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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-03-01
(45)【発行日】2022-03-09
(54)【発明の名称】光学積層体、液晶表示装置および有機電界発光装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20220302BHJP
H05B 33/02 20060101ALI20220302BHJP
H01L 51/50 20060101ALI20220302BHJP
G02F 1/13363 20060101ALI20220302BHJP
C07D 339/02 20060101ALN20220302BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
H05B33/02
H05B33/14 A
G02F1/13363
C07D339/02
【請求項の数】
11
(21)【出願番号】P 2018183945
(22)【出願日】2018-09-28
(65)【公開番号】P2020052327
(43)【公開日】2020-04-02
【審査請求日】2020-08-03
(73)【特許権者】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100152984
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 秀明
(74)【代理人】
【識別番号】100148080
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 史生
(72)【発明者】
【氏名】佐竹 亮
(72)【発明者】
【氏名】村松 彩子
(72)【発明者】
【氏名】野尻 真裕美
(72)【発明者】
【氏名】柴田 直也
【審査官】吉川 陽吾
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１６／１０４３１７（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１８／０８８３８４（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１５／００８７７３（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１８／１７４０１５（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１４－０６３１４３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００９－２４２７１７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００９－２６５３１７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００９－１７９５６３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００８－２７３９２５（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１９／０１７４４４（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１８／１５５４９８（ＷＯ，Ａ１）
【文献】韓国公開特許第１０－２０１６－００９１７０７（ＫＲ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１８／００５９３００（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２０１５－１６３９３４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１７－１６７５１７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－０８４０３２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－３０４２８７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ５／３０
Ｈ０５Ｂ ３３／０２
Ｈ０１Ｌ ５１／５０
Ｇ０２Ｆ １／１３３６３
Ｃ０７Ｄ ３３９／０２
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
位相差層と、光吸収異方性層とを有する光学積層体であって、前記位相差層が、下記式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる層であり、
前記光吸収異方性層が、モルホリン環を有する化合物を含有する、光学積層体。
【化1】
ここで、前記式（Ｉ）中、
Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４は、それぞれ独立に、単結合、または、－ＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１＝ＣＲ２－、－ＮＲ１－、もしくは、これらの２つ以上の組み合わせからなる２価の連結基を表し、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
ＳＰ１およびＳＰ２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方は重合性基を表す。
Ａｒは、芳香環を表す。
【請求項2】
前記重合性液晶化合物が、逆波長分散性を示す化合物である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項3】
前記式（Ｉ）中のＡｒが、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す、請求項２に記載の光学積層体。【化2】
ここで、前記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）中、
＊は、Ｄ１またはＤ２との結合位置を表す。
Ｑ１は、ＮまたはＣＨを表す。
Ｑ２は、－Ｓ－、－Ｏ－、または、－Ｎ（Ｒ３）－を表し、Ｒ３は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｙ１は、置換基を有してもよい、炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表す。
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ４、－ＮＲ５Ｒ６、または、－ＳＲ７を表し、Ｒ４～Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ８）－、－Ｓ－、および、－ＣＯ－からなる群から選択される基を表し、Ｒ８は、水素原子または置換基を表す。
Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４～１６族の非金属原子を表す。
Ｄ５およびＤ６は、それぞれ独立に、単結合、または、－ＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１＝ＣＲ２－、－ＮＲ１－、もしくは、これらの２つ以上の組み合わせからなる２価の連結基を表し、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
ＳＰ３およびＳＰ４は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
Ｌ３およびＬ４は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ３およびＬ ４ の少なくとも１つが重合性基を表す。
Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２～３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２～３０の有機基を表す。
ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
Ｑ３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
【請求項4】
前記式（Ｉ）中のＡｒが、ＣｌｏｇＰ値が４．３以上７．０未満の芳香環を表す、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項5】
前記光吸収異方性層が、二色性物質を含有する層である、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項6】
前記位相差層が、下記式（ＩＩ）を満たす、請求項１～５のいずれか１項に記載の光学積層体。０．５０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩ）
ここで、前記式（ＩＩ）中、Ｒｅ（４５０）は、前記位相差層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、前記位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
【請求項7】
前記位相差層が、ポジティブＡプレートである、請求項１～６のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項8】
前記ポジティブＡプレートがλ／４板である、請求項７に記載の光学積層体。
【請求項9】
円偏光板である、請求項１～８のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項10】
請求項１～９のいずれか１項に記載の光学積層体を有する、液晶表示装置。
【請求項11】
請求項１～９のいずれか１項に記載の光学積層体を有する、有機電界発光装置。【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学積層体、液晶表示装置および有機電界発光装置に関する。
【背景技術】
【0002】
位相差層と偏光子とを有する偏光板が、光学補償や反射防止などを目的として、液晶表示装置や有機電界発光装置などに用いられている。
近年、可視光域の光線が混在している合成波である白色光に対して、全ての波長の光線に対応して同様の効果を与えることができる偏光板（いわゆる広帯域偏光板）の開発が進められている。
近年、可視光域の光線が混在している合成波である白色光に対して、全ての波長の光線に対応して同様の効果を与えることができる偏光板（いわゆる広帯域偏光板）の開発が進められている。
【0003】
例えば、特許文献１には、基材と位相差層と偏光層とを有し、位相差層の波長λｎｍの光に対する複屈折率Δｎ（λ）が、式（１）および式（２）を満たし、位相差層と偏光層が共にコーティング層であり、位相差層と偏光層の厚さの合計が１０μｍ以下であり、かつ、偏光層が二色性色素を含有することを特徴とする円偏光板が記載されている（［請求項１］）。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （２）
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （２）
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２０１４－０６３１４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明者らは、特許文献１について検討したところ、位相差層を形成する重合性液晶化合物の種類によっては、形成される光学異方性膜を有する光学積層体（例えば、円偏光板など）が高温高湿下に晒された場合において複屈折率が変化してしまうという湿熱耐久性の問題があることを明らかとした。
【0006】
そこで、本発明は、湿熱耐久性に優れた光学積層体、液晶表示装置および有機電界発光装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、所定の構造で表される重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる位相差層と、モルホリン環を有する化合物を含有する光吸収異方性層とを有する光学積層体が、湿熱耐久性に優れることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
【0008】
［１］ 位相差層と、光吸収異方性層とを有する光学積層体であって、
位相差層が、後述する式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる層であり、
光吸収異方性層が、モルホリン環を有する化合物を含有する、光学積層体。
［２］ 重合性液晶化合物が、逆波長分散性を示す化合物である、［１］に記載の光学積層体。
［３］ 後述する式（Ｉ）中のＡｒが、後述する式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す、［２］に記載の光学積層体。
［４］ 後述する式（Ｉ）中のＡｒが、ＣｌｏｇＰ値が４．３以上７．０未満の芳香環を表す、［１］～［３］のいずれかに記載の光学積層体。
位相差層が、後述する式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる層であり、
光吸収異方性層が、モルホリン環を有する化合物を含有する、光学積層体。
［２］ 重合性液晶化合物が、逆波長分散性を示す化合物である、［１］に記載の光学積層体。
［３］ 後述する式（Ｉ）中のＡｒが、後述する式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す、［２］に記載の光学積層体。
［４］ 後述する式（Ｉ）中のＡｒが、ＣｌｏｇＰ値が４．３以上７．０未満の芳香環を表す、［１］～［３］のいずれかに記載の光学積層体。
【0009】
［５］ 光吸収異方性層が、二色性物質を含有する層である［１］～［４］のいずれかに記載の光学積層体。
［６］ 位相差層が、下記式（ＩＩ）を満たす、［１］～［５］のいずれかに記載の光学積層体。
０．５０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩ）
ここで、上記式（ＩＩ）中、Ｒｅ（４５０）は、位相差層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
［７］ 位相差層が、ポジティブＡプレートである、［１］～［６］のいずれかに記載の光学積層体。
［８］ ポジティブＡプレートがλ／４板である、［７］に記載の光学積層体。
［９］ 円偏光板である、［１］～［８］のいずれかに記載の光学積層体。
［１０］ ［１］～［９］のいずれかに記載の光学積層体を有する、液晶表示装置。
［１１］ ［１］～［９］のいずれかに記載の光学積層体を有する、有機電界発光装置。
［６］ 位相差層が、下記式（ＩＩ）を満たす、［１］～［５］のいずれかに記載の光学積層体。
０．５０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩ）
ここで、上記式（ＩＩ）中、Ｒｅ（４５０）は、位相差層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
［７］ 位相差層が、ポジティブＡプレートである、［１］～［６］のいずれかに記載の光学積層体。
［８］ ポジティブＡプレートがλ／４板である、［７］に記載の光学積層体。
［９］ 円偏光板である、［１］～［８］のいずれかに記載の光学積層体。
［１０］ ［１］～［９］のいずれかに記載の光学積層体を有する、液晶表示装置。
［１１］ ［１］～［９］のいずれかに記載の光学積層体を有する、有機電界発光装置。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、湿熱耐久性に優れた光学積層体、液晶表示装置および有機電界発光装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、表記される二価の基（例えば、－Ｏ－ＣＯ－）の結合方向は、結合位置を明記している場合を除き、特に制限されず、例えば、後述する式（Ｉ）中のＤ１が－ＣＯ－Ｏ－である場合、シクロヘキサン環に結合している位置を＊１、Ａｒ側に結合している位置を＊２とすると、Ｄ１は、＊１－ＣＯ－Ｏ－＊２であってもよく、＊１－Ｏ－ＣＯ－＊２であってもよい。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、表記される二価の基（例えば、－Ｏ－ＣＯ－）の結合方向は、結合位置を明記している場合を除き、特に制限されず、例えば、後述する式（Ｉ）中のＤ１が－ＣＯ－Ｏ－である場合、シクロヘキサン環に結合している位置を＊１、Ａｒ側に結合している位置を＊２とすると、Ｄ１は、＊１－ＣＯ－Ｏ－＊２であってもよく、＊１－Ｏ－ＣＯ－＊２であってもよい。
【0012】
［光学積層体］
本発明の光学積層体は、位相差層と、光吸収異方性層とを有する光学積層体である。
また、本発明の光学積層体は、位相差層が、後述する式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる層である。
また、本発明の光学積層体は、光吸収異方性層が、モルホリン環を有する化合物を含有する。
本発明の光学積層体は、位相差層と、光吸収異方性層とを有する光学積層体である。
また、本発明の光学積層体は、位相差層が、後述する式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる層である。
また、本発明の光学積層体は、光吸収異方性層が、モルホリン環を有する化合物を含有する。
【0013】
本発明においては、上述した通り、後述する式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる位相差層と、モルホリン環を有する化合物を含有する光吸収異方性層とを有することにより、光学積層体の湿熱耐久性が良好となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
まず、本発明者らは、位相差層と光吸収異方性層とを有する公知の光学積層体について、湿熱耐久性が劣る原因について検討したところ、光吸収異方性層に、モルホリン環を有する化合物（例えば、モルホリン系の重合開始剤の残存物など）が存在していることにより、これが位相差層にも層間移動し、位相差層に存在している重合後の液晶化合物の加水分解を促進したためであると推察している。
そのため、本発明においては、後述する式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる位相差層を有することにより、位相差層の疎水性が強くなり、光吸収異方性層がモルホリン環を有する化合物を含有する場合であっても、加水分解の進行を抑制することができたため、湿熱耐久性が良好になったと考えられる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
まず、本発明者らは、位相差層と光吸収異方性層とを有する公知の光学積層体について、湿熱耐久性が劣る原因について検討したところ、光吸収異方性層に、モルホリン環を有する化合物（例えば、モルホリン系の重合開始剤の残存物など）が存在していることにより、これが位相差層にも層間移動し、位相差層に存在している重合後の液晶化合物の加水分解を促進したためであると推察している。
そのため、本発明においては、後述する式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる位相差層を有することにより、位相差層の疎水性が強くなり、光吸収異方性層がモルホリン環を有する化合物を含有する場合であっても、加水分解の進行を抑制することができたため、湿熱耐久性が良好になったと考えられる。
【0014】
〔位相差層〕
本発明の光学積層体が有する位相差層は、後述する式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物（以下、形式的に「本発明の重合性液晶組成物」とも略す。）を重合して得られる層である。
以下、本発明の重合性液晶組成物の各成分について詳細に説明する。
本発明の光学積層体が有する位相差層は、後述する式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物（以下、形式的に「本発明の重合性液晶組成物」とも略す。）を重合して得られる層である。
以下、本発明の重合性液晶組成物の各成分について詳細に説明する。
【0015】
＜重合性液晶化合物＞
本発明の重合性液晶組成物が含有する重合性液晶化合物は、下記式（Ｉ）で表される化合物である。
本発明の重合性液晶組成物が含有する重合性液晶化合物は、下記式（Ｉ）で表される化合物である。
【化1】
【0016】
上記式（Ｉ）中、Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４は、それぞれ独立に、単結合、または、－ＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１＝ＣＲ２－、－ＮＲ１－、もしくは、これらの２つ以上の組み合わせからなる２価の連結基を表し、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、ＳＰ１およびＳＰ２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、Ａｒが、後述する式（Ａｒ－３）で表される芳香環である場合は、Ｌ１およびＬ２ならびに下記式（Ａｒ－３）中のＬ３およびＬ４の少なくとも１つが重合性基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ａｒは、芳香環を表す。
また、上記式（Ｉ）中、ＳＰ１およびＳＰ２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、Ａｒが、後述する式（Ａｒ－３）で表される芳香環である場合は、Ｌ１およびＬ２ならびに下記式（Ａｒ－３）中のＬ３およびＬ４の少なくとも１つが重合性基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ａｒは、芳香環を表す。
【0017】
上記式（Ｉ）中、Ｄ１～Ｄ４が示す２価の連結基としては、例えば、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＲ１Ｒ２－、－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＮＲ１－ＣＲ１Ｒ２－、および、－ＣＯ－ＮＲ１－などが挙げられる。なかでも、－ＣＯ－Ｏ－であることが好ましい。
【0018】
上記式（Ｉ）中、ＳＰ１およびＳＰ２が示す炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチルヘキシレン基、へプチレン基等が好適に挙げられる。なお、ＳＰ１およびＳＰ２は、上述した通り、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基であってもよく、Ｑで表される置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
【0019】
上記式（Ｉ）中、Ｌ１およびＬ２が示す１価の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基などを挙げることができる。アルキル基は、直鎖状、分岐状または環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０が更に好ましい。また、アリール基は、単環であっても多環であってもよいが単環が好ましい。アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１０がより好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、酸素原子が好ましい。ヘテロアリール基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１２がより好ましい。また、アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
【0020】
上記式（Ｉ）中、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方が示す重合性基は、特に限定されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとして、アクリロイル基またはメタクリロイル基を挙げることができる。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も重合性基として同様に使用することができる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基が特に好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。なお、下記式中、＊は、重合性基の結合位置を表す。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとして、アクリロイル基またはメタクリロイル基を挙げることができる。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も重合性基として同様に使用することができる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基が特に好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。なお、下記式中、＊は、重合性基の結合位置を表す。
【0021】
【化2】
【0022】
上記式（Ｉ）中のＬ１およびＬ２は、得られる位相差層を有する光学積層体の湿熱耐久性がより良好となる理由から、いずれも重合性基であることが好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることがより好ましい。
【0023】
上記式（Ｉ）中、Ａｒが示す芳香環としては、具体的には、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環などの芳香族炭化水素環；フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環などの芳香族複素環；が挙げられる。
【0024】
本発明においては、上記式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物は、逆波長分散性を示す化合物であることが好ましく、具体的には、上記式（Ｉ）中のＡｒが、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す化合物であることがより好ましい。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）中、＊は、上記式（Ｉ）中のＤ１またはＤ２との結合位置を表す。
ここで、「逆波長分散性を示す化合物」とは、これを用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。
ここで、「逆波長分散性を示す化合物」とは、これを用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。
【0025】
【化3】
【0026】
上記式（Ａｒ－１）中、Ｑ１は、ＮまたはＣＨを表し、Ｑ２は、－Ｓ－、－Ｏ－、または、－Ｎ（Ｒ３）－を表し、Ｒ３は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｙ１は、置換基を有してもよい、炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表す。
Ｒ３が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられる。
Ｙ１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基などのアリール基が挙げられる。
Ｙ１が示す炭素数３～１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、ピリジル基などのヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ｙ１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
Ｒ３が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられる。
Ｙ１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基などのアリール基が挙げられる。
Ｙ１が示す炭素数３～１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、ピリジル基などのヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ｙ１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
【0027】
また、上記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）中、Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ４、－ＮＲ５Ｒ６、または、－ＳＲ７を表し、Ｒ４～Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ－ブチル基、１，１－ジメチル－３，３－ジメチル－ブチル基が更に好ましく、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましい。
炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデシル基、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基としては、具体的には、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられ、炭素数６～１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であるのが好ましい。
一方、Ｒ４～Ｒ７が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられる。
炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ－ブチル基、１，１－ジメチル－３，３－ジメチル－ブチル基が更に好ましく、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましい。
炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデシル基、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基としては、具体的には、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられ、炭素数６～１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であるのが好ましい。
一方、Ｒ４～Ｒ７が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられる。
【0028】
また、上記式（Ａｒ－２）および（Ａｒ－３）中、Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ８）－、－Ｓ－、および、－ＣＯ－からなる群から選択される基を表し、Ｒ８は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ８が示す置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
Ｒ８が示す置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
【0029】
また、上記式（Ａｒ－２）中、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４～１６族の非金属原子を表す。
また、Ｘが示す第１４～１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、具体的には、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、水酸基等が挙げられる。
また、Ｘが示す第１４～１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、具体的には、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、水酸基等が挙げられる。
【0030】
また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｄ５およびＤ６は、それぞれ独立に、単結合、または、－ＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１＝ＣＲ２－、－ＮＲ１－、もしくは、これらの２つ以上の組み合わせからなる２価の連結基を表し、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
ここで、２価の連結基としては、上記式（Ｉ）中のＤ１～Ｄ４において説明したものと同様のものが挙げられる。
ここで、２価の連結基としては、上記式（Ｉ）中のＤ１～Ｄ４において説明したものと同様のものが挙げられる。
【0031】
また、上記式（Ａｒ－３）中、ＳＰ３およびＳＰ４は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
【0032】
また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｌ３およびＬ４は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ３およびＬ４ならびに上記式（Ｉ）中のＬ１およびＬ２の少なくとも１つが重合性基を表す。
１価の有機基としては、上記式（Ｉ）中のＬ１およびＬ２において説明したものと同様のものが挙げられる。
また、重合性基としては、上記式（Ｉ）中のＬ１およびＬ２において説明したものと同様のものが挙げられる。
１価の有機基としては、上記式（Ｉ）中のＬ１およびＬ２において説明したものと同様のものが挙げられる。
また、重合性基としては、上記式（Ｉ）中のＬ１およびＬ２において説明したものと同様のものが挙げられる。
【0033】
また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－５）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－５）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
ここで、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
ＡｘおよびＡｙとしては、国際公開第２０１４／０１０３２５号の［００３９］～［００９５］段落に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ３が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－５）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
ここで、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
ＡｘおよびＡｙとしては、国際公開第２０１４／０１０３２５号の［００３９］～［００９５］段落に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ３が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
【0034】
このような重合性液晶化合物としては、例えば、下記式（１）～（１２）で表される化合物が好適に挙げられ、具体的には、下記式（１）～（１２）中のＫ（側鎖構造）として、下記表１および表２に示す側鎖構造を有する化合物がそれぞれ挙げられる。
なお、下記表１および表２中、Ｋの側鎖構造に示される「＊」は、芳香環との結合位置を表す。
また、下記表１中の１－２および下記表２中の２－２で表される側鎖構造において、それぞれアクリロイルオキシ基およびメタクリロイル基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
なお、下記表１および表２中、Ｋの側鎖構造に示される「＊」は、芳香環との結合位置を表す。
また、下記表１中の１－２および下記表２中の２－２で表される側鎖構造において、それぞれアクリロイルオキシ基およびメタクリロイル基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
【化4】
【0035】
【表1】
【0036】
【表2】
【0037】
本発明においては、得られる位相差層を有する光学積層体の湿熱耐久性がより良好となる理由から、上記式（Ｉ）中のＡｒで表される基（芳香環）のＣｌｏｇＰ値は、４．３以上７．０未満であることが好ましく、４．４以上６．９以下であることがより好ましい。
ここで、「ＣｌｏｇＰ値」とは、１－オクタノールと水への分配係数Ｐの常用対数ｌｏｇＰを計算によって求めた値である。ＣｌｏｇＰ値の計算に用いる方法やソフトウェアについては公知の物を用いることができるが、特に断らない限り、本発明ではＣａｍｂｒｉｄｇｅ ｓｏｆｔ社の ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ Ｕｌｔｒａ １３．０に組み込まれたＣｌｏｇＰプログラムを用いることとする。
ここで、「ＣｌｏｇＰ値」とは、１－オクタノールと水への分配係数Ｐの常用対数ｌｏｇＰを計算によって求めた値である。ＣｌｏｇＰ値の計算に用いる方法やソフトウェアについては公知の物を用いることができるが、特に断らない限り、本発明ではＣａｍｂｒｉｄｇｅ ｓｏｆｔ社の ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ Ｕｌｔｒａ １３．０に組み込まれたＣｌｏｇＰプログラムを用いることとする。
【0038】
＜重合開始剤＞
本発明の重合性液晶組成物は、重合開始剤を含有していることが好ましい。
使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、特開平１０－２９９９７号公報記載）等が挙げられる。
また、本発明においては、重合開始剤がオキシム型の重合開始剤であることも好ましく、その具体例としては、国際公開第２０１７／１７０４４３号の［００４９］～［００５２］段落に記載された開始剤が挙げられる。
本発明の重合性液晶組成物は、重合開始剤を含有していることが好ましい。
使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、特開平１０－２９９９７号公報記載）等が挙げられる。
また、本発明においては、重合開始剤がオキシム型の重合開始剤であることも好ましく、その具体例としては、国際公開第２０１７／１７０４４３号の［００４９］～［００５２］段落に記載された開始剤が挙げられる。
【0039】
＜溶媒＞
本発明の重合性液晶組成物は、位相差層を形成する作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明の重合性液晶組成物は、位相差層を形成する作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【0040】
＜レベリング剤＞
本発明の重合性液晶組成物は、位相差層の表面を平滑に保ち、配向制御を容易にする観点から、レベリング剤を含有することが好ましい。
このようなレベリング剤としては、添加量に対するレベリング効果が高い理由から、フッ素系レベリング剤またはケイ素系レベリング剤であることが好ましく、泣き出し（ブルーム、ブリード）を起こしにくい観点から、フッ素系レベリング剤であることがより好ましい。
レベリング剤としては、具体的には、例えば、特開２００７－０６９４７１号公報の［００７９］～［０１０２］段落の記載に記載された化合物、特開２０１３－０４７２０４号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される化合物（特に［００２０］～［００３２］段落に記載された化合物）、特開２０１２－２１１３０６号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される化合物（特に［００２２］～［００２９］段落に記載された化合物）、特開２００２－１２９１６２号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される液晶配向促進剤（特に［００７６］～［００７８］および［００８２］～［００８４］段落に記載された化合物）、特開２００５－０９９２４８号公報に記載された一般式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される化合物（特に［００９２］～［００９６］段落に記載された化合物）などが挙げられる。なお、後述する配向制御剤としての機能を兼ね備えてもよい。
本発明の重合性液晶組成物は、位相差層の表面を平滑に保ち、配向制御を容易にする観点から、レベリング剤を含有することが好ましい。
このようなレベリング剤としては、添加量に対するレベリング効果が高い理由から、フッ素系レベリング剤またはケイ素系レベリング剤であることが好ましく、泣き出し（ブルーム、ブリード）を起こしにくい観点から、フッ素系レベリング剤であることがより好ましい。
レベリング剤としては、具体的には、例えば、特開２００７－０６９４７１号公報の［００７９］～［０１０２］段落の記載に記載された化合物、特開２０１３－０４７２０４号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される化合物（特に［００２０］～［００３２］段落に記載された化合物）、特開２０１２－２１１３０６号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される化合物（特に［００２２］～［００２９］段落に記載された化合物）、特開２００２－１２９１６２号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される液晶配向促進剤（特に［００７６］～［００７８］および［００８２］～［００８４］段落に記載された化合物）、特開２００５－０９９２４８号公報に記載された一般式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される化合物（特に［００９２］～［００９６］段落に記載された化合物）などが挙げられる。なお、後述する配向制御剤としての機能を兼ね備えてもよい。
【0041】
＜配向制御剤＞
本発明の重合性液晶組成物は、必要に応じて、配向制御剤を含有することができる。
配向制御剤により、ホモジニアス配向の他、ホメオトロピック配向（垂直配向）、傾斜配向、ハイブリッド配向、コレステリック配向等の種々の配向状態を形成することができ、また、特定の配向状態をより均一かつより精密に制御して実現することができる。
本発明の重合性液晶組成物は、必要に応じて、配向制御剤を含有することができる。
配向制御剤により、ホモジニアス配向の他、ホメオトロピック配向（垂直配向）、傾斜配向、ハイブリッド配向、コレステリック配向等の種々の配向状態を形成することができ、また、特定の配向状態をより均一かつより精密に制御して実現することができる。
【0042】
ホモジニアス配向を促進する配向制御剤としては、例えば、低分子の配向制御剤や、高分子の配向制御剤を用いることができる。
低分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００２－２０３６３号公報の［０００９］～［００８３］段落、特開２００６－１０６６６２号公報の［０１１１］～［０１２０］段落、および、特開２０１２－２１１３０６公報の［００２１］～［００２９］段落の記載を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
また、高分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００４－１９８５１１号公報の［００２１］～［００５７］段落、および、特開２００６－１０６６６２号公報の［０１２１］～［０１６７］段落を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
低分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００２－２０３６３号公報の［０００９］～［００８３］段落、特開２００６－１０６６６２号公報の［０１１１］～［０１２０］段落、および、特開２０１２－２１１３０６公報の［００２１］～［００２９］段落の記載を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
また、高分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００４－１９８５１１号公報の［００２１］～［００５７］段落、および、特開２００６－１０６６６２号公報の［０１２１］～［０１６７］段落を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
【0043】
また、ホメオトロピック配向を形成または促進する配向制御剤としては、例えば、ボロン酸化合物、オニウム塩化合物が挙げられ、具体的には、特開２００８－２２５２８１号公報の［００２３］～［００３２］段落、特開２０１２－２０８３９７号公報の［００５２］～［００５８］段落、特開２００８－０２６７３０号公報の［００２４］～［００５５］段落、特開２０１６－１９３８６９号公報の［００４３］～［００５５］段落などに記載された化合物を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
【0044】
一方、コレステリック配向は、本発明の重合性組成物にキラル剤を加えることにより実現することができ、そのキラル性の向きによりコレステリック配向の旋回方向を制御できる。なお、キラル剤の配向規制力に応じてコレステリック配向のピッチを制御することができる。
【0045】
配向制御剤の含有する場合の含有量は、重合性液晶組成物中の全固形分質量に対して０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．０５～５質量％であることがより好ましい。含有量がこの範囲であると、望む配向状態を実現しつつ、析出や相分離、配向欠陥等が無く、均一で透明性の高い位相差層を得ることができる。
これらの配向制御剤は、さらに重合性官能基、特に、本発明の重合性液晶組成物を構成する重合性液晶化合物と重合可能な重合性官能基を付与することができる。
これらの配向制御剤は、さらに重合性官能基、特に、本発明の重合性液晶組成物を構成する重合性液晶化合物と重合可能な重合性官能基を付与することができる。
【0046】
＜その他の成分＞
本発明の重合性液晶組成物は、上述した成分以外の成分を含有してもよく、例えば、上述した重合性液晶化合物以外の液晶化合物、界面活性剤、チルト角制御剤、配向助剤、可塑剤、および、架橋剤などが挙げられる。
本発明の重合性液晶組成物は、上述した成分以外の成分を含有してもよく、例えば、上述した重合性液晶化合物以外の液晶化合物、界面活性剤、チルト角制御剤、配向助剤、可塑剤、および、架橋剤などが挙げられる。
【0047】
＜形成方法＞
上述した本発明の重合性液晶組成物を用いた位相差層の形成方法は特に限定されず、例えば、上述した本発明の重合性液晶組成物を用いて、所望の配向状態とした後に、重合により固定化する方法などが挙げられる。
ここで、重合条件は特に限定されないが、光照射による重合においては、紫外線を用いることが好ましい。照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ２～５０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ２～５Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ２～３Ｊ／ｃｍ２であることが更に好ましく、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ２であることが特に好ましい。また、重合反応を促進するため、加熱条件下で実施してもよい。
上述した本発明の重合性液晶組成物を用いた位相差層の形成方法は特に限定されず、例えば、上述した本発明の重合性液晶組成物を用いて、所望の配向状態とした後に、重合により固定化する方法などが挙げられる。
ここで、重合条件は特に限定されないが、光照射による重合においては、紫外線を用いることが好ましい。照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ２～５０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ２～５Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ２～３Ｊ／ｃｍ２であることが更に好ましく、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ２であることが特に好ましい。また、重合反応を促進するため、加熱条件下で実施してもよい。
【0048】
本発明においては、位相差層の厚みについては特に限定されないが、０．１～１０μｍであることが好ましく、０．５～５μｍであることがより好ましい。
【0049】
本発明においては、位相差層が、下記式（ＩＩ）を満たしていることが好ましい。
０．５０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩ）
ここで、上記式（ＩＩ）中、Ｒｅ（４５０）は、位相差層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。なお、本明細書において、レターデーションの測定波長を明記していない場合は、測定波長は５５０ｎｍとする。
また、面内レターデーションおよび厚み方向のレターデーションの値は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定した値をいう。
具体的には、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１にて、平均屈折率（（Ｎｘ＋Ｎｙ＋Ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
０．５０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩ）
ここで、上記式（ＩＩ）中、Ｒｅ（４５０）は、位相差層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。なお、本明細書において、レターデーションの測定波長を明記していない場合は、測定波長は５５０ｎｍとする。
また、面内レターデーションおよび厚み方向のレターデーションの値は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定した値をいう。
具体的には、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１にて、平均屈折率（（Ｎｘ＋Ｎｙ＋Ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
【0050】
本発明においては、位相差層が、ポジティブＡプレートまたはポジティブＣプレートであることが好ましく、ポジティブＡプレートであることがより好ましい。
【0051】
ここで、ポジティブＡプレート（正のＡプレート）とポジティブＣプレート（正のＣプレート）は以下のように定義される。
フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ポジティブＡプレートは式（Ａ１）の関係を満たすものであり、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示し、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ１） ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
式（Ｃ１） ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。
「実質的に同一」とは、ポジティブＡプレートでは、例えば、（ｎｙ－ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれ、（ｎｘ－ｎｚ）×ｄが、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｚ」に含まれる。また、ポジティブＣプレートでは、例えば、（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、０～１０ｎｍ、好ましくは０～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。
フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ポジティブＡプレートは式（Ａ１）の関係を満たすものであり、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示し、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ１） ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
式（Ｃ１） ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。
「実質的に同一」とは、ポジティブＡプレートでは、例えば、（ｎｙ－ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれ、（ｎｘ－ｎｚ）×ｄが、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｚ」に含まれる。また、ポジティブＣプレートでは、例えば、（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、０～１０ｎｍ、好ましくは０～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。
【0052】
位相差層がポジティブＡプレートである場合、λ／４板として機能する観点から、Ｒｅ（５５０）が１００～１８０ｎｍであることが好ましく、１２０～１６０ｎｍであることがより好ましく、１３０～１５０ｎｍであることが更に好ましく、１３０～１４０ｎｍであること特に好ましい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
【0053】
〔光吸収異方性層〕
本発明の光学積層体が有する光吸収異方性層は、モルホリン環を有する化合物（以下、「モルホリン誘導体」とも略す。）を含有する層である。
本発明の光学積層体が有する光吸収異方性層は、モルホリン環を有する化合物（以下、「モルホリン誘導体」とも略す。）を含有する層である。
【0054】
＜モルホリン誘導体＞
モルホリン誘導体としては、例えば、光吸収異方性層の形成時に用いるモルホリン系光重合開始剤の残存物、および、この分解物であってモルホリン環を有するもの等が挙げられる。
モルホリン誘導体としては、例えば、光吸収異方性層の形成時に用いるモルホリン系光重合開始剤の残存物、および、この分解物であってモルホリン環を有するもの等が挙げられる。
【0055】
モルホリン系光重合開始剤としては、例えば、下記式（Ｍ－１）～（Ｍ－３）で表される化合物であることが好ましい。
【化5】
【0056】
上記式（Ｍ－１）中、Ｒ１１およびＲ１２は、それぞれ独立に、炭素数１～７のアルキル基、または、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を含む１価の有機基を表す。
上記式（Ｍ－２）中、Ｒ１３は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を含む１価の有機基を表す。
上記式（Ｍ－３）中、Ｒ１４は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を含む２価の有機基を表す。
上記式（Ｍ－２）中、Ｒ１３は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を含む１価の有機基を表す。
上記式（Ｍ－３）中、Ｒ１４は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を含む２価の有機基を表す。
【0057】
ここで、炭素数１～７のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられる。
また、芳香族炭化水素環としては、具体的には、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環などが挙げられる。
なお、芳香族炭化水素環が有していてもよい置換基としては、具体的には、例えば、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、アルキルチオ基、水酸基等が挙げられる。
また、芳香族炭化水素環としては、具体的には、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環などが挙げられる。
なお、芳香族炭化水素環が有していてもよい置換基としては、具体的には、例えば、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、アルキルチオ基、水酸基等が挙げられる。
【0058】
モルホリン系光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、その具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９〔化合物名：２－ベンジル－２－（ジメチルアミノ）－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン、ＢＡＳＦ社製〕、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９〔化合物名：２－（４－メチルベンジル）－２－（ジメチルアミノ）－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン、ＢＡＳＦ社製〕、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７〔化合物名：２－［４－（メチルチオ）ベンゾイル］－２－（４－モルホリニル）プロパン、ＢＡＳＦ社製〕などが挙げられる。
【0059】
本発明においては、光吸収異方性層に含まれるモルホリン誘導体の含有量は特に限定されないが、光吸収異方性層の総質量（固形分）に対して、０．１～５質量％であることが好ましく、０．３～３質量％であることがより好ましい。
【0060】
＜二色性物質＞
本発明の光学積層体が有する光吸収異方性層は、二色性物質を含有していることが好ましい。
上記二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特願２０１５－００１４２５号公報の［００２２］～［００８０］段落、特願２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１段落］、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、特願２０１６－０４４９０９号公報の［００１４］～［００３３］段落、特願２０１６－０４４９１０号公報の［００１４］～［００３３］段落、特願２０１６－０９５９０７号公報の［００１３］～［００３７］段落、特願２０１７－０４５２９６号公報の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。
本発明の光学積層体が有する光吸収異方性層は、二色性物質を含有していることが好ましい。
上記二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特願２０１５－００１４２５号公報の［００２２］～［００８０］段落、特願２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１段落］、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、特願２０１６－０４４９０９号公報の［００１４］～［００３３］段落、特願２０１６－０４４９１０号公報の［００１４］～［００３３］段落、特願２０１６－０９５９０７号公報の［００１３］～［００３７］段落、特願２０１７－０４５２９６号公報の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。
【0061】
本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、光吸収異方性層を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質とを併用することが好ましい。
【0062】
上記二色性物質は、架橋性基を有していることが好ましい。
上記架橋性基としては、具体的には、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、アクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。
上記架橋性基としては、具体的には、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、アクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。
【0063】
本発明において、二色性物質を含有する場合に含有量は、光吸収異方性層の総質量（固形分）に対して、２～２０質量％であることが好ましく、５～１５質量％であることがより好ましい。
【0064】
＜形成方法＞
本発明の光学積層体が有する光吸収異方性層は、塗布方式で形成される層であることが好ましく、具体的には、上述したモルホリン誘導体、および、任意の二色性物質などを含有する組成物（以下、「光吸収異方性層形成用組成物」とも略す。）を用いて塗布により形成する層であることがより好ましい。
本発明の光学積層体が有する光吸収異方性層は、塗布方式で形成される層であることが好ましく、具体的には、上述したモルホリン誘導体、および、任意の二色性物質などを含有する組成物（以下、「光吸収異方性層形成用組成物」とも略す。）を用いて塗布により形成する層であることがより好ましい。
【0065】
（液晶化合物）
光吸収異方性層形成用組成物は、上述した二色性物質を含有する場合、二色性物質を配向させる観点から、液晶化合物を含有することが好ましい。
液晶化合物は、二色性を示さない液晶化合物である。
液晶化合物としては、低分子液晶化合物および高分子液晶化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶化合物のことをいう。また、「高分子液晶化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶化合物のことをいう。
低分子液晶化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されている液晶化合物が挙げられる。
高分子液晶化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
液晶化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶化合物の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の二色性物質の含有量１００質量部に対して、２５～２０００質量部が好ましく、３３～１０００質量部がより好ましく、５０～５００質量部がさらに好ましい。
光吸収異方性層形成用組成物は、上述した二色性物質を含有する場合、二色性物質を配向させる観点から、液晶化合物を含有することが好ましい。
液晶化合物は、二色性を示さない液晶化合物である。
液晶化合物としては、低分子液晶化合物および高分子液晶化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶化合物のことをいう。また、「高分子液晶化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶化合物のことをいう。
低分子液晶化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されている液晶化合物が挙げられる。
高分子液晶化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
液晶化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶化合物の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の二色性物質の含有量１００質量部に対して、２５～２０００質量部が好ましく、３３～１０００質量部がより好ましく、５０～５００質量部がさらに好ましい。
【0066】
（その他の成分）
光吸収異方性層形成用組成物は、上述したモルホリン系光重合開始剤以外の重合開始剤、溶媒などを含有していてもよい。
これらの具体例は、上述した本発明の重合性液晶組成物において説明したものが挙げられる。
光吸収異方性層形成用組成物は、上述したモルホリン系光重合開始剤以外の重合開始剤、溶媒などを含有していてもよい。
これらの具体例は、上述した本発明の重合性液晶組成物において説明したものが挙げられる。
【0067】
（塗布方法）
光吸収異方性層形成用組成物の塗布方法としては、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
光吸収異方性層形成用組成物の塗布方法としては、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
【0068】
（配向処理）
光吸収異方性層形成用組成物は、塗布後において、上述した二色性物質および液晶化合物を含有する場合、これらを配向させる配向処理を施してもよい。
配向処理は、乾燥工程を有していてもよい。乾燥工程によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥工程は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
また、配向処理は、加熱工程を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる二色性物質がより配向し、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる。加熱工程は、製造適性などの面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
また、配向処理は、加熱工程後に実施される冷却工程を有していてもよい。冷却工程は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含有される二色性物質の配向がより固定され、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
光吸収異方性層形成用組成物は、塗布後において、上述した二色性物質および液晶化合物を含有する場合、これらを配向させる配向処理を施してもよい。
配向処理は、乾燥工程を有していてもよい。乾燥工程によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥工程は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
また、配向処理は、加熱工程を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる二色性物質がより配向し、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる。加熱工程は、製造適性などの面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
また、配向処理は、加熱工程後に実施される冷却工程を有していてもよい。冷却工程は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含有される二色性物質の配向がより固定され、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
【0069】
本発明においては、光吸収異方性層の厚みについては特に限定されないが、０．１～５．０μｍであることが好ましく、０．３～１．５μｍであることがより好ましい。
【0070】
〔層構成〕
本発明の光学積層体は、上述した位相差層および光吸収異方性層を有する積層体であれば、具体的な層構成は特に限定されないが、例えば、位相差層と光吸収異方性層とが直接接する態様；位相差層と光吸収異方性層との間に粘着剤層を設ける態様；位相差層と光吸収異方性層との間に基材を設ける態様；位相差層と光吸収異方性層との間に基材および配向膜を設ける態様；などが挙げられる。
本発明の光学積層体は、上述した位相差層および光吸収異方性層を有する積層体であれば、具体的な層構成は特に限定されないが、例えば、位相差層と光吸収異方性層とが直接接する態様；位相差層と光吸収異方性層との間に粘着剤層を設ける態様；位相差層と光吸収異方性層との間に基材を設ける態様；位相差層と光吸収異方性層との間に基材および配向膜を設ける態様；などが挙げられる。
【0071】
＜粘着剤層＞
上記粘着剤層としては、例えば、動的粘弾性測定装置で測定した貯蔵弾性率Ｇ’と損失弾性率Ｇ”との比（ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’）が０．００１～１．５である物質のことを表し、いわゆる、粘着剤やクリープしやすい物質等が含まれる。
本発明に用いることのできる粘着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系粘着剤が挙げられるが、これに限定されない。
上記粘着剤層としては、例えば、動的粘弾性測定装置で測定した貯蔵弾性率Ｇ’と損失弾性率Ｇ”との比（ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’）が０．００１～１．５である物質のことを表し、いわゆる、粘着剤やクリープしやすい物質等が含まれる。
本発明に用いることのできる粘着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系粘着剤が挙げられるが、これに限定されない。
【0072】
＜基材＞
上記基材は、透明であることが好ましく、具体的には、可視光の透過率が８０％以上の基材であることが好ましい。
また、上記基材は、透湿度が高いことが好ましく、具体的には、透湿度が２００ｇ／ｍ2／２４ｈ以上の基材であることが好ましい。ここで、透湿度とは、ＪＩＳ Ｚ ０２０８：１９７６の「防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）」に記載された手法に従い、温度４０℃、相対湿度９０％の条件下で２４時間に通過した水蒸気の量（ｇ／ｍ2／２４ｈ）をいう。
上記基材は、透明であることが好ましく、具体的には、可視光の透過率が８０％以上の基材であることが好ましい。
また、上記基材は、透湿度が高いことが好ましく、具体的には、透湿度が２００ｇ／ｍ2／２４ｈ以上の基材であることが好ましい。ここで、透湿度とは、ＪＩＳ Ｚ ０２０８：１９７６の「防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）」に記載された手法に従い、温度４０℃、相対湿度９０％の条件下で２４時間に通過した水蒸気の量（ｇ／ｍ2／２４ｈ）をいう。
【0073】
このような基材としては、例えば、ポリマーフィルムが挙げられ、ポリマーフィルムの材料としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
【0074】
本発明においては、上記基材の厚みについては特に限定されないが、５～８０μｍであるのが好ましく、１０～４０μｍであるのがより好ましい。
【0075】
＜配向膜＞
配向膜としては、ポリマー等の有機化合物を含む層のラビング処理膜や無機化合物の斜方蒸着膜、マイクログルーブを有する膜、あるいはω－トリコサン酸やジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルの如き有機化合物のラングミュア・ブロジェット法によるＬＢ（Langmuir-Blodgett）膜を累積させた膜などが挙げられる。さらに光の照射で配向機能が生じる配向膜なども挙げられる。
配向膜としては、ポリマーなどの有機化合物を含む層（ポリマー層）の表面をラビング処理して形成されたものを好ましく用いることができる。ラビング処理は、ポリマー層の表面を紙や布で一定方向（好ましくは支持体の長手方向）に数回こすることにより実施される。配向膜の形成に使用するポリマーとしては、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特許第３９０７７３５号公報の段落番号［００７１］～［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコール、特開平９－１５２５０９号公報に記載された重合性基を有するポリマー等を用いることが好ましい。
配向膜としては、ポリマー等の有機化合物を含む層のラビング処理膜や無機化合物の斜方蒸着膜、マイクログルーブを有する膜、あるいはω－トリコサン酸やジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルの如き有機化合物のラングミュア・ブロジェット法によるＬＢ（Langmuir-Blodgett）膜を累積させた膜などが挙げられる。さらに光の照射で配向機能が生じる配向膜なども挙げられる。
配向膜としては、ポリマーなどの有機化合物を含む層（ポリマー層）の表面をラビング処理して形成されたものを好ましく用いることができる。ラビング処理は、ポリマー層の表面を紙や布で一定方向（好ましくは支持体の長手方向）に数回こすることにより実施される。配向膜の形成に使用するポリマーとしては、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特許第３９０７７３５号公報の段落番号［００７１］～［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコール、特開平９－１５２５０９号公報に記載された重合性基を有するポリマー等を用いることが好ましい。
【0076】
配向膜としては、光配向性の素材に偏光または非偏光を照射して配向層とした、いわゆる光配向膜を用いることも好ましい態様である。光配向膜には、垂直方向または斜め方向から偏光照射する工程、または、斜め方向から非偏光照射する工程により配向規制力を付与することが好ましい。
光配向膜を利用することで、特定液晶化合物を優れた対称性で水平配向させることが可能である。そのため、光配向膜を利用して形成されたポジティブＡプレートは、特にＩＰＳ（In-Place-Switching）モード液晶表示装置のように駆動液晶のプレ傾斜角が必要無い液晶表示装置における光学補償に有用である。
光配向膜を利用することで、特定液晶化合物を優れた対称性で水平配向させることが可能である。そのため、光配向膜を利用して形成されたポジティブＡプレートは、特にＩＰＳ（In-Place-Switching）モード液晶表示装置のように駆動液晶のプレ傾斜角が必要無い液晶表示装置における光学補償に有用である。
【0077】
光配向膜に用いられる光配向材料としては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、またはエステル、特開平９－１１８７１７号公報、特表平１０－５０６４２０号公報、特表２００３－５０５５６１号公報、国際公開第２０１０/１５０７４８号、特開２０１３－１７７５６１号公報、特開２０１４－１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物、特にシンナメート化合物、カルコン化合物、クマリン化合物が挙げられる。特に好ましい例としては、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、エステル、シンナメート化合物、カルコン化合物が挙げられる。
【0078】
本発明においては、上記配向膜の厚さは特に限定されないが、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～１μｍであることがより好ましく、０．０１～０．５μｍであることがさらに好ましい。
【0079】
＜その他の層＞
本発明の光学積層体は、光吸収異方性層の表面に、偏光子保護フィルムが配置されていてもよい。
偏光子保護フィルムは、光吸収異方性層の片面上（位相差層側とは反対側の表面上）にのみ配置されていてもよいし、光吸収異方性層の両面上に配置されていてもよい。
偏光子保護フィルムの構成は特に制限されず、例えば、いわゆる透明支持体やハードコート層であっても、透明支持体とハードコート層との積層体であってもよい。
ハードコート層としては、公知の層を使用することができ、例えば、多官能モノマーを重合硬化して得られる層であってもよい。
また、透明支持体としては、公知の透明支持体を使用することができ、例えば、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、「セルロースアシレート」という。）や、熱可塑性ノルボルネン系樹脂（日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等）、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂を使用することができる。熱可塑性ノルボルネン系樹脂やポリスチレン系樹脂等の含水しにくい樹脂は、偏光板のトータル含水量を抑制するためには好ましい。
偏光子保護フィルムの厚みは特に限定されないが、薄型化等の理由から４０μｍ以下が好ましく、２５μｍ以下がより好ましい。
本発明の光学積層体は、光吸収異方性層の表面に、偏光子保護フィルムが配置されていてもよい。
偏光子保護フィルムは、光吸収異方性層の片面上（位相差層側とは反対側の表面上）にのみ配置されていてもよいし、光吸収異方性層の両面上に配置されていてもよい。
偏光子保護フィルムの構成は特に制限されず、例えば、いわゆる透明支持体やハードコート層であっても、透明支持体とハードコート層との積層体であってもよい。
ハードコート層としては、公知の層を使用することができ、例えば、多官能モノマーを重合硬化して得られる層であってもよい。
また、透明支持体としては、公知の透明支持体を使用することができ、例えば、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、「セルロースアシレート」という。）や、熱可塑性ノルボルネン系樹脂（日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等）、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂を使用することができる。熱可塑性ノルボルネン系樹脂やポリスチレン系樹脂等の含水しにくい樹脂は、偏光板のトータル含水量を抑制するためには好ましい。
偏光子保護フィルムの厚みは特に限定されないが、薄型化等の理由から４０μｍ以下が好ましく、２５μｍ以下がより好ましい。
【0080】
［偏光板］
本発明の光学積層体は、偏光板として用いることができる。
特に、上述した位相差層がλ／４板（ポジティブＡプレート）である場合、円偏光板として用いることができる。また、上述した位相差層がλ／４板（ポジティブＡプレート）である場合、λ／４板の遅相軸と上述した光吸収異方性層の吸収軸とのなす角が３０～６０°であることが好ましく、４０～５０°であることがより好ましく、４２～４８°であることが更に好ましく、４５°であることが特に好ましい。
ここで、λ／４板の「遅相軸」は、λ／４板の面内において屈折率が最大となる方向を意味し、光吸収異方性層の「吸収軸」は、吸光度の最も高い方向を意味する。
本発明の光学積層体は、偏光板として用いることができる。
特に、上述した位相差層がλ／４板（ポジティブＡプレート）である場合、円偏光板として用いることができる。また、上述した位相差層がλ／４板（ポジティブＡプレート）である場合、λ／４板の遅相軸と上述した光吸収異方性層の吸収軸とのなす角が３０～６０°であることが好ましく、４０～５０°であることがより好ましく、４２～４８°であることが更に好ましく、４５°であることが特に好ましい。
ここで、λ／４板の「遅相軸」は、λ／４板の面内において屈折率が最大となる方向を意味し、光吸収異方性層の「吸収軸」は、吸光度の最も高い方向を意味する。
【0081】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、画像表示装置の一例であり、本発明の光学積層体と、液晶セルとを有する。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として本発明の光学積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光板として本発明の光学積層体を用いるのがより好ましい。
また、偏光板に含まれる位相差層は、液晶セル側に配置されることが好ましい。
すなわち、本発明の光学積層体は、光学補償フィルムとして好適に使用できる。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
本発明の液晶表示装置は、画像表示装置の一例であり、本発明の光学積層体と、液晶セルとを有する。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として本発明の光学積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光板として本発明の光学積層体を用いるのがより好ましい。
また、偏光板に含まれる位相差層は、液晶セル側に配置されることが好ましい。
すなわち、本発明の光学積層体は、光学補償フィルムとして好適に使用できる。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
【0082】
＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｃｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、又はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、及び特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シート（光学補償フィルム）を用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｃｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、又はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、及び特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シート（光学補償フィルム）を用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。
【0083】
［有機電界発光装置］
本発明の有機電界発光装置の一例である有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置としては、例えば、視認側から、本発明の光学積層体と、有機ＥＬ表示パネルとをこの順で有する態様が好適に挙げられる。光学積層体に含まれる位相差層は、有機ＥＬ表示パネル側に配置されることが好ましい。
すなわち、本発明の光学積層体は、いわゆる反射防止フィルムとして使用される。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
本発明の有機電界発光装置の一例である有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置としては、例えば、視認側から、本発明の光学積層体と、有機ＥＬ表示パネルとをこの順で有する態様が好適に挙げられる。光学積層体に含まれる位相差層は、有機ＥＬ表示パネル側に配置されることが好ましい。
すなわち、本発明の光学積層体は、いわゆる反射防止フィルムとして使用される。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
【実施例】
【0084】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
【0085】
［実施例１］
〔酸素遮断層形成用組成液Ａ１の調製〕
下記の組成にて、酸素遮断層形成用組成液Ａ１を調製し、攪拌しながら９５℃で１時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用組成液Ａ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記変性ＰＶＡ１ ２．０質量部
・純水 ７０．０質量部
・イソプロピルアルコール ２０．０質量部
・メタノール ８．０質量部
・光重合開始剤
（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＢＡＳＦ社製） ０．０６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記変性ＰＶＡ１は、ＰＶＡ１０３を原料として、特開平９－１５２５０９号公報に記載の方法にて合成した。
〔酸素遮断層形成用組成液Ａ１の調製〕
下記の組成にて、酸素遮断層形成用組成液Ａ１を調製し、攪拌しながら９５℃で１時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用組成液Ａ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記変性ＰＶＡ１ ２．０質量部
・純水 ７０．０質量部
・イソプロピルアルコール ２０．０質量部
・メタノール ８．０質量部
・光重合開始剤
（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＢＡＳＦ社製） ０．０６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記変性ＰＶＡ１は、ＰＶＡ１０３を原料として、特開平９－１５２５０９号公報に記載の方法にて合成した。
【0086】
変性ＰＶＡ１
【化6】
【0087】
〔光配向膜形成用組成液Ｅ１の調製〕
下記の組成にて、光配向膜形成用組成液Ｅ１を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜形成用組成液Ｅ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光配向材料Ｅ－１ ５．０質量部
・シクロペンタノン ９５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成にて、光配向膜形成用組成液Ｅ１を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜形成用組成液Ｅ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光配向材料Ｅ－１ ５．０質量部
・シクロペンタノン ９５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0088】
光配向材料Ｅ－１（平均分子量：５１０００）
【化7】
【0089】
〔光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１の調製〕
下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１を調製し、攪拌しながら８０℃で２時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ１ ２．７質量部
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ２ ２．７質量部
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ３ ２．７質量部
・下記液晶化合物Ｍ１ ７３．０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製） ３．０質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） ０．９質量部
・シクロペンタノン ９２５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１を調製し、攪拌しながら８０℃で２時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ１ ２．７質量部
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ２ ２．７質量部
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ３ ２．７質量部
・下記液晶化合物Ｍ１ ７３．０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製） ３．０質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） ０．９質量部
・シクロペンタノン ９２５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0090】
二色性アゾ色素化合物Ｄ１
【化8】
【0091】
二色性アゾ色素化合物Ｄ２
【化9】
【0092】
二色性アゾ色素化合物Ｄ３
【化10】
【0093】
液晶化合物Ｍ１（下記化合物Ａ／下記化合物Ｂ＝７５／２５で混合）
【0094】
化合物Ａ
【化11】
【0095】
化合物Ｂ
【化12】
【0096】
〔積層体１－１の作製〕
＜酸素遮断層の形成＞
厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）の表面に鹸化処理を行った上に、上記酸素遮断層形成用組成液Ａ１をワイヤーバーで塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に厚み１．５μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）透明酸素遮断層が形成された透明支持体１が得られた。
＜酸素遮断層の形成＞
厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）の表面に鹸化処理を行った上に、上記酸素遮断層形成用組成液Ａ１をワイヤーバーで塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に厚み１．５μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）透明酸素遮断層が形成された透明支持体１が得られた。
【0097】
＜光配向膜の形成＞
上記透明支持体１上に、上記光配向膜用塗布液Ｅ１を塗布し、６０℃で２分間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、光配向膜Ｅ１を作製した。
上記透明支持体１上に、上記光配向膜用塗布液Ｅ１を塗布し、６０℃で２分間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、光配向膜Ｅ１を作製した。
【0098】
＜光吸収異方性層の形成＞
得られた光配向膜Ｅ１上に、上記光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで塗布した。
次いで、１２０℃で６０秒間加熱し、室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、厚み１．７μｍの光吸収異方性層Ｐ１を形成した。
得られた光配向膜Ｅ１上に、上記光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで塗布した。
次いで、１２０℃で６０秒間加熱し、室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、厚み１．７μｍの光吸収異方性層Ｐ１を形成した。
【0099】
＜保護層の形成＞
形成した光吸収異方性層Ｐ１上に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アロニックスＭ－４０３、東亞合成株式会社製）５０部、アクリレート樹脂（エベクリル４８５８ ダイセルユーシービー株式会社製）５０部および２－［４－（メチルチオ）ベンゾイル］－２－（４－モルホリニル）プロパン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＢＡＳＦ社製）３部をイソプロパノール２５０部に溶解することにより調製した溶液（保護層形成用組成物）をバーコート法により塗布し、５０℃の乾燥オーブンで１分間加熱乾燥した。
得られた乾燥被膜に、紫外線（ＵＶ）照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を、露光量４００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）で照射することにより、光吸収異方性層Ｐ１上に保護層を形成し、光吸収異方性層Ｐ１を含む積層体１－１を作製した。
形成した光吸収異方性層Ｐ１上に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アロニックスＭ－４０３、東亞合成株式会社製）５０部、アクリレート樹脂（エベクリル４８５８ ダイセルユーシービー株式会社製）５０部および２－［４－（メチルチオ）ベンゾイル］－２－（４－モルホリニル）プロパン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＢＡＳＦ社製）３部をイソプロパノール２５０部に溶解することにより調製した溶液（保護層形成用組成物）をバーコート法により塗布し、５０℃の乾燥オーブンで１分間加熱乾燥した。
得られた乾燥被膜に、紫外線（ＵＶ）照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を、露光量４００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）で照射することにより、光吸収異方性層Ｐ１上に保護層を形成し、光吸収異方性層Ｐ１を含む積層体１－１を作製した。
【0100】
〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
─────────────────────────────────
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記の化合物Ｇ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６４質量部
─────────────────────────────────
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
─────────────────────────────────
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記の化合物Ｇ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６４質量部
─────────────────────────────────
【0101】
化合物Ｇ
【化13】
【0102】
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
マット剤溶液
─────────────────────────────────
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
─────────────────────────────────
─────────────────────────────────
マット剤溶液
─────────────────────────────────
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
─────────────────────────────────
【0103】
上記コア層セルロースアシレートドープおよび上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
溶剤含有率略２０質量％の状態でフィルムをドラム上から剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍのセルロースアシレートフィルム１を作製した。セルロースアシレートフィルム１のコア層は厚み３６μｍ、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚み２μｍであった。得られたセルロースアシレートフィルム１のＲｅ（５５０）は０ｎｍであった。
溶剤含有率略２０質量％の状態でフィルムをドラム上から剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍのセルロースアシレートフィルム１を作製した。セルロースアシレートフィルム１のコア層は厚み３６μｍ、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚み２μｍであった。得られたセルロースアシレートフィルム１のＲｅ（５５０）は０ｎｍであった。
【0104】
〔ポジティブＡプレートＡ１の作製〕
後述する配向層形成用塗布液１を、＃２．４のワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。
塗膜が形成されたセルロースアシレートフィルム１を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、配向層Ｐ－１を形成し、配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
─────────────────────────────────
（配向層形成用塗布液１）
─────────────────────────────────
・下記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ－１ １．００質量部
・イソプロピルアルコール １６．５０質量部
・酢酸ブチル １０７２．００質量部
・メチルエチルケトン ２６８．００質量部
─────────────────────────────────
後述する配向層形成用塗布液１を、＃２．４のワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。
塗膜が形成されたセルロースアシレートフィルム１を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、配向層Ｐ－１を形成し、配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
─────────────────────────────────
（配向層形成用塗布液１）
─────────────────────────────────
・下記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ－１ １．００質量部
・イソプロピルアルコール １６．５０質量部
・酢酸ブチル １０７２．００質量部
・メチルエチルケトン ２６８．００質量部
─────────────────────────────────
【0105】
重合体ＰＡ－１
【化14】
【0106】
酸発生剤ＰＡＧ－１
【化15】
【0107】
後述する組成の組成物Ａ１を、バーコーターを用いて配向層Ｐ－１上に塗布した。
配向層Ｐ－１上に形成された塗膜を温風にて１２０℃に加熱し、その後６０℃に冷却した後に、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射することで、液晶化合物の配向を固定化し、ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムを作製した。
ポジティブＡプレートＡ１の厚みは２．５μｍであり、Ｒｅ（５５０）は１４４ｎｍであった。また、ポジティブＡプレートＡ１は、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たしていた。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．８２であった。
配向層Ｐ－１上に形成された塗膜を温風にて１２０℃に加熱し、その後６０℃に冷却した後に、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射することで、液晶化合物の配向を固定化し、ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムを作製した。
ポジティブＡプレートＡ１の厚みは２．５μｍであり、Ｒｅ（５５０）は１４４ｎｍであった。また、ポジティブＡプレートＡ１は、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たしていた。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．８２であった。
【0108】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（組成物Ａ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶化合物Ｌ－１ ４２．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ－２ ４２．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ－３ １１．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ－４ ５．００質量部
・下記重合開始剤ＰＩ－１ ０．５０質量部
・下記レベリング剤Ｔ－１ ０．１５質量部
・シクロペンタノン ３００．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（組成物Ａ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶化合物Ｌ－１ ４２．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ－２ ４２．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ－３ １１．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ－４ ５．００質量部
・下記重合開始剤ＰＩ－１ ０．５０質量部
・下記レベリング剤Ｔ－１ ０．１５質量部
・シクロペンタノン ３００．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0109】
重合性液晶化合物Ｌ－１（上記式（Ｉ）中のＡｒのＣｌｏｇＰ値：４．４４）
【化16】
【0110】
重合性液晶化合物Ｌ－２（上記式（Ｉ）中のＡｒのＣｌｏｇＰ値：２．６２）
【化17】
【0111】
重合性液晶化合物Ｌ－３
【化18】
【0112】
重合性液晶化合物Ｌ－４
【化19】
【0113】
重合開始剤ＰＩ－１
【化20】
【0114】
レベリング剤Ｔ－１
【化21】
【0115】
〔ポジティブＣプレートＣ１の作製〕
仮支持体として、上記セルロースアシレートフィルム１を用いた。
セルロースアシレートフィルム１を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、フィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム１を作製した。
仮支持体として、上記セルロースアシレートフィルム１を用いた。
セルロースアシレートフィルム１を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、フィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム１を作製した。
【0116】
─────────────────────────────────
（アルカリ溶液）
─────────────────────────────────
・水酸化カリウム ４．７質量部
・水 １５．８質量部
・イソプロパノール ６３．７質量部
・含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ） １．０質量部
・プロピレングリコール １４．８質量部
─────────────────────────────────
（アルカリ溶液）
─────────────────────────────────
・水酸化カリウム ４．７質量部
・水 １５．８質量部
・イソプロパノール ６３．７質量部
・含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ） １．０質量部
・プロピレングリコール １４．８質量部
─────────────────────────────────
【0117】
下記の組成の配向層形成用塗布液２を、＃８のワイヤーバーを用いて上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１上に連続的に塗布した。
塗膜が形成されたセルロースアシレートフィルム１を６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向層を形成した。
─────────────────────────────────
（配向層形成用塗布液２）
─────────────────────────────────
・ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
・イソプロピルアルコール １．６質量部
・メタノール ３６質量部
・水 ６０質量部
─────────────────────────────────
塗膜が形成されたセルロースアシレートフィルム１を６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向層を形成した。
─────────────────────────────────
（配向層形成用塗布液２）
─────────────────────────────────
・ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
・イソプロピルアルコール １．６質量部
・メタノール ３６質量部
・水 ６０質量部
─────────────────────────────────
【0118】
後述するポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１を配向層上に塗布し、得られた塗膜を６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、液晶化合物を垂直配向させ、ポジティブＡプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムを作製した。
得られたポジティブＣプレートＣ１のＲｔｈ（５５０）は、－６０ｎｍであった。
得られたポジティブＣプレートＣ１のＲｔｈ（５５０）は、－６０ｎｍであった。
【0119】
─────────────────────────────────
（ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１）
─────────────────────────────────
・下記液晶化合物Ｌ－１１ ８０質量部
・下記液晶化合物Ｌ－１２ ２０質量部
・下記垂直配液晶化合物向剤（Ｓ０１） １質量部
・エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
・下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
・メチルエチルケトン １７０質量部
・シクロヘキサノン ３０質量部
─────────────────────────────────
（ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１）
─────────────────────────────────
・下記液晶化合物Ｌ－１１ ８０質量部
・下記液晶化合物Ｌ－１２ ２０質量部
・下記垂直配液晶化合物向剤（Ｓ０１） １質量部
・エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
・下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
・メチルエチルケトン １７０質量部
・シクロヘキサノン ３０質量部
─────────────────────────────────
【0120】
【化22】
【0121】
【化23】
【0122】
【化24】
【0123】
〔粘着剤付きフィルムの作製〕
特開２０１７－１３４４１４号公報の実施例１の手順に従って、粘着剤付きフィルムを作製した。
特開２０１７－１３４４１４号公報の実施例１の手順に従って、粘着剤付きフィルムを作製した。
【0124】
〔ＵＶ接着剤組成物の調製〕
下記ＵＶ接着剤組成物を調製した。
─────────────────────────────────
ＵＶ接着剤組成物
─────────────────────────────────
・ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） ７０質量部
・１、４－ブタンジオールジグリシジルエーテル ２０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル １０質量部
・下記ＣＰＩ－１００Ｐ ２．２５質量部
─────────────────────────────────
下記ＵＶ接着剤組成物を調製した。
─────────────────────────────────
ＵＶ接着剤組成物
─────────────────────────────────
・ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） ７０質量部
・１、４－ブタンジオールジグリシジルエーテル ２０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル １０質量部
・下記ＣＰＩ－１００Ｐ ２．２５質量部
─────────────────────────────────
【0125】
ＣＰＩ－１００Ｐ
【化25】
【0126】
〔積層体１－２の作製〕
上記ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムの位相差層（ポジティブＡプレートＡ１）側に、上記ＵＶ接着剤組成物を用いて、上記で作製したポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムの位相差層（ポジティブＣプレートＣ１）を張り合わせ、ポジティブＡプレート側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去して、位相差層（ポジティブＡプレートＡ１およびポジティブＡプレートＣ１）を含む積層体１－２を得た。
上記ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムの位相差層（ポジティブＡプレートＡ１）側に、上記ＵＶ接着剤組成物を用いて、上記で作製したポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムの位相差層（ポジティブＣプレートＣ１）を張り合わせ、ポジティブＡプレート側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去して、位相差層（ポジティブＡプレートＡ１およびポジティブＡプレートＣ１）を含む積層体１－２を得た。
【0127】
〔光学積層体１の作製〕
積層体１－２のポジティブＡプレートＡ１側に、上記粘着剤付きフィルムを用いて、上記で作製した積層体１－１の保護層側を貼り合わせ、配向層とセルロースアシレートフィルム１（仮支持体）とを除去して、光学積層体１を作製した。
このとき、光吸収異方性層の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。
積層体１－２のポジティブＡプレートＡ１側に、上記粘着剤付きフィルムを用いて、上記で作製した積層体１－１の保護層側を貼り合わせ、配向層とセルロースアシレートフィルム１（仮支持体）とを除去して、光学積層体１を作製した。
このとき、光吸収異方性層の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。
【0128】
［実施例２］
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１で用いた重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）を「重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９（ＢＡＳＦ社製）」に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、光学積層体２を作製した。
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１で用いた重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）を「重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９（ＢＡＳＦ社製）」に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、光学積層体２を作製した。
【0129】
［実施例３］
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１で用いた重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）を「重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）」に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、光学積層体３を作製した。
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１で用いた重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）を「重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）」に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、光学積層体３を作製した。
【0130】
［実施例４～６］
組成物Ａ１に配合している重合性液晶化合物Ｌ－１、重合性液晶化合物Ｌ－２、重合性液晶化合物Ｌ－３、および、重合性液晶化合物Ｌ－４の配合量を下記表３に示す値に変更した以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体４～６を作製した。
組成物Ａ１に配合している重合性液晶化合物Ｌ－１、重合性液晶化合物Ｌ－２、重合性液晶化合物Ｌ－３、および、重合性液晶化合物Ｌ－４の配合量を下記表３に示す値に変更した以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体４～６を作製した。
【0131】
［実施例７］
組成物Ａ１に配合している重合性液晶化合物Ｌ－１に代えて、下記重合性液晶化合物Ｌ－５を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体７を作製した。
組成物Ａ１に配合している重合性液晶化合物Ｌ－１に代えて、下記重合性液晶化合物Ｌ－５を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体７を作製した。
【0132】
重合性液晶化合物Ｌ－５
【化26】
【0133】
［実施例８］
光学積層体１の作製工程において、粘着材付きフィルムの代わりに上記ＵＶ接着剤組成物を用いてポジティブＡプレートＡ１側と積層体１－１の保護層側を貼り合わせた以外は、光学積層体１の作製方法と同様にして、光学積層体８を作製した。
光学積層体１の作製工程において、粘着材付きフィルムの代わりに上記ＵＶ接着剤組成物を用いてポジティブＡプレートＡ１側と積層体１－１の保護層側を貼り合わせた以外は、光学積層体１の作製方法と同様にして、光学積層体８を作製した。
【0134】
［実施例９］
〔光配向膜形成用組成液Ｅ２の調製〕
下記の組成にて、光配向膜形成用組成液Ｅ２を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、４５μｍフィルターでろ過した。
〔光配向膜形成用組成液Ｅ２の調製〕
下記の組成にて、光配向膜形成用組成液Ｅ２を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、４５μｍフィルターでろ過した。
【0135】
─────────────────────────────────
光配向膜形成用組成液Ｅ２
─────────────────────────────────
・下記記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ-1 １．００質量部
・サイクロマーＭ１００（ダイセル社製） ３．００質量部
・イソプロピルアルコール １６．５０質量部
・酢酸ブチル １０７２．００質量部
・メチルエチルケトン ２６８．００質量部
─────────────────────────────────
光配向膜形成用組成液Ｅ２
─────────────────────────────────
・下記記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ-1 １．００質量部
・サイクロマーＭ１００（ダイセル社製） ３．００質量部
・イソプロピルアルコール １６．５０質量部
・酢酸ブチル １０７２．００質量部
・メチルエチルケトン ２６８．００質量部
─────────────────────────────────
【0136】
重合体ＰＡ－１
【化27】
【0137】
酸発生剤ＰＡＧ－１
【化28】
【0138】
〔光吸収異方性層形成用組成液Ｐ４の調製〕
下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ４を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ４を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
【0139】
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ４
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ４ ２．５質量部
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ５ ２．６質量部
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ６ ６．５質量部
・下記高分子液晶化合物Ｍ２ ３７．１質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製） ２．８質量部
・下記界面改良剤Ｆ－１ ０．３質量部
・シクロペンタノン ４５７．５質量部
・テトラヒドロフラン ４５７．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ４
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ４ ２．５質量部
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ５ ２．６質量部
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ６ ６．５質量部
・下記高分子液晶化合物Ｍ２ ３７．１質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製） ２．８質量部
・下記界面改良剤Ｆ－１ ０．３質量部
・シクロペンタノン ４５７．５質量部
・テトラヒドロフラン ４５７．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0140】
二色性アゾ色素化合物Ｄ４
【化29】
【0141】
二色性アゾ色素化合物Ｄ５
【化30】
【0142】
二色性アゾ色素化合物Ｄ６
【化31】
【0143】
高分子液晶化合物Ｍ２（平均分子量１６０００）
【化32】
【0144】
界面改良剤Ｆ－１
【化33】
【0145】
〔積層体９－１の作製〕
以下の方法で、光配向膜および光吸収異方性層を形成した以外は、積層体１－１と同様の方法で、積層体９－１を作製した。
＜光配向膜の形成＞
上記透明支持体１上に、上記光配向膜用塗布液Ｅ２を塗布し、１４０℃の温風で１２０秒間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜Ｅ２を作製した。
＜光吸収異方性層の形成＞
得られた光配向膜Ｅ２上に、上記光吸収異方性層形成用組成物Ｐ４をワイヤーバーで塗布した。
次いで、１４０℃で９０秒間加熱し、室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、厚み０．３μｍの光吸収異方性層Ｐ４を形成した。配向度は、０．９５であった。
以下の方法で、光配向膜および光吸収異方性層を形成した以外は、積層体１－１と同様の方法で、積層体９－１を作製した。
＜光配向膜の形成＞
上記透明支持体１上に、上記光配向膜用塗布液Ｅ２を塗布し、１４０℃の温風で１２０秒間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜Ｅ２を作製した。
＜光吸収異方性層の形成＞
得られた光配向膜Ｅ２上に、上記光吸収異方性層形成用組成物Ｐ４をワイヤーバーで塗布した。
次いで、１４０℃で９０秒間加熱し、室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、厚み０．３μｍの光吸収異方性層Ｐ４を形成した。配向度は、０．９５であった。
【0146】
〔光学積層体９の作製〕
積層体１－１に代えて積層体９－１を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、光学積層体９を作製した。
積層体１－１に代えて積層体９－１を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、光学積層体９を作製した。
【0147】
［比較例１］
組成物Ａ１に配合している重合性液晶化合物Ｌ－１に代えて、下記重合性液晶化合物Ｌ－６を用い、重合性液晶化合物Ｌ－２に代えて、下記重合性液晶化合物Ｌ－７を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体１０を作製した。
なお、下記合性液晶化合物Ｌ－６および下記重合性液晶化合物Ｌ－７中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記合性液晶化合物Ｌ－６および下記重合性液晶化合物Ｌ－７は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
組成物Ａ１に配合している重合性液晶化合物Ｌ－１に代えて、下記重合性液晶化合物Ｌ－６を用い、重合性液晶化合物Ｌ－２に代えて、下記重合性液晶化合物Ｌ－７を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体１０を作製した。
なお、下記合性液晶化合物Ｌ－６および下記重合性液晶化合物Ｌ－７中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記合性液晶化合物Ｌ－６および下記重合性液晶化合物Ｌ－７は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
【0148】
重合性液晶化合物Ｌ－６
【化34】
【0149】
重合性液晶化合物Ｌ－７
【化35】
【0150】
［湿熱耐久性］
作製した各光学積層体を、８５℃８５％の環境下で５００時間保持した後のＲｅ（５５０）を下記の基準で評価した。結果を下記表３に示す。
Ａ：８５℃８５％で保持前のＲｅ（５５０）に対し、保持後のＲｅ（５５０）の割合が９５％以上である場合
Ｂ：８５℃８５％で保持前のＲｅ（５５０）に対し、保持後のＲｅ（５５０）の割合が９０％以上９５％未満である場合
Ｃ：８５℃８５％で保持前のＲｅ（５５０）に対し、保持後のＲｅ（５５０）の割合が９０％未満である場合
作製した各光学積層体を、８５℃８５％の環境下で５００時間保持した後のＲｅ（５５０）を下記の基準で評価した。結果を下記表３に示す。
Ａ：８５℃８５％で保持前のＲｅ（５５０）に対し、保持後のＲｅ（５５０）の割合が９５％以上である場合
Ｂ：８５℃８５％で保持前のＲｅ（５５０）に対し、保持後のＲｅ（５５０）の割合が９０％以上９５％未満である場合
Ｃ：８５℃８５％で保持前のＲｅ（５５０）に対し、保持後のＲｅ（５５０）の割合が９０％未満である場合
【0151】
【表3】
【0152】
上記表３に示す結果から、上記式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を配合していない重合性液晶組成物を重合して得られる位相差層と、モルホリン環を有する化合物を含有する光吸収異方性層とを有する光学積層体は、湿熱耐久性が劣ることが分かった（比較例１）。
これに対し、上記式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる位相差層と、モルホリン環を有する化合物を含有する光吸収異方性層とを有する光学積層体は、湿熱耐久性が良好となることが分かった（実施例１～９）。
特に、実施例１と実施例６との対比から、上記式（Ｉ）中のＡｒのＣｌｏｇＰ値が４．３以上となる重合性液晶化合物Ｌ－１を配合すると、光学積層体の湿熱耐久性がより良好となることが分かった。
これに対し、上記式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる位相差層と、モルホリン環を有する化合物を含有する光吸収異方性層とを有する光学積層体は、湿熱耐久性が良好となることが分かった（実施例１～９）。
特に、実施例１と実施例６との対比から、上記式（Ｉ）中のＡｒのＣｌｏｇＰ値が４．３以上となる重合性液晶化合物Ｌ－１を配合すると、光学積層体の湿熱耐久性がより良好となることが分かった。