知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-05-30
(45)【発行日】2022-06-07
(54)【発明の名称】マイクロ流路チップ
(51)【国際特許分類】
C12M 1/34 20060101AFI20220531BHJP
B81B 1/00 20060101ALI20220531BHJP
C08F 214/18 20060101ALN20220531BHJP
【ＦＩ】
C12M1/34 A
B81B1/00
C08F214/18
【請求項の数】
17
(21)【出願番号】P 2019542320
(86)(22)【出願日】2018-09-14
(86)【国際出願番号】 JP2018034244
(87)【国際公開番号】W WO2019054500
(87)【国際公開日】2019-03-21
【審査請求日】2020-08-26
(31)【優先権主張番号】P 2017177979
(32)【優先日】2017-09-15
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000000044
【氏名又は名称】ＡＧＣ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001634
【氏名又は名称】特許業務法人 志賀国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】大倉 雅博
(72)【発明者】
【氏名】田口 大輔
(72)【発明者】
【氏名】井手 正迪
(72)【発明者】
【氏名】松岡 直樹
【審査官】小金井 悟
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２００５／０８４１９１（ＷＯ，Ａ２）
【文献】国際公開第２０１３／０４７８２７（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２００５／１２０６９８（ＷＯ，Ａ２）
【文献】特開２００２－０６９２４６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００５－１２５２８０（ＪＰ，Ａ）
【文献】Anal. Chem.，2002年09月01日，Vol.74, No.17，pp.4566-4569
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ１２Ｍ １／００－ ３／１０
ＪＳＴＰｌｕｓ／ＪＭＥＤＰｌｕｓ／ＪＳＴ７５８０（ＪＤｒｅａｍＩＩＩ）
ＣＡｐｌｕｓ／ＭＥＤＬＩＮＥ／ＢＩＯＳＩＳ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の開口と、前記複数の開口をつなぐ内部空間が形成されており、前記内部空間に接する面の少なくとも一部が、下記（１）、（３）、又は（５）のいずれかの含フッ素共重合体からなるマイクロ流路チップ。（１）テトラフルオロエチレンに基づく単位とプロピレンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が６５～１００モル％である共重合体。
（３）ヘキサフルオロプロピレンに基づく単位とフッ化ビニリデンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が５０～１００モル％である共重合体。
（５）テトラフルオロエチレンに基づく単位とパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が５０～１００モル％である共重合体。
【請求項2】
前記含フッ素共重合体のタイプＡデュロメータ硬度が８０以下である、請求項１に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項3】
前記含フッ素共重合体のヤング率が１０ＭＰａ以下である、請求項１又は２に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項4】
前記含フッ素共重合体のニフェジピン吸収率が３０％以下である、請求項１～３のいずれか一項に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項5】
前記含フッ素共重合体のＢａｙＫ８６４４吸収率が１０％以下である、請求項１～４のいずれか一項に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項6】
前記含フッ素共重合体が、前記（１）又は（５）のいずれかの含フッ素共重合体であって、テトラフルオロエチレンに基づく単位を５０～８０モル％有する共重合体であり、酸素の透過係数が１．０～３９０×１０－１０[cm3・cm/(cm2・s・cmHg)]、かつ二酸化炭素の透過係数が５．０～１９００×１０－１０[cm3・cm/(cm2・s・cmHg)]である、請求項１～５のいずれか一項に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項7】
前記含フッ素共重合体が、該共重合体に対して、ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％有する、請求項１～６のいずれか一項に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項8】
少なくとも第１の基板と第２の基板と第３の基板がこの順に積層され、前記第１の基板には複数の貫通孔が形成され、前記第２の基板には前記第１の基板の複数の貫通孔をつなぐように、表面から裏面に貫通する貫通溝が形成され、前記複数の貫通孔と前記貫通溝は前記内部空間を形成し、
前記第１の基板、第２の基板及び第３の基板のうち少なくとも１つが前記含フッ素共重合体からなるか、又は、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記貫通溝に臨む面、前記第２の基板の貫通溝の内壁面、並びに前記第３の基板の前記貫通溝に臨む面のうち少なくとも一部が前記含フッ素共重合体でコーティングされている、請求項１～７のいずれか一項に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項9】
少なくとも第１の基板と第２の基板が積層され、前記第１の基板には複数の貫通孔が形成され、前記第２の基板には前記第１の基板の複数の貫通孔をつなぐように有底の溝が形成され、前記複数の貫通孔と前記有底の溝は前記内部空間を形成し、
前記第１の基板及び第２の基板のうち少なくとも１つが前記含フッ素共重合体からなるか、又は、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記溝に臨む面、並びに前記第２の基板の溝の底面及び内壁面のうち少なくとも一部が、前記含フッ素共重合体でコーティングされている、請求項１～７のいずれか一項に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項10】
少なくとも第１の基板と第２の基板が積層され、前記第１の基板には複数の貫通孔が形成され、かつ前記複数の貫通孔を繋ぐように配置された有底の溝が形成され、前記第２の基板は孔も溝も有さず、前記複数の貫通孔と前記有底の溝は前記内部空間を形成し、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面、前記有底の溝の底面及び内壁面、並びに前記第２の基板の前記有底の溝に臨む面のうち少なくとも一部が前記含フッ素共重合体からなるか、又は、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面、前記有底の溝の底面及び内壁面、及び前記第２の基板の前記有底の溝に臨む面のうち少なくとも一部が前記含フッ素共重合体でコーティングされている、請求項１～７のいずれか一項に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項11】
少なくとも第１の基板と第２の基板が積層され、前記第１の基板には複数の貫通孔と有底の溝が形成され、前記第２の基板には前記第１の基板の複数の貫通孔をつなぐように配置された有底の溝を有し、前記第１と第２の基板の間に、前記貫通孔を塞がないように配置されたフィルムを有し、前記複数の貫通孔と前記有底の溝は前記内部空間を形成し、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面、前記有底の溝の底面及び内壁面、並びに前記第２の基板の前記溝の底面及び内壁面のうち少なくとも一部が前記含フッ素共重合体からなるか、又は、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面、前記有底の溝の底面及び内壁面、並びに前記第２の基板の前記溝の底面及び内壁面のうち少なくとも一部が、前記含フッ素共重合体でコーティングされている、請求項１～７のいずれか一項に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項12】
前記フィルムが、コラーゲン、ポリジメチルシロキサン、又はＣＦ２＝ＣＦＸ（Ｘはフッ素原子、塩素原子、又はＣＦ３である。）に基づく単位を５～９９モル％含む含フッ素共重合体からなる、請求項１１に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項13】
前記基板の波長４００ｎｍにおける透過率が８０％以上である、請求項８～１２のいずれか一項に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項14】
前記基板のヘイズ値が５０％以上である、請求項８～１３のいずれか一項に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項15】
前記内部空間が、細胞を収容する収容部を含む、請求項１～１４のいずれか一項に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項16】
前記内部空間に細胞を含む、請求項１～１５のいずれか一項に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項17】
前記内部空間に細胞を含んだ状態における細胞培養面の伸びが１．０～２５．０％である、請求項１６に記載のマイクロ流路チップ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、流路として使用できる内部空間を設けたマイクロ流路チップに関する。
【背景技術】
【0002】
薬品などの動物に対する毒性評価などを行う試験では、細胞を生きた状態で収容し、流路を通じてそこに薬剤を供給して細胞を培養しながら薬剤と接触させて観察、評価を行うデバイスが必要とされている。特許文献１には、動物実験薬剤の機能評価などを行う際に、内部に流路を有するマイクロ流体デバイスを用い、流路内に薬剤と細胞を供給して培養する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】国際公開第２０１６／１０４５４１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献１において、マイクロ流体デバイスの材料は特に考慮されておらず、段落００８３にはポリジメチルシロキサン等の一般的な重合体が例示されている。
しかし、このようなデバイスの材料は、生体のような柔らかさや、細胞の状態を外部から観察するために透明性が必要とされるほかに、薬剤の評価を行う際に、デバイスにおける流路を形成する材料が薬剤を吸収したり、薬剤と反応したりする場合には、正確な評価ができない。
しかし、このようなデバイスの材料は、生体のような柔らかさや、細胞の状態を外部から観察するために透明性が必要とされるほかに、薬剤の評価を行う際に、デバイスにおける流路を形成する材料が薬剤を吸収したり、薬剤と反応したりする場合には、正確な評価ができない。
【0005】
本発明は、薬品などの動物に対する毒性評価などに使用されるマイクロ流体デバイスとして好適である、デバイスにおいて流路を形成する材料が柔らかさや透明性を有し、かつ薬剤の非吸収性に優れる、流路として使用できる内部空間を設けたマイクロ流路チップ（以下、単に、チップともいう。）の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、前記の目的を達成するためのものであり、以下の態様を有する。
［１］複数の開口と、前記複数の開口をつなぐ内部空間が形成されており、前記内部空間に接する面の少なくとも一部が、ＣＦ２＝ＣＦＸ（Ｘはフッ素原子、塩素原子、又はＣＦ３である。）に基づく単位を、共重合体の全単位に対して、５～９９モル％含む含フッ素共重合体からなるチップ。
［２］前記内部空間が、細胞を収容する収容部を含む、［１］のチップ。
［３］少なくとも第１の基板と第２の基板と第３の基板がこの順に積層され、前記第１の基板には複数の貫通孔が形成され、前記第２の基板には前記第１の基板の複数の貫通孔をつなぐように、表面から裏面に貫通する貫通溝が形成され、
前記第１の基板、第２の基板及び第３の基板のうち少なくとも１つが前記含フッ素共重合体からなるか、又は、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記貫通溝に臨む面、前記第２の基板の貫通溝の内壁面、並びに前記第３の基板の前記貫通溝に臨む面のうち少なくとも一部が前記含フッ素共重合体でコーティングされている、［１］又は［２］のチップ。
［４］前記複数の貫通孔と前記貫通溝で形成される内部空間が、細胞を収容する収容部を含む、［３］のチップ。
［１］複数の開口と、前記複数の開口をつなぐ内部空間が形成されており、前記内部空間に接する面の少なくとも一部が、ＣＦ２＝ＣＦＸ（Ｘはフッ素原子、塩素原子、又はＣＦ３である。）に基づく単位を、共重合体の全単位に対して、５～９９モル％含む含フッ素共重合体からなるチップ。
［２］前記内部空間が、細胞を収容する収容部を含む、［１］のチップ。
［３］少なくとも第１の基板と第２の基板と第３の基板がこの順に積層され、前記第１の基板には複数の貫通孔が形成され、前記第２の基板には前記第１の基板の複数の貫通孔をつなぐように、表面から裏面に貫通する貫通溝が形成され、
前記第１の基板、第２の基板及び第３の基板のうち少なくとも１つが前記含フッ素共重合体からなるか、又は、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記貫通溝に臨む面、前記第２の基板の貫通溝の内壁面、並びに前記第３の基板の前記貫通溝に臨む面のうち少なくとも一部が前記含フッ素共重合体でコーティングされている、［１］又は［２］のチップ。
［４］前記複数の貫通孔と前記貫通溝で形成される内部空間が、細胞を収容する収容部を含む、［３］のチップ。
【0007】
［５］少なくとも第１の基板と第２の基板が積層され、前記第１の基板には複数の貫通孔が形成され、前記第２の基板には前記第１の基板の複数の貫通孔をつなぐように有底の溝が形成され、
前記第１の基板及び第２の基板のうち少なくとも１つが前記含フッ素共重合体からなるか、又は、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記溝に臨む面、並びに前記第２の基板の溝の底面及び内壁面のうち少なくとも一部が、前記含フッ素共重合体でコーティングされている、［１］又は［２］のチップ。
［６］前記複数の貫通孔と前記有底の溝で形成される内部空間が、細胞を収容する収容部を含む、［５］のチップ。
前記第１の基板及び第２の基板のうち少なくとも１つが前記含フッ素共重合体からなるか、又は、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記溝に臨む面、並びに前記第２の基板の溝の底面及び内壁面のうち少なくとも一部が、前記含フッ素共重合体でコーティングされている、［１］又は［２］のチップ。
［６］前記複数の貫通孔と前記有底の溝で形成される内部空間が、細胞を収容する収容部を含む、［５］のチップ。
【0008】
［７］少なくとも第１の基板と第２の基板が積層され、前記第１の基板には複数の貫通孔が形成され、貫通孔と貫通孔を繋ぐように配置された有底の溝を有し、前記第２の基板には孔も溝も有さず、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記溝に臨む面のうち少なくとも一部が前記含フッ素共重合体からなるか、又は、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記溝に臨む面のうち少なくとも一部が前記含フッ素共重合体でコーティングされている、［１］又は［２］のチップ。
［８］少なくとも第１の基板と第２の基板が積層され、前記第１の基板には複数の貫通孔と有底の溝が形成され、前記第２の基板には前記第１の基板の複数の貫通孔をつなぐように配置された有底の溝を有し、前記第１と第２の基板の間に、前記貫通孔を塞がないように配置されたフィルムを有し、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記有底の溝に臨む面前記第２の基板の前記溝の底面及び内壁面のうち少なくとも一部が前記含フッ素共重合体からなるか、又は、前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記第２の基板の前記溝の底面及び内壁面のうち少なくとも一部が、前記含フッ素共重合体でコーティングされている、［１］又は［２］のチップ。
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記溝に臨む面のうち少なくとも一部が前記含フッ素共重合体からなるか、又は、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記溝に臨む面のうち少なくとも一部が前記含フッ素共重合体でコーティングされている、［１］又は［２］のチップ。
［８］少なくとも第１の基板と第２の基板が積層され、前記第１の基板には複数の貫通孔と有底の溝が形成され、前記第２の基板には前記第１の基板の複数の貫通孔をつなぐように配置された有底の溝を有し、前記第１と第２の基板の間に、前記貫通孔を塞がないように配置されたフィルムを有し、
前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記有底の溝に臨む面前記第２の基板の前記溝の底面及び内壁面のうち少なくとも一部が前記含フッ素共重合体からなるか、又は、前記第１の基板の複数の貫通孔の内壁面及び前記第２の基板の前記溝の底面及び内壁面のうち少なくとも一部が、前記含フッ素共重合体でコーティングされている、［１］又は［２］のチップ。
【0009】
［９］上記［８］に記載のフィルムが、コラーゲン、ポリジメチルシロキサン、又はＣＦ２＝ＣＦＸ（Ｘはフッ素原子、塩素原子、又はＣＦ３である。）に基づく単位を５～９９モル％含む含フッ素共重合体からなる、［８］のチップ。
［１０］前記含フッ素共重合体が、テトラフルオロエチレンに基づく単位を５０～８０ｍｏ％有する共重合体であり、酸素の透過係数が１．０～３９０×１０－１０[cm3*cm/(cm2*s*cmHg)]、かつ二酸化炭素の透過係数が５．０～１９００×１０－１０[cm3*cm/(cm2*s*cmHg)]である、［１］～［９］のいずれかのチップ。
［１１］前記含フッ素共重合体が、テトラフルオロエチレンに基づく単位を５０～７０ｍｏ％含む共重合体であり、タイプＡデュロメータ硬度が８０以下であり、ヤング率が１．５ＭＰａ以下、ニフェジピン吸収率が３０％以下、ＢａｙＫ８６４４吸収率が１０％以下であり、チップの内部空間を目視で確認できる、［１］～［１０］のいずれかのチップ。
［１０］前記含フッ素共重合体が、テトラフルオロエチレンに基づく単位を５０～８０ｍｏ％有する共重合体であり、酸素の透過係数が１．０～３９０×１０－１０[cm3*cm/(cm2*s*cmHg)]、かつ二酸化炭素の透過係数が５．０～１９００×１０－１０[cm3*cm/(cm2*s*cmHg)]である、［１］～［９］のいずれかのチップ。
［１１］前記含フッ素共重合体が、テトラフルオロエチレンに基づく単位を５０～７０ｍｏ％含む共重合体であり、タイプＡデュロメータ硬度が８０以下であり、ヤング率が１．５ＭＰａ以下、ニフェジピン吸収率が３０％以下、ＢａｙＫ８６４４吸収率が１０％以下であり、チップの内部空間を目視で確認できる、［１］～［１０］のいずれかのチップ。
【0010】
［１２］前記ＣＦ２＝ＣＦＸに基づく単位が、テトラフルオロエチレンに基づく単位、ヘキサフルオロプロピレンに基づく単位、又はクロロトリフルオロエチレンに基づく単位である、［１］～［１１］のいずれかのチップ。
［１３］前記含フッ素共重合体が、さらに、プロピレンに基づく単位、エチレンに基づく単位、フッ化ビニリデンに基づく単位、及びパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく単位からなる群から選ばれる少なくとも１種を、重合体が含む全単位に対して、１～９５モルを含む、［１］～［１２］のいずれかのチップ。
［１４］前記含フッ素共重合体が、
テトラフルオロエチレンに基づく単位とプロピレンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が６５～１００モル％である共重合体、
テトラフルオロエチレンに基づく単位とエチレンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が８０～１００モル％である共重合体、
ヘキサフルオロプロピレンに基づく単位とフッ化ビニリデンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が５０～１００モル％である共重合体、
クロロトリフルオロエチレンに基づく単位とエチレンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が８０～１００モル％である共重合体、
テトラフルオロエチレンに基づく単位とパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が５０～１００モル％である共重合体、又は
テトラフルオロエチレンに基づく単位とヘキサフルオロプロピレンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が５０～１００モル％である共重合体、のいずれかである、［１］～［１３］のいずれかのチップ。
［１３］前記含フッ素共重合体が、さらに、プロピレンに基づく単位、エチレンに基づく単位、フッ化ビニリデンに基づく単位、及びパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく単位からなる群から選ばれる少なくとも１種を、重合体が含む全単位に対して、１～９５モルを含む、［１］～［１２］のいずれかのチップ。
［１４］前記含フッ素共重合体が、
テトラフルオロエチレンに基づく単位とプロピレンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が６５～１００モル％である共重合体、
テトラフルオロエチレンに基づく単位とエチレンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が８０～１００モル％である共重合体、
ヘキサフルオロプロピレンに基づく単位とフッ化ビニリデンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が５０～１００モル％である共重合体、
クロロトリフルオロエチレンに基づく単位とエチレンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が８０～１００モル％である共重合体、
テトラフルオロエチレンに基づく単位とパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が５０～１００モル％である共重合体、又は
テトラフルオロエチレンに基づく単位とヘキサフルオロプロピレンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が５０～１００モル％である共重合体、のいずれかである、［１］～［１３］のいずれかのチップ。
【0011】
［１５］前記含フッ素共重合体が、該共重合体に対して、ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％有する、［１］～［１４］のいずれかのチップ。
［１６］前記含フッ素共重合体が、
テトラフルオロエチレンに基づく単位とプロピレンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が６５～１００モル％であり、
テトラフルオロエチレンに基づく単位／プロピレンに基づく単位のモル比が３０／７０～７０／３０であり、ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含む、［１］～［１５］のいずれかのチップ。
［１６］前記含フッ素共重合体が、
テトラフルオロエチレンに基づく単位とプロピレンに基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が６５～１００モル％であり、
テトラフルオロエチレンに基づく単位／プロピレンに基づく単位のモル比が３０／７０～７０／３０であり、ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含む、［１］～［１５］のいずれかのチップ。
【0012】
［１７］前記含フッ素共重合体が、
テトラフルオロエチレンに基づく単位とパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が５０～１００モル％であり、
テトラフルオロエチレンに基づく単位／パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく単位のモル比が５／９５～９５／５であり、
下式（ＩＩＩ）で表される単量体ＩＩＩに基づく単位を０．１～２０ｍｏｌ％含む、［１］～［１６］のいずれかのチップ。
ＣＲ１１Ｒ１２＝ＣＦ－Ｑ－Ｒ１３－ＣＯ－Ｚ ・・・（ＩＩＩ）
（式（ＩＩＩ）中、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子又はフッ素原子であり、Ｑは単結合又はエーテル性酸素原子であり、Ｒ１３はフルオロアルキレン基又は２以上のフルオロアルキレン基の少なくとも片末端もしくは炭素－炭素結合間にエーテル性酸素原子を有する基であり、－Ｚは－ＯＨ、－ＯＲ１４、－ＮＲ１５Ｒ１６、－ＮＲ１７ＮＲ１８Ｈ、又はＮＲ１９ＯＲ２０であり、Ｒ１４はアルキル基であり、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基である。）
［１８］前記内部空間に細胞を含む、［１］～［１７］のいずれかのチップ。
［１９］前記含フッ素共重合体が、テトラフルオロエチレンに基づく単位を５０～７０モル％含む共重合体であり、前記内部空間に細胞を含んだ状態における細胞培養面の伸びが１．０～２５．０％である、［１８］のチップ。
テトラフルオロエチレンに基づく単位とパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく単位を含み、全単位に対してこれらの合計が５０～１００モル％であり、
テトラフルオロエチレンに基づく単位／パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく単位のモル比が５／９５～９５／５であり、
下式（ＩＩＩ）で表される単量体ＩＩＩに基づく単位を０．１～２０ｍｏｌ％含む、［１］～［１６］のいずれかのチップ。
ＣＲ１１Ｒ１２＝ＣＦ－Ｑ－Ｒ１３－ＣＯ－Ｚ ・・・（ＩＩＩ）
（式（ＩＩＩ）中、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子又はフッ素原子であり、Ｑは単結合又はエーテル性酸素原子であり、Ｒ１３はフルオロアルキレン基又は２以上のフルオロアルキレン基の少なくとも片末端もしくは炭素－炭素結合間にエーテル性酸素原子を有する基であり、－Ｚは－ＯＨ、－ＯＲ１４、－ＮＲ１５Ｒ１６、－ＮＲ１７ＮＲ１８Ｈ、又はＮＲ１９ＯＲ２０であり、Ｒ１４はアルキル基であり、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基である。）
［１８］前記内部空間に細胞を含む、［１］～［１７］のいずれかのチップ。
［１９］前記含フッ素共重合体が、テトラフルオロエチレンに基づく単位を５０～７０モル％含む共重合体であり、前記内部空間に細胞を含んだ状態における細胞培養面の伸びが１．０～２５．０％である、［１８］のチップ。
【0013】
本発明のマイクロ流路チップは、流路を形成する材料が柔らかさや透明性を有し、かつ薬剤非吸収性に優れる、流路として使用できる内部空間を有し、流路の薬剤非吸収性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【0015】
【図8】本発明のチップの第７の態様を示す模式断面図である。
【図10】本発明のチップの第７、第８の態様の具体例構造を示す。
【図11】実験例１の薬剤非吸収性の評価結果を示す蛍光顕微鏡写真である。
【図12】比較例１の薬剤非吸収性の評価結果を示す蛍光顕微鏡写真である。
【図13】実験例２の薬剤非吸収性の評価結果を示す蛍光顕微鏡写真である。
【0016】
【図14】実験例３の薬剤非吸収性の評価結果を示す蛍光顕微鏡写真である。
【図15】実験例４の薬剤非吸収性の評価結果を示す蛍光顕微鏡写真である。
【図16】実験例５の薬剤非吸収性の評価結果を示す蛍光顕微鏡写真である。
【図17】実験例６の薬剤非吸収性の評価結果を示す蛍光顕微鏡写真である。
【図18】実験例７の薬剤非吸収性の評価結果を示す蛍光顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【0017】
以下の用語の定義は、本明細書及び特許請求の範囲にわたって適用される。
「単量体に基づく単位」とは、単量体１分子が重合することで直接形成される原子団と、前記原子団の一部を化学変換することで得られる原子団との総称である。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素－炭素原子間においてエーテル結合（－Ｏ－）を形成する酸素原子を意味する。
「ペルフルオロアルキレン基」とは、アルキレン基の炭素原子に共有結合する水素原子がすべてフッ素原子に置換された基を意味する。
「～」で表される数値範囲は、～の前後の数値を下限値及び上限値とする数値範囲を意味する。
「単量体に基づく単位」とは、単量体１分子が重合することで直接形成される原子団と、前記原子団の一部を化学変換することで得られる原子団との総称である。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素－炭素原子間においてエーテル結合（－Ｏ－）を形成する酸素原子を意味する。
「ペルフルオロアルキレン基」とは、アルキレン基の炭素原子に共有結合する水素原子がすべてフッ素原子に置換された基を意味する。
「～」で表される数値範囲は、～の前後の数値を下限値及び上限値とする数値範囲を意味する。
【0018】
＜第１の態様＞
図１は、本発明のチップの第１の態様を示す模式斜視図であり、図２は図１のチップの模式断面図である。１～３は第１～第３の基板をそれぞれ示す。図３はチップを第１～第３の基板に分解した模式平面図である。本態様において、第１～第３の基板は含フッ素共重合体からなる。
本態様のチップは第１の基板１と第２の基板２と第３の基板３がこの順に積層されている。第１の基板１には２個の貫通孔Ｓ１、Ｓ２が形成されている。貫通孔Ｓ１、Ｓ２の第２の基板２と反対側の開口端が開口Ｈ１、Ｈ２である。１ａは貫通孔Ｓ１の内壁面、１ｂは貫通孔Ｓ２の内壁面を示す。
図１は、本発明のチップの第１の態様を示す模式斜視図であり、図２は図１のチップの模式断面図である。１～３は第１～第３の基板をそれぞれ示す。図３はチップを第１～第３の基板に分解した模式平面図である。本態様において、第１～第３の基板は含フッ素共重合体からなる。
本態様のチップは第１の基板１と第２の基板２と第３の基板３がこの順に積層されている。第１の基板１には２個の貫通孔Ｓ１、Ｓ２が形成されている。貫通孔Ｓ１、Ｓ２の第２の基板２と反対側の開口端が開口Ｈ１、Ｈ２である。１ａは貫通孔Ｓ１の内壁面、１ｂは貫通孔Ｓ２の内壁面を示す。
【0019】
第２の基板２には、表面から裏面に貫通する貫通溝Ｓ３が設けられている。貫通溝Ｓ３は、第１の基板１と第２の基板２を積層したときに、貫通溝Ｓ３が貫通孔Ｓ１、Ｓ２をつなぐように設けられている。第３の基板３の表面と裏面は平坦面である。符号１ｃは第１の基板１の貫通溝Ｓ３を臨む面を示し、３ａは第３の基板３の貫通溝Ｓ３を臨む面を示す。
第１～第３の基板１～３が積層されたチップにおいて、貫通孔Ｓ１、Ｓ２と貫通溝Ｓ３とで形成される空間が開口Ｈ１、Ｈ２をつなぐ内部空間Ｓである。
本態様のチップは、内部空間Ｓ内で細胞を培養する容器として使用できる。この場合、内部空間Ｓは細胞を収容する収容部（不図示）を含む。例えば、第３の基板３の貫通溝Ｓ３を臨む面３ａの面上に収容部を設ける。
第１～第３の基板１～３が積層されたチップにおいて、貫通孔Ｓ１、Ｓ２と貫通溝Ｓ３とで形成される空間が開口Ｈ１、Ｈ２をつなぐ内部空間Ｓである。
本態様のチップは、内部空間Ｓ内で細胞を培養する容器として使用できる。この場合、内部空間Ｓは細胞を収容する収容部（不図示）を含む。例えば、第３の基板３の貫通溝Ｓ３を臨む面３ａの面上に収容部を設ける。
【0020】
チップの大きさは限定されないが、第１の基板１の表面において、２つの開口Ｈ１、Ｈ２の中心を通る方向を長さ、前記長さ方向に直交する方向を幅、長さ方向と幅方向とに直交する方向を厚さとすると、例えばチップの長さは１０～１００ｍｍ、幅は１０～１００ｍｍ、厚さは１００～２０，０００μｍである。２つの開口Ｈ１、Ｈ２をつなぐ内部空間Ｓの合計の容積は、例えば１０～２，０００μＬである。
開口Ｈ１、Ｈ２の内径は、例えば１００～３，０００μｍである。
第１～第３の基板１～３のそれぞれの厚さは、互いに同じであってもよく、異なってもよい。各基板の厚さは、例えば２００～１０，０００μｍが好ましい。
開口Ｈ１、Ｈ２の内径は、例えば１００～３，０００μｍである。
第１～第３の基板１～３のそれぞれの厚さは、互いに同じであってもよく、異なってもよい。各基板の厚さは、例えば２００～１０，０００μｍが好ましい。
【0021】
第１～第３の基板は、内部を観察しやすい点で透明が好ましい。例えば、各基板の透過率は波長４００ｎｍにおいて８０％以上が好ましい。
同様に、ＪＩＳ－Ｋ－７１３６に準じてヘイズメーターで測定したヘイズ値が５０％以下であることが好ましく、３０％以下であることがさらに好ましく、２０％以下であることがより好ましい。
第１～第３の基板のうち少なくとも１つは、柔軟性を有することが好ましい。チップが柔軟性を有すると、必要に応じてチップを変形させて、内部空間内の細胞に機械力を付与できる。例えば培養中の細胞に、臓器の動きを模倣した振動を与えることができる。例えば、基板のタイプＡデュロメータ硬度は８０以下が好ましく、６０以下がさらに好ましい。
同様に、ＪＩＳ－Ｋ－７１３６に準じてヘイズメーターで測定したヘイズ値が５０％以下であることが好ましく、３０％以下であることがさらに好ましく、２０％以下であることがより好ましい。
第１～第３の基板のうち少なくとも１つは、柔軟性を有することが好ましい。チップが柔軟性を有すると、必要に応じてチップを変形させて、内部空間内の細胞に機械力を付与できる。例えば培養中の細胞に、臓器の動きを模倣した振動を与えることができる。例えば、基板のタイプＡデュロメータ硬度は８０以下が好ましく、６０以下がさらに好ましい。
【0022】
本態様のチップは、例えば以下の方法で製造できる。
含フッ素共重合体からなるフィルムを３枚用意し、第１～第３の基板として使用する。第１の基板１には表面から裏面に貫通する２個の貫通孔Ｓ１、Ｓ２を設ける。第２の基板２には表面から裏面に貫通する貫通溝Ｓ３を設ける。第３の基板３は加工しない。
貫通溝Ｓ３が２個の貫通孔Ｓ１、Ｓ２をつなぐように、上から第１の基板１、第２の基板２、第３の基板３の順に積層し、基板どうしを液密に接着してチップを得る。
基板どうしを接着する方法は、加熱して基板どうしを熱融着する方法、基板どうしを重ね合わせ、さらに紫外線照射、放射線照射、電子線照射又は加熱して架橋する方法、基板の間に接着剤層を設ける方法、接着面をコロナ放電照射、プラズマ照射、紫外線照射、オゾン暴露、塩基暴露などにより活性化させた後に重ね合わせる方法、又はこれらの方法を２つ以上組み合わせた方法が例示できる。
含フッ素共重合体からなるフィルムを３枚用意し、第１～第３の基板として使用する。第１の基板１には表面から裏面に貫通する２個の貫通孔Ｓ１、Ｓ２を設ける。第２の基板２には表面から裏面に貫通する貫通溝Ｓ３を設ける。第３の基板３は加工しない。
貫通溝Ｓ３が２個の貫通孔Ｓ１、Ｓ２をつなぐように、上から第１の基板１、第２の基板２、第３の基板３の順に積層し、基板どうしを液密に接着してチップを得る。
基板どうしを接着する方法は、加熱して基板どうしを熱融着する方法、基板どうしを重ね合わせ、さらに紫外線照射、放射線照射、電子線照射又は加熱して架橋する方法、基板の間に接着剤層を設ける方法、接着面をコロナ放電照射、プラズマ照射、紫外線照射、オゾン暴露、塩基暴露などにより活性化させた後に重ね合わせる方法、又はこれらの方法を２つ以上組み合わせた方法が例示できる。
【0023】
本態様のチップは、細胞を入れる場合には事前に滅菌処理をする。チップを滅菌する方法としては、チップに対して紫外線照射、放射線照射、電子線照射、コロナ放電照射、プラズマ照射、オゾン暴露、塩基暴露、蒸気加圧滅菌（オートクレーブ）等の処理を施す方法、エチレンオキサイドなどの殺菌性気体を含む環境にチップを入れる方法が例示できる。
【0024】
チップの、内部空間に接する面は、そのまま使用してもよいが、細胞の接着性が制御できるような表面改質をしてもよい。例えば、少なくとも細胞の収容部となる面を、細胞の接着性が向上するように表面改質する。また、細胞を収容しない面を、細胞や薬剤の接着を抑制するように表面改質する。
表面改質の方法としては、内部空間に接する面に対して、紫外線照射、放射線照射、電子線照射、コロナ放電照射、プラズマ照射、オゾン暴露、塩基暴露等の処理を施す方法、又は親水性もしくは撥水性の化合物を用いて流路表面をコーティングする方法が例示できる。親水性又は撥水性の化合物としては、リン脂質ポリマー、ポリヒドロキシエチルメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリウレア、ポリウレタン、アガロース、キトサン、アルブミン、ポリジメチルシロキサン、ペルフルオロポリエーテルが例示できる。これらの化合物は流路表面との接着性向上できる点で、化学構造の一部分、特に主鎖末端がシランカップリング基等に官能基化されていることが好ましい。例えば、ダウコーニング社商品名、２６３４コーティングが挙げられる。
また、タンパク質やペプチドのコーティング処理もあげられる。タンパク質、ペプチドの例としては、コラーゲン、ゼラチン、フィブロネクチン、ビトロネクチン、ラミニン、アルブミン、ＲＧＤペプチドなどが挙げられるがこれに限定されない。これらの方法を２つ以上組み合わせることも例示できる。
表面改質の方法としては、内部空間に接する面に対して、紫外線照射、放射線照射、電子線照射、コロナ放電照射、プラズマ照射、オゾン暴露、塩基暴露等の処理を施す方法、又は親水性もしくは撥水性の化合物を用いて流路表面をコーティングする方法が例示できる。親水性又は撥水性の化合物としては、リン脂質ポリマー、ポリヒドロキシエチルメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリウレア、ポリウレタン、アガロース、キトサン、アルブミン、ポリジメチルシロキサン、ペルフルオロポリエーテルが例示できる。これらの化合物は流路表面との接着性向上できる点で、化学構造の一部分、特に主鎖末端がシランカップリング基等に官能基化されていることが好ましい。例えば、ダウコーニング社商品名、２６３４コーティングが挙げられる。
また、タンパク質やペプチドのコーティング処理もあげられる。タンパク質、ペプチドの例としては、コラーゲン、ゼラチン、フィブロネクチン、ビトロネクチン、ラミニン、アルブミン、ＲＧＤペプチドなどが挙げられるがこれに限定されない。これらの方法を２つ以上組み合わせることも例示できる。
【0025】
細胞の種類は限定されない。細胞の形態は細胞単体であっても、複数の細胞が集まった細胞塊であってもよい。又は、何種類かの細胞が一定のパターンで集合した構造単位を有し、全体としてまとまった役割を持つ生体組織であってもよい。細胞塊が生体組織の水準まで分化しているか否かは限定されない。また細胞塊が成熟した細胞により構成されるか否かは限定されない。細胞塊、生体組織の形状は限定されない。
【0026】
本態様で用いられる含フッ素共重合体は、ＣＦ２＝ＣＦＸ（Ｘはフッ素原子、塩素原子、又はＣＦ３である）に基づく単位Ａを５～９９モル％含む。含フッ素共重合体は単位Ａ以外に単位Ｂを含む。含フッ素共重合体は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれでもよい。
含フッ素共重合体の全単位に対して、単位Ａは薬剤非吸収と透明性を両立させる点から１０～９０モル％が好ましく、８０～２０モル％がより好ましい。
単位Ａとしては、テトラフルオロエチレンに基づく単位（以下、ＴＦＥ単位という）、ヘキサフルオロプロピレンに基づく単位（以下、ＨＦＰ単位という）、クロロトリフルオロエチレンに基づく単位（以下、ＣＴＦＥ単位という）が例示できる。
含フッ素共重合体は、単位Ｂとして、プロピレンに基づく単位（以下、Ｐ単位という）、エチレンに基づく単位（以下、Ｅ単位という）、フッ化ビニリデンに基づく単位（以下、ＶｄＦ単位という）、及びパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく単位（以下、ＰＡＶＥ単位という）からなる群の１種以上を含むことが好ましい。
含フッ素共重合体の全単位に対して、単位Ａは薬剤非吸収と透明性を両立させる点から１０～９０モル％が好ましく、８０～２０モル％がより好ましい。
単位Ａとしては、テトラフルオロエチレンに基づく単位（以下、ＴＦＥ単位という）、ヘキサフルオロプロピレンに基づく単位（以下、ＨＦＰ単位という）、クロロトリフルオロエチレンに基づく単位（以下、ＣＴＦＥ単位という）が例示できる。
含フッ素共重合体は、単位Ｂとして、プロピレンに基づく単位（以下、Ｐ単位という）、エチレンに基づく単位（以下、Ｅ単位という）、フッ化ビニリデンに基づく単位（以下、ＶｄＦ単位という）、及びパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく単位（以下、ＰＡＶＥ単位という）からなる群の１種以上を含むことが好ましい。
【0027】
本態様で用いられる含フッ素共重合体は、一般的なラジカル重合法により製造される。高い透明性を得るためには、含フッ素共重合体の組成分布が小さいことが好ましく、その方法として、重合中に消費される原料の反応速度に応じて、それぞれの原料を後添加することにより、重合中の原料組成比の変化を小さくする方法が挙げられる。さらに必要に応じて、ヨウ素単体又はヨウ素化合物存在下にラジカル重合するヨウ素移動重合法などのリビングラジカル重合法を用いることにより、含フッ素共重合体の組成分布を小さくすることができ、高い透明性が得られる。
また、リビングラジカル重合法により含フッ素共重合体の分子量分布が小さくなるため、金型への粘着の原因となる低分子量成分を少なくすることができ、細胞に悪影響を与える可能性のある離型剤の金型への塗布を減らす、又は無くすことができる。特に、細い溝や小さい孔を有するチップの基板を金型で作る場合、離型性が悪いと金型から剥がす際に変形や損傷が生じるため、ヨウ素移動重合法などのリビングラジカル重合法を用いることは有用である。
また、リビングラジカル重合法により含フッ素共重合体の分子量分布が小さくなるため、金型への粘着の原因となる低分子量成分を少なくすることができ、細胞に悪影響を与える可能性のある離型剤の金型への塗布を減らす、又は無くすことができる。特に、細い溝や小さい孔を有するチップの基板を金型で作る場合、離型性が悪いと金型から剥がす際に変形や損傷が生じるため、ヨウ素移動重合法などのリビングラジカル重合法を用いることは有用である。
【0028】
好ましい含フッ素共重合体として、以下の（１）～（６）が例示できる。
（１）ＴＦＥ単位とＰ単位を有し、全単位に対して、ＴＦＥ単位とＰ単位の合計が６５～１００モル％である共重合体（以下、ＴＦＥ－Ｐ系共重合体という）。（２）ＴＦＥ単位とＥ単位を有し、全単位に対して、ＴＦＥ単位とＥ単位の合計が８０～１００モル％である共重合体（以下、ＴＦＥ－Ｅ系共重合体という）。（３）ＨＦＰ単位とＶｄＦ単位を有し、全単位に対して、ＨＦＰ単位とＶｄＦ単位の合計が５０～１００モル％である共重合体（以下、ＨＦＰ－ＶｄＦ系共重合体という）。（４）ＣＴＦＥ単位とＥ単位を有し、全単位に対して、ＣＴＦＥ単位とＥ単位の合計が８０～１００モル％である共重合体（以下、ＣＴＦＥ－Ｅ系共重合体という）。（５）ＴＦＥ単位とＰＡＶＥ単位を有し、全単位に対してＴＦＥ単位とＰＡＶＥ単位の合計が５０～１００モル％である共重合体（以下、ＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体という）。（６）ＴＦＥ単位とＨＦＰ単位を有し、全単位に対してＴＦＥ単位とＨＦＰ単位の合計が５０～１００モル％である共重合体（以下、ＴＦＥ－ＨＦＰ系共重合体という）。
（１）ＴＦＥ単位とＰ単位を有し、全単位に対して、ＴＦＥ単位とＰ単位の合計が６５～１００モル％である共重合体（以下、ＴＦＥ－Ｐ系共重合体という）。（２）ＴＦＥ単位とＥ単位を有し、全単位に対して、ＴＦＥ単位とＥ単位の合計が８０～１００モル％である共重合体（以下、ＴＦＥ－Ｅ系共重合体という）。（３）ＨＦＰ単位とＶｄＦ単位を有し、全単位に対して、ＨＦＰ単位とＶｄＦ単位の合計が５０～１００モル％である共重合体（以下、ＨＦＰ－ＶｄＦ系共重合体という）。（４）ＣＴＦＥ単位とＥ単位を有し、全単位に対して、ＣＴＦＥ単位とＥ単位の合計が８０～１００モル％である共重合体（以下、ＣＴＦＥ－Ｅ系共重合体という）。（５）ＴＦＥ単位とＰＡＶＥ単位を有し、全単位に対してＴＦＥ単位とＰＡＶＥ単位の合計が５０～１００モル％である共重合体（以下、ＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体という）。（６）ＴＦＥ単位とＨＦＰ単位を有し、全単位に対してＴＦＥ単位とＨＦＰ単位の合計が５０～１００モル％である共重合体（以下、ＴＦＥ－ＨＦＰ系共重合体という）。
【0029】
（１）ＴＦＥ－Ｐ系共重合体としては以下の（１－１）、（１－２）が例示できる。
（１－１）ＴＦＥ単位とＰ単位の合計が６５～１００モル％であり、ＴＦＥ単位／Ｐ単位のモル比が３０／７０～７０／３０、好ましくは４５／５５～６５／３５、より好ましくは５０／５０～６０／４０である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＴＦＥ単位及びＰ単位以外の他の単位としては、下記の他の単量体に基づく単位が例示できる。
他の単量体：モノフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、トリフルオロプロピレン、ペンタフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレン、ヘキサフルオロイソブチレン、ジクロロジフルオロエチレン等のフッ素化オレフィン；エチレン、１－ブテン、イソブチレン等の炭化水素オレフィン；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル）、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル；塩化ビニル、塩化ビニリデン、トリフルオロスチレン
他の単位の含有量は、全単位に対して、３５モル％以下が好ましく、３３モル％以下がより好ましく、３１モル％以下がさらに好ましい。
また、ヨウ素原子の含有量は、共重合体の全質量に対して０．０１～１．５質量％が好ましく、０．０１～１．０質量％がより好ましい。
（１－１）ＴＦＥ単位とＰ単位の合計が６５～１００モル％であり、ＴＦＥ単位／Ｐ単位のモル比が３０／７０～７０／３０、好ましくは４５／５５～６５／３５、より好ましくは５０／５０～６０／４０である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＴＦＥ単位及びＰ単位以外の他の単位としては、下記の他の単量体に基づく単位が例示できる。
他の単量体：モノフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、トリフルオロプロピレン、ペンタフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレン、ヘキサフルオロイソブチレン、ジクロロジフルオロエチレン等のフッ素化オレフィン；エチレン、１－ブテン、イソブチレン等の炭化水素オレフィン；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル）、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル；塩化ビニル、塩化ビニリデン、トリフルオロスチレン
他の単位の含有量は、全単位に対して、３５モル％以下が好ましく、３３モル％以下がより好ましく、３１モル％以下がさらに好ましい。
また、ヨウ素原子の含有量は、共重合体の全質量に対して０．０１～１．５質量％が好ましく、０．０１～１．０質量％がより好ましい。
【0030】
（１－２）ＴＦＥ単位とＰ単位と下式（Ｉ）で表される単量体Ｉに基づく単位Ｉの１種以上を含み、ＴＦＥ単位とＰ単位と単位Ｉの合計が９８～１００モル％である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＣＲ１Ｒ２＝ＣＲ３－Ｒ４－ＣＲ５＝ＣＲ６Ｒ７ ・・・（Ｉ）
（式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又はメチル基であり、Ｒ４は、炭素原子数１～１０のパーフルオロアルキレン基又は前記パーフルオロアルキレン基の両末端、片末端もしくは炭素－炭素結合間にエーテル性酸素原子を有する基である。）
単量体Ｉとしては、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）３ＯＣＦ＝ＣＦ２、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）４ＯＣＦ＝ＣＦ２、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）６ＣＨ＝ＣＨ２が例示できる。
全単位に対する単位Ｉの含有量は０．１～１．５モル％が好ましく、０．１５～０．８モル％がより好ましく、０．１５～０．６モル％がさらに好ましい。
ＴＦＥ単位／Ｐ単位のモル比は３０／７０～９９／１が好ましく、３０／７０～７０／３０がより好ましく、４０／６０～６０／４０がさらに好ましい。
ＣＲ１Ｒ２＝ＣＲ３－Ｒ４－ＣＲ５＝ＣＲ６Ｒ７ ・・・（Ｉ）
（式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又はメチル基であり、Ｒ４は、炭素原子数１～１０のパーフルオロアルキレン基又は前記パーフルオロアルキレン基の両末端、片末端もしくは炭素－炭素結合間にエーテル性酸素原子を有する基である。）
単量体Ｉとしては、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）３ＯＣＦ＝ＣＦ２、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）４ＯＣＦ＝ＣＦ２、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）６ＣＨ＝ＣＨ２が例示できる。
全単位に対する単位Ｉの含有量は０．１～１．５モル％が好ましく、０．１５～０．８モル％がより好ましく、０．１５～０．６モル％がさらに好ましい。
ＴＦＥ単位／Ｐ単位のモル比は３０／７０～９９／１が好ましく、３０／７０～７０／３０がより好ましく、４０／６０～６０／４０がさらに好ましい。
【0031】
ＴＦＥ単位、Ｐ単位及び単位Ｉ以外の他の単位としては、下記の含フッ素系単量体又は非フッ素系単量体に基づく単位が例示できる。
含フッ素系単量体としてはフッ化ビニル、ペンタフルオロプロピレン、パーフルオロシクロブテン、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ３、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ２ＣＦ３、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３が例示できる。
非フッ素系単量体としては、イソブチレン、ペンテン、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリル酸ビニルが例示できる。
全単位に対して、他の単位は、２．０モル％以下が好ましく、１．０モル％以下がより好ましく、０．５モル％以下が特に好ましい。
また、共重合体の全質量に対してヨウ素原子は０．０１～１．５質量％が好ましく、着色が抑制できる点から０．０１～１．０質量％がより好ましい。
含フッ素系単量体としてはフッ化ビニル、ペンタフルオロプロピレン、パーフルオロシクロブテン、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ３、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ２ＣＦ３、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３が例示できる。
非フッ素系単量体としては、イソブチレン、ペンテン、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリル酸ビニルが例示できる。
全単位に対して、他の単位は、２．０モル％以下が好ましく、１．０モル％以下がより好ましく、０．５モル％以下が特に好ましい。
また、共重合体の全質量に対してヨウ素原子は０．０１～１．５質量％が好ましく、着色が抑制できる点から０．０１～１．０質量％がより好ましい。
【0032】
（２）ＴＦＥ－Ｅ系共重合体としては以下の（２－１）、（２－２）が例示できる。
（２－１）ＴＦＥ単位とＥ単位の合計が８０～１００モル％であり、ＴＦＥ単位／Ｅ単位のモル比が７５／２５～３０／７０、好ましくは７０／３０～４５／６５、より好ましくは７０／３０～５０／５０である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＴＦＥ単位及びＥ単位以外の他の単位としては、国際公開第２０１７／０８２４１７号の段落００１４に記載の単量体（２）～（７）に基づく単位が例示できる。
全単位に対して、他の単位は、２０モル％以下が好ましく、１５モル％以下がより好ましく、８モル％以下がさらに好ましい。
（２－１）ＴＦＥ単位とＥ単位の合計が８０～１００モル％であり、ＴＦＥ単位／Ｅ単位のモル比が７５／２５～３０／７０、好ましくは７０／３０～４５／６５、より好ましくは７０／３０～５０／５０である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＴＦＥ単位及びＥ単位以外の他の単位としては、国際公開第２０１７／０８２４１７号の段落００１４に記載の単量体（２）～（７）に基づく単位が例示できる。
全単位に対して、他の単位は、２０モル％以下が好ましく、１５モル％以下がより好ましく、８モル％以下がさらに好ましい。
【0033】
（２－２）ＴＦＥ単位とＥ単位と下式（ＩＩ）で表される単量体ＩＩに基づく単位ＩＩの１種以上を含み、ＴＦＥ単位とＥ単位と単位ＩＩの合計が１００モル％である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＣＨ２＝ＣＹ１（ＣＦ２）ｎＹ２・・・（ＩＩ）
（式（ＩＩ）中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に水素原子又はフッ素原子であり、ｎは２～８の整数である。）
ＣＨ２＝ＣＹ１（ＣＦ２）ｎＹ２・・・（ＩＩ）
（式（ＩＩ）中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に水素原子又はフッ素原子であり、ｎは２～８の整数である。）
【0034】
単量体ＩＩとしては、ＣＨ２＝ＣＦ（ＣＦ２）ｎＦ、ＣＨ２＝ＣＦ（ＣＦ２）ｎＨ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）ｎＦ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）ｎＨが例示できる。ｎは２～８であり、３～７が好ましく、４～６がより好ましい。
全単位に対する単位ＩＩの含有量は２．６～６．０モル％が好ましく、２．８～５．０モル％がより好ましく、３．０～５．０モル％がさらに好ましく、３．３～４．５モル％が特に好ましい。
ＴＦＥ単位／Ｅ単位のモル比は５１／４９～６０／４０が好ましく、５２／４８～５７／４３がより好ましく、５３／４７～５５／４５がさらに好ましい。
全単位に対する単位ＩＩの含有量は２．６～６．０モル％が好ましく、２．８～５．０モル％がより好ましく、３．０～５．０モル％がさらに好ましく、３．３～４．５モル％が特に好ましい。
ＴＦＥ単位／Ｅ単位のモル比は５１／４９～６０／４０が好ましく、５２／４８～５７／４３がより好ましく、５３／４７～５５／４５がさらに好ましい。
【0035】
（３）ＨＦＰ－ＶｄＦ系共重合体としては以下の（３－１）、（３－２）が例示できる。
（３－１）ＨＦＰ単位とＶｄＦ単位の合計が５０～１００モルであり、ＶｄＦ単位／ＨＦＰ単位のモル比が６０／４０～９５／５、好ましくは７０／３０～９０／１０、より好ましくは７５／２５～８５／１５である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＨＦＰ単位及びＶｄＦ単位以外の他の単位としては、下記の他の単量体に基づく単位が例示できる。
他の単量体としては、クロロトリフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニル、エチレン、エチリデンノルボルネン、クロトン酸ビニルが例示できる。
全単位に対して、他の単位は、５０モル％以下が好ましく、３０モル％以下がより好ましく、１０モル％以下がさらに好ましい。
（３－１）ＨＦＰ単位とＶｄＦ単位の合計が５０～１００モルであり、ＶｄＦ単位／ＨＦＰ単位のモル比が６０／４０～９５／５、好ましくは７０／３０～９０／１０、より好ましくは７５／２５～８５／１５である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＨＦＰ単位及びＶｄＦ単位以外の他の単位としては、下記の他の単量体に基づく単位が例示できる。
他の単量体としては、クロロトリフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニル、エチレン、エチリデンノルボルネン、クロトン酸ビニルが例示できる。
全単位に対して、他の単位は、５０モル％以下が好ましく、３０モル％以下がより好ましく、１０モル％以下がさらに好ましい。
【0036】
（３－２）ＨＦＰ単位とＶｄＦ単位とＴＦＥ単位の合計が５０～１００モルであり、ＶｄＦ単位／ＴＦＥ単位／ＨＦＰ単位のモル比が５０／５／４５～６５／３０／５、好ましくは５０／１５／３５～６５／２５／１０、より好ましくは５０／２０／３０～６５／２０／１５である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＨＦＰ単位、ＶｄＦ単位及びＴＦＥ単位以外の他の単位としては、前記（３－１）の他の単量体に基づく単位が例示できる。
全単位に対して、他の単位は、５０モル％以下が好ましく、３０モル％以下がより好ましく、１０モル％以下がさらに好ましい。
ＨＦＰ単位、ＶｄＦ単位及びＴＦＥ単位以外の他の単位としては、前記（３－１）の他の単量体に基づく単位が例示できる。
全単位に対して、他の単位は、５０モル％以下が好ましく、３０モル％以下がより好ましく、１０モル％以下がさらに好ましい。
【0037】
（４）ＣＴＦＥ－Ｅ系共重合体としては以下の（４－１）が例示できる。
（４－１）ＣＴＦＥ単位とＥ単位の合計が８０～１００モル、好ましくは８５～１００モル％、より好ましくは９０～１００モル％であり、Ｅ単位／ＣＴＦＥ単位のモル比が６８／３２～１４／８６、好ましくは５５／４５～３５／６５である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＣＴＦＥ単位及びＥ単位以外の他の単位としては、国際公開第２０１４／１６８０７６号の段落００２５に記載されている単量体に基づく単位が例示できる。
全単位に対して、他の単位は、２０モル％以下が好ましく、１５モル％以下がより好ましい。
（４－１）ＣＴＦＥ単位とＥ単位の合計が８０～１００モル、好ましくは８５～１００モル％、より好ましくは９０～１００モル％であり、Ｅ単位／ＣＴＦＥ単位のモル比が６８／３２～１４／８６、好ましくは５５／４５～３５／６５である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＣＴＦＥ単位及びＥ単位以外の他の単位としては、国際公開第２０１４／１６８０７６号の段落００２５に記載されている単量体に基づく単位が例示できる。
全単位に対して、他の単位は、２０モル％以下が好ましく、１５モル％以下がより好ましい。
【0038】
（５）ＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体としては以下の（５－１）、（５－２）、（５－３）が例示できる。
（５－１）ＴＦＥ単位とＰＡＶＥ単位の合計が５０～１００モルであり、ＴＦＥ単位／ＰＡＶＥ単位のモル比が２０／８０～８０／２０、好ましくは５０／５０～８０／２０である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）としては、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、パーフルオロ（エチルビニルエーテル）、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）、パーフルオロ（メトキシエチルビニルエーテル）、パーフルオロ（プロポキシエチルビニルエーテル）、パーフルオロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）が例示できる。
ＴＦＥ単位及びＰＡＶＥ単位以外の他の単位としては、前記（３－１）の他の単量体に基づく単位、ＨＦＰ、ＶｄＦが例示できる。
全単位に対して、他の単位は、５０モル％以下が好ましく、３０モル％以下がより好ましく、１０モル％以下がさらに好ましい。
（５－１）ＴＦＥ単位とＰＡＶＥ単位の合計が５０～１００モルであり、ＴＦＥ単位／ＰＡＶＥ単位のモル比が２０／８０～８０／２０、好ましくは５０／５０～８０／２０である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）としては、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、パーフルオロ（エチルビニルエーテル）、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）、パーフルオロ（メトキシエチルビニルエーテル）、パーフルオロ（プロポキシエチルビニルエーテル）、パーフルオロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）が例示できる。
ＴＦＥ単位及びＰＡＶＥ単位以外の他の単位としては、前記（３－１）の他の単量体に基づく単位、ＨＦＰ、ＶｄＦが例示できる。
全単位に対して、他の単位は、５０モル％以下が好ましく、３０モル％以下がより好ましく、１０モル％以下がさらに好ましい。
【0039】
（５－２）ＴＦＥ単位とＰＡＶＥ単位と下式（ＩＩＩ）で表される単量体ＩＩＩに基づく単位ＩＩＩの１種以上を含み、ＴＦＥ単位とＰＡＶＥ単位と単位ＩＩＩの合計が５０～１００モル％である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＣＲ１１Ｒ１２＝ＣＦ－Ｑ－Ｒ１３－ＣＯ－Ｚ ・・・（ＩＩＩ）
（式（ＩＩＩ）中、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子又はフッ素原子であり、Ｑは単結合又はエーテル性酸素原子であり、Ｒ１３はフルオロアルキレン基又は２以上のフルオロアルキレン基の少なくとも片末端もしくは炭素－炭素結合間にエーテル性酸素原子を有する基であり、－Ｚは－ＯＨ、－ＯＲ１４、－ＮＲ１５Ｒ１６、－ＮＲ１７ＮＲ１８Ｈ、又はＮＲ１９ＯＲ２０であり、Ｒ１４はアルキル基であり、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基である。）
Ｒ１３がフルオロアルキレン基である場合、その炭素原子数は１～６が好ましく、１～４がより好ましい。
ＣＲ１１Ｒ１２＝ＣＦ－Ｑ－Ｒ１３－ＣＯ－Ｚ ・・・（ＩＩＩ）
（式（ＩＩＩ）中、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子又はフッ素原子であり、Ｑは単結合又はエーテル性酸素原子であり、Ｒ１３はフルオロアルキレン基又は２以上のフルオロアルキレン基の少なくとも片末端もしくは炭素－炭素結合間にエーテル性酸素原子を有する基であり、－Ｚは－ＯＨ、－ＯＲ１４、－ＮＲ１５Ｒ１６、－ＮＲ１７ＮＲ１８Ｈ、又はＮＲ１９ＯＲ２０であり、Ｒ１４はアルキル基であり、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基である。）
Ｒ１３がフルオロアルキレン基である場合、その炭素原子数は１～６が好ましく、１～４がより好ましい。
【0040】
Ｒ１３がエーテル性酸素原子を有するフルオロアルキレン基である場合、その炭素原子数は２～１０が好ましく、２～６がより好ましい。エーテル性酸素原子は、フルオロアルキレン基の片末端、炭素－炭素結合間又はその両方に存在する。
Ｒ１３がエーテル性酸素原子を有するフルオロアルキレン基である場合、ペルフルオロアルキレン基が好ましい。
Ｒ１４の炭素原子数は１～６が好ましく、１又は２がより好ましい。
Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１～６のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素原子数１もしくは２のアルキル基がより好ましい。
－Ｚは－ＯＲ１４がより好ましい。
Ｒ１３がエーテル性酸素原子を有するフルオロアルキレン基である場合、ペルフルオロアルキレン基が好ましい。
Ｒ１４の炭素原子数は１～６が好ましく、１又は２がより好ましい。
Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１～６のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素原子数１もしくは２のアルキル基がより好ましい。
－Ｚは－ＯＲ１４がより好ましい。
【0041】
単量体ＩＩＩとしては、
ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）２ＣＯＯＣＨ３、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）３ＣＯＯＣＨ３、
ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）４ＣＯＯＣＨ３、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）５ＣＯＯＣＨ３、
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）２ＣＯＯＣＨ３、
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）３ＣＯＯＣＨ３、
ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）２Ｏ（ＣＦ２）２ＣＯＯＣＨ３、
ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）３Ｏ（ＣＦ２）２ＣＯＯＣＨ３、
ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＣＨ３、
ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＣＨ３が例示できる。
ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）２ＣＯＯＣＨ３、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）３ＣＯＯＣＨ３、
ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）４ＣＯＯＣＨ３、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）５ＣＯＯＣＨ３、
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）２ＣＯＯＣＨ３、
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）３ＣＯＯＣＨ３、
ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）２Ｏ（ＣＦ２）２ＣＯＯＣＨ３、
ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）３Ｏ（ＣＦ２）２ＣＯＯＣＨ３、
ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＣＨ３、
ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＣＨ３が例示できる。
【0042】
単位ＩＩＩの－Ｑ－Ｒ１３－ＣＯ－Ｚは、波長１５０～３００ｎｍの光の照射により、－ＣＯ－Ｚが脱離する反応が生じ、－Ｑ－Ｒ１３・ラジカルが生じ、２つの－Ｑ－Ｒ１３・ラジカルが反応することにより、分子間の架橋構造（－Ｑ－Ｒ１３－Ｒ１３－Ｑ－）が形成される。
全単位に対する単位ＩＩＩの含有量は０．０１～１００モル％が好ましく、０．１～２０モル％がより好ましく、０．１～５モル％がさらに好ましい。
ＴＦＥ単位／ＰＡＶＥ単位のモル比は５／９５～９５／５が好ましく、２０／８０～８０／２０がより好ましく、５０／５０～７０／３０がさらに好ましい。
ＴＦＥ単位とＰＡＶＥ単位と単量体ＩＩＩ以外の他の単位としては、国際公開第２０１５／０９８７７３号の段落００４１に記載されている単位（４）が例示できる。
全単位に対して、他の単位は、３０モル％以下が好ましく、１０モル％以下がより好ましい。
全単位に対する単位ＩＩＩの含有量は０．０１～１００モル％が好ましく、０．１～２０モル％がより好ましく、０．１～５モル％がさらに好ましい。
ＴＦＥ単位／ＰＡＶＥ単位のモル比は５／９５～９５／５が好ましく、２０／８０～８０／２０がより好ましく、５０／５０～７０／３０がさらに好ましい。
ＴＦＥ単位とＰＡＶＥ単位と単量体ＩＩＩ以外の他の単位としては、国際公開第２０１５／０９８７７３号の段落００４１に記載されている単位（４）が例示できる。
全単位に対して、他の単位は、３０モル％以下が好ましく、１０モル％以下がより好ましい。
【0043】
本例の含フッ素重合体の１ｇ当たりの、－ＣＯ－Ｚで表される基の含有量は０．１～４ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．１～３ｍｍｏｌ／ｇがより好ましく、０．３～１ｍｍｏｌ／ｇがさらに好ましい。
本例の含フッ素重合体をフィルム状に成形する場合、含フッ素重合体の、サイズ排除クロマトグラムにより算出される、ポリメタクリル酸メチル換算の重量平均分子量は１，０００～１，０００，０００が好ましく、５，０００～３００，０００がより好ましく、１０，０００～５０，０００がさらに好ましい。重量平均分子量／数平均分子量の値は１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～３がさらに好ましい。
本例の含フッ素重合体をフィルム状に成形する場合、含フッ素重合体の、サイズ排除クロマトグラムにより算出される、ポリメタクリル酸メチル換算の重量平均分子量は１，０００～１，０００，０００が好ましく、５，０００～３００，０００がより好ましく、１０，０００～５０，０００がさらに好ましい。重量平均分子量／数平均分子量の値は１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～３がさらに好ましい。
【0044】
（５－３）ＴＦＥ単位とＰＡＶＥ単位の合計が５０～１００モルであり、ＴＦＥ単位／ＰＡＶＥ単位のモル比が９２／８～９９／１、より好ましくは９５／５～９９／１である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＴＦＥ単位及びＰＡＶＥ単位以外の他の単位としては、前記（３－１）の他の単量体に基づく単位、ＨＦＰ、ＶｄＦが例示できる。
全単位に対して、他の単位は、１０モル％以下が好ましく、５モル％以下がより好ましい。
ＴＦＥ単位及びＰＡＶＥ単位以外の他の単位としては、前記（３－１）の他の単量体に基づく単位、ＨＦＰ、ＶｄＦが例示できる。
全単位に対して、他の単位は、１０モル％以下が好ましく、５モル％以下がより好ましい。
【0045】
（６）ＴＦＥ－ＨＦＰ系共重合体としては以下の（６－１）が例示できる。
（６－１）ＴＦＥ単位とＨＦＰ単位の合計が５０～１００モルであり、ＴＦＥ単位／ＨＦＰ単位のモル比が９６／４～８７／１３、好ましくは９５／５～８５／１５である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＴＦＥ単位及びＨＦＰ単位以外の他の単位としては、前記（３－１）の他の単量体に基づく単位、ＶｄＦが例示できる。
全単位に対して、他の単位は、１０モル％以下が好ましく、５モル％以下がより好ましい。
（６－１）ＴＦＥ単位とＨＦＰ単位の合計が５０～１００モルであり、ＴＦＥ単位／ＨＦＰ単位のモル比が９６／４～８７／１３、好ましくは９５／５～８５／１５である共重合体。ヨウ素原子を０．０１～５．０質量％含んでもよい。
ＴＦＥ単位及びＨＦＰ単位以外の他の単位としては、前記（３－１）の他の単量体に基づく単位、ＶｄＦが例示できる。
全単位に対して、他の単位は、１０モル％以下が好ましく、５モル％以下がより好ましい。
【0046】
前記に挙げた含フッ素共重合体のなかで、透明性の点で好ましいのはＴＦＥ－Ｐ系共重合体、ＴＦＥ－Ｅ系共重合体、ＣＴＦＥ－Ｅ系共重合体、又はＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体であり、ＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体が特に好ましい。
柔軟性の点で好ましいのはＴＦＥ－Ｐ系共重合体、ＨＦＰ―ＶｄＦ系共重合体、又はＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体であり、ＨＦＰ―ＶｄＦ系共重合体が特に好ましい。
また、流路を流れる流体が水を主成分とする場合、含フッ素共重合体と水との屈折率の差が小さいほうが、流路と流体の界面における光の散乱と屈折が抑制され、流路内部を観察しやすいため、ＴＦＥ－Ｐ系共重合体、ＴＦＥ－Ｅ系共重合体、ＨＦＰ―ＶｄＦ系共重合体、ＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体が好ましく、ＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体が特に好ましい。
柔軟性の点で好ましいのはＴＦＥ－Ｐ系共重合体、ＨＦＰ―ＶｄＦ系共重合体、又はＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体であり、ＨＦＰ―ＶｄＦ系共重合体が特に好ましい。
また、流路を流れる流体が水を主成分とする場合、含フッ素共重合体と水との屈折率の差が小さいほうが、流路と流体の界面における光の散乱と屈折が抑制され、流路内部を観察しやすいため、ＴＦＥ－Ｐ系共重合体、ＴＦＥ－Ｅ系共重合体、ＨＦＰ―ＶｄＦ系共重合体、ＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体が好ましく、ＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体が特に好ましい。
【0047】
本態様で用いられる含フッ素共重合体からなるフィルムは、含フッ素共重合体を単独で使用し、又は含フッ素共重合体を含む含フッ素共重合体組成物を調製し、型を用いて成形する方法で製造できる。例えば、含フッ素共重合体又は含フッ素共重合体組成物を、必要に応じて加熱して流動できるようにし、必要に応じて加圧して型に流し込み、又は型の表面に塗布し、その後に硬化させる方法で製造できる。型の材質は限定されない。例えば金属製の型（金型とも呼ぶ）、フォトリソグラフィを用いたシリコン基板とレジスト樹脂からなる型、これらの型や成形体からエポキシ樹脂などを用いて形状を転写された型などが挙げられる。硬化方法は、冷却する方法、又は紫外線照射、放射線照射、電子線照射又は加熱して架橋させる方法が例示できる。フィルムの硬化の程度は、チップの使用時に流動しない程度であればよい。フィルムは必要に応じてドリル、刃もしくはレーザーを用いた加工法、又はマイクロブラスト法により加工できる。
【0048】
含フッ素共重合体組成物は、必要に応じて溶媒及び添加剤を含んでもよい。
前記に挙げた含フッ素共重合体のなかで、特にフィルム状に成形しやすい点で好ましいのはＴＦＥ－Ｐ系共重合体、ＴＦＥ－Ｅ系共重合体、ＣＴＦＥ－Ｅ系共重合体、又はＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体であり、ＴＦＥ－Ｐ系共重合体又はＴＦＥ－Ｅ系共重合体が特に好ましい。
また、ＴＦＥ－Ｐ系共重合体や前記（５－１）はゴムとしての物性等の必要に応じて公知の架橋剤、架橋助剤等と混合し、加硫して用いることも好ましい。
前記に挙げた含フッ素共重合体のなかで、特にフィルム状に成形しやすい点で好ましいのはＴＦＥ－Ｐ系共重合体、ＴＦＥ－Ｅ系共重合体、ＣＴＦＥ－Ｅ系共重合体、又はＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体であり、ＴＦＥ－Ｐ系共重合体又はＴＦＥ－Ｅ系共重合体が特に好ましい。
また、ＴＦＥ－Ｐ系共重合体や前記（５－１）はゴムとしての物性等の必要に応じて公知の架橋剤、架橋助剤等と混合し、加硫して用いることも好ましい。
【0049】
本態様のチップは、２つの開口と、前記開口をつなぐ内部空間が形成されており、内部空間内で細胞を培養できる。また内部空間に接する面は含フッ素共重合体からなっており、薬剤非吸収性に優れる。特に薬剤としては疎水性の低分子化合物の非吸収性に優れる。疎水性の指標である、オクタノール／水分配係数ｌｏｇＰが０以上、特に好ましくは３以上の疎水性低分子化合物の非吸収性に優れる。従って、本態様のチップは、細胞を用いて種々の薬剤の評価試験を行う培養容器として好適であり、試験の精度を向上できる。必要に応じて、内部空間に接する面の、少なくとも細胞の収容部となる面上に、フィブロネクチン又はそのゲル、コラーゲン又はそのゲル、ゼラチン又はそのゲル等のタンパク質層を設けてもよい。
【0050】
また、前記内部空間に細胞培養に適したフィルム、例えば細胞などの観察又は測定の対象物が流れない程度の大きさの孔が空いた多孔体を設けて収容部とし、そこに対象物を乗せることもできる。多孔体としては、ビトリゲル（Ｖｉｔｒｉｇｅｌ、Ｃｅｌｌ Ｔｒａｎｓｐｌａｎｔａｔｉｏｎ ２００４年１３巻４号４６３－４７３ページにて定義される）等のコラーゲンからなる膜、Ｓｙｌｇａｒｄ（ダウコーニング社商品名）等のポリジメチルシロキサンから作製される多孔膜、Ｆａｌｃｏｎ（コーニング社商品名）等のポリエチレンテレフタレートからなる多孔膜、日本特開２００２－３３５９４９号公報の手法により作製される疎水性溶媒に溶解する高分子からなるハニカム構造体フィルム、ＶＥＣＥＬＬ（ベセル社商品名）等の延伸ポリテトラフルオロエチレン多孔膜、エスパンシオーネ（ＫＢセーレン社商品名）等のポリウレタン不織布、などが挙げられる。
本態様において、第１～第３の基板をそれぞれ構成する含フッ素共重合体の種類は同じでもよく、異なってもよい。特に、チップ全体を１種の含フッ素共重合体で形成すると、均一性に優れるため光の散乱や屈折が抑制され、細胞などの観察がしやすい点で好ましい。
本態様において、第１～第３の基板をそれぞれ構成する含フッ素共重合体の種類は同じでもよく、異なってもよい。特に、チップ全体を１種の含フッ素共重合体で形成すると、均一性に優れるため光の散乱や屈折が抑制され、細胞などの観察がしやすい点で好ましい。
【0051】
前記含フッ素共重合体は、チップに用いたときに細胞に負荷を与えず細胞の培養等が適切に行えることから、気体透過性が良好であることが好ましい。気体透過性は、「ＪＩＳ Ｋ７１２６－１：２００６」のガス透過試験・差圧法を用いて測定した気体の透過係数で評価できる。本発明では、含フッ素共重合体の酸素透過係数が、１．０～３９０×１０－１０［ｃｍ３・ｃｍ/（ｃｍ２・ｓ・ｃｍＨｇ)、以下では、この単位を省略する場合がある。］が好ましく、１．０～１００×１０－１０がより好ましい。二酸化炭素透過係数は、５．０～１９００×１０－１０［ｃｍ３・ｃｍ/（ｃｍ２・ｓ・ｃｍＨｇ)、以下では、この単位を省略する場合がある。］が好ましく、５．０～１０００×１０－１０がより好ましい。
【0052】
また、水蒸気の透過性は、「ＪＩＳ Ｋ７１２９：２００８」の水蒸気透過試験・モコン法を用いて測定した透過係数で評価できる。本発明では、含フッ素共重合体の水蒸気透過係数が、０．１～１８［ｇ・ｍｍ／(ｍ２・２４ｈ) 、以下では、この単位を省略する場合がある。］が好ましく、０．１～２がより好ましい。各透過係数がこの範囲であると、気体透過性が良好であるとともに、チップ内部空間の水などの液体の揮発が抑制できるため、チップとして好適に用いることができる。
このような含フッ素共重合体としては、ＴＦＥ単位を５０～８０モル％含有する共重合体が好ましい。中でも前記ＴＦＥ－Ｐ系共重合体又はＴＦＥ―ＰＡＶＥ系共重合体が好ましく、前記（１－２）又は前記（５－２）の共重合体が特に好ましい。
このような含フッ素共重合体としては、ＴＦＥ単位を５０～８０モル％含有する共重合体が好ましい。中でも前記ＴＦＥ－Ｐ系共重合体又はＴＦＥ―ＰＡＶＥ系共重合体が好ましく、前記（１－２）又は前記（５－２）の共重合体が特に好ましい。
【0053】
前記含フッ素共重合体は、チップに用いたときに柔軟性を有し細胞に適切な振動を与えられることから次の硬度とヤング率を有するものが好ましい。硬度はタイプＡデュロメータ硬度８０以下が好ましく、６０以下がさらに好ましい。ヤング率は１０ＭＰａ以下が好ましく、５．０ＭＰａ以下がさらに好ましく、３．０ＭＰａ以下が特に好ましい。
【0054】
前記含フッ素共重合体は、チップに用いたときに薬剤を吸収しにくく各種評価試験を適切に行えることから、特定の薬剤に対する非吸収性にも優れることも好ましい。例えば、高血圧・狭心症治療剤であるニフェジピンや、カルシウムチャネル阻害作用を持つＢａｙ Ｋ８６４４の非吸収性に優れることが好ましい。非吸収性の測定方法としては、参考文献（Biochemical and Biophysical Research Communications 482 (2017) 323-328）に記載された方法が挙げられる。ニフェジピン吸収率は３０％以下が好ましく、２０％以下がより好ましく、１０％以下が特に好ましい。Ｂａｙ Ｋ８６４４の吸収率は１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましく、２％以下が特に好ましい。
【0055】
なお、硬度を下げて柔軟性を向上させると、含フッ素共重合体が薬剤を吸収しやすくなる傾向がある。また、チップに用いる場合はチップの内部空間を目視で確認できる透明性が必要である。硬度、ヤング率、薬剤非吸収性、透明性を兼ね備えるためには、含フッ素共重合体としては、ＴＦＥ単位を５０～７０モル％含有する共重合体が好ましい。中でも前記ＴＦＥ－Ｐ系共重合体又はＴＦＥ―ＰＡＶＥ系共重合体が好ましく、前記（１－２）又は前記（５－２）の共重合体が特に好ましい。
【0056】
＜第２の態様＞
本発明のチップの第２の態様は、図１に示す形状のチップの、内部空間Ｓに接する面の全部に含フッ素共重合体をコーティングしたものである。図示していないが、貫通孔Ｓ１の内壁面１ａ、貫通孔Ｓ２の内壁面１ｂ、第１の基板１の貫通溝Ｓ３に臨む面１ｃ、貫通溝Ｓ３の内壁面２ｂ、及び第３の基板３の貫通溝Ｓ３に臨む面３ａの全面に含フッ素共重合体の被覆層が存在する。
第１～第３の基板、及び被覆層は、内部を観察しやすい点で透明が好ましく、好ましい態様は第１の態様と同様である。また硬度についても第１の態様と同様である。
被覆層の厚さは０．１～２００μｍが好ましく、１～５０μｍがより好ましい。被覆層の厚さが前記範囲の下限値以上であると薬剤非吸収性に優れる。上限値以下であると流路の形状を保ちやすい。
本発明のチップの第２の態様は、図１に示す形状のチップの、内部空間Ｓに接する面の全部に含フッ素共重合体をコーティングしたものである。図示していないが、貫通孔Ｓ１の内壁面１ａ、貫通孔Ｓ２の内壁面１ｂ、第１の基板１の貫通溝Ｓ３に臨む面１ｃ、貫通溝Ｓ３の内壁面２ｂ、及び第３の基板３の貫通溝Ｓ３に臨む面３ａの全面に含フッ素共重合体の被覆層が存在する。
第１～第３の基板、及び被覆層は、内部を観察しやすい点で透明が好ましく、好ましい態様は第１の態様と同様である。また硬度についても第１の態様と同様である。
被覆層の厚さは０．１～２００μｍが好ましく、１～５０μｍがより好ましい。被覆層の厚さが前記範囲の下限値以上であると薬剤非吸収性に優れる。上限値以下であると流路の形状を保ちやすい。
【0057】
含フッ素共重合体は第１の態様と同様のものを用いることができる。本態様では、含フッ素共重合体と溶媒を含む含フッ素共重合体組成物を調製し、コーティング液として用いる。含フッ素共重合体組成物は、必要に応じて添加剤を含んでもよい。添加剤としてはペルフルオロポリエーテル等が挙げられる。
前記に挙げた含フッ素共重合体のなかで、被覆層を形成するのに好ましいのはＴＦＥ－Ｐ系共重合体、ＨＦＰ―ＶｄＦ系共重合体、ＣＴＦＥ－Ｅ系共重合体、又はＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体であり、ＴＦＥ－Ｐ系共重合体とＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体が特に好ましい。
前記に挙げた含フッ素共重合体のなかで、被覆層を形成するのに好ましいのはＴＦＥ－Ｐ系共重合体、ＨＦＰ―ＶｄＦ系共重合体、ＣＴＦＥ－Ｅ系共重合体、又はＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体であり、ＴＦＥ－Ｐ系共重合体とＴＦＥ－ＰＡＶＥ系共重合体が特に好ましい。
【0058】
チップの材質は限定されない。透明なフィルムを成形できる材料が好ましい。また柔軟性を有する材料が好ましい。
チップの材料としては、被覆層とは異なる含フッ素共重合体、ポリシロキサン系ポリマー（ポリジメチルシロキサン、ジフェニルシロキサン等）、シリコーン樹脂、シリコーンゴム、天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポリオレフィン、アクリル樹脂、アクリルゴム、スチレン樹脂、スチレンゴム、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、エピクロルヒドリンゴム、ポリビニルアルコール、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、熱可塑性エラストマー、珪酸ガラスが例示できる。
チップの材料としては、被覆層とは異なる含フッ素共重合体、ポリシロキサン系ポリマー（ポリジメチルシロキサン、ジフェニルシロキサン等）、シリコーン樹脂、シリコーンゴム、天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポリオレフィン、アクリル樹脂、アクリルゴム、スチレン樹脂、スチレンゴム、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、エピクロルヒドリンゴム、ポリビニルアルコール、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、熱可塑性エラストマー、珪酸ガラスが例示できる。
【0059】
本態様のチップは、例えば以下の方法で製造できる。
透明なフィルムを３枚用意し、第１の態様のチップと同様に加工し、積層し、接着して本体を得る。次いで、本体内の内部空間に接する面にコーティング液を塗布して、含フッ素共重合体の被覆層を形成する。又は、３枚のフィルムを積層する前に、各フィルムの、内部空間に接する面となる部分に、含フッ素共重合体の被覆層を形成してもよい。例えば、まず、透明なフィルムを３枚用意し、第１の態様のチップと同様に加工する。第１の基板１となるフィルムの、貫通孔Ｓ１の内壁面１ａ、貫通孔Ｓ２の内壁面１ｂ及び貫通溝Ｓ３に臨む面１ｃにコーティング液を塗布して、含フッ素共重合体の被覆層を形成する。第２の基板２となるフィルムの、貫通溝Ｓ３の内壁面２ｂにコーティング液を塗布して、含フッ素共重合体の被覆層を形成する。
透明なフィルムを３枚用意し、第１の態様のチップと同様に加工し、積層し、接着して本体を得る。次いで、本体内の内部空間に接する面にコーティング液を塗布して、含フッ素共重合体の被覆層を形成する。又は、３枚のフィルムを積層する前に、各フィルムの、内部空間に接する面となる部分に、含フッ素共重合体の被覆層を形成してもよい。例えば、まず、透明なフィルムを３枚用意し、第１の態様のチップと同様に加工する。第１の基板１となるフィルムの、貫通孔Ｓ１の内壁面１ａ、貫通孔Ｓ２の内壁面１ｂ及び貫通溝Ｓ３に臨む面１ｃにコーティング液を塗布して、含フッ素共重合体の被覆層を形成する。第２の基板２となるフィルムの、貫通溝Ｓ３の内壁面２ｂにコーティング液を塗布して、含フッ素共重合体の被覆層を形成する。
【0060】
第３の基板３となるフィルムの、貫通溝Ｓ３に臨む面３ａにコーティング液を塗布して、含フッ素共重合体の被覆層を形成する。その後、これら３枚のフィルムを、第１の態様と同様の方法で積層し、接着して本態様のチップを得る。
本態様においても第１の態様と同様の効果が得られる。本態様は第１の態様に比べて、本体の材質の自由度が高いため、コストをより低減することができる。
本態様においても第１の態様と同様の効果が得られる。本態様は第１の態様に比べて、本体の材質の自由度が高いため、コストをより低減することができる。
【0061】
＜第３の態様＞
図４は、本発明のチップの第３の態様を示す模式断面図であり、図５はチップを第１の基板と第２の基板に分解した模式平面図である。本態様が第１の態様と異なる点は、第１の態様のチップが３枚の基板の積層体であったのに対して、本態様のチップは２枚の基板の積層体であり、第３の基板３を用いない点、及び第１の態様においては第２の基板２には貫通溝Ｓ３を設けるのに対して、本態様では第２の基板１２に有底溝Ｓ１３を設ける点である。本態様において、第１の基板及び第２の基板は含フッ素共重合体からなる。
本態様のチップは第１の基板１１と第２の基板１２とが積層されている。第１の基板１１には２個の貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２が形成されている。貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２の第２の基板１２と反対側の開口端が開口Ｈ１１、Ｈ１２である。符号１１ａは貫通孔Ｓ１１の内壁面、１１ｂは貫通孔Ｓ１２の内壁面を示す。
図４は、本発明のチップの第３の態様を示す模式断面図であり、図５はチップを第１の基板と第２の基板に分解した模式平面図である。本態様が第１の態様と異なる点は、第１の態様のチップが３枚の基板の積層体であったのに対して、本態様のチップは２枚の基板の積層体であり、第３の基板３を用いない点、及び第１の態様においては第２の基板２には貫通溝Ｓ３を設けるのに対して、本態様では第２の基板１２に有底溝Ｓ１３を設ける点である。本態様において、第１の基板及び第２の基板は含フッ素共重合体からなる。
本態様のチップは第１の基板１１と第２の基板１２とが積層されている。第１の基板１１には２個の貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２が形成されている。貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２の第２の基板１２と反対側の開口端が開口Ｈ１１、Ｈ１２である。符号１１ａは貫通孔Ｓ１１の内壁面、１１ｂは貫通孔Ｓ１２の内壁面を示す。
【0062】
第２の基板１２には、有底溝Ｓ１３が設けられている。有底溝Ｓ１３は、第１の基板１１と第２の基板１２を積層したときに、有底溝Ｓ１３が貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２をつなぐように設けられている。符号１１ｃは第１の基板１１の有底溝Ｓ１３を臨む面を示し、１２ｂは有底溝Ｓ１３の底面を示す。
第１の基板１１と第２の基板１２が積層されたチップにおいて、貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２と有底溝Ｓ１３とで形成される空間が開口Ｈ１１、Ｈ１２をつなぐ内部空間Ｓである。
本態様のチップは、内部空間Ｓ内で細胞を培養する容器として使用できる。この場合、内部空間Ｓは細胞を収容する収容部（不図示）を含む。例えば、有底溝Ｓ１３の底面１２ｂ上に細胞を収容する収容部（不図示）収容部を設ける。
第１の基板１１と第２の基板１２が積層されたチップにおいて、貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２と有底溝Ｓ１３とで形成される空間が開口Ｈ１１、Ｈ１２をつなぐ内部空間Ｓである。
本態様のチップは、内部空間Ｓ内で細胞を培養する容器として使用できる。この場合、内部空間Ｓは細胞を収容する収容部（不図示）を含む。例えば、有底溝Ｓ１３の底面１２ｂ上に細胞を収容する収容部（不図示）収容部を設ける。
【0063】
本態様のチップは、例えば以下の方法で製造できる。
含フッ素共重合体からなるフィルムを２枚用意し、第１、第２の基板として使用する。第１の基板１１には表面から裏面に貫通する２個の貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２を設ける。第２の基板１２には有底溝Ｓ１３を設ける。
有底溝Ｓ１３が２個の貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２をつなぐように、第１の基板１１と第２の基板１２を積層し、基板どうしを液密に接着してチップを得る。
含フッ素共重合体からなるフィルムを２枚用意し、第１、第２の基板として使用する。第１の基板１１には表面から裏面に貫通する２個の貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２を設ける。第２の基板１２には有底溝Ｓ１３を設ける。
有底溝Ｓ１３が２個の貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２をつなぐように、第１の基板１１と第２の基板１２を積層し、基板どうしを液密に接着してチップを得る。
【0064】
＜第４の態様＞
本態様が第２の態様と異なる点は、図４に示す形状のチップ、内部空間Ｓに接する面の全部に含フッ素共重合体をコーティングしたものである。図示していないが、貫通孔Ｓ１１の内壁面１１ａ、貫通孔Ｓ１２の内壁面１１ｂ、第１の基板１１の有底溝Ｓ１３に臨む面１１ｃ、有底溝Ｓ１３の内壁面１２ａ、及び有底溝Ｓ１３の底面１２ｂの全面に含フッ素共重合体の被覆層が存在する。
本態様が第２の態様と異なる点は、図４に示す形状のチップ、内部空間Ｓに接する面の全部に含フッ素共重合体をコーティングしたものである。図示していないが、貫通孔Ｓ１１の内壁面１１ａ、貫通孔Ｓ１２の内壁面１１ｂ、第１の基板１１の有底溝Ｓ１３に臨む面１１ｃ、有底溝Ｓ１３の内壁面１２ａ、及び有底溝Ｓ１３の底面１２ｂの全面に含フッ素共重合体の被覆層が存在する。
【0065】
＜第５の態様＞
図６は本発明のチップの第５の態様を示す模式断面図である。図７はチップを第１の基板と第２の基板に分解した模式平面図である。本態様が第３の態様と異なる点は、第３の態様の第２の基板が有底溝を有するのに対して、本態様の第２の基板表面は表面と裏面は平坦である点と、第３の態様の第１の基板が貫通孔だけでなく貫通孔をつなぐように有底溝を有す点である。各基板の好ましい態様、製造方法は、第１の態様及び第３の態様と同様である。
図６は本発明のチップの第５の態様を示す模式断面図である。図７はチップを第１の基板と第２の基板に分解した模式平面図である。本態様が第３の態様と異なる点は、第３の態様の第２の基板が有底溝を有するのに対して、本態様の第２の基板表面は表面と裏面は平坦である点と、第３の態様の第１の基板が貫通孔だけでなく貫通孔をつなぐように有底溝を有す点である。各基板の好ましい態様、製造方法は、第１の態様及び第３の態様と同様である。
【0066】
＜第６の態様＞
本発明のチップの第６の態様は、図６に示す形状の本体の、内部空間に接する面の全部に含フッ素共重合体をコーティングしたものである。各基板の好ましい態様、コーティング法、製造方法は第２の態様及び第４の態様と同様である。
本発明のチップの第６の態様は、図６に示す形状の本体の、内部空間に接する面の全部に含フッ素共重合体をコーティングしたものである。各基板の好ましい態様、コーティング法、製造方法は第２の態様及び第４の態様と同様である。
【0067】
＜第７の態様＞
図８は本発明のチップの第７の態様を示す模式断面図であり、図９はこのチップを第１の基板と第２の基板に分解した模式平面図である。本態様が第５の態様と異なる点は、第５の態様の第２の基板が平坦であるのに対して、本態様の第２の基板は貫通孔をつなぐように配置された有底溝を有する点と、第１の基板と第２の基板の間に、貫通孔を塞がないように配置されたフィルムを有する点である。各基板の好ましい態様、製造方法は第１の態様、第３の態様及び第５の態様と同様である。
図８は本発明のチップの第７の態様を示す模式断面図であり、図９はこのチップを第１の基板と第２の基板に分解した模式平面図である。本態様が第５の態様と異なる点は、第５の態様の第２の基板が平坦であるのに対して、本態様の第２の基板は貫通孔をつなぐように配置された有底溝を有する点と、第１の基板と第２の基板の間に、貫通孔を塞がないように配置されたフィルムを有する点である。各基板の好ましい態様、製造方法は第１の態様、第３の態様及び第５の態様と同様である。
【0068】
＜第８の態様＞
本発明のチップの第８の態様は、図８に示す形状のチップの、内部空間に接する面の全部に含フッ素共重合体をコーティングしたものである。各基板の好ましい態様、コーティング法、製造方法は第２の態様、第４の態様及び第６の態様と同様である。
本発明のチップの第８の態様は、図８に示す形状のチップの、内部空間に接する面の全部に含フッ素共重合体をコーティングしたものである。各基板の好ましい態様、コーティング法、製造方法は第２の態様、第４の態様及び第６の態様と同様である。
【0069】
図１０に第７及び第８の態様の具体的構造を示す。第１の基板の内部空間と第２の基板の内部空間が上下に独立して存在し、異なる薬剤を混合せずにチップに流すことができる。
図１０（ａ）の左側図、右側図は、それぞれ、第１基体、第２基体の平面図である。図１０（ｂ）は第１基体と第２基体とを積層した状態の平面図ある。図１０（ｃ）は、第１基体と第２基体とを積層した状態の断面図である。
図１０（ａ）の左側図、右側図は、それぞれ、第１基体、第２基体の平面図である。図１０（ｂ）は第１基体と第２基体とを積層した状態の平面図ある。図１０（ｃ）は、第１基体と第２基体とを積層した状態の断面図である。
【0070】
＜変形例＞
第１～８の態様においては、チップの内部空間に接する面の全部を含フッ素共重合体からなる面としたが、内部空間に接する面の少なくとも一部を含フッ素共重合体からなる面とすることができる。チップ内で薬剤と接触する面の一部を含フッ素共重合体からなる面とすることにより、チップ内で薬剤が吸収されるのを低減させる効果が得られる。薬剤の非吸収性により優れる点からは、チップ内で薬剤と接触する面の全部が含フッ素共重合体からなる面であることがより好ましい。
チップの内部空間に接する面の一部のみが含フッ素共重合体からなる面である場合、残りの面は、下記他の材料からなる基板が露出した面（露出面）であることが好ましい。
第１～８の態様においては、チップの内部空間に接する面の全部を含フッ素共重合体からなる面としたが、内部空間に接する面の少なくとも一部を含フッ素共重合体からなる面とすることができる。チップ内で薬剤と接触する面の一部を含フッ素共重合体からなる面とすることにより、チップ内で薬剤が吸収されるのを低減させる効果が得られる。薬剤の非吸収性により優れる点からは、チップ内で薬剤と接触する面の全部が含フッ素共重合体からなる面であることがより好ましい。
チップの内部空間に接する面の一部のみが含フッ素共重合体からなる面である場合、残りの面は、下記他の材料からなる基板が露出した面（露出面）であることが好ましい。
【0071】
他の材料としては、薬剤の吸収が少ない点で、珪酸ガラス、ステンレス鋼、シクロオレフィンポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレンが好ましい。透明性の点で珪酸ガラス、シクロオレフィンポリマーがより好ましい。
例えば、第１の態様において、第１の基板１と第３の基板３を珪酸ガラスで構成し、第２の基板２を第１の態様と同様に含フッ素共重合体で構成する。
珪酸ガラスからなる基板は市販品から入手できる。
この態様のチップの製造方法は、まず、第１の基板１となるガラスフィルムに貫通孔Ｓ１、Ｓ２を設ける。第２の基板２は第１の態様と同様に貫通溝Ｓ３を設ける。第３の基板３となるガラスフィルムは加工しない。次いで、これら３枚のフィルムを積層し、接着してチップを得る。
例えば、第１の態様において、第１の基板１と第３の基板３を珪酸ガラスで構成し、第２の基板２を第１の態様と同様に含フッ素共重合体で構成する。
珪酸ガラスからなる基板は市販品から入手できる。
この態様のチップの製造方法は、まず、第１の基板１となるガラスフィルムに貫通孔Ｓ１、Ｓ２を設ける。第２の基板２は第１の態様と同様に貫通溝Ｓ３を設ける。第３の基板３となるガラスフィルムは加工しない。次いで、これら３枚のフィルムを積層し、接着してチップを得る。
【0072】
例えば、第２の態様において、第１の基板１及び第３の基板３を珪酸ガラスで構成し、第２の基板２をポリシロキサン系ポリマーで構成し、第２の基板２の貫通溝Ｓ３の内壁面２ｂにのみ含フッ素共重合体の被覆層を設ける。
この態様のチップの製造方法は、まず、第１の基板１となるガラスフィルムに貫通孔Ｓ１、Ｓ２を設ける。第２の基板２は第２の態様と同様に貫通溝Ｓ３を設け、その内壁面２ｂにコーティング液を塗布して含フッ素共重合体の被覆層を形成する。第３の基板３となるガラスフィルムは加工しない。次いで、これら３枚のフィルムを積層し、接着してチップを得る。
この態様のチップの製造方法は、まず、第１の基板１となるガラスフィルムに貫通孔Ｓ１、Ｓ２を設ける。第２の基板２は第２の態様と同様に貫通溝Ｓ３を設け、その内壁面２ｂにコーティング液を塗布して含フッ素共重合体の被覆層を形成する。第３の基板３となるガラスフィルムは加工しない。次いで、これら３枚のフィルムを積層し、接着してチップを得る。
【0073】
例えば、第３の態様において、第１の基板１１を珪酸ガラスで構成し、第２の基板１２を第３の態様と同様に含フッ素共重合体で構成する。
この態様のチップの製造方法は、まず、第１の基板１１となるガラスフィルムに貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２を設ける。第２の基板１２は第３の態様と同様に有底溝Ｓ１３を設ける。次いで、これら２枚のフィルムを積層し、接着してチップを得る。
この態様のチップの製造方法は、まず、第１の基板１１となるガラスフィルムに貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２を設ける。第２の基板１２は第３の態様と同様に有底溝Ｓ１３を設ける。次いで、これら２枚のフィルムを積層し、接着してチップを得る。
【0074】
例えば、第４の態様において、第１の基板１１を珪酸ガラスで構成し、第２の基板１２をポリシロキサン系ポリマーで構成し、第２の基板１２の有底溝Ｓ１３の内壁面１２ａ、及び有底溝Ｓ１３の底面１２ｂにのみ含フッ素共重合体の被覆層を設ける。
この態様のチップの製造方法は、まず、第１の基板１１となるガラスフィルムに貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２を設ける。第２の基板１２は第４の態様と同様に有底溝Ｓ１３を設け、その内壁面１２ａ及び底面１２ｂにコーティング液を塗布して含フッ素共重合体の被覆層を形成する。次いで、これら２枚のフィルムを積層し、接着してチップを得る。
この態様のチップの製造方法は、まず、第１の基板１１となるガラスフィルムに貫通孔Ｓ１１、Ｓ１２を設ける。第２の基板１２は第４の態様と同様に有底溝Ｓ１３を設け、その内壁面１２ａ及び底面１２ｂにコーティング液を塗布して含フッ素共重合体の被覆層を形成する。次いで、これら２枚のフィルムを積層し、接着してチップを得る。
【0075】
珪酸ガラスからなる基板に貫通孔を設ける方法としてはレーザー、マイクロブラスト、又はエッチングによる加工法が例示できる。
珪酸ガラスからなる基板を用いる場合、基板どうしを接着させる方法は、基板どうしを重ね合わせ、さらに紫外線照射、放射線照射、電子線照射又は加熱して架橋させる方法、基板の間に接着剤層を設ける方法、接着面をコロナ放電照射、プラズマ照射、紫外線照射、オゾン暴露、塩基暴露により活性化させた後に重ね合わせる方法、及びこれらの方法を２つ以上組み合わせた方法が例示できる。
珪酸ガラスからなる基板を用いる場合、基板どうしを接着させる方法は、基板どうしを重ね合わせ、さらに紫外線照射、放射線照射、電子線照射又は加熱して架橋させる方法、基板の間に接着剤層を設ける方法、接着面をコロナ放電照射、プラズマ照射、紫外線照射、オゾン暴露、塩基暴露により活性化させた後に重ね合わせる方法、及びこれらの方法を２つ以上組み合わせた方法が例示できる。
【0076】
第１～８の態様においては、開口を２個設けたが、開口の数は複数であればよく、限定されない。１つの内部空間が３個以上の開口をつないでもよい。開口の形状は任意の形状とできる。開口はチップの上面に限らず、下面又は側面に設けてもよく、これらを組み合わせてもよい。
第１、第２の態様において、第３の基板の第２の基板側の面は平坦面としたが、この面に有底の溝を設けてもよい。又は第３の基板に貫通溝を設け、第２の基板とは反対側に第４の基板を設けてもよい。第４の基板の第３の基板側の面は平坦面でもよく、有底の溝を形成してもよい。
例えば、非特許文献（Ｄｏｎｇｅｕｎ Ｈｕｈ、他著、“Ｍｉｃｒｏｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ ｈｕｍａｎ ｏｒｇａｎｓ－ｏｎ－ｃｈｉｐｓ”、ＮＡＴＵＲＥ ＰＲＯＴＯＣＯＬＳ、ｖｏｌ．８、ｎｏ．１１、２０１３年、ｐｐ．２１３５－２１５７）に記載の構造のチップを含フッ素共重合体により作製できる。
また、前記非特許文献に記載の方法により、細胞をチップ内で培養できる。
第１、第２の態様において、第３の基板の第２の基板側の面は平坦面としたが、この面に有底の溝を設けてもよい。又は第３の基板に貫通溝を設け、第２の基板とは反対側に第４の基板を設けてもよい。第４の基板の第３の基板側の面は平坦面でもよく、有底の溝を形成してもよい。
例えば、非特許文献（Ｄｏｎｇｅｕｎ Ｈｕｈ、他著、“Ｍｉｃｒｏｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ ｈｕｍａｎ ｏｒｇａｎｓ－ｏｎ－ｃｈｉｐｓ”、ＮＡＴＵＲＥ ＰＲＯＴＯＣＯＬＳ、ｖｏｌ．８、ｎｏ．１１、２０１３年、ｐｐ．２１３５－２１５７）に記載の構造のチップを含フッ素共重合体により作製できる。
また、前記非特許文献に記載の方法により、細胞をチップ内で培養できる。
【0077】
細胞をチップ内で培養する場合、前記のとおり必要に応じてチップを変形させて、内部空間内の細胞に機械力を付与し、臓器の動きを模倣した振動を与えることがある。このとき、振動を与えるためには細胞培養面の伸びが必要だが、伸び過ぎると細胞が変形に耐えられず死んでしまうことがある。チップの内部空間に細胞を含んだ状態においては、細胞培養面の伸びは１．０～２５．０％が好ましく、１．０～１０．０％がより好ましく、１．０～７．０％が特に好ましい。
このような含フッ素共重合体としては、ＴＦＥ単位を５０～７０モル％含有する共重合体が好ましい。中でも前記ＴＦＥ－Ｐ系共重合体が好ましく、前記（１－２）の共重合体が特に好ましい。
このような含フッ素共重合体としては、ＴＦＥ単位を５０～７０モル％含有する共重合体が好ましい。中でも前記ＴＦＥ－Ｐ系共重合体が好ましく、前記（１－２）の共重合体が特に好ましい。
【0078】
また、細胞を培養する場合、内部空間の細胞接着性が良好であることが好ましい。中でも、前記ＴＦＥ－Ｐ系共重合体又はＴＦＥ―ＰＡＶＥ系共重合体が好ましく、前記（１－２）又は前記（５－２）の共重合体がより好ましく、前記（５－２）の共重合体が特に好ましい。また前記（１－２）は適切な架橋や表面処理を行うことにより細胞接着性を向上させることができる。
所望の形状の基板を作製する方法は、３Ｄプリンタを用いた方法でもよい。
また、３Ｄプリンタを用いて１枚の基板に内部空間の全部が形成されたチップを作製してもよい。
所望の形状の基板を作製する方法は、３Ｄプリンタを用いた方法でもよい。
また、３Ｄプリンタを用いて１枚の基板に内部空間の全部が形成されたチップを作製してもよい。
【実施例】
【0079】
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0080】
＜薬剤非吸収性の評価方法＞
［１．０μＭナイルレッド水溶液の調製］
ナイルレッド（東京化成工業社製）をエタノールに溶解させ、さらにイオン交換水を加えて１．０μＭナイルレッド水溶液（エタノール０．０３質量％含む）を調製した。
［試験フィルムの作製］
評価対象のフィルムを１．０μＭナイルレッド水溶液に室温（２５℃）で１時間浸漬させた後、イオン交換水の入った容器に移して１分間攪拌し、取り出したフィルムの表面の水滴を窒素ガスで吹き飛ばしたものを試験フィルムとした。
［１．０μＭナイルレッド水溶液の調製］
ナイルレッド（東京化成工業社製）をエタノールに溶解させ、さらにイオン交換水を加えて１．０μＭナイルレッド水溶液（エタノール０．０３質量％含む）を調製した。
［試験フィルムの作製］
評価対象のフィルムを１．０μＭナイルレッド水溶液に室温（２５℃）で１時間浸漬させた後、イオン交換水の入った容器に移して１分間攪拌し、取り出したフィルムの表面の水滴を窒素ガスで吹き飛ばしたものを試験フィルムとした。
【0081】
［蛍光顕微鏡による断面観察］
試験フィルムを凍結用包埋剤（サクラファインテック社製）に入れ、クリオスタット（Ｌｅｉｃａ社製）を用いて－２０℃で凍結し、切削して６０μ厚の凍結切片を得た。粘着テープを用い、得られた凍結切片をスライドガラスへ貼り付けた後、蛍光顕微鏡システム（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社商品名、ＥＶＯＳ、ＦＬ Ａｕｔｏ）を用いてサンプル断面の蛍光像（赤色）と位相像を観察した。蛍光顕微鏡システムは、Ｌｉｇｈｔ＝３５／１００、露光時間＝３２０ｍｓ、ＧＡＩＮ＝１２．０ｄｂに設定した。
試験フィルムを凍結用包埋剤（サクラファインテック社製）に入れ、クリオスタット（Ｌｅｉｃａ社製）を用いて－２０℃で凍結し、切削して６０μ厚の凍結切片を得た。粘着テープを用い、得られた凍結切片をスライドガラスへ貼り付けた後、蛍光顕微鏡システム（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社商品名、ＥＶＯＳ、ＦＬ Ａｕｔｏ）を用いてサンプル断面の蛍光像（赤色）と位相像を観察した。蛍光顕微鏡システムは、Ｌｉｇｈｔ＝３５／１００、露光時間＝３２０ｍｓ、ＧＡＩＮ＝１２．０ｄｂに設定した。
【0082】
図１１～１８に示す蛍光像の写真において、白い部分が赤色の蛍光が観察された部分である。白い部分が少ない方が、薬剤（１．０μＭナイルレッド水溶液）の吸収が少ないことを意味する。
【0083】
（実験例１）
国際公開第２０１５／０９８７７３号の製造例３と同様の手順で、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＣＨ３に基づく単位が１．２モル％、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３に基づく単位が２５．４モル％、テトラフルオロエチレンに基づく単位が７３．５モル％である含フッ素共重合体Ｐ１を得た。サイズ排除クロマトグラムにより算出される、ポリメタクリル酸メチル換算の重量平均分子量は１００，０００であり、重量平均分子量／数平均分子量の値は１．５であった。
国際公開第２０１５／０９８７７３号の製造例３と同様の手順で、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＣＨ３に基づく単位が１．２モル％、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３に基づく単位が２５．４モル％、テトラフルオロエチレンに基づく単位が７３．５モル％である含フッ素共重合体Ｐ１を得た。サイズ排除クロマトグラムにより算出される、ポリメタクリル酸メチル換算の重量平均分子量は１００，０００であり、重量平均分子量／数平均分子量の値は１．５であった。
【0084】
含フッ素共重合体Ｐ１を熱プレスにより１００μｍ厚フィルムとし、照射面に３ｍｍ厚の合成石英板を有する容器に入れ、窒素雰囲気下、２００Ｗ低圧水銀ランプ（セン特殊光源製、ＥＵＶ２００ＧＬ－３１オゾンレスタイプ、波長中心２５４ｎｍ）を用いて紫外線照射を１時間行い、無色透明な含フッ素架橋フィルムＱ１を得た。フィルムからランプまでの距離は２５ｍｍであった。
前記の方法で、含フッ素架橋フィルムＱ１の薬剤非吸収性を評価した。結果を図１１に示す。フィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。
前記の方法で、含フッ素架橋フィルムＱ１の薬剤非吸収性を評価した。結果を図１１に示す。フィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。
【0085】
（比較例１）
無色透明なポリジメチルシロキサン架橋体フィルム（ダウコーニング社商品名、Ｓｙｌｇａｒｄ、１８４）Ｑ２の薬剤非吸収性を評価した。結果を図１２に示す。５００μｍ厚のフィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光が見られた。試験フィルムは目視では赤く着色していた。
無色透明なポリジメチルシロキサン架橋体フィルム（ダウコーニング社商品名、Ｓｙｌｇａｒｄ、１８４）Ｑ２の薬剤非吸収性を評価した。結果を図１２に示す。５００μｍ厚のフィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光が見られた。試験フィルムは目視では赤く着色していた。
【0086】
（実験例２）
実験例１の含フッ素共重合体Ｐ１を、ｎ－Ｃ６Ｆ１３Ｈ（ＡＧＣ社商品名、アサヒクリンＡＣ－２０００）に溶解させ、１０質量％の含フッ素共重合体Ｐ１溶液を得た。
比較例１のポリジメチルシロキサン架橋体フィルムＱ２を、含フッ素共重合体Ｐ１溶液に浸漬させて引き上げる操作を５回繰り返してコーティングした。次いで、室温（２５℃）で２時間静置して乾燥し、実験例１と同じ条件で両面１時間ずつ紫外線照射し、無色透明な含フッ素共重合体被覆フィルムＱ３を得た。
含フッ素共重合体被覆フィルムＱ３の薬剤非吸収性の評価結果を図１３に示す。フィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。位相像から測定した、含フッ素共重合体Ｐ１の被覆層の最も薄い箇所の厚みは１２μｍであった。
実験例１の含フッ素共重合体Ｐ１を、ｎ－Ｃ６Ｆ１３Ｈ（ＡＧＣ社商品名、アサヒクリンＡＣ－２０００）に溶解させ、１０質量％の含フッ素共重合体Ｐ１溶液を得た。
比較例１のポリジメチルシロキサン架橋体フィルムＱ２を、含フッ素共重合体Ｐ１溶液に浸漬させて引き上げる操作を５回繰り返してコーティングした。次いで、室温（２５℃）で２時間静置して乾燥し、実験例１と同じ条件で両面１時間ずつ紫外線照射し、無色透明な含フッ素共重合体被覆フィルムＱ３を得た。
含フッ素共重合体被覆フィルムＱ３の薬剤非吸収性の評価結果を図１３に示す。フィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。位相像から測定した、含フッ素共重合体Ｐ１の被覆層の最も薄い箇所の厚みは１２μｍであった。
【0087】
（実験例３）
日本特許第５３２１５８０号公報の実施例に従って、ＴＦＥ単位が５６モル％、Ｐ単位が４４モル％である含フッ素共重合体Ｐ２を合成した。
含フッ素共重合体Ｐ２を、１，２，４－トリメチルベンゼン４０質量％とＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＧＣ社商品名、アサヒクリンＡＥ－３０００）６０質量％からなる混合溶媒へ溶解させ、１０質量％の含フッ素共重合体Ｐ２溶液を得た。
比較例１のポリジメチルシロキサン架橋体フィルムＱ２を、含フッ素共重合体Ｐ２溶液に浸漬させて引き上げる操作を３回繰り返してコーティングした。次いで、１７０℃の送風式オーブンで１時間加熱乾燥して、無色透明な含フッ素共重合体被覆フィルムＱ４を得た。
含フッ素共重合体被覆フィルムＱ４の薬剤非吸収性の評価結果を図１４に示す。フィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。位相像から測定した、含フッ素共重合体Ｐ２の被覆層の最も薄い箇所の厚みは２２μｍであった。
日本特許第５３２１５８０号公報の実施例に従って、ＴＦＥ単位が５６モル％、Ｐ単位が４４モル％である含フッ素共重合体Ｐ２を合成した。
含フッ素共重合体Ｐ２を、１，２，４－トリメチルベンゼン４０質量％とＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＧＣ社商品名、アサヒクリンＡＥ－３０００）６０質量％からなる混合溶媒へ溶解させ、１０質量％の含フッ素共重合体Ｐ２溶液を得た。
比較例１のポリジメチルシロキサン架橋体フィルムＱ２を、含フッ素共重合体Ｐ２溶液に浸漬させて引き上げる操作を３回繰り返してコーティングした。次いで、１７０℃の送風式オーブンで１時間加熱乾燥して、無色透明な含フッ素共重合体被覆フィルムＱ４を得た。
含フッ素共重合体被覆フィルムＱ４の薬剤非吸収性の評価結果を図１４に示す。フィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。位相像から測定した、含フッ素共重合体Ｐ２の被覆層の最も薄い箇所の厚みは２２μｍであった。
【0088】
（実験例４）
ＶｄＦ単位とＴＦＥ単位とＨＦＰ単位からなる共重合体Ｐ３（ダイキン工業社商品名、ダイエルＧ－９０１）の無色透明な５５０μｍ厚フィルムＱ５の薬剤非吸収性の評価結果を図１５に示す。フィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。
ＶｄＦ単位とＴＦＥ単位とＨＦＰ単位からなる共重合体Ｐ３（ダイキン工業社商品名、ダイエルＧ－９０１）の無色透明な５５０μｍ厚フィルムＱ５の薬剤非吸収性の評価結果を図１５に示す。フィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。
【0089】
（実験例５）
ＴＦＥ－Ｅ系共重合体とＨＦＰ－ＶｄＦ系共重合体とのブロック共重合体である、含フッ素熱可塑性エラストマーＰ４（タイガースポリマー社製品名：タイガーフロン）の無色透明な１．０ｍｍ厚チューブＱ６の薬剤非吸収性の評価結果を図１６に示す。チューブの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。
ＴＦＥ－Ｅ系共重合体とＨＦＰ－ＶｄＦ系共重合体とのブロック共重合体である、含フッ素熱可塑性エラストマーＰ４（タイガースポリマー社製品名：タイガーフロン）の無色透明な１．０ｍｍ厚チューブＱ６の薬剤非吸収性の評価結果を図１６に示す。チューブの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。
【0090】
（実験例６）
国際公開第２０１７／０８２４１７号の例２に従って、Ｅ単位が４７．３モル％、ＴＦＥ単位が５２．７モル％である含フッ素共重合体Ｐ５を合成した。
含フッ素共重合体Ｐ５を熱プレスして、１００μｍ厚の無色透明な含フッ素共重合体フィルムＱ７を得た。含フッ素共重合体フィルムＱ７の薬剤非吸収性の結果を図１７に示す。フィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。
国際公開第２０１７／０８２４１７号の例２に従って、Ｅ単位が４７．３モル％、ＴＦＥ単位が５２．７モル％である含フッ素共重合体Ｐ５を合成した。
含フッ素共重合体Ｐ５を熱プレスして、１００μｍ厚の無色透明な含フッ素共重合体フィルムＱ７を得た。含フッ素共重合体フィルムＱ７の薬剤非吸収性の結果を図１７に示す。フィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。
【0091】
（実験例７）
国際公開第２０１７／０５７５１２号の実施例５に従って、ＴＦＥ単位が５６モル％、Ｐ単位が４３．８モル％、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）３ＯＣＦ＝ＣＦ２に基づく単位が０．２モル％でヨウ素を０．５質量％含む含フッ素共重合体Ｐ６を合成した。
含フッ素共重合体Ｐ６を熱プレスして、５６０μｍ厚の無色透明な含フッ素共重合体フィルムＱ８を得た。含フッ素共重合体フィルムＱ８をＪＩＳ－Ｋ－７１３６に準じ、ヘイズメーターで測定したところ、ヘイズ値は１０％であった。含フッ素共重合体フィルムＱ８の薬剤非吸収性の結果を図１８に示す。フィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。
国際公開第２０１７／０５７５１２号の実施例５に従って、ＴＦＥ単位が５６モル％、Ｐ単位が４３．８モル％、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）３ＯＣＦ＝ＣＦ２に基づく単位が０．２モル％でヨウ素を０．５質量％含む含フッ素共重合体Ｐ６を合成した。
含フッ素共重合体Ｐ６を熱プレスして、５６０μｍ厚の無色透明な含フッ素共重合体フィルムＱ８を得た。含フッ素共重合体フィルムＱ８をＪＩＳ－Ｋ－７１３６に準じ、ヘイズメーターで測定したところ、ヘイズ値は１０％であった。含フッ素共重合体フィルムＱ８の薬剤非吸収性の結果を図１８に示す。フィルムの内部にナイルレッドに由来する蛍光は見られなかった。試験フィルムは目視でも無色透明のままであった。
【0092】
（実験例８）
ＣＴＦＥ単位とＥ単位からなる含フッ素共重合体Ｐ７（ソルベイスペシャルティポリマーズ社商品名、ヘイラー６０１４）の粉体を熱プレスし、６７μｍ厚の無色透明な含フッ素共重合体フィルムＱ９を得た。薬剤非吸収性の評価の試験フィルムは目視で無色透明のままであった。
ＣＴＦＥ単位とＥ単位からなる含フッ素共重合体Ｐ７（ソルベイスペシャルティポリマーズ社商品名、ヘイラー６０１４）の粉体を熱プレスし、６７μｍ厚の無色透明な含フッ素共重合体フィルムＱ９を得た。薬剤非吸収性の評価の試験フィルムは目視で無色透明のままであった。
【0093】
（実験例９）
実験例７で合成した含フッ素共重合体Ｐ６の１００質量部に対して、パーカドックス１４（化薬アクゾ社製）の１質量部、トリアリルイソシアヌレートの３質量部、及びステアリン酸カルシウムの１質量部を均一に混練し、１５０℃で２０分間プレス加硫させ、含フッ素共重合体フィルムＱ１０を得た。前記フィルムのタイプＡデュロメータ硬度は５８、ヤング率は１．４ＭＰａであった。
なお、硬度はJIS K6253-3に準じて測定した。ヤング率はテンシロン（A and D社製）シリーズを用い、8号ダンベル(幅3mm, 長さ10mm)で引っ張り速度10[mm/min]の条件で3回測定を行い、平均値を用いた。
実験例７で合成した含フッ素共重合体Ｐ６の１００質量部に対して、パーカドックス１４（化薬アクゾ社製）の１質量部、トリアリルイソシアヌレートの３質量部、及びステアリン酸カルシウムの１質量部を均一に混練し、１５０℃で２０分間プレス加硫させ、含フッ素共重合体フィルムＱ１０を得た。前記フィルムのタイプＡデュロメータ硬度は５８、ヤング率は１．４ＭＰａであった。
なお、硬度はJIS K6253-3に準じて測定した。ヤング率はテンシロン（A and D社製）シリーズを用い、8号ダンベル(幅3mm, 長さ10mm)で引っ張り速度10[mm/min]の条件で3回測定を行い、平均値を用いた。
【0094】
参考文献（Biochemical and Biophysical Research Communications 482 (2017) 323-328）に記載された方法を参照し、薬剤としてニフェジピンとＢａｙ Ｋ８６４４を用い、９６ｗｅｌｌプレート（ＡＧＣテクノグラス社製）に厚み２ｍｍ、直径６．５ｍｍとなるよう打ち抜いた比較例１で用いたポリジメチルシロキサン架橋体を入れ、１μＭの薬剤溶液２５０ｕＬを添加した。３時間まで継時的に液中の薬剤濃度を測定し、吸収量を算出した。コントロールとして何も入れないｗｅｌｌ（ＴＣＰＳ）を用いた。
前記含フッ素共重合体フィルムＱ１０も同様にディスクを作製し、同様の方法で薬剤の吸収量を算出した。ニフェジピンはポリジメチルシロキサン架橋体では３時間後に４割の薬剤が溶液中から無くなったが、含フッ素共重合体フィルムＱ１０では１割に留まった。Ｂａｙ Ｋ８６４４はポリジメチルシロキサン架橋体では３時間後に２割の薬剤が消失したが、含フッ素共重合体フィルムＱ１０では消失はほとんどなかった。
前記含フッ素共重合体フィルムＱ１０も同様にディスクを作製し、同様の方法で薬剤の吸収量を算出した。ニフェジピンはポリジメチルシロキサン架橋体では３時間後に４割の薬剤が溶液中から無くなったが、含フッ素共重合体フィルムＱ１０では１割に留まった。Ｂａｙ Ｋ８６４４はポリジメチルシロキサン架橋体では３時間後に２割の薬剤が消失したが、含フッ素共重合体フィルムＱ１０では消失はほとんどなかった。
【0095】
（実験例１０）
実験例１で得た含フッ素架橋フィルムＱ１をＪＩＳ Ｋ７１２６－１：２００６に準じて測定したところ、酸素の透過係数は１．７×１０－９]、二酸化炭素の透過係数は４．０×１０－９であった。水蒸気の透過係数をＪＩＳ Ｋ７１２９：２００８に準じて測定したところ、透過係数は１．０であった。
同様にして、実験例９で得た含フッ素共重合体からなるフィルムＱ１０を前記同様に気体透過定数を測定したところ、酸素の透過係数は２．０×１０－１０、二酸化炭素の透過係数は１０．０×１０－１０であった。
実験例１で得た含フッ素架橋フィルムＱ１をＪＩＳ Ｋ７１２６－１：２００６に準じて測定したところ、酸素の透過係数は１．７×１０－９]、二酸化炭素の透過係数は４．０×１０－９であった。水蒸気の透過係数をＪＩＳ Ｋ７１２９：２００８に準じて測定したところ、透過係数は１．０であった。
同様にして、実験例９で得た含フッ素共重合体からなるフィルムＱ１０を前記同様に気体透過定数を測定したところ、酸素の透過係数は２．０×１０－１０、二酸化炭素の透過係数は１０．０×１０－１０であった。
【0096】
（実施例１）
実験例１に記載の含フッ素重合体Ｐ１を用い、熱プレスにより０．６ｍｍ厚フィルムを作製し、実験例１と同じ条件で紫外線照射して含フッ素架橋フィルムＱ１０を得た。これから２０ｍｍ×４０ｍｍの長方形フィルム３枚を刃により切り出した。１枚目には照射面側からポンチにより直径２ｍｍの貫通孔を２つ形成した（孔中心間距離は２０ｍｍ）。２枚目には１枚目と同じ位置に同様の操作で貫通孔を２つ形成し、さらに刃を用いて、これらの貫通孔間をつなぐ線幅１ｍｍの貫通溝を形成した。１枚目と２枚目の貫通孔の位置が一致するように２枚を重ね合わせた。さらに３枚目を、照射面が２枚目側とは反対側となるように２枚目の下に置き、長方形の４頂点が重なり合うように積層した。真空減圧下、１００℃で３時間加熱して３枚を接着し、２つの開口をつなぐ内部空間を有するチップ構造体を作製した。
実験例１に記載の含フッ素重合体Ｐ１を用い、熱プレスにより０．６ｍｍ厚フィルムを作製し、実験例１と同じ条件で紫外線照射して含フッ素架橋フィルムＱ１０を得た。これから２０ｍｍ×４０ｍｍの長方形フィルム３枚を刃により切り出した。１枚目には照射面側からポンチにより直径２ｍｍの貫通孔を２つ形成した（孔中心間距離は２０ｍｍ）。２枚目には１枚目と同じ位置に同様の操作で貫通孔を２つ形成し、さらに刃を用いて、これらの貫通孔間をつなぐ線幅１ｍｍの貫通溝を形成した。１枚目と２枚目の貫通孔の位置が一致するように２枚を重ね合わせた。さらに３枚目を、照射面が２枚目側とは反対側となるように２枚目の下に置き、長方形の４頂点が重なり合うように積層した。真空減圧下、１００℃で３時間加熱して３枚を接着し、２つの開口をつなぐ内部空間を有するチップ構造体を作製した。
【0097】
（実施例２）[細胞培養試験]
前記含フッ素共重合体フィルムＱ１０を金型成型し、高さ０．２ｍｍで幅１．０ｍｍの有底の溝を持つ厚み１．５ｍｍのフィルムを作製した。所定の位置を２ｍｍφの生研トレパン（貝印社製）で打ち抜いたフィルムを第一の基板とし、貫通孔を空けないフィルムを第二の基板として溝中心の溝が向かい合うように積層した。
前記第一と第二の基板の間に、図１０のように中心の溝を隔てるように厚み１０μｍのＰＤＭＳ（ポリジメチルシロキサン）フィルムを挟み、ＰＤＭＳ糊を塗布して積層してチップを作製した。チップをＵＶで３０分間殺菌し、送液ポートからシリンジを介してフィブロネクチン溶液を注入しＰＤＭＳ膜をコーティングした。送液ポートからシリンジを介してＰＢＳを注入しＰＤＭＳ膜を洗浄した。送液ポートからシリンジを介して培養液に懸濁したＧＦＰ発現ＨＵＶＥＣ（血管内皮細胞）を注入し、温度３７℃、５％ＣＯ２環境下で１６時間培養した。
前記含フッ素共重合体フィルムＱ１０を金型成型し、高さ０．２ｍｍで幅１．０ｍｍの有底の溝を持つ厚み１．５ｍｍのフィルムを作製した。所定の位置を２ｍｍφの生研トレパン（貝印社製）で打ち抜いたフィルムを第一の基板とし、貫通孔を空けないフィルムを第二の基板として溝中心の溝が向かい合うように積層した。
前記第一と第二の基板の間に、図１０のように中心の溝を隔てるように厚み１０μｍのＰＤＭＳ（ポリジメチルシロキサン）フィルムを挟み、ＰＤＭＳ糊を塗布して積層してチップを作製した。チップをＵＶで３０分間殺菌し、送液ポートからシリンジを介してフィブロネクチン溶液を注入しＰＤＭＳ膜をコーティングした。送液ポートからシリンジを介してＰＢＳを注入しＰＤＭＳ膜を洗浄した。送液ポートからシリンジを介して培養液に懸濁したＧＦＰ発現ＨＵＶＥＣ（血管内皮細胞）を注入し、温度３７℃、５％ＣＯ２環境下で１６時間培養した。
【0098】
１６時間培養後の細胞（ＨＵＶＥＣ）を顕微鏡観察したところ、位相差像及びＧＦＰ蛍光画像において細胞が明瞭に観察可能であった。また、細胞収容部を伸縮させ、細胞に伸展刺激を与えたところ、細胞に対して5%程度の伸展刺激を行うことが可能であった。
このことから、生体に近い環で評価を行える生体模倣チップに必要な薬剤非収着性、細胞非毒性、細胞観察性、柔軟性を備えており、生体模倣チップとして好適に使用できることが分かった。
このことから、生体に近い環で評価を行える生体模倣チップに必要な薬剤非収着性、細胞非毒性、細胞観察性、柔軟性を備えており、生体模倣チップとして好適に使用できることが分かった。
【0099】
（実施例３）
前記ポリジメチルシロキサン架橋体フィルムＱ２をシリコン基板とレジスト樹脂からなる型を用いて成形し、高さ０．２ｍｍで幅１．０ｍｍの有底の溝を持つ厚さ６ｍｍのフィルムを作製した。このフィルムに実験例２と同様に含フッ素共重合体Ｐ１をコーティングし、含フッ素共重合体被覆フィルムＱ１３を得た。ただし、ＵＶ照射は大気下で行った。実施例２において、有底の溝を持つフィルムＱ１０の代わりに有底の溝を持つフィルムＱ１３を用い、厚み１０μｍのＰＤＭＳフィルムの代わりにコラーゲンビトリゲル（ＡＧＣテクノグラス社商品名）フィルムを用い、ＰＤＭＳ糊を塗布せずに積層して３０℃で圧着させ、チップを作製した。ビトリゲル上では細胞を育てることができるため、生体模倣チップとして好適に使用できることが分かった。
前記ポリジメチルシロキサン架橋体フィルムＱ２をシリコン基板とレジスト樹脂からなる型を用いて成形し、高さ０．２ｍｍで幅１．０ｍｍの有底の溝を持つ厚さ６ｍｍのフィルムを作製した。このフィルムに実験例２と同様に含フッ素共重合体Ｐ１をコーティングし、含フッ素共重合体被覆フィルムＱ１３を得た。ただし、ＵＶ照射は大気下で行った。実施例２において、有底の溝を持つフィルムＱ１０の代わりに有底の溝を持つフィルムＱ１３を用い、厚み１０μｍのＰＤＭＳフィルムの代わりにコラーゲンビトリゲル（ＡＧＣテクノグラス社商品名）フィルムを用い、ＰＤＭＳ糊を塗布せずに積層して３０℃で圧着させ、チップを作製した。ビトリゲル上では細胞を育てることができるため、生体模倣チップとして好適に使用できることが分かった。
【0100】
（実験例４）
大気下でＵＶ照射を行った以外、実験例１と同様に含フッ素架橋フィルムＱ１を得た。これをポリスチレン製シャーレ中に入れ、フィルムＱ１上でヒト胎児肺由来線維芽細胞であるTIG-3細胞を３日間培養した。細胞接着は良好であった。
大気下でＵＶ照射を行った以外、実験例１と同様に含フッ素架橋フィルムＱ１を得た。これをポリスチレン製シャーレ中に入れ、フィルムＱ１上でヒト胎児肺由来線維芽細胞であるTIG-3細胞を３日間培養した。細胞接着は良好であった。
【0101】
以上の結果より、含フッ素共重合体Ｐ１、Ｐ３～Ｐ７からなるフィルムＱ１、Ｑ５～Ｑ９は薬剤非吸収性に優れており、薬剤の評価試験に用いられるチップの基板として好適に使用できる。
ポリジメチルシロキサン架橋体フィルムＱ２は薬剤を吸収するが、このフィルム上に、含フッ素共重合体Ｐ１の被覆層を設けた含フッ素共重合体被覆フィルムＱ３、及び含フッ素共重合体Ｐ２の被覆層を設けた含フッ素共重合体被覆フィルムＱ４は、薬剤非吸収性に優れており、薬剤の評価試験に用いられるチップの基板として好適に使用できる。
ポリジメチルシロキサン架橋体フィルムＱ２は薬剤を吸収するが、このフィルム上に、含フッ素共重合体Ｐ１の被覆層を設けた含フッ素共重合体被覆フィルムＱ３、及び含フッ素共重合体Ｐ２の被覆層を設けた含フッ素共重合体被覆フィルムＱ４は、薬剤非吸収性に優れており、薬剤の評価試験に用いられるチップの基板として好適に使用できる。
【0102】
なお、２０１７年９月１５日に出願された日本特許出願２０１７－１７７９７９号の明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【符号の説明】
【0103】
１：第１の基板、２：第２の基板、３：第３の基板、Ｈ１、Ｈ２、Ｈ１１、Ｈ１２：開口、Ｓ：内部空間、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ１１、Ｓ１２：貫通孔、Ｓ３：貫通溝、Ｓ１３：有底の溝（有底溝）、１ａ、１ｂ、１１ａ、１１ｂ：貫通孔の内壁面、１ｃ：貫通溝を臨む面、２ａ：貫通溝の内壁面、３ａ：貫通溝を臨む面、１１ｃ：有底の溝を臨む面、１２ａ：有底の溝の内壁面、１２ｂ：有底の溝の底面、２１：第１の基板、２２：第２の基板、Ｓ２１、Ｓ２２：貫通孔、Ｓ２３：有底溝、２１ａ、２１ｂ：貫通孔の内壁面、２１ｃ：有底溝の底面、Ｈ２１、Ｈ２２：開口、３１：第１の基板、３２：第２の基板、３３：フィルム、Ｓ３１、Ｓ３２、Ｓ３３、Ｓ３４：貫通孔、Ｓ３５：有底溝、３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ：貫通孔の内壁面、３２ａ：有底溝の内壁面、３２ｂ：有底溝の底面、Ｈ３１、Ｈ３２、Ｈ３３、Ｈ３４：開口
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】