特許7015235IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

欠陥の分類に関し、より詳細には非可視欠陥の分類

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

したがって、必要なのは、ウェハ欠陥を分類するために必要な時間と労力を低減するシステムと技法である。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

第1の実施形態において、システムが提供される。システムは、欠陥レビューツールと、欠陥レビューツールと通信するように構成されたコントローラを備えている。欠陥レビューツールは、ウェハを固締するように構成されたステージを有する。コントローラは、ウェハの層上の非可視欠陥を分類器を用いて識別するように構成されている。欠陥レビューツールは走査電子顕微鏡(SEM)であり得る。非可視欠陥はSEM非可視欠陥(・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

本開示の本質と目的をより万全に理解するために、以下の詳細な説明を添付の図面と併せて参照する。
【図1】 本開示の一実施形態によるフローチャートである。
【図2】 走査電子顕微鏡非可視(SNV)スプレッドの例示的上限と下限を示すチャートである。
【図3】 例示的SNV分類器の模式図である。
【図4】 本開示による欠陥レビューツールの一実施形態の図である。

代表図 図1本件の代表的な図

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