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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第280位 39件
(
2025年:第347位 91件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第457位 19件
(
2025年:第276位 102件)
(ランキング更新日:2026年5月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7854035 | X線スキャトロメトリシステムのフルビーム計測 | 2026年 4月30日 | |
| 特許 7848247 | 物理学ベースモデルをセットアップするためのシステムおよび方法 | 2026年 4月20日 | |
| 特許 7844585 | 半導体デバイスの位置ずれを測定する多層モアレ標的 | 2026年 4月13日 | |
| 特許 7843846 | 複数の照明パラメータを使用した多方向オーバーレイ計測および分離画像化 | 2026年 4月10日 | |
| 特許 7840440 | 感受性粒子を検出するための連続縮退楕円リターダ | 2026年 4月 3日 | |
| 特許 7839200 | マルチビームシステムにおけるファイバ位置マッピングのシステムおよび方法 | 2026年 4月 1日 | |
| 特許 7838002 | 複数の電子ビームを生み出すシステムおよび方法 | 2026年 3月31日 | |
| 特許 7830475 | 半導体デバイスにおける欠陥ベースの試験カバレッジギャップを自動的に識別するためのシステムおよび方法 | 2026年 3月16日 | |
| 特許 7828361 | オーバーレイ計測用の傾斜照明 | 2026年 3月11日 | |
| 特許 7821784 | マイクロ電子デバイス製造中に物理的シミュレーションモデルを加速するシステムおよび方法 | 2026年 2月27日 | |
| 特許 7821275 | オーバレイ計量における参照画像グループ化 | 2026年 2月26日 | |
| 特許 7815513 | 変調光源を備える光学計測ツール | 2026年 2月17日 | |
| 特許 7813279 | 確率的フォトレジスト厚み欠陥の予測及び計量 | 2026年 2月12日 | |
| 特許 7811254 | 複数の測定列を用いた大規模オーバレイ計測サンプリング | 2026年 2月 4日 | |
| 特許 7808193 | ロバストなインラインツールマッチングを用いた半導体測定 | 2026年 1月28日 |
19 件中 1-15 件を表示
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7854035 7848247 7844585 7843846 7840440 7839200 7838002 7830475 7828361 7821784 7821275 7815513 7813279 7811254 7808193
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