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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第278位 96件
(
2025年:第352位 92件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第439位 46件
(
2025年:第273位 106件)
(ランキング更新日:2026年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7936372 | オーバーレイ計測における特定のフーリエ瞳周波数を分離するためのシステムおよび方法 | 2026年10月15日 | |
| 特許 7936325 | 電磁コイルの均一な冷却のためのシステムおよび方法 | 2026年10月15日 | |
| 特許 7936321 | 高解像度、マルチ電子ビーム装置 | 2026年10月15日 | |
| 特許 7936318 | 段階的な濃度のヒドロキシルラジカルを有するレーザ維持プラズマランプ | 2026年10月15日 | |
| 特許 7931152 | マルチカラム顕微鏡用自動焦点センサの実装 | 2026年10月 6日 | |
| 特許 7925525 | 電子銃及び電子顕微鏡 | 2026年 9月28日 | |
| 特許 7924394 | 光電陰極膜を用いた複数の電子ビームの生成 | 2026年 9月24日 | |
| 特許 7922797 | 画像モデリング支援輪郭抽出 | 2026年 9月16日 | |
| 特許 7918852 | リニク干渉計による3Dプロフィロメトリ | 2026年 9月10日 | |
| 特許 7917656 | 光学検査装置及び計量方法 | 2026年 9月 8日 | |
| 特許 7917685 | 積み重ねられた四ホウ酸ストロンチウム板を使用した周波数変換 | 2026年 9月 8日 | |
| 特許 7910173 | 走査スキャトロメトリ・オーバーレイ測定 | 2026年 8月24日 | |
| 特許 7898425 | 半導体デバイスの欠陥検出装置及び方法 | 2026年 7月31日 | |
| 特許 7891004 | 半導体ベースのアプリケーションのための深層学習画像ノイズ除去 | 2026年 7月15日 | |
| 特許 7891000 | 短波赤外線波長を使用する光学計量 | 2026年 7月15日 |
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7936372 7936325 7936321 7936318 7931152 7925525 7924394 7922797 7918852 7917656 7917685 7910173 7898425 7891004 7891000
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〜発明が生まれる開発現場の知財力を強化する~一枚図解でわかる 新規性・進歩性 ──発明とは何なのかを理解して、その先のイノベーションへ!
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公正取引委員会 も注視する“不当なノウハウ流出”の現場と対策セミナー 「電子公証サービス」で証拠を残す 共同研究や取引交渉で負けない知財戦略
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