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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第275位 99件
(
2025年:第352位 92件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第424位 49件
(
2025年:第273位 106件)
(ランキング更新日:2026年10月26日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7940039 | 二次高調波生成を用いる界面依拠欠陥検査 | 2026年10月22日 | |
| 特許 7940013 | スクリーニングエッジ配置均一性ウェハ確率 | 2026年10月22日 | |
| 特許 7938134 | 小さなターゲットを使用して校正されるオーバーレイ誤差の測定 | 2026年10月20日 | |
| 特許 7936372 | オーバーレイ計測における特定のフーリエ瞳周波数を分離するためのシステムおよび方法 | 2026年10月15日 | |
| 特許 7936325 | 電磁コイルの均一な冷却のためのシステムおよび方法 | 2026年10月15日 | |
| 特許 7936321 | 高解像度、マルチ電子ビーム装置 | 2026年10月15日 | |
| 特許 7936318 | 段階的な濃度のヒドロキシルラジカルを有するレーザ維持プラズマランプ | 2026年10月15日 | |
| 特許 7931152 | マルチカラム顕微鏡用自動焦点センサの実装 | 2026年10月 6日 | |
| 特許 7925525 | 電子銃及び電子顕微鏡 | 2026年 9月28日 | |
| 特許 7924394 | 光電陰極膜を用いた複数の電子ビームの生成 | 2026年 9月24日 | |
| 特許 7922797 | 画像モデリング支援輪郭抽出 | 2026年 9月16日 | |
| 特許 7918852 | リニク干渉計による3Dプロフィロメトリ | 2026年 9月10日 | |
| 特許 7917685 | 積み重ねられた四ホウ酸ストロンチウム板を使用した周波数変換 | 2026年 9月 8日 | |
| 特許 7917656 | 光学検査装置及び計量方法 | 2026年 9月 8日 | |
| 特許 7910173 | 走査スキャトロメトリ・オーバーレイ測定 | 2026年 8月24日 |
49 件中 1-15 件を表示
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7940039 7940013 7938134 7936372 7936325 7936321 7936318 7931152 7925525 7924394 7922797 7918852 7917685 7917656 7910173
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