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サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第996位 22件
（
2023年：第786位 35件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第866位 24件
（
2023年：第1078位 20件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7574344 | スペクトルフィーチャ制御装置 | 2024年10月28日 | |
| 特許 7572545 | レーザチャンバの封止機構のための電磁シールド | 2024年10月23日 | |
| 特許 7558370 | ガス制御方法及びそれに関連した使用 | 2024年 9月30日 | |
| 特許 7547624 | 深紫外線光源のための光学コンポーネント | 2024年 9月 9日 | |
| 特許 7538346 | 波長間隔が広い多焦点イメージング | 2024年 8月21日 | |
| 特許 7530407 | リソグラフィシステム帯域幅制御 | 2024年 8月 7日 | |
| 特許 7529805 | 光源の制御装置 | 2024年 8月 6日 | |
| 特許 7528178 | レーザチャンバにおける放電性能を調整する装置 | 2024年 8月 5日 | |
| 特許 7524339 | 導管システム、放射源、リソグラフィ装置、及びそれらの方法 | 2024年 7月29日 | |
| 特許 7523587 | 中心波長を制御するためのシステム及び方法 | 2024年 7月26日 | |
| 特許 7515001 | 予測的に較正をスケジュール設定する装置及び方法 | 2024年 7月11日 | |
| 特許 7511744 | フッ素測定装置及びフッ素測定方法 | 2024年 7月 5日 | |
| 特許 7472274 | スペックル低減のための一連のスタックされた共焦点パルスストレッチャ | 2024年 4月22日 | |
| 特許 7434382 | ウェーハベースの光源パラメータ制御 | 2024年 2月20日 | |
| 特許 7430748 | エキシマ光源におけるスペックルの低減 | 2024年 2月13日 |
24 件中 1-15 件を表示
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7574344 7572545 7558370 7547624 7538346 7530407 7529805 7528178 7524339 7523587 7515001 7511744 7472274 7434382 7430748
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