特許7100152IP Force 特許公報全文掲載

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（関連出願の相互参照） [0001] 本出願は、２０１８年５月１日に出願された米国出願第６２／６６５，４５１号の優先権を主張する。これは援用により全体が本願に含まれる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

[0008] 本開示のの態様及び他の態様は、例示的な実施形態の記載を添付図面と関連付けて検討することによって更に明らかとなろう。
【図1】 [0009] 本開示の実施形態に従った、例示的な電子ビーム検査（ＥＢＩ：electron beam inspection）システムを示す概略図である。
【図2】 [0010] 本開示の実施形態に従った、図１の例示的な電子ビーム検査システムの一部である例示的なマルチビーム装置を示す概略図である。
【図3A】 [0011] 本開示の実施形態に従った、図１の例示的な電子ビーム検査システムのソース変換ユニットの例示的な構成を示す例示的なマルチビーム装置の概略図である。
【図3B】 [0012] 対応する半径方向に対する例示的な偏向特性を示す。
【図3C】 [0012] 対応する半径方向に対する例示的な偏向特性を示す。
【図3D】 [0013] ダイポール構成を有する例示的な多極構造を示す。
【図3E】 [0014] 四極構成を有する例示的な多極構造を示す。
【図3F】 [0015] 八極構成を有する例示的な多極構造を示す。
【図4A】 [0016] 多極構造アレイの例示的な構成を示す概略図である。
【図4B】 [0016] 多極構造アレイの例示的な構成を示す概略図である。
【図5A】 [0017] 本開示の実施形態に従った、像形成要素アレイの例示的な構成を示す概略図である。
【図5B】 [0018] 本開示の実施形態に従った、別の像形成要素アレイの例示的な構成を示す概略図である。
【図5C】 [0019] 本開示の実施形態に従った、像形成要素アレイ及び補助微小偏向器アレイを含む例示的な構成を示す概略図である。
【図6A】 [0020] 本開示の実施形態に従った、像面湾曲補償器アレイの例示的な構成を示す概略図である。
【図6B】 [0021] 本開示の実施形態に従った、像面湾曲補償器アレイの別の例示的な構成を示す概略図である。
【図6C】 [0022] 本開示の実施形態に従った、像面湾曲補償器アレイ及び補助微小レンズアレイを含む例示的な構成の一部を示す概略図である。
【図7A】 [0023] 本開示の実施形態に従った、非点収差補償器アレイの例示的な構成を示す概略図である。
【図7B】 [0024] 本開示の実施形態に従った、非点収差補償器アレイの別の例示的な構成を示す概略図である。
【図7C】 [0025] 本開示の実施形態に従った、非点収差補償器アレイ及び補助微小非点収差補正器（micro-stigmator）アレイを含む例示的な構成の一部を示す概略図である。
【図8A】 [0026] 本開示の実施形態に従った、非点収差補償器アレイの一部を含む像面湾曲補償器アレイの例示的な構成を示す概略図である。
【図8B】 [0027] 本開示の実施形態に従った、像面湾曲補償器アレイの一部を含む非点収差補償器アレイの例示的な構成を示す概略図である。
【図9】 [0028] 本開示の実施形態に従った、微細構造（micro-structure）に関連付けられたドライバを制御するための例示的な方法を示すフローチャートである。
【図10】 [0029] 本開示の実施形態に従った、微細構造アレイを形成するための例示的な方法を示すフローチャートである。

代表図 図1本件の代表的な図

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