発明の名称 シリコンエピタキシャルウェーハの製造方法及びシリコンエピタキシャルウェーハ
出願人 株式会社SUMCO (識別番号 302006854)
特許公開件数ランキング 874 位(7件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 520 位(11件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-7103210
公報発行日 2022年7月20
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7103210
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