特許7026554IP Force 特許公報全文掲載

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マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法に係り、例えば、マルチビーム描画におけるビーム照射方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

そこで、本発明は、マルチビームに常時ＯＮビーム等の制御ドーズ量よりも大きく不要ドーズ量を含むドーズ量を照射する場合がある不良ビームが生じた場合に、高精度な描画が可能な描画装置および方法を提供する。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一態様のマルチ荷電粒子ビーム描画装置は、 試料の描画領域のうち、制御ドーズ量よりも大きく不要ドーズ量を含むドーズ量を照射する場合がある不良ビームによって照射される不良領域を特定する不良領域特定部と、 描画領域について不良領域の形状をパターンとする不良パターンの不良パターンデータを生成する不良パターンデータ生成部と、 不良パターンデータを反転させた反転パターンデータを生成す・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一態様によれば、マルチビームに、少なくとも常時ＯＮビームによる不良ビームが生じた場合に、高精度な描画ができる。また、ピクセル位置と不良ビームによる照射パターン位置とがずれる場合に従来よりも補正精度を向上できる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。
【図2】 実施の形態１における成形アパーチャアレイ基板の構成を示す概念図である。
【図3】 実施の形態１におけるブランキングアパーチャアレイ機構の一部を示す上面概念図である。
【図4】 実施の形態１における描画動作の一例を説明するための概念図である。
【図5】 実施の形態１におけるマルチビームの照射領域と描画対象画素との一例を示す図である。
【図6】 実施の形態１におけるマルチビームの描画方法の一例を説明するための図である。
【図7】 実施の形態１における描画方法の要部工程を示すフローチャート図である。
【図8】 実施の形態１における描画方法の各段階におけるパターンの一例を示す図である。
【図9】 実施の形態１における制御ピクセルのシフトとシフト後の画素の領域を説明するための図である。
【図10】 実施の形態１におけるドーズ分布の一例を示す図である。
【図11】 実施の形態１における多重描画の仕方を説明するための図である。
【図12】 実施の形態１における描画方法の各段階におけるパターンの他の一例を示す図である。
【図13】 実施の形態１における描画方法の各段階におけるパターンの他の一例を示す図である。
【図14】 実施の形態１と比較例とにおけるバイアス照射量の違いを説明するための図である。
【図15】 実施の形態１における多重描画によるドーズ量補正の一例を説明するための図である。
【図16】 実施の形態２における描画装置の構成を示す概念図である。
【図17】 実施の形態２における描画方法の要部工程を示すフローチャート図である。
【図18】 実施の形態２における描画方法の各段階におけるパターンの一例を示す図である。
【図19】 各実施の形態における描画手法の変形例を説明するための図である。
【図20】 実施の形態１における描画方法の各段階におけるパターンの他の一例を示す図である。

代表図 図1本件の代表的な図

２０ マルチビーム ２２ 穴 ２３ 照射位置 ２４，２６ 電極 ２５ 通過孔 ２７ 制御ピクセル ２８，３６ 画素 ２９ サブ照射領域 ３０ 描画領域 ３２ ストライプ領域 ３４ 照射領域 ３７ 図形パターン ３８ ダミーパターン ４０ 不良パターン ４１ 制御回路 ４２ 図形パターン ４３ 照射パターン ４４ リバースパターン ４５ ベタパターン ４７ 個別ブランキング機構 ５０ 検出部 ５１ 特定部 ５２ 不良パターンデータ生成部 ５３ 反転処理部 ５４，５５，６６，６７ ラスタライズ部 ５６ 面積密度演算部 ５７ 補正照射係数演算部 ５８ 面積密度演算部 ５９ 照射量演算部 ６０，６１ 合成部 ６２ パスデータ生成部 ６４ 画素領域補正部 ６８ 照射時間演算部 ７０ 配列加工部 ７２ 描画制御部 １００ 描画装置 １０１ 試料 １０２ 電子鏡筒 １０３ 描画室 １０５ ＸＹステージ １０６ ファラディーカップ １１０ 制御計算機 １１２ メモリ １３０ 偏向制御回路 １３２，１３４ ＤＡＣアンプユニット １３７ アンプ １３８ ステージ制御回路 １３９ ステージ位置検出器 １４０，１４２，１４４，１４６ 記憶装置 １５０ 描画機構 １６０ 制御系回路 ２００ 電子ビーム ２０１ 電子銃 ２０２ 照明レンズ ２０３ 成形アパーチャアレイ基板 ２０４ ブランキングアパーチャアレイ機構 ２０５ 縮小レンズ ２０６ 制限アパーチャ基板 ２０７ 対物レンズ ２０８，２０９ 偏向器 ２１０ ミラー

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