特許7040257成膜装置、及び成膜方法

発明の名称　成膜装置、及び成膜方法

出願人　東京エレクトロン株式会社　（識別番号 219967）

　　　　特許公開件数ランキング 33 位（217件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 24 位（227件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7040257

公報発行日　2022年3月23

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7040257

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