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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-04-22
(45)【発行日】2022-05-06
(54)【発明の名称】積層体および画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20220425BHJP
H05B 33/02 20060101ALI20220425BHJP
H01L 27/32 20060101ALI20220425BHJP
H01L 51/50 20060101ALI20220425BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20220425BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20220425BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
H05B33/02
H01L27/32
H05B33/14 A
G09F9/00 313
B32B7/023
【請求項の数】
18
(21)【出願番号】P 2020537435
(86)(22)【出願日】2019-08-08
(86)【国際出願番号】 JP2019031412
(87)【国際公開番号】W WO2020036119
(87)【国際公開日】2020-02-20
【審査請求日】2021-02-02
(31)【優先権主張番号】P 2018152948
(32)【優先日】2018-08-15
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100152984
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 秀明
(74)【代理人】
【識別番号】100148080
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 史生
(72)【発明者】
【氏名】藤木 優壮
(72)【発明者】
【氏名】三戸部 史岳
(72)【発明者】
【氏名】武田 淳
【審査官】小西 隆
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１１－１６４２６９（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１７／１５４６９５（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１７／１５４８３５（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１８－０２２１５３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１７－１６７５１７（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１３／０３２９１４３（ＵＳ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ５／３０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
光吸収異方性膜および液晶層を互いに隣接して有する積層体であって、前記光吸収異方性膜が、二色性物質を含有する組成物を用いて形成される膜であり、
前記光吸収異方性膜の配向度が、０．９２以上であり、
前記液晶層が、液晶性化合物が配向し、かつ、厚みが３００ｎｍ以下となる層であり、
前記光吸収異方性膜の吸収軸と、前記液晶層の遅相軸とが平行である、積層体。
【請求項2】
光吸収異方性膜および液晶層を互いに隣接して有する積層体であって、前記光吸収異方性膜が、液晶性化合物（ただし、リオトロピック液晶性化合物を除く。）と、二色性物質を含有する組成物を用いて形成される膜であり、
前記液晶層が、液晶性化合物が配向し、かつ、厚みが３００ｎｍ以下となる層であり、
前記光吸収異方性膜の吸収軸と、前記液晶層の遅相軸とが平行である、積層体。
【請求項3】
式（Ｒ２）によって算出される前記液晶層の波長５５０ｎｍにおける平均屈折率ｎ５５０が、１．５０～１．７５である、請求項１または２に記載の積層体。平均屈折率ｎ ５５０ ＝（ｎｘ ５５０ ＋ｎｙ ５５０ ）／２ ・・・（Ｒ２）
式（Ｒ２）中、ｎｘ ５５０ は測定波長５５０ｎｍにおけるｘ軸方向の屈折率であり、ｎｙ ５５０ は測定波長５５０ｎｍにおけるｙ軸方向の屈折率である。
前記ｘ軸は、波長５５０ｎｍにおいて前記液晶層の面内における屈折率が最大となる方向を意味し、前記ｙ軸は、前記ｘ軸に対して直交する方向を意味する。
【請求項4】
前記液晶層の面内の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎが、０．０３以上である、請求項１～３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項5】
更に、透明支持体および配向膜を有し、前記透明支持体、前記配向膜、前記光吸収異方性膜および前記液晶層をこの順に有する、請求項１～４のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項6】
更に、透明支持体および配向膜を有し、前記透明支持体、前記配向膜、前記液晶層および前記光吸収異方性膜をこの順に有する、請求項１～４のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項7】
更に、透明支持体、配向膜および第２液晶層を有し、前記透明支持体、前記配向膜、前記液晶層、前記光吸収異方性膜および前記第２液晶層をこの順に有し、
前記第２液晶層が、液晶性化合物が配向し、かつ、厚みが３００ｎｍ以下となる層であり、
前記光吸収異方性膜の吸収軸と、前記第２液晶層の遅相軸とが平行である、請求項１～４のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項8】
前記光吸収異方性膜が、前記二色性物質と、液晶性化合物とを含有する組成物を用いて形成される膜である、請求項１に記載の積層体。
【請求項9】
前記二色性物質が、下記式（１）で表される化合物である、請求項１～８のいずれか１項に記載の積層体。【化1】
前記式（１）中、Ａ１、Ａ２およびＡ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
前記式（１）中、Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
前記式（１）中、ｍは、１～４の整数を表し、ｍが２～４の整数の場合、複数のＡ２は互いに同一でも異なっていてもよい。
【請求項10】
前記二色性物質が、下記式（２）で表される化合物である、請求項１～９のいずれか１項に記載の積層体。【化2】
前記式（２）中、Ａ４は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
前記式（２）中、Ｌ３およびＬ４は、それぞれ独立に、置換基を表す。
前記式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
前記式（２）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基および置換基を有していてもよいアルコキシ基のいずれかの基または原子を表す。
前記式（２）中、Ｒ２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
前記式（２）中、Ｒ３は、水素原子または置換基を表す。
前記式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。
【請求項11】
前記式（２）において、Ａ４がフェニレン基である、請求項１０に記載の積層体。
【請求項12】
前記式（２）において、Ｌ３およびＬ４の少なくとも一方が架橋性基を含む、請求項１０または１１に記載の積層体。
【請求項13】
前記式（２）において、Ｌ３およびＬ４の両方が架橋性基を含む、請求項１０～１２のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項14】
前記架橋性基が、アクリロイル基またはメタクリロイル基である、請求項１２または１３に記載の積層体。
【請求項15】
更に、λ／４板を有する、請求項１～１４のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項16】
前記液晶層の厚さが、１０～１００ｎｍである、請求項１～１５のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項17】
前記液晶層の厚さが、１５ｎｍ以上８０ｎｍ未満である、請求項１～１６のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項18】
請求項１～１７のいずれか１項に記載の積層体を有する、画像表示装置。【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、積層体および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、レーザー光または自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、または、遮光機能等が必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
例えば、画像表示装置（例えば、液晶表示装置）では、表示における旋光性または複屈折性を制御するために直線偏光子または円偏光子が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光子が使用されている。
例えば、画像表示装置（例えば、液晶表示装置）では、表示における旋光性または複屈折性を制御するために直線偏光子または円偏光子が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光子が使用されている。
【0003】
従来、これらの偏光子には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光子についても検討されている。
例えば、特許文献１には、所定の２色性色素化合物と、液晶性化合物とを含有する着色組成物が開示されている。
例えば、特許文献１には、所定の２色性色素化合物と、液晶性化合物とを含有する着色組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】国際公開第２０１７／１５４６９５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明者らは、特許文献１に記載された着色組成物を用いて形成した光吸収異方性膜を有する積層体について検討したところ、光吸収異方性膜に隣接する層（例えば、配向膜など）の材料によっては、反射率が高くなり、画像表示装置に用いた際に表示性能が劣る場合があることを明らかとした。同様に、本発明者らは、光吸収異方性膜に隣接する層（例えば、配向膜など）として、反射率が小さくなる材料を選択した場合であっても、湿熱耐久性が劣る場合があることを明らかとした。
【0006】
そこで、本発明は、画像表示装置に用いたときに表示性能および湿熱耐久性に優れる積層体およびそれを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、二色性物質を含有する組成物を用いて形成される光吸収異方性膜に隣接する層として、所定の厚みを有し、かつ、光吸収異方性膜の吸収軸との位置関係が所定の位置関係となる液晶層を用いた積層体が、画像表示装置に用いたときに表示性能および湿熱耐久性が良好となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
【0008】
［１］ 光吸収異方性膜および液晶層を互いに隣接して有する積層体であって、
光吸収異方性膜が、二色性物質を含有する組成物を用いて形成される膜であり、
液晶層が、液晶性化合物が配向し、かつ、厚みが３００ｎｍ以下となる層であり、
光吸収異方性膜の吸収軸と、液晶層の遅相軸とが平行である、積層体。
［２］ 液晶層の波長５５０ｎｍにおける平均屈折率ｎ５５０が、１．５０～１．７５である、［１］に記載の積層体。
［３］ 液晶層の面内の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎが、０．０３以上である、［１］または［２］に記載の積層体。
光吸収異方性膜が、二色性物質を含有する組成物を用いて形成される膜であり、
液晶層が、液晶性化合物が配向し、かつ、厚みが３００ｎｍ以下となる層であり、
光吸収異方性膜の吸収軸と、液晶層の遅相軸とが平行である、積層体。
［２］ 液晶層の波長５５０ｎｍにおける平均屈折率ｎ５５０が、１．５０～１．７５である、［１］に記載の積層体。
［３］ 液晶層の面内の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎが、０．０３以上である、［１］または［２］に記載の積層体。
【0009】
［４］ 更に、透明支持体および配向膜を有し、
透明支持体、配向膜、光吸収異方性膜および液晶層をこの順に有する、［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］ 更に、透明支持体および配向膜を有し、
透明支持体、配向膜、液晶層および光吸収異方性膜をこの順に有する、［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
［６］ 更に、透明支持体、配向膜および第２液晶層を有し、
透明支持体、配向膜、液晶層、光吸収異方性膜および第２液晶層をこの順に有し、
第２液晶層が、液晶性化合物が配向し、かつ、厚みが３００ｎｍ以下となる層であり、
光吸収異方性膜の吸収軸と、第２液晶層の遅相軸とが平行である、［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
透明支持体、配向膜、光吸収異方性膜および液晶層をこの順に有する、［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］ 更に、透明支持体および配向膜を有し、
透明支持体、配向膜、液晶層および光吸収異方性膜をこの順に有する、［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
［６］ 更に、透明支持体、配向膜および第２液晶層を有し、
透明支持体、配向膜、液晶層、光吸収異方性膜および第２液晶層をこの順に有し、
第２液晶層が、液晶性化合物が配向し、かつ、厚みが３００ｎｍ以下となる層であり、
光吸収異方性膜の吸収軸と、第２液晶層の遅相軸とが平行である、［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
【0010】
［７］ 光吸収異方性膜が、二色性物質と、液晶性化合物とを含有する組成物を用いて形成される膜である、［１］～［６］のいずれかに記載の積層体。
［８］ 二色性物質が、後述する式（１）で表される化合物である、［１］～［７］のいずれかに記載の積層体。
［９］ 二色性物質が、後述する式（２）で表される化合物である、［１］～［８］のいずれかに記載の積層体。
［１０］ 後述する式（２）において、Ａ４がフェニレン基である、［９］に記載の積層体。
［１１］ 後述する式（２）において、Ｌ３およびＬ４の少なくとも一方が架橋性基を含む、［９］または［１０］に記載の積層体。
［１２］ 後述する式（２）において、Ｌ３およびＬ４の両方が架橋性基を含む、［９］～［１１］のいずれかに記載の積層体。
［１３］ 架橋性基が、アクリロイル基またはメタクリロイル基である、［１１］または［１２］に記載の積層体。
［８］ 二色性物質が、後述する式（１）で表される化合物である、［１］～［７］のいずれかに記載の積層体。
［９］ 二色性物質が、後述する式（２）で表される化合物である、［１］～［８］のいずれかに記載の積層体。
［１０］ 後述する式（２）において、Ａ４がフェニレン基である、［９］に記載の積層体。
［１１］ 後述する式（２）において、Ｌ３およびＬ４の少なくとも一方が架橋性基を含む、［９］または［１０］に記載の積層体。
［１２］ 後述する式（２）において、Ｌ３およびＬ４の両方が架橋性基を含む、［９］～［１１］のいずれかに記載の積層体。
［１３］ 架橋性基が、アクリロイル基またはメタクリロイル基である、［１１］または［１２］に記載の積層体。
【0011】
［１４］ 更に、λ／４板を有する、［１］～［１３］のいずれかに記載の積層体。
［１５］ ［１］～［１４］のいずれかに記載の積層体を有する、画像表示装置。
［１５］ ［１］～［１４］のいずれかに記載の積層体を有する、画像表示装置。
【発明の効果】
【0012】
本発明によれば、画像表示装置に用いたときに表示性能および湿熱耐久性に優れる積層体およびそれを用いた画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、平行、直交、水平、および、垂直とは、それぞれ厳密な意味での平行、直交、水平、および、垂直を意味するのではなく、それぞれ、平行±１０°の範囲、直交±１０°の範囲、水平±１０°、および、垂直±１０°の範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、平行、直交、水平、および、垂直とは、それぞれ厳密な意味での平行、直交、水平、および、垂直を意味するのではなく、それぞれ、平行±１０°の範囲、直交±１０°の範囲、水平±１０°、および、垂直±１０°の範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
【0015】
［積層体］
本発明の積層体は、光吸収異方性膜および液晶層を互いに隣接して有する積層体である。
本発明の積層体においては、光吸収異方性膜が、二色性物質を含有する組成物を用いて形成される膜であり、液晶層が、液晶性化合物が配向し、かつ、厚みが３００ｎｍ以下となる層である。
また、本発明の積層体においては、光吸収異方性膜および液晶層が、光吸収異方性膜の吸収軸と液晶層の遅相軸とが平行となるように、すなわち、光吸収異方性膜の吸収軸と液晶層の遅相軸とのなす角が－１０°～＋１０°となるように設けられている。なお、光吸収異方性膜の吸収軸と液晶層の遅相軸とのなす角は、－５°～＋５°であることが好ましく、－３°～＋３°であることがより好ましく、－１°～＋１°であることが更に好ましく、０°であることが特に好ましい。
ここで、液晶層の「遅相軸」は、液晶層の面内において屈折率が最大となる方向を意味し、光吸収異方性膜の「吸収軸」は、吸光度の最も高い方向を意味する。
本発明の積層体は、光吸収異方性膜および液晶層を互いに隣接して有する積層体である。
本発明の積層体においては、光吸収異方性膜が、二色性物質を含有する組成物を用いて形成される膜であり、液晶層が、液晶性化合物が配向し、かつ、厚みが３００ｎｍ以下となる層である。
また、本発明の積層体においては、光吸収異方性膜および液晶層が、光吸収異方性膜の吸収軸と液晶層の遅相軸とが平行となるように、すなわち、光吸収異方性膜の吸収軸と液晶層の遅相軸とのなす角が－１０°～＋１０°となるように設けられている。なお、光吸収異方性膜の吸収軸と液晶層の遅相軸とのなす角は、－５°～＋５°であることが好ましく、－３°～＋３°であることがより好ましく、－１°～＋１°であることが更に好ましく、０°であることが特に好ましい。
ここで、液晶層の「遅相軸」は、液晶層の面内において屈折率が最大となる方向を意味し、光吸収異方性膜の「吸収軸」は、吸光度の最も高い方向を意味する。
【0016】
本発明においては、上述した通り、二色性物質を含有する組成物を用いて形成される光吸収異方性膜に隣接する層として、所定の厚みを有し、かつ、光吸収異方性膜の吸収軸との位置関係が所定の位置関係となる液晶層を用いた積層体が、画像表示装置に用いたときに表示性能および湿熱耐久性が良好となる。
この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
まず、本発明者らは、二色性物質を含有する組成物を用いて形成される光吸収異方性膜を有する従来公知の積層体（例えば、偏光素子など）について、画像表示装置に用いたときに表示性能および湿熱耐久性が劣る原因を調べたところ、二色性物質の可視光領域（波長４００～７００ｎｍ程度）における屈折率異方性が高くなる結果、光吸収異方性膜とこれに隣接する配向膜との界面における内部反射が大きくなって、偏光素子の反射防止機能が低下したと考えられる。
そのため、本発明においては、二色性物質を含有する組成物を用いて形成される光吸収異方性膜に隣接する層として、液晶性化合物が配向し、かつ、厚みが３００ｎｍ以下の液晶層を用いることにより、光吸収異方性膜と液晶層との界面における内部反射を制御できるので、配向膜として湿熱耐久性に劣る材料を用いた場合であっても、湿熱経時における反射防止機能が低下し難くなったと考えられる。なお、光吸収異方性膜の吸収軸と、液晶層の遅相軸とが平行となるように設けられていることにより、光吸収異方性膜および液晶層の屈折率の高い方向が平行になるので、光吸収異方性膜と液晶層との界面における内部反射が抑制できたと考えられる。
この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
まず、本発明者らは、二色性物質を含有する組成物を用いて形成される光吸収異方性膜を有する従来公知の積層体（例えば、偏光素子など）について、画像表示装置に用いたときに表示性能および湿熱耐久性が劣る原因を調べたところ、二色性物質の可視光領域（波長４００～７００ｎｍ程度）における屈折率異方性が高くなる結果、光吸収異方性膜とこれに隣接する配向膜との界面における内部反射が大きくなって、偏光素子の反射防止機能が低下したと考えられる。
そのため、本発明においては、二色性物質を含有する組成物を用いて形成される光吸収異方性膜に隣接する層として、液晶性化合物が配向し、かつ、厚みが３００ｎｍ以下の液晶層を用いることにより、光吸収異方性膜と液晶層との界面における内部反射を制御できるので、配向膜として湿熱耐久性に劣る材料を用いた場合であっても、湿熱経時における反射防止機能が低下し難くなったと考えられる。なお、光吸収異方性膜の吸収軸と、液晶層の遅相軸とが平行となるように設けられていることにより、光吸収異方性膜および液晶層の屈折率の高い方向が平行になるので、光吸収異方性膜と液晶層との界面における内部反射が抑制できたと考えられる。
【0017】
図１Ａ～図１Ｃに、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図を示す。
ここで、図１Ａに示す積層体１００は、液晶層１８、光吸収異方性膜１６、配向膜１４および透明支持体１２をこの順に有する層構成（以下、「構成Ａ」とも略す。）の積層体である。
また、図１Ｂに示す積層体２００は、透明支持体１２、配向膜１４、液晶層１８および光吸収異方性膜１６をこの順に有する層構成（以下、「構成Ｂ」とも略す。）の積層体である。
更に、図１Ｃに示す積層体３００は、透明支持体１２、配向膜１４、液晶層１８、光吸収異方性膜１６および第２液晶層１９をこの順に有する層構成（以下、「構成Ｃ」とも略す。）の積層体である。
なお、上述した構成Ａ～構成Ｃについては、互いに隣接して設けられる光吸収異方性膜および液晶層の層間以外の層間、ならびに、最表層の表面には、他の層を有していてもよい。例えば、構成Ａにおいては、液晶層１８の光吸収異方性膜１６と反対側の表面にバリア層を有していてもよく、透明支持体１２の配向膜１４と反対側の表面にはλ／４板を有していてもよい。同様に、構成Ｂにおいては、光吸収異方性膜１６の液晶層１８と反対側の表面にバリア層およびλ／４板をこの順に有していてもよい。
一方、図１Ｄは、公知の積層体の模式的な断面図であり、図１Ｄに示す積層体４００は、透明支持体１２、配向膜１４、光吸収異方性膜１６、バリア層３０および光学異方性層４０をこの順に有する層構成（以下、「構成Ｄ」とも略す。）の積層体である。
ここで、図１Ａに示す積層体１００は、液晶層１８、光吸収異方性膜１６、配向膜１４および透明支持体１２をこの順に有する層構成（以下、「構成Ａ」とも略す。）の積層体である。
また、図１Ｂに示す積層体２００は、透明支持体１２、配向膜１４、液晶層１８および光吸収異方性膜１６をこの順に有する層構成（以下、「構成Ｂ」とも略す。）の積層体である。
更に、図１Ｃに示す積層体３００は、透明支持体１２、配向膜１４、液晶層１８、光吸収異方性膜１６および第２液晶層１９をこの順に有する層構成（以下、「構成Ｃ」とも略す。）の積層体である。
なお、上述した構成Ａ～構成Ｃについては、互いに隣接して設けられる光吸収異方性膜および液晶層の層間以外の層間、ならびに、最表層の表面には、他の層を有していてもよい。例えば、構成Ａにおいては、液晶層１８の光吸収異方性膜１６と反対側の表面にバリア層を有していてもよく、透明支持体１２の配向膜１４と反対側の表面にはλ／４板を有していてもよい。同様に、構成Ｂにおいては、光吸収異方性膜１６の液晶層１８と反対側の表面にバリア層およびλ／４板をこの順に有していてもよい。
一方、図１Ｄは、公知の積層体の模式的な断面図であり、図１Ｄに示す積層体４００は、透明支持体１２、配向膜１４、光吸収異方性膜１６、バリア層３０および光学異方性層４０をこの順に有する層構成（以下、「構成Ｄ」とも略す。）の積層体である。
【0018】
以下に、本発明の積層体が有する光吸収異方性膜および液晶層ならびに任意の透明支持体および配向膜などについて詳述する。
【0019】
〔光吸収異方性膜〕
本発明の積層体が有する光吸収異方性膜は、二色性物質を含有する組成物（以下、「光吸収異方性膜形成用組成物」ともいう。）を用いて形成される膜である。
本発明の積層体が有する光吸収異方性膜は、二色性物質を含有する組成物（以下、「光吸収異方性膜形成用組成物」ともいう。）を用いて形成される膜である。
【0020】
本発明においては、光吸収異方性膜の配向度が、０．９２以上であることが好ましく、０．９４以上であることがより好ましい。
ここで、配向度が高くなると、光吸収異方性膜の屈折率異方性が大きくなり、隣接層との界面反射が大きくなる傾向があるため、光吸収異方性膜の配向度が０．９２以上であると、本発明の効果が顕在化することになる。
また、光吸収異方性膜の配向度は、光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に光吸収異方性膜をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて光吸収異方性膜の吸光度を測定し、以下の式により算出される値である。
配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）－１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
Ａｚ０：光吸収異方性膜の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：光吸収異方性膜の透過軸方向の偏光に対する吸光度
ここで、配向度が高くなると、光吸収異方性膜の屈折率異方性が大きくなり、隣接層との界面反射が大きくなる傾向があるため、光吸収異方性膜の配向度が０．９２以上であると、本発明の効果が顕在化することになる。
また、光吸収異方性膜の配向度は、光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に光吸収異方性膜をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて光吸収異方性膜の吸光度を測定し、以下の式により算出される値である。
配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）－１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
Ａｚ０：光吸収異方性膜の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：光吸収異方性膜の透過軸方向の偏光に対する吸光度
【0021】
また、本発明においては、光吸収異方性膜が、逆波長分散性を示してもよい。
ここで、光吸収異方性膜が逆波長分散性を示すとは、特定波長（可視光範囲）における面内のレタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。
ここで、光吸収異方性膜が逆波長分散性を示すとは、特定波長（可視光範囲）における面内のレタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。
【0022】
ここで、光吸収異方性膜の屈折率は、Ｗｏｏｌｌａｍ社製分光エリプソメトリＭ－２０００Ｕを用いて測定される値である。
具体的には、所定の波長ｔ［ｎｍ］において、光吸収異方性膜の面内における屈折率が最大となる方向をｘ軸、それに対して直交する方向をｙ軸、面内に対する法線方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をＮｘｔ、ｙ軸方向の屈折率をＮｙｔ、ｚ軸方向の屈折率をＮｚｔと定義する。例えば、測定波長が５５０ｎｍの場合、ｘ軸方向の屈折率をＮｘ５５０、ｙ軸方向の屈折率をＮｙ５５０、ｚ軸方向の屈折率をＮｚ５５０と呼ぶ。
具体的には、所定の波長ｔ［ｎｍ］において、光吸収異方性膜の面内における屈折率が最大となる方向をｘ軸、それに対して直交する方向をｙ軸、面内に対する法線方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をＮｘｔ、ｙ軸方向の屈折率をＮｙｔ、ｚ軸方向の屈折率をＮｚｔと定義する。例えば、測定波長が５５０ｎｍの場合、ｘ軸方向の屈折率をＮｘ５５０、ｙ軸方向の屈折率をＮｙ５５０、ｚ軸方向の屈折率をＮｚ５５０と呼ぶ。
【0023】
本発明においては、光吸収異方性膜と液晶層との界面における内部反射率をより制御する観点から、光吸収異方性膜の波長５５０ｎｍにおける平均屈折率Ｎ５５０が、１．５０～１．７５であることが好ましく、１．５５～１．７０であることがより好ましい。
ここで、波長５５０ｎｍにおける平均屈折率Ｎ５５０は、下記式（Ｒ２０）によって算出される値をいう。
平均屈折率Ｎ５５０＝（Ｎｘ５５０＋Ｎｙ５５０）／２ ・・・（Ｒ２０）
ここで、波長５５０ｎｍにおける平均屈折率Ｎ５５０は、下記式（Ｒ２０）によって算出される値をいう。
平均屈折率Ｎ５５０＝（Ｎｘ５５０＋Ｎｙ５５０）／２ ・・・（Ｒ２０）
【0024】
光吸収異方性膜の厚さは、特に限定されないが、本発明の積層体を偏光素子に用いた場合のフレキシブル性の観点から、１００～８０００ｎｍであることが好ましく、３００～５０００ｎｍであることがより好ましい。
【0025】
＜二色性物質＞
光吸収異方性膜形成用組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、形成される光吸収異方性膜の配向度が向上する観点から、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］段落、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落などに記載されたものが好適に挙げられる。
光吸収異方性膜形成用組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、形成される光吸収異方性膜の配向度が向上する観点から、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］段落、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落などに記載されたものが好適に挙げられる。
【0026】
本発明においては、形成される光吸収異方性膜の配向度がより向上する理由から、光吸収異方性膜形成用組成物が含有する二色性物質が、下記式（１）で表される化合物（以下、「特定二色性物質」とも略す。）であることが好ましい。
【化1】
【0027】
ここで、式（１）中、Ａ１、Ａ２およびＡ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
また、式（１）中、Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
また、式（１）中、ｍは、１～４の整数を表し、ｍが２～４の整数の場合、複数のＡ２は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、ｍは、１または２であることが好ましい。
また、式（１）中、Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
また、式（１）中、ｍは、１～４の整数を表し、ｍが２～４の整数の場合、複数のＡ２は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、ｍは、１または２であることが好ましい。
【0028】
上記式（１）中、Ａ１、Ａ２およびＡ３が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」について説明する。
上記置換基としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２３７］～［０２４０］段落に記載された置換基群Ｇが挙げられ、中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなど）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、４－メチルフェノキシカルボニル、４－メトキシフェニルカルボニルなど）等が好適に挙げられ、アルキル基がより好適に挙げられ、炭素数１～５のアルキル基がさらに好適に挙げられる。
一方、２価の芳香族基としては、例えば、２価の芳香族炭化水素基および２価の芳香族複素環基が挙げられる。
上記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、炭素数６～１２のアリーレン基が挙げられ、具体的には、フェニレン基、クメニレン基、メシチレン基、トリレン基、キシリレン基等が挙げられる。中でもフェニレン基が好ましい。
また、上記２価の芳香族複素環基としては、単環または２環性の複素環由来の基が好ましい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。芳香族複素環基としては、具体的には、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基（以下、「チエノチアゾール基」と略す。）等が挙げられる。
上記２価の芳香族基の中でも、２価の芳香族炭化水素基が好ましい。
上記置換基としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２３７］～［０２４０］段落に記載された置換基群Ｇが挙げられ、中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなど）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、４－メチルフェノキシカルボニル、４－メトキシフェニルカルボニルなど）等が好適に挙げられ、アルキル基がより好適に挙げられ、炭素数１～５のアルキル基がさらに好適に挙げられる。
一方、２価の芳香族基としては、例えば、２価の芳香族炭化水素基および２価の芳香族複素環基が挙げられる。
上記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、炭素数６～１２のアリーレン基が挙げられ、具体的には、フェニレン基、クメニレン基、メシチレン基、トリレン基、キシリレン基等が挙げられる。中でもフェニレン基が好ましい。
また、上記２価の芳香族複素環基としては、単環または２環性の複素環由来の基が好ましい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。芳香族複素環基としては、具体的には、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基（以下、「チエノチアゾール基」と略す。）等が挙げられる。
上記２価の芳香族基の中でも、２価の芳香族炭化水素基が好ましい。
【0029】
ここで、Ａ１、Ａ２およびＡ３のうちいずれか１つが、置換基を有していてもよい２価のチエノチアゾール基であることが好ましい。なお、２価のチエノチアゾール基の置換基の具体例は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じである。
また、Ａ１、Ａ２およびＡ３のうち、Ａ２が２価のチエノチアゾール基であることがより好ましい。この場合には、Ａ１およびＡ２は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
Ａ２が２価のチエノチアゾール基である場合には、Ａ１およびＡ２の少なくとも一方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、Ａ１およびＡ２の両方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましい。
また、Ａ１、Ａ２およびＡ３のうち、Ａ２が２価のチエノチアゾール基であることがより好ましい。この場合には、Ａ１およびＡ２は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
Ａ２が２価のチエノチアゾール基である場合には、Ａ１およびＡ２の少なくとも一方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、Ａ１およびＡ２の両方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましい。
【0030】
上記式（１）中、Ｌ１およびＬ２が表す「置換基」について説明する。
上記置換基としては、溶解性やネマティック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）を有する基が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２－ブテニル基、３－ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３－ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、特に好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、特に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、特に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、特に好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
上記置換基としては、溶解性やネマティック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）を有する基が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２－ブテニル基、３－ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３－ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、特に好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、特に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、特に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、特に好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【0031】
Ｌ１およびＬ２が表す置換基として好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアシルアミノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルホニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルファモイル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいスルホニル基、置換基を有していてもよいウレイド基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、イミノ基、アゾ基、ハロゲン原子、および、ヘテロ環基であり、より好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、ニトロ基、イミノ基、および、アゾ基である。
【0032】
Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方は、架橋性基（重合性基）を含むことが好ましく、Ｌ１およびＬ２の両方に架橋性基を含むことがより好ましい。
架橋性基としては、具体的には、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基が好ましく、アクリロイル基およびメタクリロイル基が好ましい。
架橋性基としては、具体的には、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基が好ましく、アクリロイル基およびメタクリロイル基が好ましい。
【0033】
Ｌ１およびＬ２の好適な態様としては、上記架橋性基で置換されたアルキル基、上記架橋性基で置換されたジアルキルアミノ基、および、上記架橋性基で置換されたアルコキシ基が挙げられる。
【0034】
本発明においては、形成される光吸収異方性膜の配向度が更に向上する理由から、特定二色性物質が、下記式（２）で表される化合物であることが好ましい。
【0035】
【化2】
【0036】
ここで、式（２）中、Ａ４は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
また、式（２）中、Ｌ３およびＬ４は、それぞれ独立に、置換基を表す。
また、式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
また、式（２）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基および置換基を有していてもよいアルコキシ基のいずれかの基または原子を表す。
また、式（２）中、Ｒ２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
また、式（２）中、Ｒ３は、水素原子または置換基を表す。
また、式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。
また、式（２）中、Ｌ３およびＬ４は、それぞれ独立に、置換基を表す。
また、式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
また、式（２）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基および置換基を有していてもよいアルコキシ基のいずれかの基または原子を表す。
また、式（２）中、Ｒ２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
また、式（２）中、Ｒ３は、水素原子または置換基を表す。
また、式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。
【0037】
上記式（２）中、Ａ４が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」の具体例および好適態様は、上述した式（１）中のＡ１～Ａ３が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」と同様である。
Ａ４の特に好ましい態様としては、フェニレン基である。
Ａ４の特に好ましい態様としては、フェニレン基である。
【0038】
上記式（２）中、Ｌ３およびＬ４が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述した式（１）中のＬ１およびＬ２が表す「置換基」と同様である。
Ｌ３およびＬ４のより好適な態様としては、Ｌ３およびＬ４の少なくとも一方が架橋性基を含むことであり、さらに好適な態様としては、Ｌ３およびＬ４の両方が架橋性基を含むことである。これにより、光吸収異方性膜に含まれる特定二色性物質の配向度がより向上し、積層体の高温耐久性および湿熱耐久性がより良好となる。
また、Ｌ３およびＬ４の架橋性基のより好適な態様としては、アクリロイル基またはメタクリロイル基である。
Ｌ３およびＬ４のより好適な態様としては、Ｌ３およびＬ４の少なくとも一方が架橋性基を含むことであり、さらに好適な態様としては、Ｌ３およびＬ４の両方が架橋性基を含むことである。これにより、光吸収異方性膜に含まれる特定二色性物質の配向度がより向上し、積層体の高温耐久性および湿熱耐久性がより良好となる。
また、Ｌ３およびＬ４の架橋性基のより好適な態様としては、アクリロイル基またはメタクリロイル基である。
【0039】
上記式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表し、合成適性の観点から、窒素原子であることが好ましい。
また、特定二色性物質を短波長側に吸収を持つもの（例えば、５００～５３０ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（１）におけるＥは、酸素原子であることが好ましい。
一方、特定二色性物質を長波長側に吸収を持つもの（例えば、６００ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（１）におけるＥは、窒素原子であることが好ましい。
また、特定二色性物質を短波長側に吸収を持つもの（例えば、５００～５３０ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（１）におけるＥは、酸素原子であることが好ましい。
一方、特定二色性物質を長波長側に吸収を持つもの（例えば、６００ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（１）におけるＥは、窒素原子であることが好ましい。
【0040】
上記式（２）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基および置換基を有していてもよいアルコキシ基のいずれかの基または原子を表し、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基が好ましい。
次に、Ｒ１が表す「置換基を有していてもよいアルキル基」および「置換基を有していてもよいアルコキシ基」について説明する。
置換基としては、例えば、ハロゲン原子等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１～８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。中でも、炭素数１～６の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１～３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基がさらに好ましい。
アルコキシ基としては、炭素数１～８のアルコキシ基が挙げられる。中でも、炭素数１～６のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１～３のアルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であることがさらに好ましい。
次に、Ｒ１が表す「置換基を有していてもよいアルキル基」および「置換基を有していてもよいアルコキシ基」について説明する。
置換基としては、例えば、ハロゲン原子等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１～８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。中でも、炭素数１～６の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１～３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基がさらに好ましい。
アルコキシ基としては、炭素数１～８のアルコキシ基が挙げられる。中でも、炭素数１～６のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１～３のアルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であることがさらに好ましい。
【0041】
上記式（２）中、Ｒ２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表し、置換基を有していてもよいアルキル基であることが好ましい。
Ｒ２が表す「置換基を有していてもよいアルキル基」の具体例および好適態様は、上述した式（２）のＲ１における「置換基を有していてもよいアルキル基」と同様であるので、その説明を省略する。
なお、Ｒ２は、Ｅが窒素原子である場合に式（２）中で存在する基となる（すなわち、ｎ＝１の場合を意味する）。一方で、Ｒ２は、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合、式（２）中で存在しない基となる（すなわち、ｎ＝０の場合を意味する）。
Ｒ２が表す「置換基を有していてもよいアルキル基」の具体例および好適態様は、上述した式（２）のＲ１における「置換基を有していてもよいアルキル基」と同様であるので、その説明を省略する。
なお、Ｒ２は、Ｅが窒素原子である場合に式（２）中で存在する基となる（すなわち、ｎ＝１の場合を意味する）。一方で、Ｒ２は、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合、式（２）中で存在しない基となる（すなわち、ｎ＝０の場合を意味する）。
【0042】
上記式（２）中、Ｒ３は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ３が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じであるので、その説明を省略する。
Ｒ３が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じであるので、その説明を省略する。
【0043】
上記式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。
【0044】
上記式（１）で表される特定二色性物質としては、具体的には、例えば、特開２０１０－１５２３５１号公報の［００５１］～［００８１］段落に記載された化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
これらのうち、上記式（２）で表される化合物としては、具体的には、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
これらのうち、上記式（２）で表される化合物としては、具体的には、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
【0045】
【化3】
【0046】
二色性物質の含有量は、光吸収異方性膜の全固形分質量に対して、８～２２質量％が好ましく、１０～２０質量％がより好ましい。二色性物質の含有量が上記範囲内にあれば、光吸収異方性膜を薄膜にした場合であっても、高配向度の光吸収異方性膜を得ることができる。そのため、フレキシブル性に優れた光吸収異方性膜が得られやすい。
なお、二色性物質は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。二色性物質を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
なお、二色性物質は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。二色性物質を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【0047】
＜液晶性化合物＞
本発明においては、二色性物質の析出を抑止しながら、二色性物質をより高い配向度で配向させることができる理由から、光吸収異方性膜形成用組成物が、上述した二色性物質とともに液晶性化合物を含有していることが好ましい。
液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。
ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。
また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されているが挙げられる。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
本発明においては、二色性物質の析出を抑止しながら、二色性物質をより高い配向度で配向させることができる理由から、光吸収異方性膜形成用組成物が、上述した二色性物質とともに液晶性化合物を含有していることが好ましい。
液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。
ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。
また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されているが挙げられる。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
【0048】
光吸収異方性膜形成用組成物が液晶性化合物を含有する場合、液晶性化合物の含有量は、光吸収異方性膜形成用組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、７０～９５質量部が好ましく、７０～９０質量部がより好ましい。
液晶性化合物は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。液晶性化合物を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
液晶性化合物は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。液晶性化合物を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【0049】
＜重合開始剤＞
光吸収異方性膜形成用組成物は、重合開始剤を含有してもよい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア（以下、「Ｉｒｇ」とも略す。）－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１およびイルガキュア－ＯＸＥ－０２等が挙げられる。
光吸収異方性膜形成用組成物は、重合開始剤を含有してもよい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア（以下、「Ｉｒｇ」とも略す。）－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１およびイルガキュア－ＯＸＥ－０２等が挙げられる。
【0050】
光吸収異方性膜形成用組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、光吸収異方性膜形成用組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性膜の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより良好となる。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【0051】
＜界面改良剤＞
光吸収異方性膜形成用組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。
界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が更に向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性が向上したりする効果が見込まれる。
界面改良剤としては、二色性物質と液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２５３］～［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。
光吸収異方性膜形成用組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。
界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が更に向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性が向上したりする効果が見込まれる。
界面改良剤としては、二色性物質と液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２５３］～［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。
【0052】
光吸収異方性膜形成用組成物が界面改良剤を含有する場合、光吸収異方性膜形成用組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１～５質量部が好ましく、０．０１～３質量部がより好ましい。
界面改良剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。界面改良剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
界面改良剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。界面改良剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【0053】
＜溶媒＞
光吸収異方性膜形成用組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、および、シクロヘキサノン等）、エーテル類（例えば、ジオキサン、および、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼン等）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエン等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチル等）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、および、１，２－ジメトキシエタン等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミド等）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン等）等の有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、有機溶媒を用いることが好ましく、ハロゲン化炭素類またはケトン類を用いることがより好ましい。
光吸収異方性膜形成用組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、および、シクロヘキサノン等）、エーテル類（例えば、ジオキサン、および、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼン等）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエン等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチル等）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、および、１，２－ジメトキシエタン等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミド等）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン等）等の有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、有機溶媒を用いることが好ましく、ハロゲン化炭素類またはケトン類を用いることがより好ましい。
【0054】
光吸収異方性膜形成用組成物が溶媒を含む場合、溶媒の含有量は、光吸収異方性膜形成用組成物の全質量に対して、８０～９９質量％であることが好ましく、８３～９７質量％であることがより好ましく、８５～９５質量％であることが特に好ましい。
溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。溶媒を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。溶媒を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【0055】
＜形成方法＞
上述した光吸収異方性膜形成用組成物を用いた光吸収異方性膜の形成方法は特に限定されず、上述した光吸収異方性膜形成用組成物を層構成に応じて後述する配向膜または液晶層上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。
上述した光吸収異方性膜形成用組成物を用いた光吸収異方性膜の形成方法は特に限定されず、上述した光吸収異方性膜形成用組成物を層構成に応じて後述する配向膜または液晶層上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。
【0056】
（塗布膜形成工程）
塗布膜形成工程は、光吸収異方性膜形成用組成物を配向膜または液晶層上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する光吸収異方性膜形成用組成物を用いたり、光吸収異方性膜形成用組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、配向膜または液晶層上に光吸収異方性膜形成用組成物を塗布することが容易になる。
光吸収異方性膜形成用組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
塗布膜形成工程は、光吸収異方性膜形成用組成物を配向膜または液晶層上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する光吸収異方性膜形成用組成物を用いたり、光吸収異方性膜形成用組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、配向膜または液晶層上に光吸収異方性膜形成用組成物を塗布することが容易になる。
光吸収異方性膜形成用組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
【0057】
（配向工程）
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性膜が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、光吸収異方性膜形成用組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、光吸収異方性膜形成用組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性膜が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、光吸収異方性膜形成用組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、光吸収異方性膜形成用組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。
【0058】
塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。
【0059】
配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
【0060】
配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
【0061】
（他の工程）
光吸収異方性膜の製造方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性膜を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、光吸収異方性膜が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
光吸収異方性膜の製造方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性膜を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、光吸収異方性膜が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
【0062】
〔液晶層〕
本発明の積層体が有する液晶層は、液晶性化合物が配向し、かつ、厚みが３００ｎｍ以下となる層であれば特に限定されないが、液晶性化合物を含有し、二色性物質を含有しない組成物（以下、「液晶層形成用組成物」とも略す。）を用いて形成される層であることが好ましい。
本発明の積層体が有する液晶層は、液晶性化合物が配向し、かつ、厚みが３００ｎｍ以下となる層であれば特に限定されないが、液晶性化合物を含有し、二色性物質を含有しない組成物（以下、「液晶層形成用組成物」とも略す。）を用いて形成される層であることが好ましい。
【0063】
ここで、液晶層の屈折率は、光吸収異方性膜と同様、Ｗｏｏｌｌａｍ社製分光エリプソメトリＭ－２０００Ｕを用いて測定される値である。
具体的には、所定の波長ｔ［ｎｍ］において、液晶層の面内における屈折率が最大となる方向をｘ軸、それに対して直交する方向をｙ軸、面内に対する法線方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘｔ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙｔ、ｚ軸方向の屈折率をｎｚｔと定義する。例えば、測定波長が５５０ｎｍの場合、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ５５０、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ５５０、ｚ軸方向の屈折率をｎｚ５５０と呼ぶ。
具体的には、所定の波長ｔ［ｎｍ］において、液晶層の面内における屈折率が最大となる方向をｘ軸、それに対して直交する方向をｙ軸、面内に対する法線方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘｔ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙｔ、ｚ軸方向の屈折率をｎｚｔと定義する。例えば、測定波長が５５０ｎｍの場合、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ５５０、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ５５０、ｚ軸方向の屈折率をｎｚ５５０と呼ぶ。
【0064】
本発明においては、光吸収異方性膜と液晶層との界面における内部反射率をより制御する観点から、液晶層の波長４００～７００ｎｍにおけるにおける平均屈折率ｎａｖｅが、１．５０～１．７５であることが好ましく、１．５５～１．７０であることがより好ましい。
ここで、波長４００～７００ｎｍにおけるにおける平均屈折率ｎａｖｅは、波長４００～７００ｎｍの範囲で１ｎｍ毎にｎｘｔおよびｎｙｔを測定して、ｘ軸方向の屈折率の平均値ｎｘａｖｅおよびｙ軸方向の屈折率の平均値ｎｙａｖｅを用いて、下記式（Ｒ１）によって算出される値をいう。
平均屈折率ｎａｖｅ＝（ｎｘａｖｅ＋ｎｙａｖｅ）／２ ・・・（Ｒ１）
ｎｘａｖｅ＝（ｎｘ４００＋ｎｘ４０１＋ｎｘ４０２＋・・・＋ｎｘ６９９＋ｎｘ７００）／３０１
ｎｙａｖｅ＝（ｎｙ４００＋ｎｙ４０１＋ｎｙ４０２＋・・・＋ｎｙ６９９＋ｎｙ７００）／３０１
ここで、波長４００～７００ｎｍにおけるにおける平均屈折率ｎａｖｅは、波長４００～７００ｎｍの範囲で１ｎｍ毎にｎｘｔおよびｎｙｔを測定して、ｘ軸方向の屈折率の平均値ｎｘａｖｅおよびｙ軸方向の屈折率の平均値ｎｙａｖｅを用いて、下記式（Ｒ１）によって算出される値をいう。
平均屈折率ｎａｖｅ＝（ｎｘａｖｅ＋ｎｙａｖｅ）／２ ・・・（Ｒ１）
ｎｘａｖｅ＝（ｎｘ４００＋ｎｘ４０１＋ｎｘ４０２＋・・・＋ｎｘ６９９＋ｎｘ７００）／３０１
ｎｙａｖｅ＝（ｎｙ４００＋ｎｙ４０１＋ｎｙ４０２＋・・・＋ｎｙ６９９＋ｎｙ７００）／３０１
【0065】
本発明においては、光吸収異方性膜と液晶層との界面における内部反射率をより制御する観点から、液晶層の波長５５０ｎｍにおける平均屈折率ｎ５５０が、１．５０～１．７５であることが好ましく、１．５５～１．７０であることがより好ましい。
ここで、波長５５０ｎｍにおける平均屈折率ｎ５５０は、下記式（Ｒ２）によって算出される値をいう。
平均屈折率ｎ５５０＝（ｎｘ５５０＋ｎｙ５５０）／２ ・・・（Ｒ２）
ここで、波長５５０ｎｍにおける平均屈折率ｎ５５０は、下記式（Ｒ２）によって算出される値をいう。
平均屈折率ｎ５５０＝（ｎｘ５５０＋ｎｙ５５０）／２ ・・・（Ｒ２）
【0066】
本発明においては、光吸収異方性膜と液晶層との界面における内部反射率をより制御する観点から、液晶層の面内の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎが、０．０３以上であることが好ましく、０．０５以上であることがより好ましく、０．１０以上であることが更に好ましい。
屈折率異方性Δｎ＝ｎｘ５５０－ｎｙ５５０ ・・・（Ｒ３）
屈折率異方性Δｎ＝ｎｘ５５０－ｎｙ５５０ ・・・（Ｒ３）
【0067】
液晶層の厚さは、３００ｎｍ以下であれば特に限定されないが、１０～３００ｎｍであることが好ましく、１０～２００ｎｍであることがより好ましく、１０～１００ｎｍであることが更に好ましく、１５ｎｍ以上８０ｎｍ未満であることが特に好ましい。
【0068】
＜液晶性化合物＞
液晶層形成用組成物が含有する液晶性化合物は、特に限定されない。
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。
本発明においては、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物（以下、「ＣＬＣ」とも略す。）またはディスコティック液晶性化合物（以下、「ＤＬＣ」とも略す。）を用いるのが好ましく、棒状液晶性化合物を用いるのがより好ましい。なお、２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または、棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。
液晶層形成用組成物が含有する液晶性化合物は、特に限定されない。
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。
本発明においては、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物（以下、「ＣＬＣ」とも略す。）またはディスコティック液晶性化合物（以下、「ＤＬＣ」とも略す。）を用いるのが好ましく、棒状液晶性化合物を用いるのがより好ましい。なお、２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または、棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。
【0069】
本発明においては、上述の液晶性化合物の固定化のために、重合性基を有する液晶性化合物を用いることが好ましく、液晶性化合物が１分子中に重合性基を２以上有することがさらに好ましい。なお、液晶性化合物が２種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶性化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。なお、液晶性化合物が重合によって固定された後においては、もはや液晶性を示す必要はない。
【0070】
また、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基またはアクリロイル基を意味する表記である。
【0071】
棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落［００２０］～［００６７］や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落［００１３］～［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
【0072】
＜その他の成分＞
液晶層形成用組成物が含有する液晶性化合物以外の成分としては、具体的には、例えば、上述した二色性物質を含有する組成物（光吸収異方性膜形成用組成物）において説明した重合開始剤、界面活性剤および溶媒などを挙げることができる。
液晶層形成用組成物が含有する液晶性化合物以外の成分としては、具体的には、例えば、上述した二色性物質を含有する組成物（光吸収異方性膜形成用組成物）において説明した重合開始剤、界面活性剤および溶媒などを挙げることができる。
【0073】
＜形成方法＞
上述した液晶層形成用組成物を用いた液晶層の形成方法は特に限定されず、上述した液晶層形成用組成物を層構成に応じて後述する配向膜または上述した光吸収異方性膜上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
ここで、塗布膜形成工程および配向工程としては、上述した光吸収異方性膜の形成方法において説明したものと同様の工程が挙げられる。
上述した液晶層形成用組成物を用いた液晶層の形成方法は特に限定されず、上述した液晶層形成用組成物を層構成に応じて後述する配向膜または上述した光吸収異方性膜上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
ここで、塗布膜形成工程および配向工程としては、上述した光吸収異方性膜の形成方法において説明したものと同様の工程が挙げられる。
【0074】
〔透明支持体〕
本発明の積層体は、透明支持体を有していてもよい。
ここで、本発明でいう「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
透明支持体としては、具体的には、例えば、ガラス基板およびプラスチック基板が挙げられ、なかでも、プラスチック基板が好ましい。
プラスチック基板を構成するプラスチックとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロースおよびセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；ポリフェニレンオキシドおよびポリイミドなどが挙げられる。中でも、市場から容易に入手できたり、透明性に優れていたりする点から、とりわけ好ましくは、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステルまたはポリイミドである。
本発明の積層体は、透明支持体を有していてもよい。
ここで、本発明でいう「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
透明支持体としては、具体的には、例えば、ガラス基板およびプラスチック基板が挙げられ、なかでも、プラスチック基板が好ましい。
プラスチック基板を構成するプラスチックとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロースおよびセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；ポリフェニレンオキシドおよびポリイミドなどが挙げられる。中でも、市場から容易に入手できたり、透明性に優れていたりする点から、とりわけ好ましくは、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステルまたはポリイミドである。
【0075】
透明支持体の厚さは、実用的な取扱いができる程度の質量である点、および、十分な透明性が確保できる点から、強度および加工性を維持できる程度に薄い方が好ましい。
ガラス基板の厚みは、１００～３０００μｍが好ましく、１００～１０００μｍが好ましい。
プラスチック基板の厚みは、５～３００μｍが好ましく、５～２００μｍが好ましい。
なお、本発明の積層体を円偏光板として使用する場合（特にモバイル機器用途の円偏光板として使用する場合）、透明支持体の厚みは５～１００μｍ程度が好ましい。
ガラス基板の厚みは、１００～３０００μｍが好ましく、１００～１０００μｍが好ましい。
プラスチック基板の厚みは、５～３００μｍが好ましく、５～２００μｍが好ましい。
なお、本発明の積層体を円偏光板として使用する場合（特にモバイル機器用途の円偏光板として使用する場合）、透明支持体の厚みは５～１００μｍ程度が好ましい。
【0076】
〔配向膜〕
本発明の積層体は、上述した透明支持体と、上述した光吸収異方性膜または液晶層との間に、配向膜を有していてもよい。
配向膜を形成する方法としては、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、および、ラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルなど）の累積などの手法が挙げられる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。
本発明の積層体は、上述した透明支持体と、上述した光吸収異方性膜または液晶層との間に、配向膜を有していてもよい。
配向膜を形成する方法としては、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、および、ラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルなど）の累積などの手法が挙げられる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。
【0077】
＜ラビング処理配向膜＞
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～２μｍであることが更に好ましい。
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～２μｍであることが更に好ましい。
【0078】
＜光配向膜＞
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向化合物としては、多数の文献等に記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向化合物としては、多数の文献等に記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。
【0079】
これらのうち、光配向化合物として、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光反応性基を有する感光性化合物を用いることが好ましい。
また、光反応性基が、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、マレイミド誘導体、アゾベンゼン化合物、ポリイミド化合物、スチルベン化合物およびスピロピラン化合物からなる群から選択される少なくとも１種の誘導体または化合物の骨格を有することが好ましい。
また、光反応性基が、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、マレイミド誘導体、アゾベンゼン化合物、ポリイミド化合物、スチルベン化合物およびスピロピラン化合物からなる群から選択される少なくとも１種の誘導体または化合物の骨格を有することが好ましい。
【0080】
上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。
【0081】
光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。
【0082】
直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、２色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
【0083】
照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、又は裏面から配向膜表面に対して垂直、又は斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°が好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°が更に好ましい。
照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°が更に好ましい。
照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。
【0084】
パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。
【0085】
〔バリア層〕
本発明の積層体は、上述した通り、例えば、図１Ａに示す構成Ａにおいては、液晶層１８の光吸収異方性膜１６と反対側の表面にバリア層を有していてもよく、図１Ｂに示す構成Ｂにおいては、光吸収異方性膜１６の液晶層１８と反対側の表面にバリア層を有していてもよい。
ここで、バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から本発明の偏光素子を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。
本発明の積層体は、上述した通り、例えば、図１Ａに示す構成Ａにおいては、液晶層１８の光吸収異方性膜１６と反対側の表面にバリア層を有していてもよく、図１Ｂに示す構成Ｂにおいては、光吸収異方性膜１６の液晶層１８と反対側の表面にバリア層を有していてもよい。
ここで、バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から本発明の偏光素子を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。
【0086】
〔λ／４板〕
本発明の積層体は、λ／４板を有していてもよい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
λ／４板の具体例としては、例えば米国特許出願公開２０１５／０２７７００６号などが挙げられる。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルム等が挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
本発明の積層体は、λ／４板を有していてもよい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
λ／４板の具体例としては、例えば米国特許出願公開２０１５／０２７７００６号などが挙げられる。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルム等が挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
【0087】
〔粘着層〕
本発明の積層体は、上述したλ／４板を貼合する観点から、λ／４板を貼合する面に粘着層を有していてもよい。
本発明の積層体は、上述したλ／４板を貼合する観点から、λ／４板を貼合する面に粘着層を有していてもよい。
【0088】
粘着層に含まれる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。
これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。
これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。
【0089】
粘着層は、例えば、粘着剤の溶液を離型シート上に塗布し、乾燥した後に後、透明樹脂層の表面に転写する方法；粘着剤の溶液を透明樹脂層の表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０～４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。
粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０～４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。
【0090】
また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどの合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。
【0091】
本発明においては、任意の粘着層の厚みは特に限定されないが、３μｍ～５０μｍであることが好ましく、４μｍ～４０μｍであることがより好ましく、５μｍ～３０μｍであることが更に好ましい。
【0092】
〔用途〕
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、具体的には、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、具体的には、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。
【0093】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。
【0094】
〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
【0095】
＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。
【0096】
〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の積層体（ただし、粘着層およびλ／４板を含む）と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。この場合には、積層体は、視認側から、透明支持体、必要に応じて設けられる配向膜、光吸収異方性膜、透明樹脂層、粘着層、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の積層体（ただし、粘着層およびλ／４板を含む）と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。この場合には、積層体は、視認側から、透明支持体、必要に応じて設けられる配向膜、光吸収異方性膜、透明樹脂層、粘着層、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
【実施例】
【0097】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
【0098】
［実施例１］
＜透明支持体１の作製＞
厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に厚み０．８μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向膜が形成された透明支持体１が得られた。
なお、変性ポリビニルアルコールは、固形分濃度が４ｗｔ％となるように配向膜塗布液中に加えた。
――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
＜透明支持体１の作製＞
厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に厚み０．８μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向膜が形成された透明支持体１が得られた。
なお、変性ポリビニルアルコールは、固形分濃度が４ｗｔ％となるように配向膜塗布液中に加えた。
――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0099】
変性ポリビニルアルコール
【化4】
【0100】
＜配向膜１の形成＞
下記構造の光配向材料Ｅ－１の１質量部に、ブトキシエタノール４１．６質量部、ジプロピレングリコールモノメチル４１．６質量部、および、純水１５．８質量部を加え、得られた溶液を０．４５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過することで配向膜形成用組成物１を調製した。
次いで、得られた配向膜形成用組成物１を透明支持体１上のＰＶＡ配向膜上に塗布し、６０℃で１分間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、配向膜１を形成した。なお、下記表１においては、配向膜１を「アゾ（Ｅ－１）」と表記している。
下記構造の光配向材料Ｅ－１の１質量部に、ブトキシエタノール４１．６質量部、ジプロピレングリコールモノメチル４１．６質量部、および、純水１５．８質量部を加え、得られた溶液を０．４５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過することで配向膜形成用組成物１を調製した。
次いで、得られた配向膜形成用組成物１を透明支持体１上のＰＶＡ配向膜上に塗布し、６０℃で１分間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、配向膜１を形成した。なお、下記表１においては、配向膜１を「アゾ（Ｅ－１）」と表記している。
【0101】
【化5】
【0102】
＜光吸収異方性膜１の形成＞
得られた配向膜１上に、下記の光吸収異方性膜形成用組成物１（下記表１においては「組成物１」と略す。）を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、配向膜１上に光吸収異方性膜１を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記イエローアゾ色素Ｙ－１ ０．２３質量部
・下記マゼンタアゾ色素Ｍ－１ ０．２１質量部
・下記シアンアゾ色素Ｃ－１ ０．４６質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ４．０６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０４３質量部
・下記界面改良剤Ｆ－１ ０．０３９質量部
・シクロペンタノン ６６．５０質量部
・テトラヒドロフラン ２８．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
得られた配向膜１上に、下記の光吸収異方性膜形成用組成物１（下記表１においては「組成物１」と略す。）を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、配向膜１上に光吸収異方性膜１を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記イエローアゾ色素Ｙ－１ ０．２３質量部
・下記マゼンタアゾ色素Ｍ－１ ０．２１質量部
・下記シアンアゾ色素Ｃ－１ ０．４６質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ４．０６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０４３質量部
・下記界面改良剤Ｆ－１ ０．０３９質量部
・シクロペンタノン ６６．５０質量部
・テトラヒドロフラン ２８．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0103】
イエローアゾ色素Ｙ－１
【化6】
【0104】
マゼンタアゾ色素Ｙ－１
【化7】
【0105】
シアンアゾ色素Ｃ－１
【化8】
【0106】
高分子液晶性化合物Ｐ－１
【化9】
【0107】
界面改良剤Ｆ－１
【化10】
【0108】
＜液晶層Ａの形成＞
得られた光吸収異方性膜１上に、下記の液晶層形成用組成物Ａ（下記表１においては「組成物Ａ」と略す。）を＃３のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射することにより、光吸収異方性膜１上に液晶層Ａを作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶層形成用組成物Ａの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ１ ３．２８質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．１３質量部
・下記光重合開始剤Ｉ－１ ０．２０質量部
・界面改良剤Ｆ－１ ０．１４質量部
・メチルエチルケトン ３７１質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
得られた光吸収異方性膜１上に、下記の液晶層形成用組成物Ａ（下記表１においては「組成物Ａ」と略す。）を＃３のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射することにより、光吸収異方性膜１上に液晶層Ａを作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶層形成用組成物Ａの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ１ ３．２８質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．１３質量部
・下記光重合開始剤Ｉ－１ ０．２０質量部
・界面改良剤Ｆ－１ ０．１４質量部
・メチルエチルケトン ３７１質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0109】
棒状液晶性正化合物の混合物Ｌ１（下記式中の数値は質量％を表し、Ｒは酸素原子で結合する基を表す。）
【化11】
【0110】
変性トリメチロールプロパントリアクリレート
【化12】
【0111】
下記光重合開始剤Ｉ－１
【化13】
【0112】
＜バリア層１の形成＞
液晶層Ａ上に、下記バリア層形成用組成物１を＃２のワイヤーバーで連続的に塗布し、４０℃で９０秒間乾燥を行った。
その後、高圧水銀灯を用いて照度３０ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射し、樹脂組成物を硬化させ、液晶層Ａ上にバリア層１が形成された積層体を作製した。
ミクロトーム切削機を用いて、バリア層１の断面を切削し、走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）観察にて膜厚を測定したところ、膜厚は約１．８μｍであった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
バリア層形成用組成物１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） ５４質量部
・下記ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７（ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・下記ＣＰＩ－１００Ｐ（炭酸プロピレン溶液） ３質量部
・オルガノシリカゾルＭＥＫ－ＥＣ－２１３０Ｙ（日産化学社製）
３００質量部
・メガファックＲＳ－９０（ＤＩＣ製） ７．５質量部
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １３３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶層Ａ上に、下記バリア層形成用組成物１を＃２のワイヤーバーで連続的に塗布し、４０℃で９０秒間乾燥を行った。
その後、高圧水銀灯を用いて照度３０ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射し、樹脂組成物を硬化させ、液晶層Ａ上にバリア層１が形成された積層体を作製した。
ミクロトーム切削機を用いて、バリア層１の断面を切削し、走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）観察にて膜厚を測定したところ、膜厚は約１．８μｍであった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
バリア層形成用組成物１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） ５４質量部
・下記ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７（ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・下記ＣＰＩ－１００Ｐ（炭酸プロピレン溶液） ３質量部
・オルガノシリカゾルＭＥＫ－ＥＣ－２１３０Ｙ（日産化学社製）
３００質量部
・メガファックＲＳ－９０（ＤＩＣ製） ７．５質量部
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １３３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0113】
ＣＥＬ２０２１Ｐ
【化14】
【0114】
ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７
【化15】
【0115】
ＣＰＩ－１００Ｐ（光カチオン重合開始剤）
【化16】
【0116】
［実施例２］
光吸収異方性膜の形成において、光吸収異方性膜形成用組成物１を下記に示す光吸収異方性膜形成用組成物２に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例２の積層体を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物２の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記イエローアゾ色素Ｙ－１ ０．１３質量部
・下記マゼンタアゾ色素Ｍ－２ ０．２１質量部
・下記シアンアゾ色素Ｃ－２ ０．５６質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－２ ４．０３質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０４３質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．０３９質量部
・シクロペンタノン ６６．５０質量部
・テトラヒドロフラン ２８．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜の形成において、光吸収異方性膜形成用組成物１を下記に示す光吸収異方性膜形成用組成物２に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例２の積層体を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物２の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記イエローアゾ色素Ｙ－１ ０．１３質量部
・下記マゼンタアゾ色素Ｍ－２ ０．２１質量部
・下記シアンアゾ色素Ｃ－２ ０．５６質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－２ ４．０３質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０４３質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．０３９質量部
・シクロペンタノン ６６．５０質量部
・テトラヒドロフラン ２８．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0117】
マゼンタアゾ色素Ｍ－２
【化17】
【0118】
シアンアゾ色素Ｃ－２
【化18】
【0119】
高分子液晶性化合物Ｐ－２
【化19】
【0120】
［実施例３］
光吸収異方性膜の形成において、光吸収異方性膜形成用組成物１を下記に示す光吸収異方性膜形成用組成物３に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例２の積層体を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物３の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記イエローアゾ色素Ｙ－２ ０．２３質量部
・下記マゼンタアゾ色素Ｍ－３ ０．２１質量部
・下記シアンアゾ色素Ｃ－３ ０．４６質量部
・高分子液晶性化合物Ｐ－２ ４．０３質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０４３質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．０３９質量部
・シクロペンタノン ６６．５０質量部
・テトラヒドロフラン ２８．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜の形成において、光吸収異方性膜形成用組成物１を下記に示す光吸収異方性膜形成用組成物３に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例２の積層体を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物３の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記イエローアゾ色素Ｙ－２ ０．２３質量部
・下記マゼンタアゾ色素Ｍ－３ ０．２１質量部
・下記シアンアゾ色素Ｃ－３ ０．４６質量部
・高分子液晶性化合物Ｐ－２ ４．０３質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０４３質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．０３９質量部
・シクロペンタノン ６６．５０質量部
・テトラヒドロフラン ２８．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0121】
イエローアゾ色素Ｙ－２
【化20】
【0122】
マゼンタアゾ色素Ｍ－３
【化21】
【0123】
シアンアゾ色素Ｃ－３
【化22】
【0124】
［実施例４および５］
液晶層の形成において、液晶層Ａの膜厚を下記表１に示す膜厚になるように固形分を調整して塗布した以外は、実施例２と同様の方法にて、実施例４および５の積層体を得た。
液晶層の形成において、液晶層Ａの膜厚を下記表１に示す膜厚になるように固形分を調整して塗布した以外は、実施例２と同様の方法にて、実施例４および５の積層体を得た。
【0125】
［実施例６］
配向膜１に代えて、以下の方法で形成した配向膜２を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、実施例６の積層体を得た。
配向膜１に代えて、以下の方法で形成した配向膜２を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、実施例６の積層体を得た。
【0126】
＜配向膜２の形成＞
（重合体Ｅ－２の合成）
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合物を撹拌した。次に、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて得られた混合物に滴下した後、還流下で混合物を混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで有機相を洗浄した。その後、得られた有機相から減圧下で溶媒および水を留去し、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、１Ｈ－ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン１０．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亜合成株式会社、商品名「アロニックスＭ－５３００」、アクリル酸ω－カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．５質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５－２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、得られた混合物を９０℃で１２時間撹拌した。撹拌後、得られた混合物と等量（質量）の酢酸ブチルで混合物を希釈し、さらに希釈された混合物を３回水洗した。得られた混合物を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（下記重合体Ｅ－２）を含む溶液を得た。この重合体Ｅ－２の重量平均分子量Ｍｗは９，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ分析の結果、重合体Ｅ－２中のシンナメート基を有する成分は２３．７質量％であった。
（重合体Ｅ－２の合成）
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合物を撹拌した。次に、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて得られた混合物に滴下した後、還流下で混合物を混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで有機相を洗浄した。その後、得られた有機相から減圧下で溶媒および水を留去し、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、１Ｈ－ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン１０．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亜合成株式会社、商品名「アロニックスＭ－５３００」、アクリル酸ω－カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．５質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５－２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、得られた混合物を９０℃で１２時間撹拌した。撹拌後、得られた混合物と等量（質量）の酢酸ブチルで混合物を希釈し、さらに希釈された混合物を３回水洗した。得られた混合物を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（下記重合体Ｅ－２）を含む溶液を得た。この重合体Ｅ－２の重量平均分子量Ｍｗは９，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ分析の結果、重合体Ｅ－２中のシンナメート基を有する成分は２３．７質量％であった。
【0127】
【化23】
【0128】
（配向膜形成用組成物２の調製）
以下の成分を混合して、配向膜形成用組成物２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用組成物２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記重合体Ｅ－２ １０．６７質量部
・下記低分子化合物Ｒ－１ ５．１７質量部
・下記添加剤（Ｂ－１） ０．５３質量部
・酢酸ブチル ８２８７．３７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
２０７１．８５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
以下の成分を混合して、配向膜形成用組成物２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用組成物２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記重合体Ｅ－２ １０．６７質量部
・下記低分子化合物Ｒ－１ ５．１７質量部
・下記添加剤（Ｂ－１） ０．５３質量部
・酢酸ブチル ８２８７．３７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
２０７１．８５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0129】
【化24】
【0130】
添加剤（Ｂ－１）：サンアプロ社製ＴＡ－６０Ｂ（以下、構造式参照）
【化25】
【0131】
ＴＡＣ支持体上に、配向膜形成用組成物２をスピンコート法により塗布し、配向膜形成用組成物２が塗布された支持体を８０℃のホットプレート上で５分間乾燥して溶剤を除去し、塗膜を形成した。
得られた塗膜に対して、偏光紫外線照射（２５ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ）することで配向膜２を形成した。なお、下記表１においては、配向膜２を「シンナモイル（Ｅ－２）」と表記している。
得られた塗膜に対して、偏光紫外線照射（２５ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ）することで配向膜２を形成した。なお、下記表１においては、配向膜２を「シンナモイル（Ｅ－２）」と表記している。
【0132】
［実施例７］
配向膜１に代えて、以下の方法で形成した配向膜３を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、実施例７の積層体を得た。
配向膜１に代えて、以下の方法で形成した配向膜３を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、実施例７の積層体を得た。
【0133】
＜配向膜３の形成＞
配向膜形成用組成物３を＃４のバーを用いて乾燥後のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）支持体上に塗布し、塗布した配向膜形成用組成物３を８０℃で１５分間乾燥後、２５０℃で１時間加熱して、ＰＥＴ支持体上に塗布膜を形成した。
得られた塗布膜に偏光紫外線照射（１Ｊ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ）を１回施して、ＰＥＴ支持体上に配向膜３を形成した。なお、下記表１においては、配向膜３を「ポリイミド」と表記している。
配向膜形成用組成物３を＃４のバーを用いて乾燥後のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）支持体上に塗布し、塗布した配向膜形成用組成物３を８０℃で１５分間乾燥後、２５０℃で１時間加熱して、ＰＥＴ支持体上に塗布膜を形成した。
得られた塗布膜に偏光紫外線照射（１Ｊ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ）を１回施して、ＰＥＴ支持体上に配向膜３を形成した。なお、下記表１においては、配向膜３を「ポリイミド」と表記している。
【0134】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用組成物３の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイミド配向膜材料（ＳＥ－１３０、日産化学社製） ２．０質量部
・Ｎ－メチルピロリドン ９８．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用組成物３の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイミド配向膜材料（ＳＥ－１３０、日産化学社製） ２．０質量部
・Ｎ－メチルピロリドン ９８．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0135】
［実施例８］
液晶層の形成において、液晶層形成用組成物Ａを下記に示す液晶層形成用組成物Ｂに変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例８の積層体を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶層形成用組成物Ｂの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
上記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ１ １．８８質量部
上記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ２．１６質量部
上記光重合開始剤Ｉ－１ ０．２０質量部
上記界面改良剤Ｆ－１ ０．１４質量部
メチルエチルケトン ４３４質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶層の形成において、液晶層形成用組成物Ａを下記に示す液晶層形成用組成物Ｂに変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例８の積層体を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶層形成用組成物Ｂの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
上記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ１ １．８８質量部
上記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ２．１６質量部
上記光重合開始剤Ｉ－１ ０．２０質量部
上記界面改良剤Ｆ－１ ０．１４質量部
メチルエチルケトン ４３４質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0136】
［実施例９］
液晶層の形成において、液晶層形成用組成物Ａを下記に示す液晶層形成用組成物Ｃに変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例９の積層体を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶層形成用組成物Ｃの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物（Ｌ２） １．０質量部
・上記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．１質量部
・上記光重合開始剤Ｉ－１ ０．０６質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．０４４質量部
・メチルエチルケトン １１３．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶層の形成において、液晶層形成用組成物Ａを下記に示す液晶層形成用組成物Ｃに変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例９の積層体を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶層形成用組成物Ｃの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物（Ｌ２） １．０質量部
・上記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．１質量部
・上記光重合開始剤Ｉ－１ ０．０６質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．０４４質量部
・メチルエチルケトン １１３．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0137】
棒状液晶性化合物の混合物（Ｌ２）
【化26】
【0138】
［実施例１０］
＜液晶性化合物の合成＞
Ｌｕｂ eｔ aｌ. Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ，１１５, ３２１－３２８（１９９６）記載の方法で、下記式（１－６）で表される液晶性化合物（１－６）を合成した。
＜液晶性化合物の合成＞
Ｌｕｂ eｔ aｌ. Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ，１１５, ３２１－３２８（１９９６）記載の方法で、下記式（１－６）で表される液晶性化合物（１－６）を合成した。
【化27】
【0139】
次いで、上記化合物（１－６）の合成方法を参考に、下記式（１－７）で表される液晶性化合物（１－７）を合成した。
【0140】
【化28】
【0141】
＜光吸収異方性膜形成用組成物４の調製＞
下記の成分を混合し、８０℃で１時間撹拌することで、光吸収異方性膜形成用組成物４（下記表１においては「組成物４」と略す。）を調製した。
下記の成分を混合し、８０℃で１時間撹拌することで、光吸収異方性膜形成用組成物４（下記表１においては「組成物４」と略す。）を調製した。
【0142】
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物４の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記液晶性化合物（１－６） ５０部質量部
・上記液晶性化合物（１－７） ５０部質量部
・アゾ色素（Ｇ－２０５；林原生物化学研究所製） ２５質量部
・重合開始剤イルガキュア３６９（ＢＡＳＦ社製） ６質量部
・ポリアクリレート化合物
（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製） １．２質量部
・シクロペンタノン ２５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物４の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記液晶性化合物（１－６） ５０部質量部
・上記液晶性化合物（１－７） ５０部質量部
・アゾ色素（Ｇ－２０５；林原生物化学研究所製） ２５質量部
・重合開始剤イルガキュア３６９（ＢＡＳＦ社製） ６質量部
・ポリアクリレート化合物
（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製） １．２質量部
・シクロペンタノン ２５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0143】
光吸収異方性膜の形成において、光吸収異方性膜形成用組成物１を上記に示す光吸収異方性膜形成用組成物４に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例１０の積層体を得た。
【0144】
［実施例１１］
実施例１で作製した透明支持体１上に、実施例６で用いた配向膜形成用組成物２をスピンコート法により塗布し、配向膜形成用組成物２が塗布された支持体を８０℃のホットプレート上で５分間乾燥して溶剤を除去し、塗膜を形成した。得られた塗膜に対して、偏光紫外線照射（２５ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ）することで配向膜２を形成した。なお、下記表１においては、配向膜２を「シンナモイル（Ｅ－２）」と表記している。
実施例１で作製した透明支持体１上に、実施例６で用いた配向膜形成用組成物２をスピンコート法により塗布し、配向膜形成用組成物２が塗布された支持体を８０℃のホットプレート上で５分間乾燥して溶剤を除去し、塗膜を形成した。得られた塗膜に対して、偏光紫外線照射（２５ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ）することで配向膜２を形成した。なお、下記表１においては、配向膜２を「シンナモイル（Ｅ－２）」と表記している。
【0145】
＜液晶層Ａの形成＞
次いで、配向膜２上に、実施例１で用いた液晶層形成用組成物Ａ（下記表１においては「組成物Ａ」と略す。）を＃３のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射することにより、配向膜２上に液晶層Ａを作製した。
次いで、配向膜２上に、実施例１で用いた液晶層形成用組成物Ａ（下記表１においては「組成物Ａ」と略す。）を＃３のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射することにより、配向膜２上に液晶層Ａを作製した。
【0146】
＜光吸収異方性膜２の形成＞
得られた液晶層Ａ上に、光吸収異方性膜形成用組成物２（下記表１においては「組成物２」と略す。）を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、液晶層Ａ上に光吸収異方性膜２を作製した。
得られた液晶層Ａ上に、光吸収異方性膜形成用組成物２（下記表１においては「組成物２」と略す。）を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、液晶層Ａ上に光吸収異方性膜２を作製した。
【0147】
＜バリア層の形成＞
光吸収異方性膜２上に、実施例１と同様にして、バリア層形成用組成物１を＃２のワイヤーバーで連続的に塗布し、４０℃で９０秒間乾燥を行った。
その後、高圧水銀灯を用いて照度３０ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射し、樹脂組成物を硬化させ、光吸収異方性膜２上にバリア層１が形成された積層体を作製した。
光吸収異方性膜２上に、実施例１と同様にして、バリア層形成用組成物１を＃２のワイヤーバーで連続的に塗布し、４０℃で９０秒間乾燥を行った。
その後、高圧水銀灯を用いて照度３０ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射し、樹脂組成物を硬化させ、光吸収異方性膜２上にバリア層１が形成された積層体を作製した。
【0148】
［実施例１２］
厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）上に、下記の組成の配向膜塗布液９を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。１００℃の温風で２分間乾燥し、厚み０．８μｍの配向膜を得た。
なお、変性ポリビニルアルコール（変性ＰＶＡ）は、固形分濃度が４質量％となるように配向膜塗布液中に加えた。上記作製した配向膜にラビング処理を施し、配向膜を形成した。また、下記表１においては、ラビング処理後の配向膜を「ＰＶＡラビング」と表記している。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）上に、下記の組成の配向膜塗布液９を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。１００℃の温風で２分間乾燥し、厚み０．８μｍの配向膜を得た。
なお、変性ポリビニルアルコール（変性ＰＶＡ）は、固形分濃度が４質量％となるように配向膜塗布液中に加えた。上記作製した配向膜にラビング処理を施し、配向膜を形成した。また、下記表１においては、ラビング処理後の配向膜を「ＰＶＡラビング」と表記している。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0149】
【化29】
【0150】
ラビング処理後の配向膜に、実施例８で用いた液晶層形成用組成物Ｂ（下記表１においては「組成物Ｂ」と略す。）を＃３のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射することにより、配向膜上に液晶層Ｂを形成した。
さらに、得られた液晶層Ｂ上に、光吸収異方性膜形成用組成物２（下記表１においては「組成物２」と略す。）を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜１を室温（２３℃）になるまで冷却した。次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、液晶層Ｂ上に光吸収異方性膜２を作製した。
次いで、塗布膜１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射することにより、配向膜上に液晶層Ｂを形成した。
さらに、得られた液晶層Ｂ上に、光吸収異方性膜形成用組成物２（下記表１においては「組成物２」と略す。）を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜１を室温（２３℃）になるまで冷却した。次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、液晶層Ｂ上に光吸収異方性膜２を作製した。
【0151】
＜バリア層の形成＞
光吸収異方性膜２上に、実施例１と同様にして、バリア層形成用組成物１を＃２のワイヤーバーで連続的に塗布し、４０℃で９０秒間乾燥を行った。
その後、高圧水銀灯を用いて照度３０ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射し、樹脂組成物を硬化させ、光吸収異方性膜２上にバリア層Ａが形成された積層体を作製した。
光吸収異方性膜２上に、実施例１と同様にして、バリア層形成用組成物１を＃２のワイヤーバーで連続的に塗布し、４０℃で９０秒間乾燥を行った。
その後、高圧水銀灯を用いて照度３０ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射し、樹脂組成物を硬化させ、光吸収異方性膜２上にバリア層Ａが形成された積層体を作製した。
【0152】
［実施例１３］
実施例１で作製した透明支持体１上に、実施例６で用いた配向膜形成用組成物２をスピンコート法により塗布し、配向膜形成用組成物２が塗布された支持体を８０℃のホットプレート上で５分間乾燥して溶剤を除去し、塗膜を形成した。得られた塗膜に対して、偏光紫外線照射（２５ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ）することで配向膜２を形成した。
実施例１で作製した透明支持体１上に、実施例６で用いた配向膜形成用組成物２をスピンコート法により塗布し、配向膜形成用組成物２が塗布された支持体を８０℃のホットプレート上で５分間乾燥して溶剤を除去し、塗膜を形成した。得られた塗膜に対して、偏光紫外線照射（２５ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ）することで配向膜２を形成した。
【0153】
＜液晶層Ａ１の形成＞
次いで、配向膜２上に、実施例１で用いた液晶層形成用組成物Ａを＃３のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射することにより、配向膜２上に液晶層Ａ１を作製した。
次いで、配向膜２上に、実施例１で用いた液晶層形成用組成物Ａを＃３のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射することにより、配向膜２上に液晶層Ａ１を作製した。
【0154】
＜光吸収異方性膜２の形成＞
得られた液晶層Ａ１上に、光吸収異方性膜形成用組成物２を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、液晶層Ａ１上に光吸収異方性膜２を作製した。
得られた液晶層Ａ１上に、光吸収異方性膜形成用組成物２を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、液晶層Ａ１上に光吸収異方性膜２を作製した。
【0155】
＜液晶層Ａ２の形成＞
次いで、光吸収異方性膜２上に、実施例１で用いた液晶層形成用組成物Ａを＃３のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜２を形成した。
次いで、塗布膜２を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射することにより、光吸収異方性膜２上に液晶層Ａ２を作製した。
次いで、光吸収異方性膜２上に、実施例１で用いた液晶層形成用組成物Ａを＃３のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜２を形成した。
次いで、塗布膜２を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射することにより、光吸収異方性膜２上に液晶層Ａ２を作製した。
【0156】
＜バリア層の形成＞
液晶層Ａ２上に、実施例１と同様にして、バリア層形成用組成物１を＃２のワイヤーバーで連続的に塗布し、４０℃で９０秒間乾燥を行った。
その後、高圧水銀灯を用いて照度３０ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射し、樹脂組成物を硬化させ、液晶層Ａ２上にバリア層１が形成された積層体を作製した。
液晶層Ａ２上に、実施例１と同様にして、バリア層形成用組成物１を＃２のワイヤーバーで連続的に塗布し、４０℃で９０秒間乾燥を行った。
その後、高圧水銀灯を用いて照度３０ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射し、樹脂組成物を硬化させ、液晶層Ａ２上にバリア層１が形成された積層体を作製した。
【0157】
［比較例１］
液晶層を形成しない以外は、実施例１と同様の方法で積層体を作製した。
液晶層を形成しない以外は、実施例１と同様の方法で積層体を作製した。
【0158】
［比較例２］
液晶層を形成しない以外は、実施例１１と同様の方法で積層体を作製した。
液晶層を形成しない以外は、実施例１１と同様の方法で積層体を作製した。
【0159】
［比較例３］
液晶層の形成において、液晶層１の膜厚を表１に示す膜厚になるように固形分を調整して塗布した以外は、実施例１と同様の方法にて、比較例３の積層体を得た。
液晶層の形成において、液晶層１の膜厚を表１に示す膜厚になるように固形分を調整して塗布した以外は、実施例１と同様の方法にて、比較例３の積層体を得た。
【0160】
［比較例４］
液晶層の形成において、液晶層形成用組成物Ａを下記に示す樹脂組成物Ｄ（下記表１においては「組成物Ｄ」と略す。）に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて、比較例４の積層体を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂組成物Ｄの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ３．４１質量部
・上記光重合開始剤Ｉ－１ ０．４０質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．１４質量部
・メチルエチルケトン ３７１質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶層の形成において、液晶層形成用組成物Ａを下記に示す樹脂組成物Ｄ（下記表１においては「組成物Ｄ」と略す。）に変更した以外は、実施例1と同様の方法にて、比較例４の積層体を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂組成物Ｄの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ３．４１質量部
・上記光重合開始剤Ｉ－１ ０．４０質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．１４質量部
・メチルエチルケトン ３７１質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0161】
［比較例５］
液晶層の形成において、高圧水銀灯での照射時に、塗布膜の温度が９０℃になるように変更し、液晶性化合物を配向せずに液晶層を形成した以外は、実施例１と同様にして、比較例５の積層体を得た。
液晶層の形成において、高圧水銀灯での照射時に、塗布膜の温度が９０℃になるように変更し、液晶性化合物を配向せずに液晶層を形成した以外は、実施例１と同様にして、比較例５の積層体を得た。
【0162】
［比較例６］
＜液晶層の形成＞
実施例１の透明支持体１上に、液晶層形成用組成物Ａをスピンコート法により塗布し、塗布膜１を形成した。次いで、塗布膜１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射することにより、透明支持体上に液晶層Ａを作製した。
ミクロトーム切削機を用いて、液晶層Ａの断面を切削し、走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）観察にて膜厚を測定したところ、膜厚は約６００ｎｍであった。
次いで、実施例１と同様にして、透明支持体１上に、配向膜および光吸収異方性膜を形成した。
上記で作製した光吸収異方性膜に、粘着剤（ＳＫ－２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、透明支持体上の液晶層Ａの液晶層側を、光吸収異方性膜の吸収軸と、液晶層の遅相軸とのなす角が４５°になるように貼り合わせ、比較例６の積層体を形成した。
＜液晶層の形成＞
実施例１の透明支持体１上に、液晶層形成用組成物Ａをスピンコート法により塗布し、塗布膜１を形成した。次いで、塗布膜１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射することにより、透明支持体上に液晶層Ａを作製した。
ミクロトーム切削機を用いて、液晶層Ａの断面を切削し、走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）観察にて膜厚を測定したところ、膜厚は約６００ｎｍであった。
次いで、実施例１と同様にして、透明支持体１上に、配向膜および光吸収異方性膜を形成した。
上記で作製した光吸収異方性膜に、粘着剤（ＳＫ－２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、透明支持体上の液晶層Ａの液晶層側を、光吸収異方性膜の吸収軸と、液晶層の遅相軸とのなす角が４５°になるように貼り合わせ、比較例６の積層体を形成した。
【0163】
［円偏光板の作製］
上記で作製した各積層体の光吸収異方性膜側（バリア層が形成されている場合には、バリア層側）に、粘着剤（ＳＫ－２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、λ／４板として、ピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）を貼り合せ、円偏光板を作製した。
上記で作製した各積層体の光吸収異方性膜側（バリア層が形成されている場合には、バリア層側）に、粘着剤（ＳＫ－２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、λ／４板として、ピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）を貼り合せ、円偏光板を作製した。
【0164】
有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。続いて、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記作製した円偏光板を空気が入らないようにしてタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。
【0165】
［表示性能］
作製した有機ＥＬ表示装置について、明光下にて視認性および表示品位を評価した。表示装置の表示画面を黒表示にして、正面および極角４５度から蛍光灯を映しこんだときの反射光を観察した。下記の基準に基づいて表示性能を評価した。評価結果を表１にまとめて示す。
６：黒色で色づきが全く視認されない
５：わずかに着色が視認されるが、反射率が非常に低い
４：わずかに着色が視認されるが、反射率が低い
３：わずかに着色が視認され、かつ反射率が高い
２：着色が視認され、反射率が高い。
１：着色が明らかに視認され、かつ反射率が非常に高い
作製した有機ＥＬ表示装置について、明光下にて視認性および表示品位を評価した。表示装置の表示画面を黒表示にして、正面および極角４５度から蛍光灯を映しこんだときの反射光を観察した。下記の基準に基づいて表示性能を評価した。評価結果を表１にまとめて示す。
６：黒色で色づきが全く視認されない
５：わずかに着色が視認されるが、反射率が非常に低い
４：わずかに着色が視認されるが、反射率が低い
３：わずかに着色が視認され、かつ反射率が高い
２：着色が視認され、反射率が高い。
１：着色が明らかに視認され、かつ反射率が非常に高い
【0166】
［湿熱耐性］
作製した有機ＥＬ表示装置について、６０℃相対湿度９０％の環境下で５００時間経時させた。その後得られた表示装置に関して、明光下にて視認性および表示品位を評価した。表示装置の表示画面を黒表示にして、正面および極角４５度から蛍光灯を映しこんだときの反射光を観察した。下記の基準に基づいて表示性能を評価した。評価結果を表１にまとめて示す。
６：黒色で色づきが全く視認されない
５：わずかに着色が視認されるが、反射率が非常に低い
４：わずかに着色が視認されるが、反射率が低い
３：わずかに着色が視認され、かつ反射率が高い
２：着色が視認され、反射率が高い。
１：着色が明らかに視認され、かつ反射率が非常に高い
作製した有機ＥＬ表示装置について、６０℃相対湿度９０％の環境下で５００時間経時させた。その後得られた表示装置に関して、明光下にて視認性および表示品位を評価した。表示装置の表示画面を黒表示にして、正面および極角４５度から蛍光灯を映しこんだときの反射光を観察した。下記の基準に基づいて表示性能を評価した。評価結果を表１にまとめて示す。
６：黒色で色づきが全く視認されない
５：わずかに着色が視認されるが、反射率が非常に低い
４：わずかに着色が視認されるが、反射率が低い
３：わずかに着色が視認され、かつ反射率が高い
２：着色が視認され、反射率が高い。
１：着色が明らかに視認され、かつ反射率が非常に高い
【0167】
【表1】
【0168】
上記表１に示す通り、液晶層を設けない積層体は、画像表示装置に用いたときに表示性能に劣り、また、アゾ系の配向膜を用いた場合には、画像表示装置に用いたときに湿熱耐性も劣ることが分かった（比較例１～２）。
また、液晶層の厚みが３００ｎｍよりも大きい積層体は、画像表示装置に用いたときに表示性能および耐湿熱性が劣ることが分かった（比較例３）。
また、液晶層に代えて樹脂層を設けた積層体、および、液晶性化合物を配向させずに（遅相軸を有しない）液晶層を設けた積層体は、画像表示装置に用いたときに表示性能および耐湿熱性が劣ることが分かった（比較例４～５）。
また、光吸収異方性膜の吸収軸と、液晶層の遅相軸とのなす角が４５°となるように配置した積層体は、画像表示装置に用いたときに耐湿熱性が劣ることが分かった（比較例６）。
これに対し、液晶層の厚みが３００ｎｍ以下であり、光吸収異方性膜の吸収軸と、液晶層の遅相軸とが平行である積層体は、いずれも、画像表示装置に用いたときに表示性能および湿熱耐久性に優れることが分かった（実施例１～１３）。
また、液晶層の厚みが３００ｎｍよりも大きい積層体は、画像表示装置に用いたときに表示性能および耐湿熱性が劣ることが分かった（比較例３）。
また、液晶層に代えて樹脂層を設けた積層体、および、液晶性化合物を配向させずに（遅相軸を有しない）液晶層を設けた積層体は、画像表示装置に用いたときに表示性能および耐湿熱性が劣ることが分かった（比較例４～５）。
また、光吸収異方性膜の吸収軸と、液晶層の遅相軸とのなす角が４５°となるように配置した積層体は、画像表示装置に用いたときに耐湿熱性が劣ることが分かった（比較例６）。
これに対し、液晶層の厚みが３００ｎｍ以下であり、光吸収異方性膜の吸収軸と、液晶層の遅相軸とが平行である積層体は、いずれも、画像表示装置に用いたときに表示性能および湿熱耐久性に優れることが分かった（実施例１～１３）。
【符号の説明】
【0169】
１００、２００、３００、４００ 積層体
１２ 透明支持体
１４ 配向膜
１６ 光吸収異方性膜
１８ 液晶層
２０ 第２液晶層
３０ バリア層
４０ 光学異方性層
１２ 透明支持体
１４ 配向膜
１６ 光吸収異方性膜
１８ 液晶層
２０ 第２液晶層
３０ バリア層
４０ 光学異方性層
【図1A】
【図1B】
【図1C】
【図1D】
