特許 7093390出願番号 特願 2020-173962
基板洗浄装置
出願人 株式会社荏原製作所（識別番号 239）
2026年 特許公開件数ランキング 148位 206件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 203位 126件（※）
公報発行日 2022年6月29
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7093390 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
基板洗浄装置および基板洗浄方法ならびに基板洗浄装置用のロールスポンジ
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
このような問題点に鑑み、効果的に基板を洗浄できる基板洗浄装置および基板洗浄方法ならびに基板洗浄装置用のロールスポンジを提供する。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本開示の一態様によれば、基板を保持する基板保持部と、保持された前記基板に対して５度以上３０度未満の照射角度で洗浄液を供給するノズル洗浄液供給部と、を備える基板洗浄装置が提供される。
適切な照射角度で洗浄液を基板に供給することで、効果的に基板を洗浄できる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
本基板洗浄装置を備える基板処理装置の概略平面図。
【図2】
第１の基板洗浄装置を模式的に示す斜視図。
【図3】
基板Ｗとその表面上に付着した異物Ｐとを模式的に示す断面図。
【図4】
照射角度θと除去率との関係を模式的に示すグラフ。
【図5】
第２の基板洗浄装置を模式的に示す斜視図。
【図6】
洗浄工程における洗浄液供給を模式的に示す斜視図。
【図7】
リンス工程における洗浄液供給を模式的に示す斜視図。
【図8】
第３の基板洗浄装置の概略斜視図。
【図9】
第４の基板洗浄装置の概略斜視図。
【図10】
第５の基板洗浄装置の概略斜視図。
【図11】
第６の基板洗浄装置の概略斜視図。
【図12】
第７の基板洗浄装置を模式的に示す斜視図。
【図13】
ノズル３２ａ，３２ｂによる洗浄液供給タイミングを示す図。
【図14】
第８の実施形態の一例に係る洗浄液の供給流量を模式的に示す図。
【図15】
第８の実施形態の別の例に係る洗浄液の供給流量を模式的に示す図。
【図16】
ロールスポンジ３３の第１例を示す図。
【図17】
ロールスポンジ３３の第２例を示す図。
【図18】
ロールスポンジ３３の第３例を示す図。
【図19】
ロールスポンジ３３の第４例を示す図。
【図20】
ペンシルスポンジ３８の第１例を示す図。
【図21】
ペンシルスポンジ３８の第２例を示す図。
【図22】
ペンシルスポンジ３８の第３例を示す図。
【図23】
ペンシルスポンジ３８の第４例を示す図。
【図24】
ペンシルスポンジ３８の第５例を示す図。
【図25】
別の洗浄部３９１を示す図。
【図26】
また別の洗浄部３９２を示す図。
【図27】
また別の洗浄部３９３を示す図。
【図28】
また別の洗浄部３９４を示す図。
【図29】
また別の洗浄部３９５を示す図。
代表図 図1本件の代表的な図
３１ 基板保持部
３２，３２ａ，３２ｂ ノズル
３３，３３ａ，３３ｂ ロールスポンジ
３３１ ロール本体
３３２ ノジュール部
６０ ノズル制御部
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