特許 7044894 パルス光ビームのスペクトル特性選択及びパルスタイミング制御

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-03-22

(45)【発行日】2022-03-30

(54)【発明の名称】パルス光ビームのスペクトル特性選択及びパルスタイミング制御

(51)【国際特許分類】

   H01S 3/13 20060101AFI20220323BHJP

   H01S 3/00 20060101ALI20220323BHJP

   G03F 7/20 20060101ALI20220323BHJP

【ＦＩ】

H01S3/13

H01S3/00 A

G03F7/20 521

G03F7/20 502

【請求項の数】 23

(21)【出願番号】P 2020545695

(86)(22)【出願日】2019-03-01

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2021-07-15

(86)【国際出願番号】 US2019020415

(87)【国際公開番号】W WO2019190700

(87)【国際公開日】2019-10-03

【審査請求日】2020-10-29

(31)【優先権主張番号】62/650,896

(32)【優先日】2018-03-30

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(31)【優先権主張番号】62/663,308

(32)【優先日】2018-04-27

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(73)【特許権者】

【識別番号】513192029

【氏名又は名称】サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー

(74)【代理人】

【識別番号】100079108

【弁理士】

【氏名又は名称】稲葉 良幸

(74)【代理人】

【識別番号】100109346

【弁理士】

【氏名又は名称】大貫 敏史

(74)【代理人】

【識別番号】100117189

【弁理士】

【氏名又は名称】江口 昭彦

(74)【代理人】

【識別番号】100134120

【弁理士】

【氏名又は名称】内藤 和彦

(72)【発明者】

【氏名】オブライエン，ケビン，マイケル

(72)【発明者】

【氏名】ダフィー，トーマス，パトリック

(72)【発明者】

【氏名】ソーンズ，ジョシュア，ジョン

【審査官】村井 友和

(56)【参考文献】

【文献】特表２００５－５０１３９９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭５９－０８４４８７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１－２４９８３２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０２－３０７２８５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｓ ３／００－３／３０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

パルス繰り返し率で増幅光ビームのパルスのバーストを生成し、前記パルスをリソグラフィ露光装置に送出することと、
前記パルスバーストの生成中に、前記パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動することであって、各離散状態は前記増幅光ビームのスペクトル特性の予め設定された複数の離散値の中の前記スペクトル特性の離散値に対応し、前記バースト内のパルスが生成されるたびに、前記スペクトル特性アジャスタは前記離散状態のうち１つになり、前記増幅光ビームパルスはその離散状態に対応するスペクトル特性を有する、スペクトル特性アジャスタを駆動することと、
前記パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていない時、前記リソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方で前記スペクトル特性アジャスタを駆動することと、
次のバースト内のパルスの生成時に、前記スペクトル特性アジャスタが前記増幅光ビームの前記スペクトル特性の離散値に対応する前記離散状態のうち１つであることを保証することと、
を含む方法。

【請求項2】

前記リソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方で前記スペクトル特性アジャスタを駆動することは、前記パルス繰り返し率と相関する周波数で前記スペクトル特性アジャスタを駆動することを含む、請求項１に記載の方法。

【請求項3】

前記次のバースト内の前記パルスの生成時に前記スペクトル特性アジャスタが前記離散状態であることを保証することは、前記パルス繰り返し率におけるパルス間の時間間隔の整数倍となるようにバースト間時間間隔を調整することを含む、請求項２に記載の方法。

【請求項4】

前記次のバースト内の前記パルスの生成時に前記スペクトル特性アジャスタが前記離散状態であることを保証することは、
前記リソグラフィ露光装置から、前記次のバーストの生成を要求する時に関する指示を受信することと、
前記受信した指示が、前記次のバースト内の最初のパルスの生成の時点と前記スペクトル特性アジャスタが前記離散状態にある時点との間の時間のずれを示す場合、前記受信した指示に基づいて、前記スペクトル特性アジャスタの駆動に関連付けられた駆動信号の周波数及び位相のうち１つ以上を修正することと、
を含む、請求項２に記載の方法。

【請求項5】

前記リソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方で前記スペクトル特性アジャスタを駆動することは、１つ以上の固定パラメータに従って前記スペクトル特性アジャスタを駆動することと、前記次のパルスバーストを生成するための前記リソグラフィ露光装置からの要求を受信することと、を含み、
前記次のバースト内の前記パルスの生成時に前記スペクトル特性アジャスタが離散状態であることを保証することは、前記次のパルスバーストを生成するための前記リソグラフィ露光装置からの前記要求の受信に対して前記次のパルスバーストの生成をゼロよりも大きい時間期間だけ遅延させることを含む、請求項１に記載の方法。

【請求項6】

リソグラフィ露光装置と通信し、前記リソグラフィ露光装置から情報を受信するように構成されたインタフェースと、
スペクトル特性アジャスタと、
前記インタフェース及び前記スペクトル特性アジャスタと通信している光学装置であって、
基板をパターニングするために前記リソグラフィ露光装置が使用する増幅光ビームのパルスのバーストをパルス繰り返し率で生成し、
前記パルスバーストの生成中に、前記パルス繰り返し率と相関する周波数で前記スペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動し、各離散状態は前記増幅光ビームのスペクトル特性の予め設定された複数の離散値の中の前記スペクトル特性の離散値に対応し、前記バースト内のパルスが生成されるたびに、前記スペクトル特性アジャスタは前記離散状態のうち１つになり、前記増幅光ビームパルスはその離散状態に対応するスペクトル特性を有し、
前記パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていない時、前記インタフェースにおいて前記リソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方で前記スペクトル特性アジャスタを駆動し、
次のバースト内のパルスの生成時に、前記スペクトル特性アジャスタが前記増幅光ビームの前記スペクトル特性の離散値に対応する前記離散状態のうち１つであることを保証する、
ように構成された光学装置と、
を備える装置。

【請求項7】

前記増幅光ビームの前記スペクトル特性は前記増幅光ビームの波長である、請求項６に記載の装置。

【請求項8】

前記光学装置は、前記インタフェース及びドライブアクチュエータと通信している制御装置を含み、前記制御装置は、
前記リソグラフィ露光装置からの前記パルス繰り返し率を含む前記リソグラフィ露光装置からの要求に関する指示を前記インタフェースから受信し、
前記リソグラフィ露光装置から受信した情報に基づく駆動信号を前記ドライブアクチュエータに送信する、
ように構成されている、請求項６に記載の装置。

【請求項9】

前記スペクトル特性アジャスタは前駆光ビームと光学的に相互作用する光学デバイスを含み、前記光学デバイスの各離散状態は前記スペクトル特性アジャスタの離散状態に対応する、請求項６に記載の装置。

【請求項10】

前記光学装置は、
第１のパルス光ビームを発生するように構成された第１のガス放電段であって、第１のガス放電チャンバを含み、前記第１のガス放電チャンバは、エネルギ源を収容すると共に、第１の利得媒体を含むガス混合物を包含している、第１のガス放電段と、
前記第１のパルス光ビームを受け、前記第１のパルス光ビームを増幅することにより前記光学装置から前記増幅光ビームを生成するように構成された第２のガス放電段であって、第２のガス放電チャンバを含み、前記第２のガス放電チャンバは、エネルギ源を収容すると共に、第２の利得媒体を含むガス混合物を包含している、第２のガス放電段と、
を含む、請求項６に記載の装置。

【請求項11】

パルス繰り返し率で増幅光ビームのパルスのバーストを生成するよう光源に命令することと、
前記生成したパルスをリソグラフィ露光装置に送出することと、
前記パルスバーストの生成中に、前記パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動することであって、各離散状態は前記増幅光ビームのスペクトル特性の予め設定された複数の離散値の中の前記スペクトル特性の離散値に対応する、スペクトル特性アジャスタを駆動することと、
前記パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていない時、パラメータセットによって規定される駆動信号に従って前記スペクトル特性アジャスタを駆動することと、
前記リソグラフィ露光装置に対する命令、前記スペクトル特性アジャスタに対する前記駆動信号、及び／又は前記光源に対する前記命令のうち１つ以上を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時に前記スペクトル特性アジャスタが前記増幅光ビームの前記スペクトル特性の離散値に対応する前記離散状態のうち１つであることを保証することと、
を含む方法。

【請求項12】

前記次のバースト内の前記パルスの生成時に前記スペクトル特性アジャスタが前記増幅光ビームの前記スペクトル特性の前記離散値に対応する前記離散状態のうち１つであることを保証することは、前記スペクトル特性アジャスタに対する前記駆動信号を調整することを含む、請求項１１に記載の方法。

【請求項13】

前記リソグラフィ露光装置から、前記次のバーストの生成を要求する時に関する指示を受信することを更に含み、
前記スペクトル特性アジャスタに対する前記駆動信号を調整することは、前記リソグラフィ露光装置からの前記受信した指示に基づいて、前記スペクトル特性アジャスタに送信される前記駆動信号の周波数及び位相のうち１つ以上を修正することを含む、請求項１２に記載の方法。

【請求項14】

前記次のバースト内の前記パルスの生成時に前記スペクトル特性アジャスタが前記増幅光ビームの前記スペクトル特性の前記離散値に対応する前記離散状態のうち１つであることを保証することは、前記次のバースト内の前記パルスの生成時に前記スペクトル特性アジャスタが前記離散状態のうち１つであるように、前記次のパルスバーストを生成するための前記リソグラフィ露光装置からの要求の受信に対して前記次のパルスバーストの生成をゼロよりも大きい時間期間だけ遅延させることを含む、前記光源に対する前記命令を調整することを含む、請求項１１に記載の方法。

【請求項15】

前記パルス繰り返し率と相関する前記周波数で前記スペクトル特性アジャスタを前記離散状態セット間で駆動することは、
前記増幅光ビームの各パルスごとに前記増幅光ビームの波長が２つの別個の波長間で変化するように前記スペクトル特性アジャスタを駆動すること、又は
前記増幅光ビームの１つおきのパルスごとに前記増幅光ビームの前記波長が２つの別個の波長間で変化するように前記スペクトル特性アジャスタを駆動すること、
を含む、請求項１１に記載の方法。

【請求項16】

前記次のバースト内の前記パルスの生成時に前記スペクトル特性アジャスタが前記離散状態のうち１つであることを保証することは、前記次のバースト内の最初のパルスの生成時に前記スペクトル特性アジャスタが前記離散状態のうち１つであることを保証することを含む、請求項１１に記載の方法。

【請求項17】

リソグラフィ露光装置と通信するように構成されたインタフェースと、
スペクトル特性アジャスタと、
光源と、
前記インタフェース、前記スペクトル特性アジャスタ、及び前記光源と通信している制御装置であって、
基板をパターニングするために前記リソグラフィ露光装置が使用する増幅光ビームのパルスのバーストをパルス繰り返し率で生成するよう前記光源に命令し、
前記パルスバースト中に、前記パルス繰り返し率と相関する周波数で前記スペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動し、各離散状態は前記増幅光ビームのスペクトル特性の予め設定された複数の離散値の中の前記スペクトル特性の離散値に対応し、
前記パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていない時、パラメータセットによって規定される駆動信号に従って前記スペクトル特性アジャスタを駆動し、
前記リソグラフィ露光装置に対する命令、前記スペクトル特性アジャスタに対する前記駆動信号、及び／又は前記光源に対する前記命令のうち１つ以上を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時に前記スペクトル特性アジャスタが前記増幅光ビームの前記スペクトル特性の離散値に対応する前記離散状態のうち１つであることを保証する、
ように構成された制御装置と、
を備える装置。

【請求項18】

前記制御装置は、前記スペクトル特性アジャスタに対する前記駆動信号を調整することによって、前記次のバースト内の前記パルスの生成時に前記スペクトル特性アジャスタが前記増幅光ビームの前記スペクトル特性の前記離散値に対応する前記離散状態のうち１つであることを保証するように構成されている、請求項１７に記載の装置。

【請求項19】

前記スペクトル特性アジャスタは、前記光学装置と通信していると共に前記スペクトル特性アジャスタを前記離散状態セット間で駆動するように構成されたドライブアクチュエータを含む、請求項１７に記載の装置。

【請求項20】

前記スペクトル特性アジャスタは前駆光ビームと光学的に相互作用する光学デバイスを含み、前記光学デバイスの各離散状態は前記スペクトル特性アジャスタの離散状態に対応する、請求項１９に記載の装置。

【請求項21】

前記光学デバイスの離散状態は、前記光学デバイスが前記前駆光ビームと相互作用する離散位置である、請求項２０に記載の装置。

【請求項22】

前記光学デバイスは、前記前駆光ビームが通過するプリズムを含む、請求項２０に記載の装置。

【請求項23】

前記光源は、前記増幅光ビームを出力するように構成された少なくとも１つの増幅段を含む、請求項１７に記載の装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

（関連出願の相互参照）
[0001] 本出願は、２０１８年３月３０日に出願された「Spectral Feature Selection and Pulse Timing Control of a Pulsed Light Beam」と題するＵＳ出願第６２／６５０，８９６号、及び、２０１８年４月２７日に出願された「Spectral Feature Selection and Pulse Timing Control of a Pulsed Light Beam」と題するＵＳ出願第６２／６６３，３０８号に対する優先権を主張する。これらの特許出願は双方とも援用により全体が本願に含まれる。

【0002】

[0002] 開示されている主題は、例えば、リソグラフィ露光装置に光を供給する光源から出力された光ビームの帯域幅又は波長のようなスペクトル特性（spectral feature）を制御することに関する。

【背景技術】

【0003】

[0003] 半導体リソグラフィ（又はフォトリソグラフィ）において、集積回路（ＩＣ）を製造するには、半導体（例えばシリコン）基板（ウェーハとも呼ばれる）に対して様々な物理的プロセス及び化学プロセスを実行する必要がある。リソグラフィ露光装置（スキャナとも呼ばれる）は、基板のターゲット領域に所望のパターンを適用する機械である。ウェーハは、スキャナの直交するＸ_Ｌ方向及びＹ_Ｌ方向によって規定された像面に沿って概ね延出するようにステージに固定されている。ウェーハは、紫外線範囲すなわち可視光とｘ線との間の波長を有する、従って約１０ナノメートル（ｎｍ）～約４００ｎｍの波長を有する光ビームで照射される。このため、光ビームは、例えば約１００ｎｍ～約４００ｎｍの波長を含む深紫外線（ＤＵＶ）範囲内の波長、又は約１０ｎｍ～約１００ｎｍの波長を含む極端紫外線（ＥＵＶ）範囲内の波長を有し得る。これらの波長範囲は精密でなく、ＤＵＶ又はＥＵＶと見なされる光は重複することがある。

【0004】

[0004] 光ビームは、スキャナのＺ_Ｌ方向と一致する軸方向に沿って進む。スキャナのＺ_Ｌ方向は像面（Ｘ_Ｌ－Ｙ_Ｌ）に直交する。光ビームは、ビームデリバリユニットを通過し、レチクル（又はマスク）でフィルタリングされた後、調製済みのウェーハに投影される。ウェーハと光ビームとの相対位置を像面内で移動させ、ウェーハの各ターゲット領域でプロセスが繰り返される。このようにして、チップ設計はフォトレジストにパターニングされ、このフォトレジストにエッチング及び洗浄が行われ、次いでプロセスが繰り返される。

【0005】

[0005] 多くの科学的用途及び工業用途において、レーザ等の光源から出力された光ビームのスペクトル特性又は特徴（property）（例えば帯域幅又は波長）の正確な知識は重要である。例えば、光源の帯域幅の正確な知識を用いて、深紫外線（ＤＵＶ）光リソグラフィにおける最小フィーチャサイズ又はクリティカルディメンション（ＣＤ）を制御することが可能となる。クリティカルディメンションは、半導体基板（ウェーハとも呼ばれる）に印刷されるフィーチャサイズであり、従ってＣＤは微細なサイズ制御を必要とする可能性がある。

【発明の概要】

【0006】

[0006] いくつかの全体的な態様において、方法は、パルス繰り返し率で増幅光ビームのパルスのバーストを生成することと、パルスをリソグラフィ露光装置に送出することと、を含む。方法は、パルスバーストの生成中に、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動することを含む。各離散状態は、増幅光ビームのスペクトル特性の予め設定された複数の離散値の中のスペクトル特性の離散値に対応し、バースト内のパルスが生成されるたびに、スペクトル特性アジャスタは離散状態のうち１つになり、増幅光ビームパルスはその離散状態に対応するスペクトル特性を有する。方法は、パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていないときに、リソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方でスペクトル特性アジャスタを駆動することを含む。更に、方法は、次のバースト内のパルスの生成時に、スペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証することを含む。

【0007】

[0007] 実施は、以下の特徴（feature）のうち１つ以上を含み得る。例えば、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを駆動することによって、リソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方でスペクトル特性アジャスタを駆動することができる。方法は、パルス繰り返し率におけるパルス間の時間間隔の整数倍となるようにバースト間時間間隔を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態であることを保証できる。バースト間時間間隔は、バースト内の最後のパルスと次のバースト内の最初のパルスとの間の時間間隔とすることができる。

【0008】

[0008] 方法は、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態であることを保証するため、リソグラフィ露光装置から、次のバーストの生成を要求する時に関する指示を受信し、受信した指示が、次のバースト内の最初のパルスの生成の時点とスペクトル特性アジャスタが離散状態にある時点との間の時間のずれを示す場合、受信した指示に基づいて、スペクトル特性アジャスタの駆動に関連付けられた１つ以上のパラメータを修正することができる。スペクトル特性アジャスタに関連付けられた駆動信号の周波数及び位相のうち１つ以上を修正することによって、スペクトル特性アジャスタの駆動に関連付けられた１つ以上のパラメータを修正できる。また、方法は、スペクトル特性アジャスタが駆動される周波数がずれのために修正された場合、次のバーストの開始時に、スペクトル特性アジャスタが駆動される周波数をパルス繰り返し率と相関するように変更することを更に含み得る。

【0009】

[0009] 増幅光ビームのスペクトル特性は増幅光ビームの波長とすることができる。増幅光ビームのパルスの波長は深紫外線範囲内とすることができる。増幅光ビームの各パルスごとに増幅光ビームの波長が２つの別個の波長間で変化するようにスペクトル特性アジャスタを駆動することによって、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動できる。

【0010】

[0010] 増幅光ビームの１つおきのパルスごとに増幅光ビームの波長が２つの別個の波長間で変化するようにスペクトル特性アジャスタを駆動することによって、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動できる。

【0011】

[0011] 正弦波駆動信号に従ってスペクトル特性アジャスタを駆動することによって、スペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動できる。

【0012】

[0012] 前駆光ビーム（pre-cursor light beam）と相互作用する光学系を離散位置間で移動させることによって、スペクトル特性アジャスタを駆動できる。光学系の各離散位置は離散状態に対応し、増幅光ビームは前駆光ビームから生成される。前駆光ビームが通過するプリズムを回転させることによって、光ビームと相互作用する光学系を移動させることができる。

【0013】

[0013] スペクトル特性アジャスタが駆動される周波数はパルス繰り返し率の２分の１とすることができる。スペクトル特性アジャスタが駆動される周波数はパルス繰り返し率の４分の１とすることができる。

【0014】

[0014] 方法は、次のバースト内の最初のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであることを保証することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであることを保証できる。

【0015】

[0015] １つ以上の固定パラメータに従ってスペクトル特性アジャスタを駆動し、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置からの要求を受信することによって、リソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方でスペクトル特性アジャスタを駆動することができる。方法は、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置からの要求の受信に対して次のパルスバーストの生成をゼロよりも大きい時間期間だけ遅延させることによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態であることを保証できる。次のパルスバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタを増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つに駆動できるまで次のパルスバーストを遅延させることによって、次のパルスバーストの生成をその時間期間だけ遅延させることができる。

【0016】

[0016] パルスバーストの生成と生成との間のパルスバーストが生成されていないときにスペクトル特性アジャスタが駆動されるやり方に関連するリソグラフィ露光装置からの情報は、バーストが終了する前に受信することができる。パルスバーストの生成と生成との間のパルスバーストが生成されていないときにスペクトル特性アジャスタが駆動されるやり方に関連するリソグラフィ露光装置からの情報は、パルスバーストの生成と生成との間に受信することができる。

【0017】

[0017] 方法は、リソグラフィ露光装置に信号を送信することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであることを保証できる。信号は、パルスバーストの生成と生成との間のパルスが生成されていないときにどのようにスペクトル特性アジャスタが駆動されるかに関する情報を含む。

【0018】

[0018] 他の全体的な態様において、装置は、リソグラフィ露光装置と通信し、リソグラフィ露光装置から情報を受信するように構成されたインタフェースと、スペクトル特性アジャスタと、インタフェース及びスペクトル特性アジャスタと通信している光学装置と、を含む。光学装置は、基板をパターニングするためにリソグラフィ露光装置が使用する増幅光ビームのパルスのバーストをパルス繰り返し率で生成し、パルスバーストの生成中に、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動し、各離散状態は増幅光ビームのスペクトル特性の予め設定された複数の離散値の中のスペクトル特性の離散値に対応し、バースト内のパルスが生成されるたびに、スペクトル特性アジャスタは離散状態のうち１つになり、増幅光ビームパルスはその離散状態に対応するスペクトル特性を有し、パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていない時に、インタフェースにおいてリソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方でスペクトル特性アジャスタを駆動し、次のバースト内のパルスの生成時に、スペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証する、ように構成されている。

【0019】

[0019] 実施は、以下の特徴のうち１つ以上を含み得る。例えば、増幅光ビームのスペクトル特性は増幅光ビームの波長とすることができる。

【0020】

[0020] スペクトル特性アジャスタは、光学装置と通信していると共にスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動するように構成されたドライブアクチュエータを含むことができる。光学装置は、インタフェース及びドライブアクチュエータと通信している制御装置を含むことができる。制御装置は、リソグラフィ露光装置からのパルス繰り返し率を含むリソグラフィ露光装置からの要求に関する指示をインタフェースから受信し、リソグラフィ露光装置から受信した情報に基づく駆動信号をドライブアクチュエータに送信するように構成できる。ドライブアクチュエータに送信される駆動信号は正弦波駆動信号とすることができる。

【0021】

[0021] スペクトル特性アジャスタは前駆光ビームと光学的に相互作用する光学デバイスを含み、光学デバイスの各離散状態はスペクトル特性アジャスタの離散状態に対応することができる。光学デバイスの離散状態は、光学デバイスが前駆光ビームと相互作用する離散位置とすることができる。光学デバイスは、前駆光ビームが通過するプリズムを含むことができる。光学デバイスはドライブアクチュエータに物理的に結合することができる。

【0022】

[0022] 光学装置は、第１のパルス光ビームを発生するように構成された第１のガス放電段と、第１のパルス光ビームを受け、第１のパルス光ビームを増幅することにより光学装置から増幅光ビームを生成するように構成された第２のガス放電段と、を含むことができる。

【0023】

[0023] 第１のガス放電段は第１のガス放電チャンバを含み、第１のガス放電チャンバは、エネルギ源を収容すると共に、第１の利得媒体を含むガス混合物を包含することができる。第２のガス放電段は第２のガス放電チャンバを含み、第２のガス放電チャンバは、エネルギ源を収容すると共に、第２の利得媒体を含むガス混合物を包含することができる。

【0024】

[0024] 光学装置は、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを駆動することによって、インタフェースでリソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方でスペクトル特性アジャスタを駆動するように構成できる。光学装置は、パルス繰り返し率におけるパルス間の時間間隔の整数倍となるようにバースト間時間間隔を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態であることを保証するように構成できる。バースト間時間間隔は、最後のパルスと次のバースト内のパルスとの間の時間間隔である。

【0025】

[0025] 光学装置は、インタフェースから、リソグラフィ露光装置が次のバーストの生成を要求する時に関する指示を受信し、受信した指示が、次のバースト内のパルスの生成とスペクトル特性アジャスタが離散状態にある時点との間の時間のずれを示す場合、受信した指示に基づいて、スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号に関連付けられた１つ以上のパラメータを修正することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態であることを保証するように構成できる。修正される１つ以上のパラメータは、スペクトル特性アジャスタのドライブアクチュエータに供給される駆動信号の周波数及び／又は位相のうち１つ以上を含むことができる。周波数がずれのために修正された場合、光学装置は、次のバーストの開始時に、駆動信号の周波数をパルス繰り返し率と相関するように変更するよう構成できる。

【0026】

[0026] 光学装置は、１つ以上の固定パラメータに従ってスペクトル特性アジャスタを駆動し、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置からの要求を受信することによって、インタフェースでリソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方でスペクトル特性アジャスタを駆動するように構成できる。光学装置は、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置からインタフェースで受信される要求の受信に対して次のパルスバーストの生成をゼロよりも大きい時間期間だけ遅延させることによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態であることを保証するように構成できる。

【0027】

[0027] 光学装置は、次のパルスバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタを増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つに駆動することができるまで次のパルスバーストを遅延させることによって、次のパルスバーストの生成を遅延させるように構成できる。

【0028】

[0028] 光学装置は、増幅光ビームを出力するように構成された少なくとも１つの増幅段を有する光源を含むことができる。スペクトル特性アジャスタはスペクトル特性選択装置の一部とすることができ、スペクトル特性選択装置は光源から前駆光ビームを受ける。スペクトル特性選択装置は、前駆光ビームと相互作用するように配置された分散光学素子と、分散光学素子と光源との間の前駆光ビームの経路に配置された複数のプリズムと、を含む。スペクトル特性アジャスタは複数のプリズムのうちのプリズムの１つとすることができ、スペクトル特性アジャスタの離散状態セットは、前駆光ビームがプリズムと相互作用するプリズムの離散位置セットである。プリズムは、プリズム軸を中心として離散角度セットに回転させることによって離散位置セット間で駆動することができる。

【0029】

[0029] いくつかの全体的な態様において、方法は、パルス繰り返し率で増幅光ビームのパルスのバーストを生成するよう光源に命令することと、生成したパルスをリソグラフィ露光装置に送出することと、を含む。方法は、パルスバーストの生成中に、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動することを含み、各離散状態は増幅光ビームのスペクトル特性の予め設定された複数の離散値の中のスペクトル特性の離散値に対応する。方法は、パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていない時に、パラメータセットによって規定される駆動信号に従ってスペクトル特性アジャスタを駆動することを含む。また、方法は、リソグラフィ露光装置に対する命令、スペクトル特性アジャスタに対する駆動信号、及び／又は光源に対する命令のうち１つ以上を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証することを含む。

【0030】

[0030] 実施は、以下の特徴のうち１つ以上を含み得る。例えば、スペクトル特性アジャスタに対する駆動信号を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証できる。方法は、リソグラフィ露光装置から、次のバーストの生成を要求する時に関する指示を受信することができる。リソグラフィ露光装置からの受信した指示に基づいて、スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号のパラメータのうち１つ以上を修正することによって、スペクトル特性アジャスタに対する駆動信号を調整できる。スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号の周波数及び位相のうち１つ以上を修正することによって、スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号の１つ以上のパラメータを修正できる。次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであるように１つ以上のパラメータの修正を可能とするため、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置から受信される要求は、リソグラフィ露光装置から受信される指示から充分な時間だけ遅延させることができる。遅延は約２５～３５ミリ秒（ｍｓ）とすることができる。

【0031】

[0031] 方法は、光源に対する命令を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証できる。次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであるように、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置からの要求の受信に対して次のパルスバーストの生成をゼロよりも大きい時間期間だけ遅延させることによって、光源に対する命令を調整できる。次のパルスバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタを増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つに駆動することができるまで次のパルスバーストを遅延させることによって、次のパルスバーストの生成を遅延させることができる。方法は、光源に対する命令を調整しながら、パラメータセットで規定される駆動信号に従ってスペクトル特性アジャスタを駆動し続けることを含む。

【0032】

[0032] 方法は、リソグラフィ露光装置に対する命令を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証できる。パルスバーストの生成と生成との間のパルスが生成されていない時にどのようにスペクトル特性アジャスタが駆動されるかに関する情報を含む信号を、リソグラフィ露光装置に送信することによって、リソグラフィ露光装置に対する命令を調整できる。方法は、リソグラフィ露光装置から次のバーストを生成するためのトリガ要求を受信することを含むことができる。トリガ要求は、リソグラフィ露光装置に対する調整された命令に基づき、次のパルスバースト内のパルスが生成される時が、スペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つに達する瞬間（moment）と同期されることを保証する。トリガ要求は、光源に対する命令内の電気パルスを遅延させるように調整できる。

【0033】

[0033] 増幅光ビームのスペクトル特性は増幅光ビームの波長とすることができる。

【0034】

[0034] バースト内のパルスが生成されるたびに、スペクトル特性アジャスタは離散状態のうち１つになり、増幅光ビームパルスはその離散状態に対応するスペクトル特性を有することができる。

【0035】

[0035] 増幅光ビームの各パルスごとに増幅光ビームの波長が２つの別個の波長間で変化するようにスペクトル特性アジャスタを駆動することによって、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動できる。増幅光ビームの１つおきのパルスごとに増幅光ビームの波長が２つの別個の波長間で変化するようにスペクトル特性アジャスタを駆動することによって、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動できる。

【0036】

[0036] 正弦波駆動信号に従ってスペクトル特性アジャスタを駆動することによって、離散状態セット間でスペクトル特性アジャスタを駆動できる。

【0037】

[0037] 前駆光ビームと相互作用する光学系を離散位置間で移動させることによって、スペクトル特性アジャスタを駆動できる。光学系の各離散位置は離散状態に対応し、増幅光ビームは前駆光ビームから生成される。

【0038】

[0038] 方法は、次のバースト内の最初のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであることを保証することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであることを保証できる。

【0039】

[0039] 他の全体的な態様において、装置は、リソグラフィ露光装置と通信するように構成されたインタフェースと、スペクトル特性アジャスタと、光源と、インタフェース、スペクトル特性アジャスタ、及び光源と通信している制御装置と、を含む。制御装置は、基板をパターニングするためにリソグラフィ露光装置が使用する増幅光ビームのパルスのバーストをパルス繰り返し率で生成するよう光源に命令し、パルスバースト中に、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動し、各離散状態は増幅光ビームのスペクトル特性の予め設定された複数の離散値の中のスペクトル特性の離散値に対応し、パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていない時に、パラメータセットによって規定される駆動信号に従ってスペクトル特性アジャスタを駆動し、リソグラフィ露光装置に対する命令、スペクトル特性アジャスタに対する駆動信号、及び／又は光源に対する命令のうち１つ以上を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証する、ように構成されている。

【0040】

[0040] 実施は、以下の特徴のうち１つ以上を含み得る。例えば、制御装置は、スペクトル特性アジャスタに対する駆動信号を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証するように構成できる。制御装置は、リソグラフィ露光装置から、インタフェースを経由して、次のバーストの生成を要求する時に関する指示を受信するように構成できる。制御装置は、リソグラフィ露光装置からの受信した指示に基づいて、スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号のパラメータのうち１つ以上を修正することにより、スペクトル特性アジャスタに対する駆動信号を調整できる。制御装置は、スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号の周波数及び位相のうち１つ以上を修正することによって、スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号の１つ以上のパラメータを修正するように構成できる。

【0041】

[0041] 制御装置は、光源に対する命令を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証するように構成できる。制御装置は、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであるように、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置からの要求の受信に対して次のパルスバーストの生成をゼロよりも大きい時間期間だけ遅延させることによって、光源に対する命令を調整できる。制御装置は、次のパルスバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタを増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つに駆動することができるまで次のパルスバーストを遅延させることによって、次のパルスバーストの生成をその時間期間だけ遅延させることができる。制御装置は、パラメータセットによって規定される駆動信号に従ってスペクトル特性アジャスタを駆動し続けることができる。

【0042】

[0042] 制御装置は、リソグラフィ露光装置に対する命令を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証するように構成できる。制御装置は、パルスバーストの生成と生成との間のパルスが生成されていない時にどのようにスペクトル特性アジャスタが駆動されるかに関する情報を含む信号を、リソグラフィ露光装置に送信することによって、リソグラフィ露光装置に対する命令を調整できる。制御装置は、リソグラフィ露光装置から次のバーストを生成するためのトリガ要求を受信するように構成することができ、トリガ要求は、リソグラフィ露光装置に対する調整された命令に基づき、次のパルスバースト内のパルスが生成される時が、スペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つに達する瞬間と同期されることを保証する。

【0043】

[0043] 増幅光ビームのパルスのスペクトル特性は増幅光ビームの波長とすることができる。

【0044】

[0044] スペクトル特性アジャスタは、制御装置と通信していると共にスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動するように構成されたドライブアクチュエータを含むことができる。スペクトル特性アジャスタは前駆光ビームと光学的に相互作用する光学デバイスを含み、光学デバイスの各離散状態はスペクトル特性アジャスタの離散状態に対応することができる。光学デバイスの離散状態は、光学デバイスが前駆光ビームと相互作用する離散位置とすることができる。光学デバイスは、前駆光ビームが通過するプリズムを含むことができる。

【0045】

[0045] 光学デバイスはドライブアクチュエータに物理的に結合することができる。

【0046】

[0046] 光源は、第１のパルス光ビームを発生するように構成された第１のガス放電段と、第１のパルス光ビームを受け、第１のパルス光ビームを増幅することにより光学装置から増幅光ビームを生成するように構成された第２のガス放電段と、を含むことができる。

【0047】

[0047] 光源は、増幅光ビームを出力するように構成された少なくとも１つの増幅段を含むことができる。

【0048】

[0048] スペクトル特性アジャスタはスペクトル特性選択装置の一部とすることができ、スペクトル特性選択装置は光源から前駆光ビームを受ける。スペクトル特性選択装置は、前駆光ビームと相互作用するように配置された分散光学素子と、分散光学素子と光源との間の前駆光ビームの経路に配置された複数のプリズムと、を含むことができる。スペクトル特性アジャスタは複数のプリズムのうちのプリズムの１つとすることができ、スペクトル特性アジャスタの離散状態セットは、前駆光ビームがプリズムと相互作用するプリズムの離散位置セットである。プリズムは、プリズム軸を中心として離散角度セットに回転させることによって離散位置セット間で駆動することができる。

【図面の簡単な説明】

【0049】

【図1】[0049] 増幅光ビームパルスをリソグラフィ露光装置に供給するための光学装置と、増幅光ビームのスペクトル特性を調整するスペクトル特性アジャスタと、を含む装置のブロック図である。

【図2A】[0050] 増幅光ビーム２つのパルスバースト及び１つのバースト間ギャップにおける図１の光学装置及びスペクトル特性アジャスタの動作を示すタイミング図である。

【図2B】[0051] 図２Ａのタイミング図の拡大図である。

【図3】[0052] 増幅光ビームの光学スペクトルのグラフである。

【図4】[0053] 図１のリソグラフィ露光装置の実施のブロック図である。

【図5】[0054] 図１の装置の実施のブロック図である。

【図6A】[0055] 少なくとも１つの光学デバイスを含むスペクトル特性アジャスタの実施の概略図である。

【図6B】[0056] 図６Ａのプリズムのうち１つの動作の実施を示す概略図である。

【図7A】[0057] 増幅光ビームの第１のスペクトル特性に対応する第１の状態又は位置にある図６Ａのプリズムを示す概略図である。

【図7B】[0058] 増幅光ビームの第２のスペクトル特性に対応する第２の状態又は位置にある図７Ａのプリズムを示す概略図である。

【図8】[0059] 図１の光学装置の光源の実施のブロック図である。

【図9】[0060] パルスバーストの生成中に動作している図１の装置の実施のタイミング図であり、タイミング図の検討に関連付けて装置のブロック図が示されている。

【図10】[0061] パルスバーストの生成と生成との間に動作している図１の装置の実施のタイミング図であり、タイミング図の検討に関連付けて装置のブロック図が示されている。

【図11】[0062] パルスバーストの生成と生成との間にスペクトル特性アジャスタがパルス繰り返し率と相関した周波数で駆動されるように動作している図１の装置の実施のタイミング図、及び、タイミング図に関連する装置の対応するブロック図である。

【図12】[0063] バースト間時間間隔に続く次のパルスバースト内のパルスとスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つに達する瞬間との間の時間のずれを取り除くように動作している図１の装置の実施のタイミング図、及び、タイミング図に関連する装置の対応するブロック図である。

【図13】[0064] バースト間時間間隔に続く次のパルスバースト内のパルスとスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つに達する瞬間との間の時間のずれを取り除くように動作している図１の装置の実施のタイミング図、及び、タイミング図に関連する装置の対応するブロック図である。

【図14】[0065] バースト間時間間隔に続く次のパルスバースト内のパルスとスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つに達する瞬間との間の時間のずれを取り除くように動作している図１の装置の実施のタイミング図、及び、タイミング図に関連する装置の対応するブロック図である。

【図15】[0066] バースト間時間間隔に続く次のパルスバースト内のパルスとスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つに達する瞬間との間の時間のずれを取り除くように動作している図１の装置の実施のタイミング図、及び、タイミング図に関連する装置の対応するブロック図である。

【図16】[0067] スペクトル特性アジャスタに提供される正弦波駆動信号の周波数がパルス繰り返し率の４分の１であるように動作している図１の装置の実施のタイミング図である。

【図17A】[0068] 装置がスペクトル特性アジャスタに提供することができる駆動信号の他の実施のグラフである。

【図17B】[0068] 装置がスペクトル特性アジャスタに提供することができる駆動信号の他の実施のグラフである。

【図17C】[0068] 装置がスペクトル特性アジャスタに提供することができる駆動信号の他の実施のグラフである。

【図17D】[0068] 装置がスペクトル特性アジャスタに提供することができる駆動信号の他の実施のグラフである。

【図18】[0069] リソグラフィ露光装置に送出され、バースト間ギャップの後に生成される各パルスが、所望の離散スペクトル特性セットの中の所望のスペクトル特性（波長）を有することを保証するための、図１の装置によって実行される手順である。

【図19A】[0070] ６つのパルスバーストにわたる装置の動作モードのシミュレーションを示すグラフであり、装置からのパルスの生成はスペクトル特性アジャスタの波形に重畳されている。

【図19B】[0070] ６つのパルスバーストにわたる装置の動作モードのシミュレーションを示すグラフであり、装置からのパルスの生成はスペクトル特性アジャスタの波形に重畳されている。

【図19C】[0070] ６つのパルスバーストにわたる装置の動作モードのシミュレーションを示すグラフであり、装置からのパルスの生成はスペクトル特性アジャスタの波形に重畳されている。

【図19D】[0070] ６つのパルスバーストにわたる装置の動作モードのシミュレーションを示すグラフであり、装置からのパルスの生成はスペクトル特性アジャスタの波形に重畳されている。

【図20A】[0071] 図１９Ａのグラフの２番目のパルスバーストの拡大図である。

【図20B】[0071] 図１９Ｂのグラフの２番目のパルスバーストの拡大図である。

【図20C】[0071] 図１９Ｃのグラフの２番目のパルスバーストの拡大図である。

【図20D】[0071] 図１９Ｄのグラフの２番目のパルスバーストの拡大図である。

【図21】[0072] リソグラフィ露光装置に送出され、バースト間ギャップの後に生成される各パルスが、所望の離散スペクトル特性セットの中の所望のスペクトル特性（波長）を有することを保証するための、図１の装置によって実行される手順である。

【発明を実施するための形態】

【0050】

[0073] 図１を参照すると、装置１００は、増幅光ビーム１１０のパルスが生成されないバースト間ギャップ１２５の後にパルスバースト１２０のパルス１１５が生成される時にスペクトル特性アジャスタ１０５が確実に離散状態であるよう設計されている。スペクトル特性アジャスタ１０５は、増幅光ビーム１１０の少なくとも１つのスペクトル特性（波長又は帯域幅等）を調整するデバイス又は装置である。スペクトル特性アジャスタ１０５は、増幅光ビーム１１０の１つ以上のスペクトル特性を制御又は調整するように構成された任意のデバイスとすればよい。スペクトル特性アジャスタ１０５の離散状態は、増幅光ビーム１１０のスペクトル特性の離散値に対応する。増幅光ビーム１１０は光学装置１３０によって生成され、リソグラフィ露光装置１３５に供給され、リソグラフィ露光装置１３５は基板１４０をパターニングするために増幅光ビーム１１０を使用する。スペクトル特性の離散値は、リソグラフィ露光装置１３５から要求されるスペクトル特性の離散値セットのうち１つである。スペクトル特性アジャスタ１０５の狭い範囲の離散状態が、増幅光ビーム１１０のスペクトル特性の特定の値に対応するか又は特定の値を生成し得る。このため、「スペクトル特性アジャスタの離散状態」という言葉は、増幅光ビーム１１０のスペクトル特性の特定の所望の値に対応するスペクトル特性アジャスタ１０５の狭い範囲の離散状態を含む。

【0051】

[0074] リソグラフィ露光装置１３５は、基板１４０上で所望のパターニング又はリソグラフィの結果を得るように、増幅光ビーム１１０の１つ以上のスペクトル特性の値についての要件を設定する。リソグラフィ露光装置１３５は、基板１４０のパターニングに応じて、増幅光ビーム１１０の特定のスペクトル特性又は特定のスペクトル特性セットを必要とする。

【0052】

[0075] 一例において、リソグラフィ露光装置１３５は、増幅光ビーム１１０の各パルスが基板１４０のパターニングに使用される場合に複数の離散スペクトル特性から選択されたスペクトル特性を有することを必要とする。増幅光ビーム１１０の波長は、パルスごとに、離散的な異なる値のセットの中で変化することが望ましい場合がある。これは、連続する隣接パルスの各々で波長が変化することを意味し得る。あるいは、波長は、１つおきのパルスで変化する（従って波長は、連続する２つのパルスではある離散値を維持し、連続する２つのパルスでは別の離散値を維持する等である）。

【0053】

[0076] 波長の変化は、例えばリソグラフィ露光装置１３５の観点から有益な結果を生じ得る。具体的に述べると、増幅光ビーム１１０がリソグラフィ露光装置１３５を横断する際の色収差によって、増幅光ビーム１１０の波長と、（基板１４０の像面Ｘ_Ｌ－Ｙ_Ｌに直交する軸方向に沿った）基板１４０における増幅光ビーム１１０のパルスの焦点面の位置との間に、相関性が発生し得る。また、増幅光ビーム１１０が基板１４０と相互作用するか又は基板１４０に入射する時の増幅光ビーム１１０の焦点面を変化させることが望ましい場合がある。従って、増幅光ビーム１１０の波長を変化させることにより、増幅光ビーム１１０の焦点面を調整できる。この例において、リソグラフィ露光装置１３５は、基板１４０のそのようなパターニングに必要なやり方で波長を調整するよう光学装置１３０に命令する。

【0054】

[0077] 更に、基板１４０にパターニングされるマイクロ電子フィーチャのサイズは増幅光ビーム１１０の波長に依存し、短い波長では最小フィーチャサイズ又はクリティカルディメンションが小さくなる。増幅光ビーム１１０の波長が２４８ｎｍ又は１９３ｎｍである場合、マイクロ電子フィーチャの最小サイズは例えば５０ｎｍ以下になり得る。多くの場合、基板１４０にパターニングするフィーチャは小型化することが望ましいので、増幅光ビーム１１０のパルスの波長は深紫外線（ＤＵＶ）範囲内の波長を中心とし、例えば約１０ナノメートル（ｎｍ）～約４００ｎｍの波長を含み得る。増幅光ビーム１１０の波長は、増幅光ビーム１１０を生成する光学装置１３０内の利得媒体の組成（makeup）によって決定される。これについては以下で検討する。

【0055】

[0078] 装置１００は、リソグラフィ露光装置１３５と光学装置１３０との間の通信チャネル（有線又は無線とすることができる）１３１を可能とするインタフェース１４５を含む。例えば、リソグラフィ露光装置１３５からインタフェース１４５を介して光学装置１３０に情報が伝達される。光学装置１３０がリソグラフィ露光装置１３５から受信する情報は、増幅光ビーム１１０の１つ以上の特徴を変更するためのリソグラフィ露光装置１３５から光学装置１３０に対する要求を含み得る。インタフェース１４５は更に、光学装置１３０からリソグラフィ露光装置１３５に情報を提供することも可能である。また、光学装置１３０は、増幅光ビーム１１０を生成する光源１５０と、インタフェース１４５、光源１５０、及びスペクトル特性アジャスタ１０５と通信する制御装置１８０と、を含む。光学装置１３０は、図１に示されていない他のコンポーネントも含み得る。

【0056】

[0079] 装置１００の動作を可視化するため、図２Ａのタイミング図２００の一例を、図２Ｂに示されている図２００の拡大図２Ｂと共に参照する。タイミング図２００は、増幅光ビーム１１０のパルス１１５の２つのバースト１２０と１つのバースト間ギャップ１２５のみを示している。この例では、リソグラフィ露光装置１３５はインタフェース１４５にトリガ信号２０６を送信し、このトリガ信号２０６は光学装置１３０に伝達され、これに応答して光学装置１３０はスペクトル特性アジャスタ１０５に駆動信号２１７を送信する。スペクトル特性アジャスタ１０５の実際の状態（駆動信号２１７に基づいて変化する）は、波形２１８によって表される。スペクトル特性アジャスタ１０５は、図２００の０に等しい時点での静止状態（rest state）から、図２００のｔ（ｓｓ）に等しい時点での定常状態に駆動される。

【0057】

[0080] この例において、タイミング図２００の領域Ａは、時点０で開始しバースト間ギャップ１２５（図示せず）の後に発生する第１のバースト１２０Ａに相当し、次いで領域Ｂでバースト間ギャップ１２５Ｂが発生し、次いでタイミング図２００の領域Ｃで第２のバースト１２０Ｃが発生する。図２Ａ及び図２Ｂの例は基本的な原理を示すことを意図した概略図であり、一定の縮尺通りでない可能性がある。例えば、図２Ａ及び図２Ｂにおいて各バースト１２０は１２のパルス１１５を含む。しかしながら、パルス１１５のバースト１２０は数十から数百又は数千までの任意の数のパルスを含むことができ、また、バースト間ギャップ１２５Ｂはタイミング図２００で表されるよりも長く又は短くすることができる。タイミング図２００は、単に基本的な原理を示すための一例として提供されている。

【0058】

[0081] トリガ信号２０６は、電気パルス２０７の列の形態とすることができ、隣接するパルス２０７はある時間間隔だけ離間されている（いくつかの時間フレームでは一定間隔とすることができる）。トリガ信号２０６の列の各電気パルス２０７は、リソグラフィ露光装置１３５に提供される増幅光ビーム１１０のパルス１１５を生成するよう光学装置１３０に命令する。タイミング図２００は、トリガ信号２０６と、増幅光ビーム１１０のパルス１１５の列２１１と、光学装置１３０がスペクトル特性アジャスタ１０５に提供する駆動信号２１７と、スペクトル特性アジャスタ１０５の実際の状態の波形２１８と、の関係の一例を示す。制御装置１８０は、インタフェース１４５と通信し、更に、スペクトル特性アジャスタ１０５に関連付けられたドライブアクチュエータ（図５に示されているドライブアクチュエータ５７０等）と通信している。制御装置１８０は、インタフェース１４５から、リソグラフィ露光装置１３５からの要求に関する指示を受信するように構成されている。このような要求はパルス繰り返し率に関する情報を含む。ドライブアクチュエータ５７０に送信される駆動信号２１７は、リソグラフィ露光装置１３５から受信したこの情報に基づいている。

【0059】

[0082] この例で示されている駆動信号２１７は、三角形、連続的、かつ周期的な形態を有する。しかしながら、駆動信号２１７は三角形の形態に限定されない。例えば、後で詳しく検討するように、正弦波駆動信号又は方形波駆動信号のような他の形状も可能である。駆動信号２１７は、スペクトル特性アジャスタ１０５が様々な瞬間に複数のターゲット離散状態のうち１つ（例えば第１の状態２１８ａ及び第２の状態２１８ｂ）になるように、スペクトル特性アジャスタ１０５を様々な位置又は状態に連続的に駆動又は修正する任意の信号形状である。図２Ａには２つのみのターゲット離散状態２１８ａ及び２１８ｂが示されているが、３つ以上のターゲット又は所望の離散状態が存在し得る。例えば、中間状態（例えば状態２１８ａと２１８ｂとの間の状態）をターゲット又は所望の状態とすることができる。

【0060】

[0083] これは図２Ａ及び図２Ｂに示されていないが、例えば定常状態中に適切に動作している場合、かつ、信号（例えばパルス列２１１、駆動信号２１７、及び波形２１８）が適切に位置合わせされている場合、複数の中の各ターゲット離散状態２１８ａ及び２１８ｂは、増幅光ビーム１１０のスペクトル特性の離散ターゲット値に対応する。また、駆動信号２１７は、ターゲット離散状態２１８ａと２１８ｂとの間の波形２１８の全ての状態に沿ってスペクトル特性アジャスタ１０５を駆動する。従って、スペクトル特性アジャスタ１０５が中間状態である時（例えば領域Ａの瞬間２１８ｃ）にパルス１１５が生成された場合、このパルス１１５のスペクトル特性は、リソグラフィ露光装置１３５のターゲット又は所望のスペクトル特性のいずれか１つではない。これについては以下で領域Ｃを参照して更に詳しく検討する。

【0061】

[0084] スペクトル特性アジャスタ１０５の実際の状態は波形２１８で表されている。スペクトル特性アジャスタ１０５の状態はスペクトル特性アジャスタ１０５の位置とすることができる。更に、スペクトル特性アジャスタ１０５の各位置はスペクトル特性の特定の値に対応するので、パルス１１５の生成時の波形２１８の値は、パルス１１５の実際のスペクトル特性を示す。

【0062】

[0085] スペクトル特性アジャスタ１０５が第１の状態２１８ａであるのと同時に生成される増幅光ビーム１１０のパルス１１５は、第１のターゲットスペクトル特性（例えば第１の波長）を有する。スペクトル特性アジャスタ１０５が第２の状態２１８ｂであるのと同時に生成される増幅光ビーム１１０のパルス１１５は、第２のターゲットスペクトル特性（例えば第２の波長）を有する。第１及び第２のスペクトル特性は、リソグラフィ露光装置１３５によって使用されるターゲット又は所望のスペクトル特性である。リソグラフィ露光装置１３５は、スペクトル特性アジャスタ１０５が、各パルス１１５の生成時に増幅光ビーム１１０のスペクトル特性の離散ターゲット値に対応する離散状態のうちの１つ（２１８ａ又は２１８ｂ）であることを要求する。

【0063】

[0086] 領域Ａで示されるように、バースト１２０Ａの開始時、光学装置１３０で（インタフェース１４５を介して）第１のトリガパルス２０７＿１Ａが受信される。しかしながら、光学装置１３０は、時間遅延ｔ１（第１のトリガパルス２０７＿１Ａに対して測定される）の後に増幅光ビーム１１０の第１のパルス１１５＿１Ａを生成する。光学装置１３０は第１のトリガパルス２０７＿１Ａに反応するため多少の時間量を必要とするので、この時間遅延ｔ１は光学装置１３０の設計に固有のものである。例えば光学装置１３０は、第１のトリガパルス２０７＿１Ａを処理し（受信及び解析し）、次いで第１のパルス１１５＿１Ａを生成するための信号を光源１５０に与える。第１のトリガパルス２０７＿１Ａの受信から増幅光ビーム１１０の第１のパルス１１５＿１Ａの生成までに要する時間が、この時間遅延ｔ１に相当する。更に、この時間遅延ｔ１はこのバースト１２０Ａのパルス１１５の列２１１内の各パルス１１５に伝えられる。つまり、列２１１内の各パルス１１５は、そのパルスを生成するよう光学装置１３０に命令する電気トリガパルス２０７に対して遅延している。また、一般に、この時間遅延ｔ１は列２１１内の各パルス１１５において同一である。その理由は、電気トリガパルス２０７の受信の瞬間から対応するパルス１１５の生成までに要する時間は通常は変化しないからである。

【0064】

[0087] 領域Ａ（並びに領域Ｂ及び領域Ｃ）において、増幅光ビーム１１０のパルス繰り返し率Ｒｐは一定である。増幅光ビーム１１０のパルス繰り返し率Ｒｐは、光学装置１３０によって増幅光ビーム１１０のパルス１１５が生成される速度である。増幅光ビーム１１０のパルス繰り返し率Ｒｐは１／τであり、τは、隣接するパルス１１５の生成間の時間である。更に、隣接するパルス１１５の生成間のこの時間τは、隣接する電気トリガパルス２０７の生成間の時間でもある。いくつかの実施では、パルス繰り返し率Ｒｐはキロヘルツ（ｋＨｚ）のオーダーであり、例えば６ｋＨｚであり、この例では隣接するパルス１１５の生成間の時間τは１６７マイクロ秒（μ秒）である。増幅光ビーム１１０のパルス繰り返し率Ｒｐはリソグラフィ露光装置１３５によって設定される。従って、パルス繰り返し率Ｒｐは、リソグラフィ露光装置１３５からインタフェース１４５に伝達される情報の一部である。多くの場合、リソグラフィ露光装置１３５は、増幅光ビーム１１０のパルス１１５の特定のバースト１２０において繰り返し率Ｒｐが一定である（又は特定の範囲内である）ことを要求する。

【0065】

[0088] 更に、各パルス１１５の長さ（図２Ａ及び図２Ｂには示されていない）は、隣接するパルス間の時間τよりもはるかに短い。パルス１１５の長さは、パルス１１５の強度が最小強度を超えている時間長とすることができる。いくつかの実施では、パルス１１５の長さは、時間τよりも少なくとも１ケタ小さい。例えば、パルス１１５の長さは数十又は数百（例えば１００）ナノ秒（ｎｓ）のオーダーとすることができ、隣接するパルス１１５間の時間τは約１６７μｓとすることができる。

【0066】

[0089] 図２Ａ及び図２Ｂには示されていないが、代替的に、リソグラフィ露光装置１３５は、光学装置１３０が増幅光ビーム１１０のパルス繰り返し率Ｒｐを変更するよう要求することも可能である。このような変更は、バースト１２０が生成される時間外（すなわち、この時間よりも前）に光学装置１３０に伝達すればよい。あるいは、このような変更は、トリガ信号２０６の電気トリガパルス２０７が受信される速度の変化によって伝達してもよい。いくつかの実施において、リソグラフィ露光装置１３５は、光学装置１３０がスペクトル特性アジャスタ１０５を調製するのを支援する１つの手法として、次のバーストの開始前に、目的とする繰り返し率、ターゲット繰り返し率、又は計画された繰り返し率を通信する。この通信だけでは繰り返し率の変化は生じないが、実際の変化はトリガ信号２０６の変化によって伝達される。パルス繰り返し率Ｒｐの変更は、隣接するトリガパルス２０６間の時間の変化としてタイミング図２００に現れる。これは、隣接するパルス１１５の生成間の時間τを変化させる。

【0067】

[0090] 駆動信号２１７は、駆動信号２１７の形状を決定するパラメータセットによって規定された形態又は形状を有する。１つのパラメータは、周波数ω、すなわち単位時間当たりの駆動信号２１７のサイクル発生数である。周波数ωは、１サイクルの完了に要する時間κ（例えば、値２１７ａから値２１７ｂに移り、再び２１７ａに戻るために要する時間（１サイクル）に反比例する。駆動信号２１７の別のパラメータは、特定の時点における形態の位置に対応する位相である。いくつかの実施では、各パルスの生成を、スペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態２１８ａ又は２１８ｂのうち１つであることと確実に一致させるため、駆動信号２１７の周波数ωは増幅光ビーム１１０のパルス繰り返し率Ｒｐの整数倍に等しいか又は整数倍である。例えばパルス繰り返し率Ｒｐが６０００Ｈｚである場合、周波数ωは６０００Ｈｚ又は１２，０００Ｈｚとすればよい。他の実施では、駆動信号２１７の周波数ωは増幅光ビーム１１０のパルス繰り返し率Ｒｐの分数（例えば２分の１又は４分の１）である。例えばパルス繰り返し率Ｒｐが６０００Ｈｚである場合、周波数ωは３０００Ｈｚ又は１５００Ｈｚとすればよい。

【0068】

[0091] スペクトル特性アジャスタ１０５の波形２１８は駆動信号２１７によって決定される。このため、時点０における駆動信号２１７の開始によってスペクトル特性アジャスタ１０５の動作が開始する。この例では、タイミング図２００の領域Ａにおいて、スペクトル特性アジャスタ１０５は時点０で静止状態から駆動される。すなわち、時点０よりも前は、装置１００はパルス１１５が生成されていない状態であり得る。例えば、図２００の時点０よりも前は、装置１００はパルスが生成されないバースト間ギャップ１２５で動作している可能性がある。パルス生成の観点から、バースト間ギャップ１２５ではパルス１１５を生成する必要がないので、バースト間ギャップ１２５中にスペクトル特性アジャスタ１０５を駆動し続ける必要はない。従って、タイミング図２００のこの特定の例では、時点０よりも前では駆動信号２１７が停止され（ｈａｌｔ）、このため時点０よりも前ではスペクトル特性アジャスタ１０５は実質的に停止される。例えば、時点０（タイミング図２００の開始）よりも前、及びバースト間ギャップ１２５中は、増幅光ビーム（増幅光ビーム１１０を形成する）と相互作用するスペクトル特性アジャスタ１０５内の光学要素の回転又は並進は停止される。この状況において、スペクトル特性アジャスタ１０５に送信される駆動信号２１７は、時点０で（一度トリガ信号２０６の第１のパルス２０７を受信したら）再開される。バースト１２０Ａにおける駆動信号２１７の再開により、スペクトル特性アジャスタ１０５は再び駆動される。例えば駆動信号２１７は、スペクトル特性アジャスタ１０５内の光学要素の回転又は並進を開始させる。しかしながら、タイミング図２００から明らかであるように、時点０における停止からのこの再開はいくつかの問題を引き起こし、そのため、パルス１１５のタイミングとスペクトル特性アジャスタ１０５が２つの状態２１８ａ及び２１８ｂのうち１つである瞬間との間のずれを招く恐れがある。

【0069】

[0092] 第１に、スペクトル特性アジャスタ１０５は動的位置過渡現象（positional transient）を生じる物理的な装置であり、このような再開に対する位相応答、すなわち停止又は静止状態から時点ｔ（ｓｓ）の定常状態へ遷移するのに要する時間は、これらの過渡現象に対する応答の関数である。過渡現象は、システムにおける電圧又は負荷の急激な変化に起因して、システムに（具体的にはスペクトル特性アジャスタ１０５の動作に）発生する一時的な振動又は変化である（例えば、リンギング、早すぎる方向反転、高周波数周期）。その理由は、スペクトル特性アジャスタ１０５が動的システムの一部であり、位相応答が駆動周波数の関数であるコンポーネント（例えば図５に示されるドライブアクチュエータ５７０及びアナログ回路）を含むことである。具体的に述べると、スペクトル特性アジャスタ１０５に生じる位置過渡現象は、スペクトル特性アジャスタ１０５が駆動される正確なタイミングを複雑に変調させるか又はこれに影響を及ぼす。これらの過渡現象は、波形２１８の形状が規則的でなく、更に、状態２１８ａ及び２１８ｂと各パルス１１５の生成が正しく位置合わせされていないことに明白に示されている。スペクトル特性アジャスタ１０５は、その入力信号（駆動信号２１７）に対して即時応答を行わない。波形２１８の形状から明らかであるように、スペクトル特性アジャスタ１０５は、時点ｔ（ｓｓ）付近で定常状態動作に落ち着く前のかなり長い間、遷移状態又は中間状態で駆動される。

【0070】

[0093] 更に、スペクトル特性アジャスタ１０５が定常状態動作に入る時点ｔ（ｓｓ）が発生するのは、現在のバースト１２０Ａ内又は次のバースト間ギャップ１２５Ｂ内である場合もそうでない場合もある。スペクトル特性アジャスタ１０５の定常状態動作が開始する瞬間は、特定のバースト１２０Ａ内のパルス数及びバースト間ギャップ１２５Ｂの時間量によって決定される。スペクトル特性アジャスタ１０５は、定常状態動作に入る前にいくつかのバーストサイクルを必要とする可能性もある。

【0071】

[0094] 第２に、光学装置１３０は、いつリソグラフィ露光装置１３５がパルス１１５の別のバースト１２０を要求するかを知らない。従って、いつスペクトル特性アジャスタ１０５が定常状態動作に達するか予測することは不可能であり、このため、いつスペクトル特性アジャスタ１０５が２つの状態２１８ａ又は２１８ｂのうち１つになるか予測することも不可能である。

【0072】

[0095] バースト１２０Ａの終了時（タイミング図２００の領域Ａの終了時）に、リソグラフィ露光装置１３５はトリガ信号２０６の生成を停止し、これは増幅光ビーム１１０のパルス１１５の列２１１を中止させる。タイミング図２００の領域Ｂに対応し、概略的にバースト間ギャップ１２５Ｂに対応するパルスが生成されない時間中、リソグラフィ露光装置１３５は通常、基板１４０の直接パターニング以外の他のアクションを実行する。例えば、リソグラフィ露光装置１３５はこの時間を用いて、基板１４０の異なるエリアをパターニングするための新しい位置に基板１４０を移動させることができる。これについては以下で更に詳しく検討する。

【0073】

[0096] 一度リソグラフィ露光装置１３５が基板１４０のパターニングを再開する準備ができたら、例えば、一度リソグラフィ露光装置１３５が他のアクションの全てを完了したら、リソグラフィ露光装置１３５は別のトリガパルス２０７＿１Ｃをインタフェース１４５に送信し、これによって、増幅光ビーム１１０のパルス１１５の次のバースト１２０Ｃを生成することを光学装置１３０に要求する。領域Ａの最後のトリガパルス２０７＿１２Ａと領域Ｃの最初のトリガパルス２０６＿１Ｃとの間の時間が、トリガバースト間時間間隔Ｔ_Ｌである。光学装置１３０は、いつリソグラフィ露光装置１３５がパターニング再開の準備ができてパルス１１５の次のバースト１２０Ｃを要求するか予測することができない。従って、光学装置１３０はトリガバースト間時間間隔Ｔ_Ｌを事前に知らない。

【0074】

[0097] トリガバースト間時間間隔Ｔ_Ｌの間に、バースト１２０Ａの最後のパルス１１５＿１２Ａが生成され、次いで、バースト１２０Ａの最後のパルス１１５＿１２Ａとバースト１２０Ｃの最初のパルス１１５＿１Ｃとの間のバースト間時間間隔Ｔが発生する。パルス生成のバースト間時間間隔Ｔは、トリガバースト間時間間隔Ｔ_Ｌから時間ｔ１だけシフトしている。また、バースト間時間間隔Ｔはトリガバースト間時間間隔Ｔ_Ｌに等しい。

【0075】

[0098] 上記で検討したように、バースト間時間間隔Ｔの間のパルス生成の観点から、この時にパルス１１５は生成されていないのでバースト間時間間隔Ｔの間にスペクトル特性アジャスタ１０５を駆動し続ける必要はない。しかしながら、上記で検討したように、スペクトル特性アジャスタ１０５は静止状態から定常状態（例えば時点ｔ（ｓｓ））へ移行するのに著しい時間量を必要とし、この中間状態の間スペクトル特性アジャスタ１０５は規則的な形状でなく、いつスペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態２１８ａ又は２１８ｂうち１つになるか予測することは容易でない。

【0076】

[0099] これらの問題に対処する第１のステップは、バースト間時間間隔Ｔの間、すなわちパルス１１５のバースト１２０Ａの生成とパルス１１５のバースト１２０Ｃの生成との間に、駆動信号２１７によってスペクトル特性アジャスタ１０５を駆動し続けることである。言い換えると、バースト間時間間隔Ｔの間に駆動信号２１７の中止を行わない。従って、スペクトル特性アジャスタ１０５は静止状態に入らず、静止状態から動作の定常状態へ遷移する必要がないので、図２Ａに示されるような、（例えば時点０とｔ（ｓｓ）との間の）中間状態が回避される。

【0077】

[0100] スペクトル特性アジャスタ１０５は、バースト間時間間隔Ｔの間、光学装置１３０がリソグラフィ露光装置１３５から受信した情報に関連するやり方で駆動される。リソグラフィ露光装置１３５から受信されるこのような情報は、パルス１１５のバースト１２０Ａの終了よりも前に受信できる。あるいは、リソグラフィ露光装置１３５から受信される情報は、バースト間時間間隔Ｔの間に受信できる。

【0078】

[0101] しかしながら、スペクトル特性アジャスタ１０５が他の変更なしでバースト間時間間隔Ｔの間に駆動され続ける場合であっても、いつリソグラフィ露光装置１３５がパルス１１５の次のバースト１２０Ｃを要求するか予測することは依然として不可能である。パルスの次のバースト１２０Ｃの最初のパルス１１５＿１Ｃは、トリガバースト間時間間隔Ｔ_Ｌの後の第１のトリガパルス２０７＿１Ｃに対して時間ｔ１だけ遅延する。このような時間ｔ１は一般に既知である。しかしながら、第１のパルス１１５＿１Ｃの生成とスペクトル特性アジャスタ１０５が第１の状態２１８ａになる瞬間との間にはタイミングずれｅｒｒ＿κが存在する。

【0079】

[0102] 装置１００は、バースト１２０Ｃのパルス１１５＿ｉＣ（第１の又は最初のパルス１１５＿１Ｃである場合もそうでない場合もある）の生成時にスペクトル特性アジャスタ１０５が確実に状態２１８ａ又は２１８ｂのうち１つになるよう設計及び動作される。装置１００の構造及び動作の全体的な説明を行ってから、パルスが生成されないバースト間ギャップ１２５の後に増幅光ビーム１１０のパルスのバースト１２０のパルス１１５の生成時にスペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態２１８ａ又は２１８ｂとなるよう保証することに関連した装置１００の設計及び動作について検討する。

【0080】

[0103] 図３を参照すると、増幅光ビーム１１０のスペクトル特性は、増幅光ビーム１１０の光学スペクトル３００の任意の態様又は表現である。光学スペクトル３００を放出スペクトルと呼ぶことができる。光学スペクトル３００は、光エネルギ、スペクトル強度、又はパワーが、様々な波長においてどのように分散しているかに関する情報を含む。増幅光ビーム１１０の光学スペクトル３００は、スペクトル強度３０１（必ずしも絶対的な目盛りを持たない）が、波長（又は波長に反比例する光周波数）３０２の関数としてプロットされている図又はグラフの形態で示されている。

【0081】

[0104] スペクトル特性の一例は、光学スペクトル３００の幅３０３の測度である帯域幅である。この幅はレーザ光の波長又は周波数で与えることができる。光学スペクトル３００の詳細に関連する適切な数学的構成（すなわちメトリック（ｍｅｔｒｉｃ））を用いて、増幅光ビーム１１０の帯域幅を特徴付ける値を推定することができる。例えば、光学スペクトル３００の最大ピーク強度のある割合（Ｘ）における光学スペクトルの全幅（ＦＷＸＭと呼ばれる）を用いて、増幅光ビーム１１０の帯域幅を特徴付けることができる。別の例として、積分スペクトル強度のある割合（Ｙ）を含む光学スペクトル３００の幅（ＥＹと呼ばれる）を用いて、増幅光ビーム１１０の帯域幅を特徴付けることができる。

【0082】

[0105] スペクトル特性の別の例は波長であり、これは、特定の（例えば最大の）スペクトル強度における光学スペクトル３００の波長値３０４とすることができる。

【0083】

[0106] 図４を参照すると、増幅光ビーム１１０のパルス１１５のバースト１２０は、リソグラフィ露光装置１３５でパターニングされている基板１４０上の露光フィールド４００に対応し得る。露光フィールド４００は露光ウィンドウ４０５の１回のスキャンで露光される基板１４０のエリアであり、露光ウィンドウ４０５は１つの照射ドーズで露光される基板１４０の照明エリアである。リソグラフィの間、増幅光ビーム１１０の複数のパルス１１５が基板１４０の同一エリアを照明して照明ドーズを形成する。露光ウィンドウ４０５を照明する増幅光ビーム１１０のパルス１１５の数Ｎ、及び露光ウィンドウ４０５のサイズは、リソグラフィ露光装置１３５内でマスク４１５の前に配置された露光スリット４１０によって制御できる。いくつかの実施において、Ｎの値は十台であり、例えば１０～１００のパルスである。他の実施において、Ｎの値は１００を超えるパルスであり、例えば１００～１０００のパルスである。バースト１２０内のパルス数は、照明ドーズを形成するパルス１１５の数Ｎに等しくすることができる。

【0084】

[0107] リソグラフィ露光装置１３５は、他の特徴部の中でもとりわけ、１つ以上のコンデンサレンズ及び対物構成４３０を含む。マスク４１５は１つ以上の方向に沿って可動であり、例えば、Ｚ_Ｌ方向（概ね光ビーム１１０の軸方向に対応する）に沿って又はＺ_Ｌ方向に垂直なＸ_Ｌ－Ｙ_Ｌ面内で可動である。対物構成４３０は投影レンズを含み、マスク４１５から基板１４０上のフォトレジストへの像転写を可能とする。また、リソグラフィ露光装置１３５は、マスク４１５における光ビーム１１０の強度分布を均一化する（均一にする）ように構成されたビームホモジナイザ（図示せず）も含み得る。リソグラフィ露光装置１３５は、リソグラフィコントローラ、空調デバイス、及び様々な電気コンポーネントのための電力供給を含み得る。リソグラフィコントローラは、どのように基板１４０上に層を印刷するかを制御し、インタフェース１４５と通信を行う。

【0085】

[0108] いくつかの実施では、液浸媒体を供給して基板１４０を覆うことができる。液浸媒体は液浸リソグラフィのための液体（水等）とすればよい。リソグラフィが乾式システムである他の実施では、液浸媒体を、乾燥窒素、乾燥空気、又はきれいな空気等のガスとすればよい。他の実施では、圧力が制御された環境（例えば真空又は部分真空）内で基板１４０を露光することができる。

【0086】

[0109] 図５も参照すると、光学装置１３０の実施が示されている。この実施において、スペクトル特性アジャスタ１０５は、光源１５０からの前駆光ビーム５９５と光学的に相互作用する少なくとも１つの光学デバイス５５１を含む。前駆光ビーム５９５は、最終的に増幅光ビーム１１０を形成する光ビームとすることができる。例えば前駆光ビーム５９５は、まだ増幅されていない光ビームとすればよい。

【0087】

[0110] スペクトル特性アジャスタ１０５は、光学デバイス５５１に物理的に結合された機械的又は電磁的特徴部を有するドライブアクチュエータ５７０を含む。ドライブアクチュエータ５７０は、有線又は無線とすることができる通信チャネル５７１を経由して制御装置１８０と通信している。例えば、光学装置１３０から（制御装置１８０を介して）通信チャネル５７１を経由してドライブアクチュエータ５７０に駆動信号が提供される。ドライブアクチュエータ５７０によって光学デバイス５５１が駆動される、すなわち、光学デバイス５５１は離散状態セット間で変化するように修正、移動、又は変更される。例えば光学デバイス５５１は、経路に沿って連続的に移動するよう駆動することができ、経路に沿った移動中、光学デバイス５５１は離散位置又は離散ロケーションのセット内で静止するか又は通過することができる。各離散位置はスペクトル特性アジャスタ１０５の離散状態に対応する。各離散位置において、光学デバイス５５１は、前駆光ビーム５９５の特定の予め設定されたスペクトル特性、ターゲットのスペクトル特性、又は所望のスペクトル特性を選択するように、前駆光ビーム５９５と相互作用する。

【0088】

[0111] 制御装置１８０は、有線又は無線とすることができる通信チャネル５８２を経由して光源１５０と通信している。制御装置１８０から通信チャネル５８２に沿って光源１５０に制御信号を提供して、光源１５０が生成する増幅光ビーム１１０のパルスの生成を制御することができる。

【0089】

[0112] 図６Ａを参照すると、少なくとも１つの光学デバイスを含むスペクトル特性アジャスタ６０５の実施が示されている。この実施において、スペクトル特性アジャスタ６０５は、屈折光学要素又はプリズム６５０、６５１、６５２、６５３のセットと、回折光学要素又は格子６５５と、を含む。プリズム及び格子のうち１つ以上を用いて前駆光ビーム５９５の波長を調整することができ、プリズム及び格子のうち１つ以上を用いて前駆光ビーム５９５の帯域幅を調整することができる。プリズム及び格子は、１つ以上のスペクトル特性の粗い制御を行うように構成できる。粗い制御とは、スペクトル特性の変化が比較的大きい変化量で、比較的低速の時間フレームで発生することを意味する。プリズム及び格子は、１つ以上のスペクトル特性の細かい制御を行うように構成できる。細かい制御とは、スペクトル特性の変化が比較的小さい変化量で、比較的高速の時間フレームで発生することを意味する。

【0090】

[0113] 各プリズムは、前駆光ビーム５９５がプリズム本体を通過する際にこれを分散及び方向転換させるように作用する透過型プリズムである。各プリズムは、前駆光ビーム５９５の波長を有する光を透過できる材料（例えばフッ化カルシウム）で作製することができる。また、４つのプリズムが図示されているが、スペクトル特性アジャスタ６０５において４つよりも少ないか又は４つよりも多いプリズムを使用することも可能である。

【0091】

[0114] 格子６５５は、前駆光ビーム５９５を分散及び反射させるように設計された反射型格子とすることができる。従って格子６５５は、ＤＵＶ範囲内の波長を有する前駆光ビーム５９５と相互作用するのに適した材料で作製されている。格子６５５は高ブレーズ角エシェル格子とすることができ、格子方程式を満たす入射角で格子６５５に入射する前駆光ビーム５９５は反射（回折）される。格子方程式は、格子６５５のスペクトル次数と、回折された光ビームの波長と、格子６５５での前駆光ビーム５９５の入射角と、格子６５５で回折された前駆光ビーム５９５の出射角と、格子６５５に入射する前駆光ビーム５９５の垂直発散度と、格子６５５の回折面の溝間隔と、の関係を示す。更に、格子６５５での前駆光ビーム５９５の入射角が格子６５５からの前駆光ビーム５９５の出射角と等しくなるように格子６５５が使用される場合、格子６５５及びプリズム６５０、６５１、６５２、６５３のセットはリトロー配置（Littrow configuration）に構成され、格子６５５からの前駆光ビーム５９５の波長はリトロー波長である。

【0092】

[0115] 前駆光ビーム５９５が格子６５５の回折面６５６に当たる入射角を変更することによって、前駆光ビーム５９５の波長を調整できる。前駆光ビーム５９５の光学倍率（optical magnification）を変更することによって、前駆光ビーム５９５の帯域幅を調整できる。プリズム６５０、６５１、６５２、６５３のいずれか１つが回転すると、この入射角及び光学倍率のうち１つ以上が影響を受ける。具体的には、図６Ｂを参照すると、特定のプリズムＰ（６５０、６５１、６５２、６５３のうち任意の１つとすることができる）が回転すると、前駆光ビーム５９５がこの回転したプリズムＰの入射面Ｈ（Ｐ）に当たる入射角が変化する。更に、この回転したプリズムＰにローカルな２つの光学品質（optical quality）は、前駆光ビーム５９５がこの回転したプリズムＰの入射面に当たる入射角の関数である。これら２つのローカルな光学品質は、局所光学倍率ＯＭ（Ｐ）及び局所ビーム屈折角δ（Ｐ）である。プリズムＰを通る前駆光ビーム５９５の光学倍率ＯＭ（Ｐ）は、そのプリズムＰから出射する前駆光ビーム５９５の横断方向の幅Ｗｏ（Ｐ）と、そのプリズムＰに入射する前駆光ビーム５９５の横断方向の幅Ｗｉ（Ｐ）との比である。プリズム６５０、６５１、６５２、６５３の１つ以上で前駆光ビーム５９５のローカル光学倍率ＯＭ（Ｐ）が変化すると、前駆光ビーム５９５の光学倍率が全体的に変化し、これは前駆光ビーム５９５の帯域幅の変化を引き起こす。また、プリズム６５０、６５１、６５２、６５３の１つ以上を通る局所ビーム屈折角δ（Ｐ）が変化すると、格子６５５の表面６５６での前駆光ビーム５９５の入射角が全体的に変化する。

【0093】

[0116] 特定のプリズムＰが回転すると、そのプリズムＰの局所ビーム屈折角δ（Ｐ）及び局所光学倍率ＯＭ（Ｐ）の双方が変化するので、この設計では波長の制御と帯域幅の制御は連動している。しかしながら、ある特定のプリズムの回転は、別のプリズムの回転よりも、ある特定のスペクトル特性の制御に大きい影響を与え得る。

【0094】

[0117] 例えば１つの実施では、プリズム６５１をそのプリズム軸（Ｚ軸と平行である）を中心として回転させて、前駆光ビーム５９５の波長を変化させる。この実施において、プリズム６５１は、前駆光ビーム５９５と相互作用する光学デバイス５５１と見なすことができる。ドライブアクチュエータ６７０はプリズム６５１に物理的に結合され、光学装置１３０内の制御装置１８０と通信している。

【0095】

[0118] ドライブアクチュエータ６７０は、プリズム６５１の位置及び／又は向きを移動（例えば並進又は回転）させると共に制御するための機械的デバイスである。ドライブアクチュエータ６７０は制御装置１８０からエネルギを受け取り、このエネルギをプリズム６５１に与えられる何らかの種類の動きに変換する。例えば、ドライブアクチュエータ６７０は力デバイス（force device）又は回転ステージとすることができる。ドライブアクチュエータ６７０は、例えばステッパモータ等のモータ、バルブ、圧力制御デバイス、圧電デバイス、リニアモータ、油圧アクチュエータ、又はボイスコイルを含み得る。

【0096】

[0119] 図７Ａ及び図７Ｂの例を参照すると、プリズム６５１は、ドライブアクチュエータ６７０によって、そのプリズム軸ＰＡ（図６Ａ、図６Ｂ、図７Ａ、及び図７ＢではＺ方向に沿っている）を中心として離散角度セットに回転させることにより、離散位置セットに駆動される。この具体例において、図７Ａでは、プリズム６５１は第１の局所ビーム屈折角δ（１）に位置決めされている。第１の局所ビーム屈折角δ（１）において、前駆光ビーム５９５は第１の入射角θ（１）で格子６５５の表面６５６に当たる。図７Ａでは、明確さのために前駆光ビーム５９５の中心線のみが図示されている。この第１の入射角θ（１）において、格子６５５は前駆光ビーム５９５の第１の波長を回折及び反射する。図７Ｂでは、プリズム６５１はプリズム軸ＰＡを中心として第２の局所ビーム屈折角δ（２）に回転した後である。第２の局所ビーム屈折角δ（２）において、前駆光ビーム５９５は第２の入射角θ（２）で格子６５５の表面６５６に当たる。図７Ｂでは、明確さのために前駆光ビーム５９５の中心線のみが図示されている。この第２の入射角θ（２）において、格子６５５は前駆光ビーム５９５の第２の波長を回折及び反射する。上記のように、プリズム６５１の回転は前駆光ビーム５９５の帯域にも影響を及ぼし得る。これが生じた場合、帯域幅が影響される量はわずかであるか、又は別のプリズム（例えばプリズム６５０、６５２、６５３）を回転させて帯域幅の変化を相殺することがある。

【0097】

[0120] 図８を参照すると、いくつかの実施において、光源１５０は、増幅光ビーム１１０としてパルスレーザビームを生成するパルスレーザ光源８５０である。光源８５０は、第１のガス放電段及び第２のガス放電段を含む２段システムである。第１の放電段は第１のガス放電チャンバを含み、これは、エネルギ源を収容すると共に、第１の利得媒体を含むガス混合物を包含している。第２の放電段は第２のガス放電チャンバを含み、これは、エネルギ源を収容すると共に、第２の利得媒体を含むガス混合物を包含している。

【0098】

[0121] 第１のガス放電段は主発振器（ＭＯ）８００を含み、第２のガス放電段はパワー増幅器（ＰＡ）８１０を含む。ＭＯ８００はＰＡ８１０にシード光ビーム８９５を提供する。主発振器８００は典型的に、増幅が発生する利得媒体と、光学共振器等の光学フィードバック機構と、を含む。パワー増幅器８１０は典型的に、主発振器８００からのシードレーザビームが与えられると増幅が発生する利得媒体を含む。パワー増幅器８１０が再生リング共振器として設計されている場合、これはパワーリング増幅器（ＰＲＡ：power ring amplifier）として記述され、この場合はリング設計から充分な光学フィードバックを与えることができる。スペクトル特性アジャスタ１０５は、主発振器８００から前駆光ビーム５９５を受け取って、比較的低い出力パルスエネルギの光ビーム８９５の中心波長及び帯域幅のようなスペクトルパラメータの微調整を可能とする。パワー増幅器８１０は、主発振器８００から光ビーム８９５を受け取り、この出力を増幅して、リソグラフィ露光装置１３５によるフォトリソグラフィで使用される出力に必要なパワーを達成する。

【0099】

[0122] 主発振器８００は放電チャンバを含み、これは、２つの細長い電極と、利得媒体として機能するレーザガスと、電極間でガスを循環させるファンと、を有する。放電チャンバの一方側のスペクトル特性アジャスタ１０５と、シード光ビーム８９５をパワー増幅器８１０に出力する放電チャンバの第２の側の出力カプラ８１５との間に、レーザ共振器が形成されている。

【0100】

[0123] また、光源８５０は、出力カプラ８１５からの出力を受け取るライン中心解析モジュール（ＬＡＭ：line center analysis module）８２０と、必要に応じてビームのサイズ及び／又は形状を修正する１つ以上のビーム修正光学システム８２５と、を含み得る。ライン中心解析モジュール８２０は、シード光ビーム８９５の波長（例えば中心波長）を測定するために使用可能なあるタイプの測定システムの一例である。光源８５０に含めることができる別の測定システムは、増幅光ビーム１１０の帯域幅を測定又は推定するように構成された帯域幅解析モジュール（図８には示されていない）である。

【0101】

[0124] パワー増幅器８１０はパワー増幅器放電チャンバを含む。パワー増幅器は、再生リング共振器である場合、光ビームを反射して放電チャンバに戻して循環経路を形成するビームリフレクタ又はビーム反転デバイス８３０も含む。パワー増幅器放電チャンバは、１対の細長い電極と、利得媒体として機能するレーザガスと、電極間でガスを循環させるファンと、を含む。シード光ビーム８９５は、パワー増幅器８１０を繰り返し通過することによって増幅される。ビーム修正光学システム８２５は、シード光ビーム８９５を内部へ結合する（in-couple）と共にパワー増幅器からの増幅放射の一部を外部へ結合して（out-couple）増幅光ビーム１１０を形成するための手法（例えば部分反射ミラー）を提供する。

【0102】

[0125] 主発振器８００及びパワー増幅器８１０の放電チャンバ内で使用されるレーザガスは、必要な波長及び帯域幅付近のレーザビームを生成するのに適した任意のガスとすればよい。例えばレーザガスは、約１９３ｎｍの波長の光を放出するフッ化アルゴン（ＡｒＦ）、又は約２４８ｎｍの波長の光を放出するフッ化クリプトン（ＫｒＦ）とすることができる。

【0103】

[0126] ライン中心解析モジュール８２０は、主発振器８００の出力（シード光ビーム８９５）の波長を監視する。ライン中心解析モジュール８２０は、光源８５０内の他の位置に配置すること、又は光源８５０の出力に配置することも可能である。

【0104】

[0127] 一般に、制御装置１８０は、デジタル電子回路、コンピュータハードウェア、ファームウェア、及びソフトウェアのうち１つ以上を含む。制御装置１８０は、読み出し専用メモリ及び／又はランダムアクセスメモリとすることができるメモリを含む。コンピュータプログラム命令及びデータを有形に（tangibly）具現化するのに適したストレージデバイスには、あらゆる形態の不揮発性メモリが含まれるが、一例として、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、及びフラッシュメモリデバイス等の半導体メモリデバイス、内部ハードディスク及び着脱可能ディスク等の磁気ディスク、光磁気ディスク、並びにＣＤ－ＲＯＭディスクがある。また、制御装置１８０は、１つ以上の入力デバイス（キーボード、タッチスクリーン、マイクロフォン、マウス、ハンドヘルド入力デバイス等）及び１つ以上の出力デバイス７１０（スピーカ又はモニタ等）も含むことができる。

【0105】

[0128] 制御装置１８０は、１つ以上のプログラマブルプロセッサと、プログラマブルプロセッサによって実行するため機械可読ストレージデバイスにおいて有形に具現化された１つ以上のコンピュータプログラム製品と、を含む。１つ以上のプログラマブルプロセッサの各々は、入力データに作用すると共に適切な出力を発生させることにより、命令のプログラムを実行して所望の機能を達成できる。一般に、プロセッサはメモリから命令及びデータを受信する。前述のもののいずれも、特別に設計されたＡＳＩＣ（特定用途向け集積回路）によって補足するか又はそれに組み込むことができる。

【0106】

[0129] また、制御装置１８０はモジュールのセットを含み、各モジュールは、複数のプロセッサのような１つ以上のプロセッサにより実行されるコンピュータプログラム製品のセットを含む。更に、これらのモジュールのいずれも、メモリ内に記憶されたデータにアクセスすることができる。各モジュールは、装置１００の他の専用コンポーネント（例えば光源１５０、インタフェース１４５、スペクトル特性アジャスタ１０５、又はリソグラフィ露光装置１３５）と通信することができる。各モジュールは、他のコンポーネントからデータを受信し、次いで必要に応じてそのようなデータを解析することができる。各モジュールは、１つ以上の他のモジュールと通信することができる。

【0107】

[0130] 制御装置１８０は、ボックス（この中にコンポーネントの全てを同一場所に配置することができる）として表されているが、物理的に遠隔にあるコンポーネントで制御装置１８０を構成することも可能である。例えば、特定のモジュールを光源１５０と物理的に同一場所に配置するか、又は特定のモジュールをスペクトル特性アジャスタ１０５と物理的に同一場所に配置することができる。

【0108】

[0131] 一般に、制御装置１８０は、本明細書で検討されていない機能を実行することができる。例えば制御装置１８０は、光学装置１３０内の測定システム（図示せず）から増幅光ビーム１１０に関する少なくとも何らかの情報を受信することができ、内部のスペクトル特性解析モジュールは、この情報の解析を実行して、リソグラフィ露光装置１３５に供給される増幅光ビーム１１０の１つ以上のスペクトル特性（例えば帯域幅）をどのように調整するかを決定する。この決定に基づき、制御装置１８０は、スペクトル特性アジャスタ１０５及び／又は光源１５０に信号を送信して光源１５０の動作を制御する。

【0109】

[0132] 図９を参照すると、タイミング図９００Ａは、パルス１１５のバースト１２０の生成中にどのように装置１００が動作するかの１つの実施を示し、タイミング図９００Ａの検討に関連付けて装置１００のブロック図が示されている。タイミング図９００Ａは、増幅光ビーム１１０の１６のパルス９１５のみを示す。しかしながら、バースト１２０は１６よりも少ないか又は多いパルスを含むことができ、図９に示されている信号は、図９に示されている時間期間を超えて更に延出し得る。この実施において、リソグラフィ露光装置１３５からインタフェース１４５に提供される（更に制御装置１８０に伝達される）情報Ｈは、トリガ信号９０６を含む。トリガ信号９０６は電気パルス９０７の列の形態であり、隣接する電気パルス９０７は、増幅光ビーム１１０の所望のパルス繰り返し率Ｒｐに反比例する概ね一定の時間間隔ｔｐだけ分離している。各電気パルス９０７は、増幅光ビーム１１０の１つのパルス９１５を生成するように（制御装置１８０を介して）光学装置１３０に命令する。パルス列９１１内の隣接するパルス９１５間の時間的分離はτである（分離時間ｔｐと相関しているか又はこれに等しい）。このように、増幅光ビーム１１０は、１／τによって規定されるパルス繰り返しＲｐで生成される。

【0110】

[0133] 図９の実施において、光学装置１３０から（制御装置１８０を介して）通信チャネル９７１を経由してスペクトル特性アジャスタ１０５に駆動信号９１７が提供される。スペクトル特性アジャスタ１０５の実際の状態（駆動信号９１７に基づいて変化する）は、波形９１８によって表される。駆動信号９１７の形状はパラメータセットによって規定される。この実施において、駆動信号９１７は連続的な正弦波（従って周期的）形状を有し、リソグラフィ露光装置１３５のターゲット又は所望の２つの離散状態９１８ａ及び９１８ｂの間でスペクトル特性アジャスタ１０５を駆動する。更に、この実施では、バースト内のパルス９１５が生成されるたびにスペクトル特性アジャスタ１０５は離散状態９１８ａ又は９１８ｂのうち１つになる。図９では、スペクトル特性アジャスタ１０５がすでに定常状態に達しており、スペクトル特性アジャスタ１０５とパルス９１５の生成との間のタイミングが同期していると仮定されている。従って、離散状態９１８ａでは、スペクトル特性アジャスタ１０５は、この時に生成されるパルス９１５のスペクトル特性の離散値（例えば波長λａ）を選択する。また、離散状態９１８ｂでは、スペクトル特性アジャスタ１０５は、この時に生成されるパルス９１５のスペクトル特性の離散値（例えば波長λｂ）を選択する。例えば、スペクトル特性アジャスタ１０５が図６Ａから図７Ｂに示されているように設計されている場合、スペクトル特性アジャスタ６０５はプリズム６５１を含み、これは、プリズム軸ＰＡを中心として２つの別個の、この例では極端な状態間で回転することができる。また、（図７Ａに示されるような）第１の状態では、プリズム６５１は第１の局所ビーム屈折角δ（１）に位置決めされ、（図７Ｂに示されるような）第２の状態では、プリズム６５１は第２の局所ビーム屈折角δ（２）に位置決めされる。

【0111】

[0134] 図１０を参照すると、タイミング図９００Ｂは、パルス１１５のバースト１２０の生成と生成との間にどのように装置１００が動作するかの１つの実施を示す。更に、タイミング図９００Ｂの検討に関連付けて装置１００のブロック図が示されている。タイミング図９００Ｂは、領域Ｂ（バースト間間隔）の両側に増幅光ビーム１１０の２つのパルス９１５のみを示している。バースト間間隔は図１０に示されているよりも長く又は短く継続する可能性があり、図示されている信号は図１０に示されている時間期間を超えて更に延出し得る。この実施では、バースト間間隔の間、光学装置１３０からのパルス１１５の生成を停止するように、リソグラフィ露光装置１３５がインタフェース１４５に提供するトリガ信号９０６の電気パルス９０７は停止（又は中止）される。

【0112】

[0135] しかしながら、電気パルス９０７がインタフェース１４５に提供されていない場合であっても、光学装置１３０は、パラメータセットにより規定された駆動信号９１７に従ってスペクトル特性アジャスタ１０５の駆動を（制御装置１８０を介して）継続する。バースト間時間間隔中にスペクトル特性アジャスタ１０５を駆動することによって、スペクトル特性アジャスタ１０５は定常状態モードで駆動され続ける。スペクトル特性アジャスタ１０５が、静止モード（図２Ａの時点０のようにスペクトル特性アジャスタ１０５が静止しているか又は不動である）から定常状態モード（図２Ａの時点ｔ（ｓｓ）等）に遷移しなければならない時間は存在しない。図２Ａに関して上記で検討したように、静止モードから定常状態モードに遷移する結果として、スペクトル特性アジャスタ１０５及び制御装置１８０を含むシステム全体に対する電圧又は負荷の急激な変化が生じ、これは望ましくない遷移現象を発生させる。

【0113】

[0136] バースト間時間間隔中にスペクトル特性アジャスタ１０５を駆動することによって、スペクトル特性アジャスタ１０５が、静止モード（スペクトル特性アジャスタ１０５が静止しているか又は不動である）から定常状態モードに遷移しなければならない時間は存在せず、従って、これらの望ましくない遷移現象は回避される。事実上、スペクトル特性アジャスタ１０５は常に定常状態で制御又は動作される。

【0114】

[0137] 本明細書では詳しく検討しないが、遷移現象は、リソグラフィ露光装置１３５がパルス繰り返し率Ｒｐの変更を要求するたびに発生する可能性がある。その理由は、この状況ではスペクトル特性アジャスタ１０５に対する駆動信号９１７の周波数を変更する必要があり得るからである。

【0115】

[0138] いくつかの実施では、バースト間時間間隔中に光学装置１３０は、リソグラフィ露光装置１３５から受信した情報Ｈに関連するやり方で、（制御装置１８０を介して）スペクトル特性アジャスタ１０５を駆動し続ける。

【0116】

[0139] 更に、図２Ａに示されているものとは異なり、図１０の実施では、次のバースト内のパルス９１５の生成時に、スペクトル特性アジャスタ１０５が、増幅光ビーム１１０のスペクトル特性の離散値に対応する離散状態９１８ａ又は９１８ｂのうち１つであることが保証される。言い換えると、装置１００は、バースト間時間間隔の後に発射されるパルス９１５が、リソグラフィ露光装置１３５の所望のスペクトル特性（例えば波長）を有することを保証する。バースト間時間間隔の後に発射されるパルス９１５がリソグラフィ露光装置１３５の所望のスペクトル特性（例えば波長）を有することを装置１００によって保証するには、様々なやり方がある。これらの様々なやり方について次に検討する。バースト間時間間隔の後に発射されるパルス９１５がリソグラフィ露光装置１３５の所望のスペクトル特性（例えば波長）を有することを保証するため、装置１００は、任意の瞬間に又はバースト間時間間隔中に、これらのやり方のうち１つ以上を実施できる。従って、以下で検討されるやり方のうち１つではこの条件の発生を保証するには充分でないが、それらのやり方のうち２つを組み合わせると充分である可能性がある。

【0117】

[0140] 図１１を参照すると、１つの実施においてスペクトル特性アジャスタ１０５は、バースト間時間間隔中（パルス９１５のバーストの生成と生成との間）に、リソグラフィ露光装置１３５によって設定される所望のパルス繰り返し率Ｒｐと相関した周波数ωで駆動される。図１１は、パルス１１５のバースト１２０の生成と生成との間にどのように装置１００が動作するかの実施を表すタイミング図１１００Ｂを示し、更に、タイミング図１１００Ｂに関連する装置１００の対応するブロック図も示している。パルス繰り返し率Ｒｐは、インタフェース１４５に提供される情報Ｈの一部であり、１／τ（τはパルス９１５間の時間である）に等しい。従って、正弦波駆動信号１１１７の周波数ωは、周波数ωとパルス繰り返し率Ｒｐとの間に相関性ｃｏｒｒ（ω，Ｒｐ）が存在するようになっている。例えば図１１に示されているように、正弦波駆動信号１１１７の周波数ωはパルス繰り返し率Ｒｐの２分の１である。周波数ωは１／κであり、ここでκは正弦波駆動信号１１１７の周期である。この例では、正弦波駆動信号１１１７の周期κはパルス９１５間の時間τの２倍である。

【0118】

[0141] スペクトル特性アジャスタ１０５がパルス繰り返し率Ｒｐに相関する周波数ωで駆動される場合であっても、バースト間時間間隔Ｔに続く次のパルスバースト内のパルス９１５の生成と、スペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態９１８ａ又は９１８ｂのうち１つに達する瞬間との間には、時間のずれが存在する可能性がある。図１１にこのずれが示されている。このずれが依然として存在し得る理由は、光学装置１３０が、いつリソグラフィ露光装置１３５がトリガ信号９０６内の別の電気パルス９０７をインタフェース１４５に送信するかを予測できないか又は知らないからである。言い換えると、光学装置１３０はトリガバースト間時間間隔Ｔ_Ｌの長さを知らない。このため光学装置１３０は、スペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態９１８ａ又は９１８ｂのうち１つに達する瞬間と次のバースト内のパルス９１５が生成される瞬間を適切に同期させることができない。

【0119】

[0142] 図１２を参照すると、タイミング図１２００Ｂの実施が、タイミング図１２００Ｂに対応する装置１００のブロック図と共に示されている。この実施では、バースト間時間間隔Ｔに続く次のパルスバースト内のパルス９１５とスペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態９１８ａ又は９１８ｂのうち１つに達する瞬間との間の時間のずれは取り除かれている。この実施において、トリガバースト間時間間隔Ｔ_Ｌ、従ってバースト間時間間隔Ｔは、バースト間時間間隔Ｔが現在のパルス繰り返し率Ｒｐにおけるパルス９１５間の時間間隔τの整数倍であるように調整されている。すなわち、Ｔ＝τ×ｉであり、ここでｉは整数である。

【0120】

[0143] 図１１の実施では、バースト間時間間隔中にどのようにスペクトル特性アジャスタ１０５が駆動されるかを変更するために、制御装置１８０の動作を変更する必要がある。これに対して図１２の実施では、トリガバースト間時間間隔Ｔ_Ｌを変更するために、リソグラフィ露光装置１３５の動作を変更する必要がある。

【0121】

[0144] 図１２は、最後のバースト内の最後のパルスの生成と次のバースト内の最初のパルスとの間の時間間隔に対応するバースト間時間間隔Ｔを示すが、バースト間時間間隔は、最後のバースト及び次のバースト内の他のパルスに基づく時間間隔に対応することも可能である。例えばバースト間時間間隔Ｔは、レーザパルス（例えば図２Ａのバースト１２０Ａのパルス１１５＿１２Ａ）の生成と次のバーストの最初のパルスに続くパルス（例えば図２Ａのバースト１２０Ｃのパルス１１５＿１Ｃに続くパルス）との間の時間間隔に対応してもよい。

【0122】

[0145] 図１３を参照すると、タイミング図１３００Ｂの実施が、タイミング図１３００Ｂに対応する装置１００のブロック図と共に示されている。バースト間時間間隔Ｔに続く次のパルスバースト内のパルス９１５とスペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態９１８ａ又は９１８ｂのうち１つに達する瞬間との間の時間のずれは取り除かれている。

【0123】

[0146] この実施では、リソグラフィ露光装置１３５からの情報Ｈは、リソグラフィ露光装置１３５が次のパルスバーストの最初の電気トリガパルス９０７＿１Ｃをインタフェース１４５に送信する時に関する指示１３０９を含む。指示１３０９は、最初の電気パルス９０７＿１Ｃの前に制御装置１８０によって受信される。この追加情報（指示１３０９）を用いて、また、指示１３０９と最初の電気トリガパルス９０７＿１Ｃとの間に充分な時間があると仮定することで、制御装置１８０は、スペクトル特性アジャスタ１０５に提供される駆動信号１３１７が修正されない場合、次のパルスバースト内のパルス９１５＿１Ｃの生成とスペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態９１８ａ又は９１８ｂのうち１つに達する時点との間に時間のずれが存在するか否かを決定できる。制御装置１８００が、次のパルスバースト内のパルス９１５＿１Ｃの生成とスペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態９１８ａ又は９１８ｂのうち１つに達する時点との間に時間のずれが存在すると（指示１３０９の受信に基づいて）決定した場合、制御装置１８０は、スペクトル特性アジャスタ１０５に対する駆動信号１３１７を調整することができる。例えば制御装置１８０は、駆動信号１３１７に関連付けられたパラメータＰの１つ以上を修正することによって駆動信号１３１７を調整することができ、このような修正は、リソグラフィ露光装置１３５により提供された情報を考慮に入れることができる。例えば駆動信号１３１７が正弦波形Ｄである場合、これは概して、駆動信号１３１７の位相（φ）及び周波数ω等のパラメータセットによってＤ＝Ａｓｉｎ（２πωｔ＋φ）のように規定され、ここでｔは時間である。
駆動信号１３１７の位相φは初期位相であり、上記の方程式ではラジアンで与えられ、最初の時点での波形Ｄの位置に対応する。これは、位相オフセット、位相シフト、又は位相ファクタと呼ぶことができる。波形Ｄの瞬時位相はωｔ＋φで与えられる。

【0124】

[0147] 従って制御装置１８０は、駆動信号１３１７の周波数ω、駆動信号１３１７の位相φ、又は駆動信号１３１７の周波数ω及び位相φの双方を修正することができる。図１３に示されている実施では、駆動信号１３１７のパラメータ（例えば周波数ω等）は領域ｄＲにおいて修正される。更に、領域ｄＲで周波数ωが修正された場合、駆動信号１３１７がパルス９１５の生成と同期された状態を維持できるように、次のバーストの開始時に周波数ωを変更してパルス繰り返し率Ｒｐと再び相関させる必要がある。駆動信号１３１７の修正は、波形９１８の周波数及び／又は位相の変化で示されるように、スペクトル特性アジャスタ１０５がどのように駆動されるかを変更する。

【0125】

[0148] 指示１３０９の受信と電気トリガパルス９０７＿１Ｃの受信との間の時間遅延１３２９を充分に大きくすることで、バースト内のパルス９１５の生成時にスペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態のうち１つになるように制御装置１８０が駆動信号１３１７の１つ以上のパラメータを修正する充分な時間を持てるようにする。例えば、時間遅延１３２９は約２５～３５ミリ秒（ｍｓ）とすればよい。

【0126】

[0149] 図１４を参照すると、タイミング図１４００Ｂの別の実施が、タイミング図１４００Ｂに対応する装置１００のブロック図と共に示されている。バースト間時間間隔Ｔに続く次のパルスバースト内のパルス１４１５とスペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態９１８ａ又は９１８ｂのうち１つに達する瞬間との間の時間のずれは、パルス列１４１１内のパルス１４１５の生成を制御するため光源１５０に提供される制御信号１４８１の態様を調整することによって取り除かれている。この実施では、制御装置１８０は１つ以上の固定パラメータＰに従ってスペクトル特性アジャスタ１０５を駆動し、これらの固定パラメータＰを修正する必要はない。

【0127】

[0150] 制御装置１８０は、リソグラフィ露光装置１３５から（情報Ｈを受信するインタフェース１４５を介して）、次のパルスバースト１４１５を生成するための要求を受信する。この要求は、トリガバースト間時間間隔Ｔ_Ｌに続く最初のトリガパルス１４０７＿１の形態である。上記で検討したように、正常動作において光学装置１３０は、トリガパルス１４０７＿１の受信に続く時間遅延ｔ１の後にパルス１４１５＿１を生成する。光学装置１３０はトリガパルス１４０７＿１に反応するため多少の時間量を必要とするので、この時間遅延ｔ１は光学装置１３０の設計に固有のものである。例えば制御装置１８０は、トリガパルス１４０７＿１を処理し（受信及び解析し）、次いでパルス１４１５＿１を生成するための信号を光源１５０に与える。トリガパルス１４０７＿１の受信から増幅光ビーム１１０のパルス１４１５＿１の生成までに要する時間が、この時間遅延ｔ１に相当する。

【0128】

[0151] しかしながら、この実施では、制御装置１８０がトリガパルス１４０７＿１を受信するとすぐに次のパルスバースト内のパルス１４１５＿１を生成するための制御信号１４８１内の命令を光源１５０に与える（通常実行される）のではなく、制御装置１８０は、リソグラフィ露光装置１３５からの要求（トリガパルス１４０７＿１）の受信に対して、次のパルスバースト１４１５内のパルス１４１５＿１の生成を、ゼロよりも大きい時間期間δτだけ遅延させる制御信号１４８１内の命令を与える。制御装置１８０は、次のパルスバースト内のパルス１４１５の生成時に確実にスペクトル特性アジャスタ１０５を離散状態９１８ａ又は９１８ｂのうち１つに駆動することができる遅延δτの値を決定する。従って、トリガパルス１４０７＿１の受信からパルス１４１５＿１の生成までの合計時間はｔ１＋δτである。

【0129】

[0152] 図１５を参照すると、タイミング図１５００Ｂの実施が、タイミング図１５００Ｂに対応する装置１００のブロック図と共に示されている。バースト間時間間隔Ｔに続く次のパルスバースト内のパルス９１５とスペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態９１８ａ又は９１８ｂのうち１つに達する瞬間との間の時間のずれは取り除かれている。この実施において、光学装置１３０は、制御装置１８０及びインタフェース１４５を介してリソグラフィ露光装置１３５に信号１５０８を送信する。リソグラフィ露光装置１３５に送信される信号１５０８は、バースト間時間間隔中どのようにスペクトル特性アジャスタ１０５が駆動されるかに関する情報を含む。これにより、リソグラフィ露光装置１３５は、バースト間時間間隔に続く次のパルスバースト内のパルス９１５が生成される時点が、スペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態９１８ａ又は９１８ｂのうち１つに達する瞬間と同期されることを保証するように、トリガ信号１５０６を調整することができる。例えば図示のように、トリガ信号１５０６は、トリガバースト間時間間隔Ｔ_Ｌの後の次のバースト内の最初の電気パルスを量ｄｔだけ遅延させるように調整される。この遅延ｄｔは、次のパルスバースト内の最初のパルスが生成される時点に伝搬する。従って、バースト間時間間隔Ｔはｄｔだけ増大する。

【0130】

[0153] 図９を参照して上記で検討したように、正弦波駆動信号９１７の周波数ωは、タイミング図９００Ａで示される通り、パルス繰り返し率Ｒｐの２分の１である。図１６を参照すると、他の実施において、正弦波駆動信号１６１７の周波数ωは、タイミング図１６００Ａで示される通り、パルス繰り返し率Ｒｐの４分の１である。周波数ωは１／κであり、ここでκは正弦波駆動信号１６１７の周期であり、従って正弦波駆動信号１６１７の周期κはパルス９１５間の時間τの４倍である。スペクトル特性アジャスタ１０５は、２つの極端な状態間を進む際、２つの中間であるが別個かつ所望の状態１６１８ａ及び１６１８ｂを通過する。これらの中間状態１６１８ａ、１６１８ｂの各々は、別個の波長λａ’及びλｂ’に対応する。この実施において、隣接する連続パルス９１５は波長λａ’を有し、次の２つの隣接する連続パルス９１５は波長λｂ’を有する。このパターンは、次のバースト間時間間隔まで、又は制御装置１８０が駆動信号１６１７を変更するまで繰り返す。

【0131】

[0154] 上述のように、駆動信号２１７、９１７の波形は三角形又は正弦波の形状とは異なる場合があり、他の波形も可能である。駆動信号２１７、９１７の波形の形状は、スペクトル特性アジャスタ１０５の波形（２１８又は９１８等）の形状に影響を及ぼす。例えば、図１７Ａ、図１７Ｂ，図１７Ｃ、及び図１７Ｄに、スペクトル特性アジャスタ１０５に供給される駆動信号の波形１７１７Ａ、１７１７Ｂ、１７１７Ｃ、及び１７１７Ｄの他の可能な実施が示されている。

【0132】

[0155] 図１８を参照すると、リソグラフィ露光装置１３５に送出され、バースト間ギャップ１２５の後に生成される各パルス１１５が、所望の離散スペクトル特性セットの中の所望のスペクトル特性（波長）を有することを保証するため、装置１００によって手順１８００が実行される。手順１８００のステップを検討する際に図１から図１６も参照する。

【0133】

[0156] 手順１８００は、パルス繰り返し率Ｒｐで増幅光ビームのパルスバーストを生成すること（１８０５）と、これらのパルスをリソグラフィ露光装置に送出すること（１８１０）と、を含む。例えば、図１に示されるように、バースト１２０のパルス１１５が生成されてリソグラフィ露光装置１３５に送出される。

【0134】

[0157] パルスバースト１２０の生成中に、パルス繰り返し率Ｒｐと相関する周波数でスペクトル特性アジャスタ１０５を離散状態セット間で駆動する（１８１５）。例えば制御装置１８０は、図２Ａ及び図２Ｂに示されるように、離散状態２１８ａ及び２１８ｂ間でスペクトル特性を駆動するための駆動信号２１７をスペクトル特性アジャスタ１０５に送信する。駆動信号２１７の周波数ωは、パルス列２１１のパルス繰り返し率Ｒｐと相関している。各離散状態（離散状態２１８ａ及び２１８ｂ等）は、増幅光ビーム１１０のスペクトル特性（例えば波長）の予め設定された複数の離散値の中のスペクトル特性の離散値に対応する。これにより、バースト１２０内のパルス１１５が生成されるたびにスペクトル特性アジャスタ１０５は離散状態のうち１つになり、増幅光ビームパルス１１５はその離散状態に対応するスペクトル特性を有する。例えば、図９に示されているように、スペクトル特性アジャスタ１０５が状態９１８ａである場合、パルス９１５の波長はλａであり、スペクトル特性アジャスタ１０５が状態９１８ｂである場合、パルス９１５の波長はλｂである。

【0135】

[0158] パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていない時、リソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方でスペクトル特性アジャスタ１０５を駆動する（１８２０）。例えば図２Ａ及び図２Ｂに示されているように、制御装置１８０は、バースト間時間間隔Ｔの間も、すなわちバースト１２０Ａの生成とバースト１２０Ｃの生成との間も、駆動信号２１７を用いてスペクトル特性アジャスタ１０５を駆動し続ける。駆動信号２１７は、リソグラフィ露光装置１３５から受信した情報Ｈに基づいて決定される特性を有する。

【0136】

[0159] 手順１８００は、（このバースト間時間間隔Ｔに続く）次のバースト内のパルスの生成時に、スペクトル特性アジャスタ１０５が増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証する（１８２５）。例えば装置１００は、次のバースト１２０Ｃ内のパルスの１つ１１５＿ｉＣの生成時にスペクトル特性アジャスタ１０５が状態２１８ａ又は２１８ｂのうち１つであることを保証する。上記で図９から図１６を参照して検討したように、（このバースト間時間間隔Ｔに続く）次のバースト１２０内のパルス１１５の生成時にスペクトル特性アジャスタ１０５が増幅光ビーム１１０のスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証する（１８２５）ための様々な実施が存在する。これらの実施のうちいずれか１以上を利用することができる。

【0137】

[0160] 図１９Ａから図１９Ｄを参照すると、装置１００の動作及び手順１８００をシミュレーションするためのグラフのセットが示されている。図１９Ａから図１９Ｄの各々は、スペクトル特性アジャスタ１０５の動作（任意の単位）対時間のグラフを、６つのパルスバースト（及び５つのバースト間ギャップ）にわたって示す。更に、これらのグラフは、スペクトル特性アジャスタ１０５が静止状態である時点から開始する。従って、スペクトル特性アジャスタ１０５は、遷移現象を生じる遷移又は中間動作で各シミュレーションを開始する。

【0138】

[0161] 各グラフの灰色の波形は、スペクトル特性アジャスタ１０５の実際の位置又は状態を表し、これは実際のスペクトル特性で表されている（各状態は、その状態にあるスペクトル特性アジャスタ１０５と相互作用する光ビームの特定のスペクトル特性に対応するので）。従って、灰色の波形は波形２１８又は９１８に対応する。スペクトル特性アジャスタ１０５の各ターゲット離散状態は、状態１９１８ａ及び１９１８ｂで表されている。各グラフ上の点は、パルス１１５が生成されてリソグラフィ露光装置１３５の方へ送出される時（instance）を示す。これらのシミュレーションは、図９から図１２に記載された、正弦波駆動信号９１７の周波数ωがパルス繰り返し率Ｒｐの２分の１である実施において実行される。これらのシミュレーションは、バースト間時間間隔Ｔの後のバースト開始時、及び手順１８００の実行の開始時に実行される。

【0139】

[0162] 垂直軸（スペクトル特性軸）に沿った点の位置は、（水平軸又は時間軸に沿った）その時点のパルスがスペクトル特性をサンプリングする位置を示す。この位置は、リソグラフィ露光装置１３５に送信される生成されたパルスのスペクトル特性の値に対応する。

【0140】

[0163] 図１９Ａでは、手順１８００のステップ１８２０及び１８２５を実行することなく、ステップ１８０５～１８１５のみを実行した後に、装置１００の動作がシミュレーションされている。明らかなことであるが、パルス１１５が所望のスペクトル特性１９１８ａ及び１９１８ｂと一致することはほとんどないので、リソグラフィ露光装置１３５に送出されるパルス１１５は基板のパターニングに望ましいスペクトル特性を持たない。

【0141】

[0164] 図１９Ｂでは、装置１００が図１１に示されるように動作している時に装置１００の動作がシミュレーションされている。この場合、スペクトル特性アジャスタ１０５に供給される駆動信号１１１７は、パルス繰り返し率Ｒｐに相関する周波数ωを有する。この結果には多少の向上が生じるが、図１９Ｄほど良好でないことがわかる。

【0142】

[0165] 図１９Ｃでは、装置１００が図１２に示されるように動作しているが図１１に示されるように動作していない時に装置１００の動作がシミュレーションされている。この場合、スペクトル特性アジャスタ１０５に供給される駆動信号１１１７は、パルス繰り返し率Ｒｐに必ずしも相関しない周波数ωを有する。しかしながら、バースト間時間間隔Ｔは、パルス９１５間の時間間隔τの整数倍に設定されている。この結果には多少の向上が生じるが、図１９Ｄほど良好でないことがわかる。

【0143】

[0166] 図１９Ｄでは、図１８のステップの全てを実行した後に装置１００の動作がシミュレーションされている。この事例では、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタ１０５が離散状態１９１８ａ又は１９１８ｂのうち１つであることが保証される。装置１００は図９及び図１０に示されるように動作し、また、図１１及び図１２に記載された技法の双方を用いて動作する。

【0144】

[0167] 図２０Ａから図２０Ｄは、図１９Ａから図１９Ｄのグラフの部分２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ、及び２０Ｄをそれぞれ示す。図２０Ａから図２０Ｄに波形の詳細がより明らかに示されている。

【0145】

[0168] 図２１を参照すると、別の実施において、リソグラフィ露光装置１３５に送出され、バースト間ギャップ１２５の後に生成される各パルス１１５が、所望の離散スペクトル特性セット中の所望のスペクトル特性（波長）を有することを保証するため、装置１００によって手順２１００が実行される（例えば制御装置１８０の制御のもとで）。手順２１００のステップを検討する際に図１から図１６も参照する。

【0146】

[0169] 手順２１００は、制御装置１８０が、パルス繰り返し率Ｒｐで増幅光ビーム１１０のパルスバーストを生成するよう光源１５０に命令すること（２１０５）を含む。これらのパルスをリソグラフィ露光装置に送出する（２１１０）。例えば、図１に示されるように、バースト１２０のパルス１１５が生成されてリソグラフィ露光装置１３５に送出される。

【0147】

[0170] パルスバースト１２０の生成中に、パルス繰り返し率Ｒｐと相関する周波数でスペクトル特性アジャスタ１０５を離散状態セット間で駆動する（２１１５）。例えば制御装置１８０は、図２Ａ及び図２Ｂに示されるように、離散状態２１８ａ及び２１８ｂ間でスペクトル特性を駆動するための駆動信号２１７をスペクトル特性アジャスタ１０５に送信する。駆動信号２１７の周波数ωは、パルス列２１１のパルス繰り返し率Ｒｐと相関している。各離散状態（離散状態２１８ａ及び２１８ｂ等）は、増幅光ビーム１１０のスペクトル特性（例えば波長）の予め設定された複数の離散値の中のスペクトル特性の離散値に対応する。これにより、バースト１２０内のパルス１１５が生成されるたびにスペクトル特性アジャスタ１０５は離散状態のうち１つになり、増幅光ビームパルス１１５はその離散状態に対応するスペクトル特性を有する。例えば、図９に示されているように、スペクトル特性アジャスタ１０５が状態９１８ａである場合、パルス９１５の波長はλａであり、スペクトル特性アジャスタ１０５が状態９１８ｂである場合、パルス９１５の波長はλｂである。

【0148】

[0171] パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていない時、駆動信号のパラメータに従ってスペクトル特性アジャスタ１０５を駆動する（２１２０）。例えば図２Ａ及び図２Ｂに示されているように、制御装置１８０は、バースト間時間間隔Ｔの間も、すなわちバースト１２０Ａの生成とバースト１２０Ｃの生成との間も、駆動信号２１７を用いてスペクトル特性アジャスタ１０５を駆動し続ける。駆動信号２１７のパラメータは、リソグラフィ露光装置１３５から受信した情報Ｈに基づいて決定することができる。

【0149】

[0172] 手順２１００は、（このバースト間時間間隔Ｔに続く）次のバースト内のパルスの生成時に、スペクトル特性アジャスタ１０５が増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証する（２１２５）。例えば装置１００は、次のバースト１２０Ｃ内のパルスの１つ１１５＿ｉＣの生成時にスペクトル特性アジャスタ１０５が状態２１８ａ又は２１８ｂのうち１つであることを保証する。制御装置１８０は、（このバースト間時間間隔Ｔに続く）次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタ１０５が増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証する（２１２５）ため、リソグラフィ露光装置１３５に対する命令を調整できる（例えば図１５を参照して記載した）。制御装置１８０は、（このバースト間時間間隔Ｔに続く）次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタ１０５が増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証する（２１２５）ため、スペクトル特性アジャスタ１０５に対する駆動信号を調整できる（例えば図１３を参照して記載した）。制御装置１８０は、（このバースト間時間間隔Ｔに続く）次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタ１０５が増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証する（２１２５）ため、光源１５０に対する命令を調整できる（例えば図１４を参照して記載した）。

【0150】

[0173] 以下の条項を用いて更に実施形態を記載することができる。
Ａ１．パルス繰り返し率で増幅光ビームのパルスのバーストを生成し、パルスをリソグラフィ露光装置に送出することと、
パルスバーストの生成中に、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動することであって、各離散状態は増幅光ビームのスペクトル特性の予め設定された複数の離散値の中のスペクトル特性の離散値に対応し、バースト内のパルスが生成されるたびに、スペクトル特性アジャスタは離散状態のうち１つになり、増幅光ビームパルスはその離散状態に対応するスペクトル特性を有する、スペクトル特性アジャスタを駆動することと、
パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていない時、リソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方でスペクトル特性アジャスタを駆動することと、
次のバースト内のパルスの生成時に、スペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証することと、
を含む方法。
Ａ２．リソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方でスペクトル特性アジャスタを駆動することは、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを駆動することを含む、条項Ａ１に記載の方法。
Ａ３．次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態であることを保証することは、パルス繰り返し率におけるパルス間の時間間隔の整数倍となるようにバースト間時間間隔を調整することを含む、条項Ａ２に記載の方法。
Ａ４．バースト間時間間隔は、バースト内の最後のパルスと次のバースト内の最初のパルスとの間の時間間隔である、条項Ａ３に記載の方法。
Ａ５．次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態であることを保証することは、
リソグラフィ露光装置から、次のバーストの生成を要求する時に関する指示を受信することと、
受信した指示が、次のバースト内の最初のパルスの生成とスペクトル特性アジャスタが離散状態にある時点との間の時間のずれを示す場合、受信した指示に基づいて、スペクトル特性アジャスタの駆動に関連付けられた１つ以上のパラメータを修正することと、
を含む、条項Ａ２に記載の方法。
Ａ６．スペクトル特性アジャスタの駆動に関連付けられた１つ以上のパラメータを修正することは、スペクトル特性アジャスタに関連付けられた駆動信号の周波数及び位相のうち１つ以上を修正することを含む、条項Ａ５に記載の方法。
Ａ７．スペクトル特性アジャスタが駆動される周波数がずれのために修正された場合、次のバーストの開始時に、スペクトル特性アジャスタが駆動される周波数をパルス繰り返し率と相関するように変更することを更に含む、条項Ａ６に記載の方法。
Ａ８．増幅光ビームのパルスのスペクトル特性は増幅光ビームのパルスの波長である、条項Ａ１に記載の方法。
Ａ９．増幅光ビームのパルスの波長は深紫外線範囲内である、条項Ａ８に記載の方法。
Ａ１０．パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動することは、増幅光ビームの各パルスごとに増幅光ビームの波長が２つの別個の波長間で変化するようにスペクトル特性アジャスタを駆動することを含む、条項Ａ８に記載の方法。
Ａ１１．パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動することは、増幅光ビームの１つおきのパルスごとに増幅光ビームの波長が２つの別個の波長間で変化するようにスペクトル特性アジャスタを駆動することを含む、条項Ａ８に記載の方法。
Ａ１２．離散状態セット間でスペクトル特性アジャスタを駆動することは、正弦波駆動信号に従ってスペクトル特性アジャスタを駆動することを含む、条項Ａ１に記載の方法。
Ａ１３．スペクトル特性アジャスタを駆動することは、前駆光ビームと相互作用する光学系を離散位置間で移動させることを含み、光学系の各離散位置は離散状態に対応し、増幅光ビームは前駆光ビームから生成される、条項Ａ１に記載の方法。
Ａ１４．光ビームと相互作用する光学系を移動させることは、前駆光ビームが通過するプリズムを回転させることを含む、条項Ａ１３に記載の方法。
Ａ１５．スペクトル特性アジャスタが駆動される周波数はパルス繰り返し率の２分の１である、条項Ａ１に記載の方法。
Ａ１６．スペクトル特性アジャスタが駆動される周波数はパルス繰り返し率の４分の１である、条項Ａ１に記載の方法。
Ａ１７．次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであることを保証することは、次のバースト内の最初のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであることを保証することを含む、条項Ａ１に記載の方法。
Ａ１８．リソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方でスペクトル特性アジャスタを駆動することは、１つ以上の固定パラメータに従ってスペクトル特性アジャスタを駆動することと、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置からの要求を受信することと、を含み、
次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態であることを保証することは、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置からの要求の受信に対して次のパルスバーストの生成をゼロよりも大きい時間期間だけ遅延させることを含む、条項Ａ１に記載の方法。
Ａ１９．次のパルスバーストの生成を時間期間だけ遅延させることは、次のパルスバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタを増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つに駆動することができるまで次のパルスバーストを遅延させることを含む、条項Ａ１８に記載の方法。
Ａ２０．パルスバーストの生成と生成との間のパルスバーストが生成されていない時にスペクトル特性アジャスタが駆動されるやり方に関連するリソグラフィ露光装置からの情報は、バーストが終了する前に受信される、条項Ａ１に記載の方法。
Ａ２１．パルスバーストの生成と生成との間のパルスバーストが生成されていない時にスペクトル特性アジャスタが駆動されるやり方に関連するリソグラフィ露光装置からの情報は、パルスバーストの生成と生成との間に受信される、条項Ａ１に記載の方法。
Ａ２２．次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであることを保証することは、パルスバーストの生成と生成との間のパルスが生成されていない時にどのようにスペクトル特性アジャスタが駆動されるかに関する情報を含む信号を、リソグラフィ露光装置に送信することを含む、条項Ａ１に記載の方法。
Ａ２３．リソグラフィ露光装置と通信し、リソグラフィ露光装置から情報を受信するように構成されたインタフェースと、
スペクトル特性アジャスタと、
インタフェース及びスペクトル特性アジャスタと通信している光学装置であって、
基板をパターニングするためにリソグラフィ露光装置が使用する増幅光ビームのパルスのバーストをパルス繰り返し率で生成し、
パルスバーストの生成中に、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動し、各離散状態は増幅光ビームのスペクトル特性の予め設定された複数の離散値の中のスペクトル特性の離散値に対応し、バースト内のパルスが生成されるたびに、スペクトル特性アジャスタは離散状態のうち１つになり、増幅光ビームパルスはその離散状態に対応するスペクトル特性を有し、
パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていない時、インタフェースにおいてリソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方でスペクトル特性アジャスタを駆動し、
次のバースト内のパルスの生成時に、スペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証する、
ように構成された光学装置と、
を備える装置。
Ａ２４．増幅光ビームのスペクトル特性は増幅光ビームの波長である、条項Ａ２３に記載の装置。
Ａ２５．スペクトル特性アジャスタは、光学装置と通信していると共にスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動するように構成されたドライブアクチュエータを含む、条項Ａ２３に記載の装置。
Ａ２６．光学装置は、インタフェース及びドライブアクチュエータと通信している制御装置を含み、制御装置は、
リソグラフィ露光装置からのパルス繰り返し率を含むリソグラフィ露光装置からの要求に関する指示をインタフェースから受信し、
リソグラフィ露光装置から受信した情報に基づく駆動信号をドライブアクチュエータに送信する、
ように構成されている、条項Ａ２５に記載の装置。
Ａ２７．ドライブアクチュエータに送信される駆動信号は正弦波駆動信号である、条項Ａ２６に記載の装置。
Ａ２８．スペクトル特性アジャスタは前駆光ビームと光学的に相互作用する光学デバイスを含み、光学デバイスの各離散状態はスペクトル特性アジャスタの離散状態に対応する、条項Ａ２３に記載の装置。
Ａ２９．光学デバイスの離散状態は、光学デバイスが前駆光ビームと相互作用する離散位置である、条項Ａ２８に記載の装置。
Ａ３０．光学デバイスは、前駆光ビームが通過するプリズムを含む、条項Ａ２９に記載の装置。
Ａ３１．光学デバイスはドライブアクチュエータに物理的に結合されている、条項Ａ２８に記載の装置。
Ａ３２．光学装置は、
第１のパルス光ビームを発生するように構成された第１のガス放電段と、
第１のパルス光ビームを受け、第１のパルス光ビームを増幅することにより光学装置から増幅光ビームを生成するように構成された第２のガス放電段と、
を含む、条項Ａ２３に記載の装置。
Ａ３３．第１のガス放電段は第１のガス放電チャンバを含み、第１のガス放電チャンバは、エネルギ源を収容すると共に、第１の利得媒体を含むガス混合物を包含し、
第２のガス放電段は第２のガス放電チャンバを含み、第２のガス放電チャンバは、エネルギ源を収容すると共に、第２の利得媒体を含むガス混合物を包含する、条項Ａ３２に記載の装置。
Ａ３４．光学装置は、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを駆動することによって、インタフェースでリソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方でスペクトル特性アジャスタを駆動するように構成されている、条項Ａ２３に記載の装置。
Ａ３５．光学装置は、パルス繰り返し率におけるパルス間の時間間隔の整数倍となるようにバースト間時間間隔を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態であることを保証するように構成されており、バースト間時間間隔は最後のパルスと次のバースト内のパルスとの間の時間間隔である、条項Ａ３４に記載の装置。
Ａ３６．光学装置は、
インタフェースから、リソグラフィ露光装置が次のバーストの生成を要求する時に関する指示を受信し、
受信した指示が、次のバースト内のパルスの生成とスペクトル特性アジャスタが離散状態にある時点との間の時間のずれを示す場合、受信した指示に基づいて、スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号に関連付けられた１つ以上のパラメータを修正する、
ことによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態であることを保証するように構成されている、条項Ａ３４に記載の装置。
Ａ３７．修正される１つ以上のパラメータは、スペクトル特性アジャスタのドライブアクチュエータに供給される駆動信号の周波数及び／又は位相のうち１つ以上を含む、条項Ａ３６に記載の装置。
Ａ３８．光学装置は、周波数がずれのために修正された場合、次のバーストの開始時に、駆動信号の周波数をパルス繰り返し率と相関するように変更するよう構成されている、条項Ａ３７に記載の装置。
Ａ３９．光学装置は、１つ以上の固定パラメータに従ってスペクトル特性アジャスタを駆動し、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置からの要求を受信することによって、インタフェースでリソグラフィ露光装置から受信される情報に関連したやり方でスペクトル特性アジャスタを駆動するように構成され、
光学装置は、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置からインタフェースで受信される要求の受信に対して次のパルスバーストの生成をゼロよりも大きい時間期間だけ遅延させることによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態であることを保証するように構成されている、条項Ａ２３に記載の装置。
Ａ４０．光学装置は、次のパルスバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタを増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つに駆動することができるまで次のパルスバーストを遅延させることによって、次のパルスバーストの生成を遅延させるように構成されている、条項Ａ３９に記載の装置。
Ａ４１．光学装置は、増幅光ビームを出力するように構成された少なくとも１つの増幅段を有する光源を含む、条項Ａ２３に記載の装置。
Ａ４２．スペクトル特性アジャスタはスペクトル特性選択装置の一部であり、スペクトル特性選択装置は、光源から前駆光ビームを受けると共に、
前駆光ビームと相互作用するように配置された分散光学素子と、
分散光学素子と光源との間の前駆光ビームの経路に配置された複数のプリズムと、
を含む、条項Ａ４１に記載の装置。
Ａ４３．スペクトル特性アジャスタは複数のプリズムのうちのプリズムの１つであり、スペクトル特性アジャスタの離散状態セットは、前駆光ビームがプリズムと相互作用するプリズムの離散位置セットである、条項Ａ４２に記載の装置。
Ａ４４．プリズムは、プリズム軸を中心として離散角度セットに回転させることによって離散位置セット間で駆動される、条項Ａ４３に記載の装置。
Ｂ１．パルス繰り返し率で増幅光ビームのパルスのバーストを生成するよう光源に命令することと、
生成したパルスをリソグラフィ露光装置に送出することと、
パルスバーストの生成中に、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動することであって、各離散状態は増幅光ビームのスペクトル特性の予め設定された複数の離散値の中のスペクトル特性の離散値に対応する、スペクトル特性アジャスタを駆動することと、
パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていない時、パラメータセットによって規定される駆動信号に従ってスペクトル特性アジャスタを駆動することと、
リソグラフィ露光装置に対する命令、スペクトル特性アジャスタに対する駆動信号、及び／又は光源に対する命令のうち１つ以上を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証することと、
を含む方法。
Ｂ２．次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証することは、スペクトル特性アジャスタに対する駆動信号を調整することを含む、条項Ｂ１に記載の方法。
Ｂ３．リソグラフィ露光装置から、次のバーストの生成を要求する時に関する指示を受信することを更に含み、
スペクトル特性アジャスタに対する駆動信号を調整することは、リソグラフィ露光装置からの受信した指示に基づいて、スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号のパラメータのうち１つ以上を修正することを含む、条項Ｂ２に記載の方法。
Ｂ４．スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号の１つ以上のパラメータを修正することは、スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号の周波数及び位相のうち１つ以上を修正することを含む、条項Ｂ３に記載の方法。
Ｂ５．次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであるように１つ以上のパラメータの修正を可能とするため、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置から受信される要求は、リソグラフィ露光装置から受信される指示から充分な時間だけ遅延される、条項Ｂ３に記載の方法。
Ｂ６．遅延は約２５から３５ミリ秒（ｍｓ）である、条項Ｂ５に記載の方法。
Ｂ７．次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証することは、光源に対する命令を調整することを含む、条項Ｂ１に記載の方法。
Ｂ８．光源に対する命令を調整することは、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであるように、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置からの要求の受信に対して次のパルスバーストの生成をゼロよりも大きい時間期間だけ遅延させることを含む、条項Ｂ７に記載の方法。
Ｂ９．次のパルスバーストの生成を時間期間だけ遅延させることは、次のパルスバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタを増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つに駆動することができるまで次のパルスバーストを遅延させることを含む、条項Ｂ８に記載の方法。
Ｂ１０．スペクトル特性アジャスタは、パラメータセットによって規定される駆動信号に従って駆動され続ける、条項Ｂ７に記載の方法。
Ｂ１１．次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証することは、リソグラフィ露光装置に対する命令を調整することを含む、条項Ｂ１に記載の方法。
Ｂ１２．リソグラフィ露光装置に対する命令を調整することは、パルスバーストの生成と生成との間のパルスが生成されていない時にどのようにスペクトル特性アジャスタが駆動されるかに関する情報を含む信号を、リソグラフィ露光装置に送信することを含む、条項Ｂ１１に記載の方法。
Ｂ１３．リソグラフィ露光装置から次のバーストを生成するためのトリガ要求を受信することを更に含み、トリガ要求は、リソグラフィ露光装置に対する調整された命令に基づき、次のパルスバースト内のパルスが生成される時が、スペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つに達する瞬間と同期されることを保証する、条項Ｂ１１に記載の方法。
Ｂ１４．トリガ要求は、光源に対する命令内の電気パルスを遅延させるように調整されている、条項Ｂ１３に記載の方法。
Ｂ１５．増幅光ビームのスペクトル特性は増幅光ビームの波長である、条項Ｂ１に記載の方法。
Ｂ１６．バースト内のパルスが生成されるたびに、スペクトル特性アジャスタは離散状態のうち１つになり、増幅光ビームパルスはその離散状態に対応するスペクトル特性を有する、条項Ｂ１に記載の方法。
Ｂ１７．パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動することは、増幅光ビームの各パルスごとに増幅光ビームの波長が２つの別個の波長間で変化するようにスペクトル特性アジャスタを駆動することを含む、条項Ｂ１に記載の方法。
Ｂ１８．パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動することは、増幅光ビームの１つおきのパルスごとに増幅光ビームの波長が２つの別個の波長間で変化するようにスペクトル特性アジャスタを駆動することを含む、条項Ｂ１に記載の方法。
Ｂ１９．離散状態セット間でスペクトル特性アジャスタを駆動することは、正弦波駆動信号に従ってスペクトル特性アジャスタを駆動することを含む、条項Ｂ１に記載の方法。
Ｂ２０．スペクトル特性アジャスタを駆動することは、前駆光ビームと相互作用する光学系を離散位置間で移動させることを含み、光学系の各離散位置は離散状態に対応し、増幅光ビームは前駆光ビームから生成される、条項Ｂ１に記載の方法。
Ｂ２１．次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであることを保証することは、次のバースト内の最初のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであることを保証することを含む、条項Ｂ１に記載の方法。
Ｂ２２．リソグラフィ露光装置と通信するように構成されたインタフェースと、
スペクトル特性アジャスタと、
光源と、
インタフェース、スペクトル特性アジャスタ、及び光源と通信している制御装置であって、
基板をパターニングするためにリソグラフィ露光装置が使用する増幅光ビームのパルスのバーストをパルス繰り返し率で生成するよう光源に命令し、
パルスバースト中に、パルス繰り返し率と相関する周波数でスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動し、各離散状態は増幅光ビームのスペクトル特性の予め設定された複数の離散値の中のスペクトル特性の離散値に対応し、
パルスバーストの生成と生成との間の、パルスが生成されていない時、パラメータセットによって規定される駆動信号に従ってスペクトル特性アジャスタを駆動し、
リソグラフィ露光装置に対する命令、スペクトル特性アジャスタに対する駆動信号、及び／又は光源に対する命令のうち１つ以上を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証する、
ように構成された制御装置と、
を備える装置。
Ｂ２３．制御装置は、スペクトル特性アジャスタに対する駆動信号を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証するように構成されている、条項Ｂ２２に記載の装置。
Ｂ２４．制御装置は、リソグラフィ露光装置から、インタフェースを経由して、次のバーストの生成を要求する時に関する指示を受信するように構成され、
制御装置は、リソグラフィ露光装置からの受信した指示に基づいて、スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号のパラメータのうち１つ以上を修正することにより、スペクトル特性アジャスタに対する駆動信号を調整する、条項Ｂ２３に記載の装置。
Ｂ２５．制御装置は、スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号の周波数及び位相のうち１つ以上を修正することによって、スペクトル特性アジャスタに送信される駆動信号の１つ以上のパラメータを修正するように構成されている、条項Ｂ２４に記載の方法。
Ｂ２６．制御装置は、光源に対する命令を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証するように構成されている、条項Ｂ２２に記載の装置。
Ｂ２７．制御装置は、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つであるように、次のパルスバーストを生成するためのリソグラフィ露光装置からの要求の受信に対して次のパルスバーストの生成をゼロよりも大きい時間期間だけ遅延させることによって、光源に対する命令を調整する、条項Ｂ２６に記載の装置。
Ｂ２８．制御装置は、次のパルスバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタを増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つに駆動することができるまで次のパルスバーストを遅延させることによって、次のパルスバーストの生成を時間期間だけ遅延させる、条項Ｂ２７に記載の装置。
Ｂ２９．制御装置は、パラメータセットによって規定される駆動信号に従ってスペクトル特性アジャスタを駆動し続ける、条項Ｂ２７に記載の装置。
Ｂ３０．制御装置は、リソグラフィ露光装置に対する命令を調整することによって、次のバースト内のパルスの生成時にスペクトル特性アジャスタが増幅光ビームのスペクトル特性の離散値に対応する離散状態のうち１つであることを保証するように構成されている、条項Ｂ２２に記載の装置。
Ｂ３１．制御装置は、パルスバーストの生成と生成との間のパルスが生成されていない時にどのようにスペクトル特性アジャスタが駆動されるかに関する情報を含む信号を、リソグラフィ露光装置に送信することによって、リソグラフィ露光装置に対する命令を調整する、条項Ｂ３０に記載の装置。
Ｂ３２．制御装置は、リソグラフィ露光装置から次のバーストを生成するためのトリガ要求を受信するように構成され、トリガ要求は、リソグラフィ露光装置に対する調整された命令に基づき、次のパルスバースト内のパルスが生成される時が、スペクトル特性アジャスタが離散状態のうち１つに達する瞬間と同期されることを保証する、条項Ｂ３０に記載の装置。
Ｂ３３．増幅光ビームのパルスのスペクトル特性は増幅光ビームの波長である、条項Ｂ２２に記載の装置。
Ｂ３４．スペクトル特性アジャスタは、制御装置と通信していると共にスペクトル特性アジャスタを離散状態セット間で駆動するように構成されたドライブアクチュエータを含む、条項Ｂ２２に記載の装置。
Ｂ３５．スペクトル特性アジャスタは前駆光ビームと光学的に相互作用する光学デバイスを含み、光学デバイスの各離散状態はスペクトル特性アジャスタの離散状態に対応する、条項Ｂ３４に記載の装置。
Ｂ３６．光学デバイスの離散状態は、光学デバイスが前駆光ビームと相互作用する離散位置である、条項Ｂ３５に記載の装置。
Ｂ３７．光学デバイスは、前駆光ビームが通過するプリズムを含む、条項Ｂ３５に記載の装置。
Ｂ３８．光学デバイスはドライブアクチュエータに物理的に結合されている、条項Ｂ３５に記載の装置。
Ｂ３９．光源は、
第１のパルス光ビームを発生するように構成された第１のガス放電段と、
第１のパルス光ビームを受け、第１のパルス光ビームを増幅することにより光学装置から増幅光ビームを生成するように構成された第２のガス放電段と、
を含む、条項Ｂ３５に記載の装置。
Ｂ４０．光源は、増幅光ビームを出力するように構成された少なくとも１つの増幅段を含む、条項Ｂ２２に記載の装置。
Ｂ４１．スペクトル特性アジャスタはスペクトル特性選択装置の一部であり、スペクトル特性選択装置は、光源から前駆光ビームを受けると共に、
前駆光ビームと相互作用するように配置された分散光学素子と、
分散光学素子と光源との間の前駆光ビームの経路に配置された複数のプリズムと、
を含む、条項Ｂ２２に記載の装置。
Ｂ４２．スペクトル特性アジャスタは複数のプリズムのうちのプリズムの１つであり、スペクトル特性アジャスタの離散状態セットは、前駆光ビームがプリズムと相互作用するプリズムの離散位置セットである、条項Ｂ４１に記載の装置。
Ｂ４３．プリズムは、プリズム軸を中心として離散角度セットに回転させることによって離散位置セット間で駆動される、条項Ｂ４２に記載の装置。

【0151】

[0174] 他の実施は以下の特許請求の範囲内である。

【図1】

【図2A】

【図2B】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6A】

【図6B】

【図7A】

【図7B】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17A】

【図17B】

【図17C】

【図17D】

【図18】

【図19A】

【図19B】

【図19C】

【図19D】

【図20A】

【図20B】

【図20C】

【図20D】

【図21】