、ブラックパネル温度：６３℃にて、光線（６５０Ｗ／ｍ２、３００～７００ｎｍ）を１，０００時間照射した後、水接触角を測定した。促進耐光試験後の水接触角の低下が小さいほど光による性能の低下が小さく、耐光性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が２度以下。
○（良） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：促進耐光試験後の水接触角の変化が１０度超。
表面層に対し、卓上型キセノンアークランプ式促進耐光性試験機（東洋精機社製、ＳＵＮＴＥＳＴ ＸＬＳ＋）を用いて、ブラックパネル温度：６３℃にて、光線（６５０Ｗ／ｍ２、３００～７００ｎｍ）を１，０００時間照射した後、水接触角を測定した。促進耐光試験後の水接触角の低下が小さいほど光による性能の低下が小さく、耐光性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が２度以下。
○（良） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：促進耐光試験後の水接触角の変化が１０度超。
【0127】
＜耐摩擦性（スチールウール）＞
表面層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度以下。
○（良） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：１万回往復後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：１万回往復後の水接触角の変化が１０度超。
表面層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度以下。
○（良） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：１万回往復後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：１万回往復後の水接触角の変化が１０度超。
【0128】
＜耐薬品性（耐アルカリ性）＞
物品を、１規定の水酸化ナトリウム水溶液（ｐＨ＝１４）に５時間浸漬した後、水洗、風乾し、水接触角を測定した。試験後における水接触角の低下が小さいほどアルカリによる性能の低下が小さく、耐アルカリ性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が２度以下。
〇（良） ：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が１０度超。
物品を、１規定の水酸化ナトリウム水溶液（ｐＨ＝１４）に５時間浸漬した後、水洗、風乾し、水接触角を測定した。試験後における水接触角の低下が小さいほどアルカリによる性能の低下が小さく、耐アルカリ性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が２度以下。
〇（良） ：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が１０度超。
【0129】
＜耐薬品性（耐塩水性）＞
ＪＩＳ Ｈ８５０２に準拠して塩水噴霧試験を行った。すなわち、物品を、塩水噴霧試験機（スガ試験機社製）内で３００時間塩水雰囲気に暴露した後、水接触角を測定した。試験後における水接触角の低下が小さいほど塩水による性能の低下が小さく、耐塩水性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が２度以下。
○（良） ：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が１０度超。
ＪＩＳ Ｈ８５０２に準拠して塩水噴霧試験を行った。すなわち、物品を、塩水噴霧試験機（スガ試験機社製）内で３００時間塩水雰囲気に暴露した後、水接触角を測定した。試験後における水接触角の低下が小さいほど塩水による性能の低下が小さく、耐塩水性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が２度以下。
○（良） ：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が１０度超。
【0130】
＜指紋汚れ除去性＞
人工指紋液（オレイン酸とスクアレンとからなる液）を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布（旭化成社製、ベンコット（登録商標）Ｍ－３）にて拭き取って、指紋のスタンプを準備した。指紋スタンプを表面層上に乗せ、荷重：９．８Ｎにて１０秒間押しつけた。指紋が付着した箇所のヘーズをヘーズメータにて測定し、初期値とした。指紋が付着した箇所について、ティッシュペーパーを取り付けた往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、荷重：４．９Ｎにて拭き取った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、ヘーズが初期値から１０％以下になる拭き取り回数を測定した。拭き取り回数が少ないほど指紋汚れを容易に除去でき、指紋汚れ拭き取り性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：拭き取り回数が３回以下。
○（良） ：拭き取り回数が４～５回。
△（可） ：拭き取り回数が６～８回。
×（不可）：拭き取り回数が９回以上。
人工指紋液（オレイン酸とスクアレンとからなる液）を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布（旭化成社製、ベンコット（登録商標）Ｍ－３）にて拭き取って、指紋のスタンプを準備した。指紋スタンプを表面層上に乗せ、荷重：９．８Ｎにて１０秒間押しつけた。指紋が付着した箇所のヘーズをヘーズメータにて測定し、初期値とした。指紋が付着した箇所について、ティッシュペーパーを取り付けた往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、荷重：４．９Ｎにて拭き取った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、ヘーズが初期値から１０％以下になる拭き取り回数を測定した。拭き取り回数が少ないほど指紋汚れを容易に除去でき、指紋汚れ拭き取り性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：拭き取り回数が３回以下。
○（良） ：拭き取り回数が４～５回。
△（可） ：拭き取り回数が６～８回。
×（不可）：拭き取り回数が９回以上。
【0131】
【表1】
【0132】
化合物１を用いた例８～１１は、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、耐光性および耐薬品性に優れていることを確認した。
従来の含フッ素エーテル化合物を用いた例１２、１３は、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に劣っていた。
従来の含フッ素エーテル化合物を用いた例１２、１３は、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に劣っていた。
【産業上の利用可能性】
【0133】
本発明の含フッ素エーテル化合物は、潤滑性や撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえばタッチパネル等の表示入力装置、透明なガラス製または透明なプラスチック製部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート、電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート、トイレタリー用防汚コート、導通しながら撥液が必要な部材へのコート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話、携帯情報端末等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等人の指あるいは手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材、配線板用防水コーティング熱交換機の撥水・防水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車部品、工具等の表面保護コートが挙げられる。
なお、２０１７年０８月２２日に出願された日本特許出願２０１７－１５９６９７号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
なお、２０１７年０８月２２日に出願された日本特許出願２０１７－１５９６９７号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。