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特許7105287量子ドット、これを含む硬化性組成物、前記組成物を用いて製造された硬化膜および前記硬化膜を含むカラーフィルタ
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-07-13
(45)【発行日】2022-07-22
(54)【発明の名称】量子ドット、これを含む硬化性組成物、前記組成物を用いて製造された硬化膜および前記硬化膜を含むカラーフィルタ
(51)【国際特許分類】
G02B 5/20 20060101AFI20220714BHJP
C09K 11/08 20060101ALI20220714BHJP
C08G 65/338 20060101ALI20220714BHJP
C08F 16/32 20060101ALI20220714BHJP
C08F 299/02 20060101ALI20220714BHJP
C08F 2/44 20060101ALI20220714BHJP
B82Y 20/00 20110101ALI20220714BHJP
B82Y 30/00 20110101ALI20220714BHJP
C07F 3/06 20060101ALN20220714BHJP
【ＦＩ】
G02B5/20 ZNM
C09K11/08 G
C08G65/338
C08F16/32
C08F299/02
C08F2/44 A
B82Y20/00
B82Y30/00
C07F3/06
【請求項の数】
18
(21)【出願番号】P 2020165520
(22)【出願日】2020-09-30
(65)【公開番号】P2021063981
(43)【公開日】2021-04-22
【審査請求日】2020-09-30
(31)【優先権主張番号】10-2019-0127124
(32)【優先日】2019-10-14
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(73)【特許権者】
【識別番号】590002817
【氏名又は名称】三星エスディアイ株式会社
【氏名又は名称原語表記】ＳＡＭＳＵＮＧ ＳＤＩ Ｃｏ．， ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】１５０－２０ Ｇｏｎｇｓｅ－ｒｏ，Ｇｉｈｅｕｎｇ－ｇｕ，Ｙｏｎｇｉｎ－ｓｉ， Ｇｙｅｏｎｇｇｉ－ｄｏ， ４４６－９０２ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ
(74)【代理人】
【識別番号】110000671
【氏名又は名称】八田国際特許業務法人
(72)【発明者】
【氏名】姜 龍 熙
(72)【発明者】
【氏名】金 鐘 基
(72)【発明者】
【氏名】林 知 ▲げん▼
(72)【発明者】
【氏名】金 東 俊
(72)【発明者】
【氏名】金 美 善
(72)【発明者】
【氏名】朴 民 志
(72)【発明者】
【氏名】李 範 珍
(72)【発明者】
【氏名】李 仁 宰
(72)【発明者】
【氏名】崔 美 貞
【審査官】渡邊 吉喜
(56)【参考文献】
【文献】米国特許出願公開第２０１９／０１２９３０２（ＵＳ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１９／０３０６８０（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特表２０２０－５３７１８９（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１９／０７２８８２（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１８－０８４８２３（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ５／２０
Ｃ０９Ｋ １１／０８
Ｃ０８Ｇ ６５／３３８
Ｃ０８Ｆ １６／３２
Ｃ０８Ｆ ２９９／０２
Ｃ０８Ｆ ２／４４
Ｂ８２Ｙ ２０／００
Ｂ８２Ｙ ３０／００
Ｃ０７Ｆ ３／０６
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記化学式１Ａまたは化学式２で表される化合物で表面改質された量子ドット：【化1】
上記化学式１Ａおよび化学式２中、
Ｍは、金属原子であり、
Ｌは、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のオキシアルキレン基を含む１価または２価官能基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ２およびＬ３は、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
ｎは、２～４の整数であり、
上記化学式１Ａ中、
Ｌ４およびＬ５は、非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ６は、単一結合または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、但し、ｍ１が２の整数である場合、前記Ｍと直接結合されるＬ １ は＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｒ１は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは非置換のエポキシ基、置換もしくは非置換の炭素数６～２０のアリール基または置換もしくは非置換
のビニル基である。
【請求項2】
前記１価官能基は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基であり、前記２価官能基は、置換もしくは非置換の炭素数３～２０のシクロアルキレン基である、請求項１に記載の量子ドット。
【請求項3】
前記１価または２価官能基は末端に、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルコキシ基、置換もしくは非置換のエポキシ基、置換もしくは非置換の炭素数６～２０のアリール基または置換もしくは非置換のビニル基を有する、請求項１または２に記載の量子ドット。
【請求項4】
前記Ｍは、Ｚｎ、Ｍｇ、ＡｌまたはＩｎである、請求項１～３のいずれか１項に記載の量子ドット。
【請求項5】
前記化学式２は、下記化学式２Ａで表される、請求項１～４のいずれか１項に記載の量子ドット：【化2】
上記化学式２Ａ中、
Ｍは、金属原子であり、
Ｒ１は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは非置換のエポキシ基、置換もしくは非置換の炭素数６～２０のアリール基または置換もしくは非置換のビニル基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ２およびＬ３は、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ４およびＬ５は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ６は、単一結合または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ７は、置換もしくは非置換の炭素数３～２０のシクロアルキレン基であり、
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立して、１～２０の整数である。
【請求項6】
前記化学式１Ａは、下記化学式１－１～化学式１－６のうちのいずれか一つで表される、請求項１～５のいずれか１項に記載の量子ドット：【化3】
上記化学式１－１～化学式１－６中、
ｍ２は、１～２０の整数である。
【請求項7】
前記化学式２は、下記化学式２－１で表される、請求項１～６のいずれか１項に記載の量子ドット：【化4】
上記化学式２－１中、
ｍ２は、１～２０の整数である。
【請求項8】
前記量子ドットは、５００ｎｍ～６８０ｎｍで最大蛍光発光波長を有する、請求項１～７のいずれか１項に記載の量子ドット。
【請求項9】
請求項１～８のいずれか１項による量子ドット；および末端に炭素－炭素二重結合を有する重合性単量体を含む無溶媒型硬化性組成物。
【請求項10】
前記重合性単量体は、２２０ｇ／ｍｏｌ～１，０００ｇ／ｍｏｌの分子量を有する、請求項９に記載の硬化性組成物。
【請求項11】
前記重合性単量体は、下記化学式３で表される、請求項９または１０に記載の硬化性組成物：【化5】
上記化学式３中、
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子または置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキル基であり、
Ｌ７およびＬ９は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキレン基であり、
Ｌ８は、置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキレン基またはエーテル基（＊－Ｏ－＊）である。
【請求項12】
前記無溶媒型硬化性組成物は、前記量子ドット１重量％～６０重量％、および
前記重合性単量体４０重量％～９９重量％
を含む、請求項９～１１のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
【請求項13】
前記無溶媒型硬化性組成物は、重合開始剤、光拡散剤またはこれらの組み合わせをさらに含む、請求項９～１２のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
【請求項14】
請求項１～８のいずれか１項による量子ドット；バインダー樹脂；および
溶媒
を含む溶媒型硬化性組成物。
【請求項15】
前記溶媒型硬化性組成物は、前記量子ドット１重量％～４０重量％；
前記バインダー樹脂１重量％～３０重量％；および
前記溶媒残部量
を含む、請求項１４に記載の硬化性組成物。
【請求項16】
前記溶媒型硬化性組成物は、重合性単量体、重合開始剤、光拡散剤またはこれらの組み合わせをさらに含む、請求項１４または１５に記載の硬化性組成物。
【請求項17】
請求項９～１３のいずれか１項または１４～１６のいずれか１項による組成物を用いて製造された硬化膜。
【請求項18】
請求項１７に記載の硬化膜を含むカラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、量子ドット、これを含む硬化性組成物、前記組成物を用いて製造された硬化膜、および前記硬化膜を含むカラーフィルタに関するものである。
【背景技術】
【0002】
一般的な量子ドットの場合、疎水性を有する表面特性によって分散される溶媒が制限的であり、これにより、バインダーや硬化性モノマーなどのような極性システムへの導入に多く困っているのが事実である。
【0003】
一例として、活発に研究されている量子ドットインク組成物の場合にも、その初期段階では相対的に極性度が低く疎水性程度が高い硬化型組成物に使用される溶媒にせめて（かろうじて）分散される水準であった。そのため、全体組成物総量に対して２０重量％以上の量子ドットを含ませにくくてインクの光効率を一定水準以上増加させることができず、光効率を増加させるために無理に量子ドットを追加投入して分散させてもインク－ジェッティング（Ｉｎｋ－ｊｅｔｔｉｎｇ）が可能な粘度範囲（１２ｃＰｓ）を超えるようになって、工程性を満足させることができなかった。
【0004】
また、ジェッティング（ｊｅｔｔｉｎｇ）が可能な粘度範囲を実現するために全体組成物総量に対して５０重量％以上の溶媒を含ませてインク固形分含量を低める方法を使用してきたが、この方法も粘度面ではある程度満足すべき結果を提供するが、ジェッティング（ｊｅｔｔｉｎｇ）時溶媒揮発によるノズル乾燥、ノズル目詰り現象、ジェッティング（ｊｅｔｔｉｎｇ）後時間による単膜減少などの問題と共に硬化後厚さ偏差が激しくなって、実際工程に適用し難い短所を有する。
【0005】
したがって、量子ドットインクは溶媒を含まない無溶媒タイプが実際工程に適用するのに最も好ましい形態であり、現在の量子ドット自体を溶媒型組成物に適用する技術はもうある程度限界に至ったと評価されている。
【0006】
現在まで報告されたところでは、実際工程に適用するのに最も好ましい溶媒型組成物の場合、リガンド置換など表面改質されていない量子ドットが溶媒型組成物総量に対して約２０重量％～２５重量％程度の含量で含まれており、したがって粘度の限界によって光効率および吸収率を増加させ難い状況である。一方、他の改善方向として量子ドット含量を低め光拡散剤（散乱体）の含量を増加させる方法も試みられているが、これも沈降問題や低い光効率問題を改善できずにいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【文献】韓国公開特許第２０１６－０１１９１４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
一実施形態は、パッシベーション効果に優れた化合物で表面改質されて、優れた光効率を有する量子ドットを提供するためのものである。
【0009】
他の一実施形態は、量子ドット含有硬化性組成物を提供するためのものである。
【0010】
また他の一実施形態は、前記硬化性組成物を用いて製造された硬化膜を提供するためのものである。
【0011】
また他の一実施形態は、前記硬化膜を含むカラーフィルタを提供するためのものである。
【課題を解決するための手段】
【0012】
一実施形態は、下記化学式１または化学式２で表される化合物で表面改質された量子ドットを提供する。
【0013】
【化1】
【0014】
上記化学式１および化学式２中、
Ｍは、金属原子であり、
Ｌは、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のオキシアルキレン基を含む１価または２価官能基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ２およびＬ３は、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
ｎは、２～４の整数である。
Ｍは、金属原子であり、
Ｌは、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のオキシアルキレン基を含む１価または２価官能基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ２およびＬ３は、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
ｎは、２～４の整数である。
【0015】
前記１価官能基は置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基であり、前記２価官能基は置換もしくは非置換の炭素数３～２０のシクロアルキレン基であってもよい。
【0016】
前記１価または２価官能基は末端に、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルコキシ基、置換もしくは非置換のエポキシ基、置換もしくは非置換の炭素数６～２０のアリール基または置換もしくは非置換のビニル基を有することができる。
【0017】
前記Ｍは、Ｚｎ、Ｍｇ、ＡｌまたはＩｎであってもよい。
【0018】
前記化学式１は、下記化学式１Ａで表すことができる。
【0019】
【化2】
【0020】
上記化学式１Ａ中、
Ｍは、金属原子であり、
Ｒ１は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは非置換のエポキシ基、置換もしくは非置換の炭素数６～２０のアリール基または置換もしくは非置換のビニル基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ４およびＬ５は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ６は、単一結合または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
ｎは、２～４の整数である。
Ｍは、金属原子であり、
Ｒ１は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは非置換のエポキシ基、置換もしくは非置換の炭素数６～２０のアリール基または置換もしくは非置換のビニル基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ４およびＬ５は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ６は、単一結合または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
ｎは、２～４の整数である。
【0021】
前記化学式２は、下記化学式２Ａで表すことができる。
【0022】
【化3】
【0023】
上記化学式２Ａ中、
Ｍは、金属原子であり、
Ｒ１は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは非置換のエポキシ基、置換もしくは非置換の炭素数６～２０のアリール基または置換もしくは非置換のビニル基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ２およびＬ３は、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ４およびＬ５は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ６は、単一結合または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ７は、置換もしくは非置換の炭素数３～２０のシクロアルキレン基であり、
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立して、１～２０の整数である。
Ｍは、金属原子であり、
Ｒ１は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは非置換のエポキシ基、置換もしくは非置換の炭素数６～２０のアリール基または置換もしくは非置換のビニル基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ２およびＬ３は、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ４およびＬ５は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ６は、単一結合または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ７は、置換もしくは非置換の炭素数３～２０のシクロアルキレン基であり、
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立して、１～２０の整数である。
【0024】
前記化学式１は、下記化学式１－１～化学式１－６のうちのいずれか一つで表すことができる。
【0025】
【化4】
【0026】
上記化学式１－１～化学式１－６中、
ｍ２は、１～２０の整数である。
ｍ２は、１～２０の整数である。
【0027】
前記化学式２は、下記化学式２－１で表すことができる。
【0028】
【化5】
【0029】
上記化学式２－１中、
ｍ２は、１～２０の整数である。
ｍ２は、１～２０の整数である。
【0030】
前記量子ドットは、５００ｎｍ～６８０ｎｍで最大蛍光発光波長を有することができる。
【0031】
他の一実施形態は、前記量子ドット、および末端に炭素－炭素二重結合を有する重合性単量体を含む無溶媒型硬化性組成物を提供する。
【0032】
前記無溶媒型硬化性組成物内の重合性単量体は、２２０ｇ／ｍｏｌ～１，０００ｇ／ｍｏｌの分子量を有することができる。
【0033】
前記無溶媒型硬化性組成物内の重合性単量体は、下記化学式３で表すことができる。
【0034】
【化6】
【0035】
上記化学式３中、
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子または置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキル基であり、
Ｌ７およびＬ９は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキレン基であり、
Ｌ８は、置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキレン基またはエーテル基（＊－Ｏ－＊）である。
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子または置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキル基であり、
Ｌ７およびＬ９は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキレン基であり、
Ｌ８は、置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキレン基またはエーテル基（＊－Ｏ－＊）である。
【0036】
前記無溶媒型硬化性組成物は、前記量子ドット１重量％～６０重量％および前記重合性単量体４０重量％～９９重量％を含むことができる。
【0037】
前記無溶媒型硬化性組成物は、重合開始剤、光拡散剤またはこれらの組み合わせをさらに含んでもよい。
【0038】
また他の一実施形態は、前記量子ドット、バインダー樹脂、および溶媒を含む溶媒型硬化性組成物を提供する。
【0039】
前記溶媒型硬化性組成物は、前記量子ドット１重量％～４０重量％；前記バインダー樹脂１重量％～３０重量％；および前記溶媒残部量を含むことができる。
【0040】
前記溶媒型硬化性組成物は、重合性単量体、重合開始剤、光拡散剤またはこれらの組み合わせをさらに含んでもよい。
【0041】
また他の一実施形態は、前記硬化性組成物を用いて製造された硬化膜を提供する。
【0042】
また他の一実施形態は、前記硬化膜を含むカラーフィルタを提供する。
【0043】
その他の本発明の側面の具体的な事項は以下の詳細な説明に含まれている。
【発明の効果】
【0044】
一実施形態は特定化合物で表面改質された量子ドットを提供し、前記特定化合物は量子ドットに対するパッシベーション効果が非常に優れており、さらに前記特定化合物で表面改質された量子ドットは既存の量子ドットと比較して溶媒型硬化性組成物および無溶媒型硬化性組成物の両方ともに容易に適用が可能であって工程性に優れるだけでなく、前記硬化性組成物を用いて製造された硬化膜の光効率も大きく向上させることができる。さらに、一実施形態による量子ドットを含む硬化性組成物は、貯蔵安定性および耐熱性に優れる。
【発明を実施するための形態】
【0045】
以下、本発明の実施形態を詳しく説明する。但し、これは例示として提示されるものであって、これによって本発明が制限されるわけではなく、本発明は後述の特許請求の範囲の範疇によって定義されるだけである。
【0046】
本明細書で特別な言及がない限り、“アルキル基”とは炭素数１～２０のアルキル基を意味し、“アルケニル基”とは炭素数２～２０のアルケニル基を意味し、“シクロアルケニル基“とは炭素数３～２０のシクロアルケニル基を意味し、“ヘテロシクロアルケニル基”とは炭素数３～２０のヘテロシクロアルケニル基を意味し、“アリール基”とは炭素数６～２０のアリール基を意味し、“アリールアルキル基”とは炭素数６～２０のアリールアルキル基を意味し、“アルキレン基”とは炭素数１～２０のアルキレン基を意味し、“アリーレン基”とは炭素数６～２０のアリーレン基を意味し、“アルキルアリーレン基”とは炭素数６～２０のアルキルアリーレン基を意味し、“ヘテロアリーレン基”とは炭素数３～２０のヘテロアリーレン基を意味し、“アルコキシレン基”とは炭素数１～２０のアルコキシレン基を意味する。
【0047】
本明細書で特別な言及がない限り、“置換”とは少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシ基、炭素数１～２０のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミン基、イミノ基、アジド基、アミジノ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、カルボニル基、カルバモイル基、チオール基、エステル基、エーテル基、カルボキシル基またはその塩、スルホン酸基またはその塩、リン酸やその塩、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、炭素数２～２０のアルキニル基、炭素数６～２０のアリール基、炭素数３～２０のシクロアルキル基、炭素数３～２０のシクロアルケニル基、炭素数３～２０のシクロアルキニル基、炭素数２～２０のヘテロシクロアルキル基、炭素数２～２０のヘテロシクロアルケニル基、炭素数２～２０のヘテロシクロアルキニル基、炭素数３～２０のヘテロアリール基またはこれらの組み合わせの置換基で置換されたことを意味する。
【0048】
また、本明細書で特別な言及がない限り、“ヘテロ”とは、化学式内にＮ、Ｏ、ＳおよびＰのうちの少なくとも一つのヘテロ原子が少なくとも一つ含まれたことを意味する。
【0049】
また、本明細書で特別な言及がない限り、“（メタ）アクリレート”は“アクリレート”と“メタクリレート”の両方とも可能であるのを意味し、“（メタ）アクリル酸”は“アクリル酸”と“メタクリル酸”の両方とも可能であるのを意味する。
【0050】
本明細書で特別な言及がない限り、“組み合わせ”とは、混合または共重合を意味する。
【0051】
本明細書内の化学式で別途の定義がない限り、化学結合が描かれなければならない位置に化学結合が描かれていない場合は、前記位置に水素原子が結合されているのを意味する。
【0052】
本明細書でカルド系樹脂とは、下記化学式４－１～化学式４－１１からなる群より選択された一つ以上の官能基が樹脂内主骨格（ｂａｃｋｂｏｎｅ）に含まれる樹脂を意味する。
【0053】
また本明細書で特別な言及がない限り、“＊”は同一であるか異なる原子または化学式と連結される部分を意味する。
【0054】
一般的な量子ドットの場合、疎水性表面特性によって分散される溶媒が制限的であるため、バインダー樹脂や硬化性単量体などのような極性システムに量子ドットを導入させることに多く困っているのが事実である。
【0055】
一例として、活発に研究されている量子ドット含有硬化性組成物の場合にも、その初期段階では相対的に極性度（ｐｏｌａｒｉｔｙ）が低く疎水性（ｈｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃｉｔｙ）が高い硬化性組成物に量子ドットがやっと（かろうじて）分散される水準であった。そのため、全体組成物基準２０重量％以上の高含量で量子ドットを含ませにくくて硬化性組成物の光効率を一定水準以上増加させることができず、光効率を増加させるために無理に量子ドットを追加投入および分散させてもインク－ジェッティング（Ｉｎｋ－ｊｅｔｔｉｎｇ；インク噴射又はインク吐出）が可能な粘度範囲（１２ｃＰｓ）を超えて工程性を満足させることができなかった。
【0056】
また、インク－ジェッティングが可能な粘度範囲を実現するために全体硬化性組成物総量に対して５０重量％以上の溶媒を含ませて硬化性組成物を構成する固形分含量を落とす方法を使用してきたが、この方法も粘度面では優れるが、インク－ジェッティング時溶媒揮発によるノズル乾燥、ノズル目詰り現象、インク－ジェッティング後時間による単膜減少、硬化後厚さ偏差が激しくて実際工程に適用し難い短所があった。
【0057】
したがって、量子ドット含有硬化性組成物は溶媒を含まない無溶剤タイプが実際工程に適用可能な開発方向であるという点を考える時、現在の量子ドット自体をそのまま適用することには限界があるのが事実である。
【0058】
現在まで報告されたところでは、リガンド置換など表面改質がされていない量子ドットの場合、全体硬化性組成物内２０～２５重量％程度の少ない含量のみが含まれており、したがって粘度の限界によって光効率および吸収率を増加させにくいのが実情である。また他の改善方向は量子ドット含量を低めＴｉＯ２などの光拡散剤の含量を増加させる方法もあるが、これも沈降問題や低い光効率を改善することができずにいる。
【0059】
量子ドットを含む既存溶媒型硬化性組成物の問題点は、前述のようにインク－ジェッティング工程時ノズル部分で溶媒乾燥現象のためノズル目詰りが発生し、溶媒の低い蒸気圧によってインク－ジェッティングされたピクセル内インクが蒸発してターゲットピクセルの厚さを維持することができなくて、インク－ジェッティング工程性を確保し難いということである。
【0060】
また、ピクセル内に膜を形成した後ｐｏｓｔ ｂａｋｉｎｇ（あるいは追加熱硬化）工程を経れば、一定の厚さの層を形成するためにピクセル高さをはるかに上回るインク量をインク－ジェッティングしてｐｉｎｎｉｎｇポイント（液滴が崩れない最大高さ）を形成しなければならないが、これも現実的に不可能であるだけでなく、工程可能な溶媒が４０ｄｙｎｅ／ｃｍに近い表面張力を有しなければならないため、開発の可能性も非常に低い。
【0061】
よって、本発明者らは長い間の研究の末に、チオール基を有していない、金属複合体リガンドを用いて量子ドットを表面改質させることによって、量子ドットの光特性低下を防止すると同時に量子ドット含有硬化性組成物の貯蔵安定性および耐熱性を大きく改善させた。
【0062】
例えば、前記リガンドは、下記化学式１または化学式２で表すことができる。
【0063】
【化7】
【0064】
上記化学式１および化学式２中、
Ｍは、金属原子であり、
Ｌは、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のオキシアルキレン基を含む１価または２価官能基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ２およびＬ３は、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
ｎは、２～４の整数である。
Ｍは、金属原子であり、
Ｌは、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のオキシアルキレン基を含む１価または２価官能基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ２およびＬ３は、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
ｎは、２～４の整数である。
【0065】
前記化学式１または化学式２で表される化合物は従来量子ドット表面改質物質として時々使われるチオール系化合物とはその構造が全く異なる、金属複合体リガンドであって、このようなリガンドで量子ドットを表面改質する場合、前記表面改質された量子ドットは前記量子ドット含有組成物から製造された硬化膜の光効率を大きく向上させることができ、さらに前記組成物の貯蔵安定性および耐熱性も改善させることができる。
【0066】
前記化学式１中、Ｌは１価官能基であって、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基であってもよい。
【0067】
前記化学式２中、Ｌは２価官能基であって、置換もしくは非置換の炭素数３～２０のシクロアルキレン基であってもよい。
【0068】
前記化学式１および化学式２中、１価または２価官能基であるＬは末端に、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルコキシ基、置換もしくは非置換のエポキシ基、置換もしくは非置換の炭素数６～２０のアリール基または置換もしくは非置換のビニル基を有することができる。
【0069】
例えば、前記Ｍは、２価金属であるＺｎまたはＭｇであってもよく、３価金属であるＡｌまたはＩｎであってもよい。
【0070】
例えば、前記化学式１は、下記化学式１Ａで表すことができる。
【0071】
【化8】
【0072】
上記化学式１Ａ中、
Ｍは、金属原子であり、
Ｒ１は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは非置換のエポキシ基、置換もしくは非置換の炭素数６～２０のアリール基または置換もしくは非置換のビニル基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ４およびＬ５は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ６は、単一結合または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
ｎは、２～４の整数である。
Ｍは、金属原子であり、
Ｒ１は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは非置換のエポキシ基、置換もしくは非置換の炭素数６～２０のアリール基または置換もしくは非置換のビニル基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ４およびＬ５は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ６は、単一結合または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
ｎは、２～４の整数である。
【0073】
例えば、前記化学式２は、下記化学式２Ａで表すことができる。
【0074】
【化9】
【0075】
上記化学式２Ａ中、
Ｍは、金属原子であり、
Ｒ１は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは非置換のエポキシ基、置換もしくは非置換の炭素数６～２０のアリール基または置換もしくは非置換のビニル基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ２およびＬ３は、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ４およびＬ５は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ６は、単一結合または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ７は、置換もしくは非置換の炭素数３～２０のシクロアルキレン基であり、
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立して、１～２０の整数である。
Ｍは、金属原子であり、
Ｒ１は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは非置換のエポキシ基、置換もしくは非置換の炭素数６～２０のアリール基または置換もしくは非置換のビニル基であり、
Ｌ１は、酸素原子、硫黄原子、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ２およびＬ３は、＊－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－＊または＊－ＯＣ（＝Ｏ）－＊であり、
Ｌ４およびＬ５は、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ６は、単一結合または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基であり、
Ｌ７は、置換もしくは非置換の炭素数３～２０のシクロアルキレン基であり、
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立して、１～２０の整数である。
【0076】
前記化学式１または化学式２で表される化合物は、１０００ｇ／ｍｏｌ以下の重量平均分子量、例えば２００～１０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量を有することができる。前記化学式１または化学式２で表される化合物が前記範囲の重量平均分子量を有する場合、前記化合物で表面改質された量子ドット含有硬化性組成物の粘度を低く維持できて、インク－ジェッティングに有利であり得る。
【0077】
例えば、前記化学式１は、下記化学式１－１～化学式１－６のうちのいずれか一つで表すことができるが、必ずしもこれに限定されるのではない。
【0078】
【化10】
【0079】
上記化学式１－１～化学式１－６中、
ｍ２は、１～２０の整数である。
ｍ２は、１～２０の整数である。
【0080】
例えば、前記化学式２は下記化学式２－１で表すことができるが、必ずしもこれに限定されるのではない。
【0081】
【化11】
【0082】
上記化学式２－１中、
ｍ２は、１～２０の整数である。
ｍ２は、１～２０の整数である。
【0083】
例えば、前記量子ドットは、５００ｎｍ～６８０ｎｍで最大蛍光発光波長を有することができる。
【0084】
他の一実施形態による硬化性組成物は、前記化学式１または化学式２で表される化合物で表面改質された量子ドットを含む。
【0085】
現在までの量子ドット含有硬化性組成物（インク）は、量子ドットとの相溶性の良いモノマーを特化させる方向に開発が行われており、さらに製品化まで行われている。
【0086】
一方、一般的であり汎用的に使用されている重合性単量体である－ｅｎｅ系単量体（ビニル系単量体、アクリレート系単量体、メタクリレート系単量体などを全て含み、単官能から多官能まで含む）は量子ドットとの相溶性が少なく、量子ドットの分散性において限界があることによって、量子ドット含有硬化性組成物に有用に適用させるための多様な開発が難しいのが事実である。何よりも前記－ｅｎｅ系単量体は高濃縮量子ドット分散性を示さないという点から、量子ドット含有硬化性組成物に適用させるのに困難があった。
【0087】
このような短所によって量子ドット含有硬化性組成物は溶媒を相当量（５０重量％以上）含む組成で開発されてきたが、溶媒含量が多くなる場合、インクジェッティング（Ｉｎｋ ｊｅｔｔｉｎｇ）工程性が低下される問題がある。したがって、インクジェッティング（Ｉｎｋ ｊｅｔｔｉｎｇ）工程性を満足させるために無溶媒型硬化性組成物に対する需要がますます増加している。
【0088】
本発明は、ますます需要が増大している無溶媒型硬化性組成物を提供し、末端に炭素－炭素二重結合を有する化合物を含む重合性単量体を前記化学式１または化学式２で表される化合物で表面改質された量子ドットと共に使用することによって、硬化性組成物に対する量子ドットの親和性を向上させて無溶媒システム（ｓｏｌｖｅｎｔ－ｆｒｅｅ ｓｙｓｔｅｍ；無溶媒系）でも量子ドットの高濃度分散性を与えることができながら、量子ドット本来の光特性を阻害しないパッシベーション（ｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎ）効果まで達成することができる。
【0089】
以下、無溶媒型硬化性組成物を構成するそれぞれの成分について具体的に説明する。
【0090】
＜量子ドット＞
前記無溶媒型硬化性組成物に含まれる量子ドットであって、前記化学式１または化学式２で表される化合物で表面改質された量子ドットを含む。
前記無溶媒型硬化性組成物に含まれる量子ドットであって、前記化学式１または化学式２で表される化合物で表面改質された量子ドットを含む。
【0091】
例えば、前記量子ドットは、３６０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域、例えば４００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域の光を吸収して、５００ｎｍ～７００ｎｍの波長領域、例えば５００ｎｍ～５８０ｎｍで蛍光を放出するか、６００ｎｍ～６８０ｎｍで蛍光を放出することができる。即ち、前記量子ドットは、５００ｎｍ～６８０ｎｍで最大蛍光発光波長（ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｃｅ λｅｍ）を有することができる。
【0092】
前記量子ドットは、それぞれ独立して、２０ｎｍ～１００ｎｍ、例えば２０ｎｍ～５０ｎｍの半値全幅（Ｆｕｌｌ ｗｉｄｔｈ ａｔ ｈａｌｆ ｍａｘｉｍｕｍ；ＦＷＨＭ）を有することができる。前記量子ドットが前記範囲の半値幅を有する場合、色純度が高いことによって、カラーフィルタ内の色材料として使用時、色再現率が高まる効果がある。
【0093】
前記量子ドットは、それぞれ独立して、有機物であるか無機物または有機物と無機物のハイブリッド（混成物）であってもよい。
【0094】
前記量子ドットは、それぞれ独立して、コアおよび前記コアを囲むシェルから構成でき、前記コアおよびシェルは、それぞれ独立して、ＩＩ－ＩＶ族、ＩＩＩ－Ｖ族などからなるコア、コア／シェル、コア／第１シェル／第２シェル、合金、合金／シェルなどの構造を有することができ、これに限定されるのではない。
【0095】
例えば、前記コアは、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓおよびこれらの合金からなる群より選択された少なくとも一つ以上の物質を含むことができるが、必ずしもこれに限定されるのではない。前記コアを囲んだシェルは、ＣｄＳｅ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｎＴｅ、ＣｄＴｅ、ＰｂＳ、ＴｉＯ、ＳｒＳｅ、ＨｇＳｅおよびこれらの合金からなる群より選択された少なくとも一つ以上の物質を含むことができるが、必ずしもこれに限定されるのではない。
【0096】
一実施形態では、最近、全世界的に環境に対する関心が大きく増加し有毒性物質に対する規制が強化されているので、カドミウム系コアを有する発光物質の代わりに、量子効率（ｑｕａｎｔｕｍ ｙｉｅｌｄ）は多少低いが、環境にやさしい非カドミウム系発光素材（ＩｎＰ／ＺｎＳ、ＩｎＰ／ＺｎＳｅ／ＺｎＳなど）を使用したが、必ずしもこれに限定されるのではない。
【0097】
前記コア／シェル構造の量子ドットの場合、シェルを含む全体量子ドットそれぞれの大きさ（平均粒径）は１ｎｍ～１５ｎｍ、例えば５ｎｍ～１５ｎｍであってもよい。
【0098】
例えば、前記量子ドットは、それぞれ独立して、赤色量子ドット、緑色量子ドットまたはこれらの組み合わせを含むことができる。前記赤色量子ドットは、それぞれ独立して、１０ｎｍ～１５ｎｍの平均粒径を有することができる。前記緑色量子ドットは、それぞれ独立して、５ｎｍ～８ｎｍの平均粒径を有することができる。
【0099】
一方、前記量子ドットの分散安定性のために、一実施形態による無溶媒型硬化性組成物は、分散剤をさらに含むこともできる。前記分散剤は、量子ドットのような光変換物質が無溶媒型硬化性組成物内で均一に分散されるように助け、非イオン性、陰イオン性または陽イオン性分散剤を全て使用することができる。具体的には、ポリアルキレングリコールまたはそのエステル類、ポリオキシアルキレン、多価アルコールエステルアルキレンオキシド付加物、アルコールアルキレンオキシド付加物、スルホン酸エステル、スルホン酸塩、カルボン酸エステル、カルボン酸塩、アルキルアミドアルキレンオキシド付加物、アルキルアミンなどを使用することができ、これらは単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。前記分散剤は、量子ドットのような光変換物質の固形分１００質量部に対して、０．１重量部～１００重量部、例えば１０重量部～２０重量部で使用できる。
【0100】
前記化学式１または化学式２で表面改質された量子ドットは、前記無溶媒型硬化性組成物総量に対して１重量％～６０重量％、例えば３重量％～５０重量％含まれてもよい。前記表面改質された量子ドットが前記範囲内に含まれる場合、光変換率に優れパターン特性と現像特性を阻害しなくて優れた工程性を有することができる。
【0101】
＜末端に炭素－炭素二重結合を有する重合性単量体＞
前記末端に炭素－炭素二重結合を有する単量体は、前記無溶媒型硬化性組成物総量に対して４０重量％～９９重量％、例えば５０重量％～９７重量％で含まれてもよい。前記末端に炭素－炭素二重結合を有する単量体の含量が前記範囲内であってこそインクジェッティングが可能な粘度を有する無溶媒型硬化性組成物の製造が可能であり、また製造された無溶媒型硬化性組成物内の量子ドットが優れた分散性を有することができて、光特性も向上できる。
前記末端に炭素－炭素二重結合を有する単量体は、前記無溶媒型硬化性組成物総量に対して４０重量％～９９重量％、例えば５０重量％～９７重量％で含まれてもよい。前記末端に炭素－炭素二重結合を有する単量体の含量が前記範囲内であってこそインクジェッティングが可能な粘度を有する無溶媒型硬化性組成物の製造が可能であり、また製造された無溶媒型硬化性組成物内の量子ドットが優れた分散性を有することができて、光特性も向上できる。
【0102】
例えば、前記末端に炭素－炭素二重結合を有する単量体は、２２０ｇ／ｍｏｌ～１，０００ｇ／ｍｏｌの分子量を有することができる。前記末端に炭素－炭素二重結合を有する単量体の分子量が前記範囲である場合、量子ドットの光特性を阻害しないながら組成物の粘度を高めなくてインク－ジェッティングに有利であり得る。
【0103】
例えば、前記末端に炭素－炭素二重結合を有する単量体は下記化学式３で表すことができるが、必ずしもこれに限定されるのではない。
【0104】
【化12】
【0105】
上記化学式３中、
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子または置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキル基であり、
Ｌ７およびＬ９は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキレン基であり、
Ｌ８は、置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキレン基またはエーテル基（＊－Ｏ－＊）である。
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子または置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキル基であり、
Ｌ７およびＬ９は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキレン基であり、
Ｌ８は、置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキレン基またはエーテル基（＊－Ｏ－＊）である。
【0106】
例えば、前記末端に炭素－炭素二重結合を有する単量体は下記化学式３－１または３－２で表すことができるが、必ずしもこれに限定されるのではない。
【0107】
【化13】
【0108】
例えば、前記末端に炭素－炭素二重結合を有する単量体は、前記化学式３－１または化学式３－２で表される化合物以外にも、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，４－ブタンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ペンタエリトリトールジアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ジペンタエリトリトールジアクリレート、ジペンタエリトリトールトリアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、ペンタエリトリトールヘキサアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ノボラックエポキシアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、１，４－ブタンジオールジメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレートまたはこれらの組み合わせをさらに含むことができる。
【0109】
また、前記末端に炭素－炭素二重結合を有する単量体と共に従来の熱硬化性または光硬化性組成物に一般に使用される単量体をさらに含むことができ、例えば、前記単量体はビス［１－エチル（３－オキセタニル）］メチルエーテルなどのオキセタン系化合物などをさらに含むことができる。
【0110】
＜重合開始剤＞
一実施形態による無溶媒型硬化性組成物は重合開始剤をさらに含むことができ、例えば、光重合開始剤、熱重合開始剤またはこれらの組み合わせを含むことができる。
一実施形態による無溶媒型硬化性組成物は重合開始剤をさらに含むことができ、例えば、光重合開始剤、熱重合開始剤またはこれらの組み合わせを含むことができる。
【0111】
前記光重合開始剤は感光性樹脂組成物に一般に使用される開始剤であって、例えば、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、ベンゾイン系化合物、トリアジン系化合物、オキシム系化合物、アミノケトン系化合物などを使用することができるが、必ずしもこれに限定されるのではない。
【0112】
前記アセトフェノン系化合物の例としては、２，２’－ジエトキシアセトフェノン、２，２’－ジブトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン、ｐ－ｔ－ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ－ｔ－ブチルジクロロアセトフェノン、４－クロロアセトフェノン、２，２’－ジクロロ－４－フェノキシアセトフェノン、２－メチル－１－（４－（メチルチオ）フェニル）－２－モルホリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタン－１－オンなどが挙げられる。
【0113】
前記ベンゾフェノン系化合物の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、３，３’－ジメチル－２－メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
【0114】
前記チオキサントン系化合物の例としては、チオキサントン、２－メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン、２－クロロチオキサントンなどが挙げられる。
【0115】
前記ベンゾイン系化合物の例としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタルなどが挙げられる。
【0116】
前記トリアジン系化合物の例としては、２，４，６－トリクロロ－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（３’，４’－ジメトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４’－メトキシナフチル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－トリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ビフェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、ビス（トリクロロメチル）－６－スチリル－ｓ－トリアジン、２－（ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－４－ビス（トリクロロメチル）－６－ピペロニル－ｓ－トリアジン、２－４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシスチリル）－ｓ－トリアジンなどが挙げられる。
【0117】
前記オキシム系化合物の例としては、Ｏ－アシルオキシム系化合物、２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）－１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン、１－（Ｏ－アセチルオキシム）－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン、Ｏ－エトキシカルボニル－α－オキシアミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどを使用することができる。前記Ｏ－アシルオキシム系化合物の具体的な例としては、１，２－オクタンジオン、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチルベンジル）－１－（４－モルホリン－４－イル－フェニル）－ブタン－１－オン、１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－ブタン－１，２－ジオン－２－オキシム－Ｏ－ベンゾエート、１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－オクタン－１，２－ジオン－２－オキシム－Ｏ－ベンゾエート、１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－オクタン－１－オンオキシム－Ｏ－アセテート、および１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－ブタン－１－オンオキシム－Ｏ－アセテートなどが挙げられる。
【0118】
前記アミノケトン系化合物の例としては、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１（２－Ｂｅｎｚｙｌ－２－ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏ－１－（４－ｍｏｒｐｈｏｌｉｎｏｐｈｅｎｙｌ）－ｂｕｔａｎｏｎｅ－１）などが挙げられる。
【0119】
前記光重合開始剤は、前記化合物以外にもカルバゾール系化合物、ジケトン類化合物、スルホニウムボレート系化合物、ジアゾ系化合物、イミダゾール系化合物、ビイミダゾール系化合物などを使用することができる。
【0120】
前記光重合開始剤は、光を吸収して励起状態になった後にそのエネルギーを伝達することによって化学反応を起こす光増感剤と共に使用されてもよい。
【0121】
前記光増感剤の例としては、テトラエチレングリコールビス－３－メルカプトプロピオネート、ペンタエリトリトールテトラキス－３－メルカプトプロピオネート、ジペンタエリトリトールテトラキス－３－メルカプトプロピオネートなどが挙げられる。
【0122】
前記熱重合開始剤の例としては、ペルオキシド、具体的に、ベンゾイルペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ラウリルペルオキシド、ジラウリルペルオキシド、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド、シクロヘキサンペルオキシド、メチルエチルケトンペルオキシド、ヒドロペルオキシド（例えば、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド）、ジシクロヘキシルペルオキシジカーボネート、２，２－アゾ－ビス（イソブチロニトリル）、ｔ－ブチルペルベンゾエートなどが挙げられ、２，２’－アゾビス－２－メチルプロピオニトリルなども挙げられるが、必ずしもこれに限定されるのではなく、当業界に広く知られたものであれば何れも使用することができる。
【0123】
前記重合開始剤は、前記無溶媒型硬化性組成物総量に対して０．１重量％～５重量％、例えば、１重量％～４重量％で含まれてもよい。重合開始剤が前記範囲内に含まれる場合、露光または熱硬化時に硬化が十分に起こって優れた信頼性を得ることができ、未反応開始剤による透過率の低下を防止して量子ドットの光特性低下を防止することができる。
【0124】
＜光拡散剤（または光拡散剤分散液）＞
一実施形態による無溶媒型硬化性組成物は、光拡散剤を含むことができる。
一実施形態による無溶媒型硬化性組成物は、光拡散剤を含むことができる。
【0125】
例えば、前記光拡散剤は、硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、ジルコニア（ＺｒＯ２）またはこれらの組み合わせを含むことができる。
【0126】
前記光拡散剤は、前述の量子ドットに吸収されない光を反射させ、前記反射された光を量子ドットが再び吸収できるようにする。即ち、前記光拡散剤は、量子ドットに吸収される光の量を増加させて、硬化性組成物の光変換効率を増加させることができる。
【0127】
前記光拡散剤は、平均粒径（Ｄ５０）が１５０ｎｍ～２５０ｎｍであってもよく、具体的には１８０ｎｍ～２３０ｎｍであってもよい。前記光拡散剤の平均粒径が前記範囲内である場合、より優れた光拡散効果を有することができ、光変換効率を増加させることができる。
【0128】
前記光拡散剤は、前記無溶媒型硬化性組成物総量に対して１重量％～２０重量％、例えば５重量％～１０重量％で含まれてもよい。前記光拡散剤が前記無溶媒型硬化性組成物総量に対して１重量％未満で含まれる場合、光拡散剤を使用することによる光変換効率向上効果を期待しにくく、２０重量％を超過して含む場合には量子ドット沈降問題が発生するおそれがある。
【0129】
＜その他の添加剤＞
前記量子ドットの安定性および分散性の向上のために、一実施形態による無溶媒型硬化性組成物は重合禁止剤をさらに含むことができる。
前記量子ドットの安定性および分散性の向上のために、一実施形態による無溶媒型硬化性組成物は重合禁止剤をさらに含むことができる。
【0130】
前記重合禁止剤は、ヒドロキノン系化合物、カテコール系化合物またはこれらの組み合わせを含むことができるが、必ずしもこれに限定されるのではない。一実施形態による無溶媒型硬化性組成物が前記ヒドロキノン系化合物、カテコール系化合物またはこれらの組み合わせをさらに含むことによって、無溶媒型硬化性組成物を印刷（コーティング）後、露光する間に常温架橋を防止することができる。
【0131】
例えば、前記ヒドロキノン系化合物、カテコール系化合物またはこれらの組み合わせは、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、メトキシヒドロキノン、ｔ－ブチルヒドロキノン、２，５－ジ－ｔ－ブチルヒドロキノン、２，５－ビス（１，１－ジメチルブチル）ヒドロキノン、２，５－ビス（１，１，３，３－テトラメチルブチル）ヒドロキノン、カテコール、ｔ－ブチルカテコール、４－メトキシフェノール、ピロガロール、２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２－ナフトール、トリス（Ｎ－ヒドロキシ－Ｎ－ニトロソフェニルアミナト－Ｏ，Ｏ’）アルミニウム（Ｔｒｉｓ（Ｎ－ｈｙｄｒｏｘｙ－Ｎ－ｎｉｔｒｏｓｏｐｈｅｎｙｌａｍｉｎａｔｏ－Ｏ，Ｏ’）ａｌｕｍｉｎｉｕｍ）またはこれらの組み合わせを含むことができるが、必ずしもこれに限定されるのではない。
【0132】
前記ヒドロキノン系化合物、カテコール系化合物またはこれらの組み合わせは分散液の形態で使用でき、前記分散液形態の重合禁止剤は無溶媒型硬化性組成物総量に対して０．００１重量％～３重量％、例えば０．１重量％～２重量％で含まれてもよい。前記重合禁止剤が前記範囲内に含まれる場合、常温経時問題を解決すると同時に、感度低下および表面剥離現象を防止することができる。
【0133】
また、一実施形態による無溶媒型硬化性組成物は、耐熱性および信頼性の向上のために、マロン酸；３－アミノ－１，２－プロパンジオール；シラン系カップリング剤；レべリング剤；フッ素系界面活性剤；またはこれらの組み合わせをさらに含むことができる。
【0134】
例えば、一実施形態による無溶媒型硬化性組成物は、基板との密着性などを改善するために、ビニル基、カルボキシル基、メタクリルオキシ基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシラン系カップリング剤をさらに含むことができる。
【0135】
前記シラン系カップリング剤の例としては、トリメトキシシリル安息香酸、γメタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γイソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γグリシドキシプロピルトリメトキシシラン、βエポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランなどが挙げられ、これらを単独または２種以上混合して使用することができる。
【0136】
前記シラン系カップリング剤は、前記無溶媒型硬化性組成物１００重量部に対して０．０１重量部～１０重量部で含まれてもよい。シラン系カップリング剤が前記範囲内に含まれる場合、密着性、貯蔵性などが優れる。
【0137】
また、前記無溶媒型硬化性組成物は、必要によってコーティング性向上および欠点生成防止効果のために、即ち、レベリング（ｌｅｖｅｌｉｎｇ）性能を改善させるために界面活性剤、例えばフッ素系界面活性剤をさらに含むことができる。
【0138】
前記フッ素系界面活性剤は、４，０００ｇ／ｍｏｌ～１０，０００ｇ／ｍｏｌの低い重量平均分子量を有することができ、具体的には６，０００ｇ／ｍｏｌ～１０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量を有することができる。また前記フッ素系界面活性剤は、表面張力が１８ｍＮ／ｍ～２３ｍＮ／ｍ（０．１％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）溶液で測定）であり得る。前記フッ素系界面活性剤の重量平均分子量および表面張力が前記範囲内である場合、レベリング性能をさらに改善することができ、高速コーティング（ｈｉｇｈ ｓｐｅｅｄ ｃｏａｔｉｎｇ）時に染み発生を防止することができ、気泡発生が少なく膜欠陥が少ないため、高速コーティング法であるスリットコーティング（ｓｌｉｔ ｃｏａｔｉｎｇ）に優れた特性を付与する。
【0139】
前記フッ素系界面活性剤としては、ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製のＢＭ－１０００（登録商標）、ＢＭ－１１００（登録商標）など；大日本インキ化学工業株式会社製のメガファック Ｆ １４２Ｄ（登録商標）、同Ｆ １７２（登録商標）、同Ｆ １７３（登録商標）、同Ｆ １８３（登録商標）など；住友スリーエム株式会社製のフロラードＦＣ－１３５（登録商標）、同ＦＣ－１７０Ｃ（登録商標）、同ＦＣ－４３０（登録商標）、同ＦＣ－４３１（登録商標）など；ＡＧＣ株式会社製（旧旭硝子株式会社製）のサーフロンＳ－１１２（登録商標）、同Ｓ－１１３（登録商標）、同Ｓ－１３１（登録商標）、同Ｓ－１４１（登録商標）、同Ｓ－１４５（登録商標）など；東レシリコン株式会社製のＳＨ－２８ＰＡ（登録商標）、同－１９０（登録商標）、同－１９３（登録商標）、ＳＺ－６０３２（登録商標）、ＳＦ－８４２８（登録商標）など；ＤＩＣ株式会社製のＦ－４８２、Ｆ－４８４、Ｆ－４７８、Ｆ－５５４などの名称で市販されているフッ素系界面活性剤を使用することができる。
【0140】
また、一実施形態による無溶媒型硬化性組成物は、前述のフッ素系界面活性剤と共にシリコン系界面活性剤を使用することもできる。前記シリコン系界面活性剤の具体的な例としては、ＧＥ東芝シリコーン株式会社製（旧東芝シリコン株式会社製）のＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４４４０などがあるが、これに限定されるのではない。
【0141】
前記フッ素系界面活性剤などを含む界面活性剤は、前記無溶媒型硬化性組成物１００重量部に対して０．０１重量部～５重量部、例えば０．１重量部～２重量部で含まれてもよい。前記界面活性剤が前記範囲内に含まれる場合、噴射された組成物内に異物が発生される現象が減少される。
【0142】
また一実施形態による無溶媒型硬化性組成物は、物性を阻害しない範囲内で酸化防止剤などのその他の添加剤が一定量さらに添加されてもよい。
【0143】
例えば、前記硬化性組成物は前述の無溶媒型硬化性組成物以外にも、前記化学式１または化学式２で表面改質された量子ドット、バインダー樹脂および溶媒を含む溶媒型硬化性組成物を提供することができる。この時、前記表面改質された量子ドットは、前記溶媒型硬化性組成物総量に対して１重量％～４０重量％で含まれてもよい。前記表面改質された量子ドットが溶媒型硬化性組成物総量に対して前記含量範囲で含まれてこそ工程性側面から有利であり得る。
【0144】
以下、溶媒型硬化性組成物を構成するそれぞれの成分について具体的に説明する。
【0145】
＜バインダー樹脂＞
前記バインダー樹脂は、アクリル系樹脂（アクリル系バインダー樹脂ともいう）、カルド系樹脂、エポキシ樹脂またはこれらの組み合わせを含むことができる。
前記バインダー樹脂は、アクリル系樹脂（アクリル系バインダー樹脂ともいう）、カルド系樹脂、エポキシ樹脂またはこれらの組み合わせを含むことができる。
【0146】
前記アクリル系樹脂は、第１エチレン性不飽和単量体およびこれと共重合可能な第２エチレン性不飽和単量体の共重合体であって、一つ以上のアクリル系繰り返し単位を含む樹脂であってもよい。
【0147】
前記第１エチレン性不飽和単量体は、一つ以上のカルボキシ基を含有するエチレン性不飽和単量体であり、その具体的な例としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸またはこれらの組み合わせが挙げられる。
【0148】
前記第１エチレン性不飽和単量体は、前記アクリル系バインダー樹脂総量に対して５重量％～５０重量％、例えば１０重量％～４０重量％で含まれてもよい。
【0149】
前記第２エチレン性不飽和単量体は、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、ビニルベンジルメチルエーテルなどの芳香族ビニル化合物；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸エステル化合物；２－アミノエチル（メタ）アクリレート、２－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル化合物；酢酸ビニル、安息香酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル化合物；グリシジル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸グリシジルエステル化合物；（メタ）アクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物；（メタ）アクリルアミドなどの不飽和アミド化合物；などが挙げられ、これらを単独でまたは二つ以上混合して使用することができる。
【0150】
前記アクリル系バインダー樹脂の具体的な例としては、ポリベンジルメタクリレート、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／２－ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／スチレン／２－ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体などが挙げられるが、これに限定されるのではなく、これらを単独または２種以上を配合して使用してもよい。
【0151】
前記アクリル系樹脂の重量平均分子量は、５，０００ｇ／ｍｏｌ～１５，０００ｇ／ｍｏｌであり得る。前記アクリル系樹脂の重量平均分子量が前記範囲内である場合、基板との密着性に優れ、物理的、化学的物性が良く、粘度が適切である。
【0152】
前記カルド系樹脂は、下記化学式４で表される繰り返し単位を含むことができる。
【0153】
【化14】
【0154】
上記化学式４中、
Ｒ３１およびＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子または置換もしくは非置換の（メタ）アクリロイルオキシアルキル基であり、
Ｒ３３およびＲ３４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基であり、
Ｚ１は、単一結合、Ｏ、ＣＯ、ＳＯ２、ＣＲ３５Ｒ３６、ＳｉＲ３７Ｒ３８（ここで、Ｒ３５～Ｒ３８はそれぞれ独立して、水素原子または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基である）または下記化学式４－１～化学式４－１１で表される連結基のうちのいずれか一つであり、
Ｒ３１およびＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子または置換もしくは非置換の（メタ）アクリロイルオキシアルキル基であり、
Ｒ３３およびＲ３４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基であり、
Ｚ１は、単一結合、Ｏ、ＣＯ、ＳＯ２、ＣＲ３５Ｒ３６、ＳｉＲ３７Ｒ３８（ここで、Ｒ３５～Ｒ３８はそれぞれ独立して、水素原子または置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基である）または下記化学式４－１～化学式４－１１で表される連結基のうちのいずれか一つであり、
【0155】
【化15】
【0156】
（上記化学式４－５中、
Ｒａは、水素原子、エチル基、Ｃ２Ｈ４Ｃｌ、Ｃ２Ｈ４ＯＨ、ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２またはフェニル基である。）
Ｒａは、水素原子、エチル基、Ｃ２Ｈ４Ｃｌ、Ｃ２Ｈ４ＯＨ、ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２またはフェニル基である。）
【0157】
【化16】
【0158】
Ｚ２は、酸無水物残基であり、
ｔ１およびｔ２は、それぞれ独立して、０～４の整数である。
ｔ１およびｔ２は、それぞれ独立して、０～４の整数である。
【0159】
前記カルド系樹脂の重量平均分子量は、５００ｇ／ｍｏｌ～５０，０００ｇ／ｍｏｌ、例えば１，０００ｇ／ｍｏｌ～３０，０００ｇ／ｍｏｌであり得る。前記カルド系樹脂の重量平均分子量が前記範囲内である場合、硬化膜製造時に残渣なくパターン形成がよく行われ、溶媒型硬化性組成物の現像時に膜厚の損失がなく、良好なパターンを得ることができる。
【0160】
前記カルド系樹脂は、両末端のうちの少なくとも一つに下記化学式５で表される官能基を含むことができる。
【0161】
【化17】
【0162】
上記化学式５中、
Ｚ３は、下記化学式５－１～化学式５－７で表すことができる。
Ｚ３は、下記化学式５－１～化学式５－７で表すことができる。
【0163】
【化18】
【0164】
（上記化学式５－１中、ＲｂおよびＲｃはそれぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキル基、エステル基またはエーテル基である。）
【0165】
【化19】
【0166】
（上記化学式５－５中、Ｒｄは、Ｏ、Ｓ、ＮＨ、置換もしくは非置換の炭素数１～２０のアルキレン基、炭素数１～２０のアルキルアミン基または炭素数２～２０のアルケニルアミン基である。）
【0167】
【化20】
【0168】
前記カルド系樹脂は、例えば、９，９－ビス（４－オキシラニルメトキシフェニル）フルオレンなどのフルオレン含有化合物；ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ペリレンテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロフタル酸無水物などの無水物化合物；エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコールなどのグリコール化合物；メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ－ブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコールなどのアルコール化合物；プロピレングリコールメチルエチルアセテート、Ｎ－メチルピロリドンなどの溶媒類化合物；トリフェニルホスフィンなどのリン化合物；およびテトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムブロミド、ベンジルジエチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリドなどのアミンまたはアンモニウム塩化合物のうちの二つ以上を混合して製造することができる。
【0169】
前記バインダー樹脂がカルド系樹脂である場合、これを含む溶媒型硬化性組成物、特に感光性樹脂組成物の現像性に優れ、光硬化時感度が良くて微細パターン形成性が優れる。
【0170】
前記アクリル系樹脂の酸価は、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１３０ｍｇＫＯＨ／ｇであり得る。前記アクリル系樹脂の酸価が前記範囲内である場合、ピクセルパターンの解像度が優れる。
【0171】
前記エポキシ樹脂は、熱によって重合されるモノマー（ｍｏｎｏｍｅｒ）またはオリゴマー（ｏｌｉｇｏｍｅｒ）であって、炭素－炭素不飽和結合および炭素－炭素環状結合を有する化合物などを含むことができる。
【0172】
前記エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂および脂肪族ポリグリシジルエーテルなどを含むことができるが、必ずしもこれに限定されるのではない。
【0173】
このような化合物の市販品として、ビスフェニルエポキシ樹脂には三菱化学株式会社製（旧油化シェルエポキシ株式会社製）のＹＸ４０００、ＹＸ４０００Ｈ、ＹＬ６１２１Ｈ、ＹＬ６６４０、ＹＬ６６７７；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂には日本化薬株式会社製のＥＯＣＮ－１０２、ＥＯＣＮ－１０３Ｓ、ＥＯＣＮ－１０４Ｓ、ＥＯＣＮ－１０２０、ＥＯＣＮ－１０２５、ＥＯＣＮ－１０２７および三菱化学株式会社製（旧油化シェルエポキシ株式会社製）のエピコート１８０Ｓ７５；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂には三菱化学株式会社製（旧油化シェルエポキシ株式会社製）のエピコート１００１、１００２、１００３、１００４、１００７、１００９、１０１０および８２８；ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂には三菱化学株式会社製（旧油化シェルエポキシ株式会社製）のエピコート８０７および８３４；フェノールノボラック型エポキシ樹脂には三菱化学株式会社製（旧油化シェルエポキシ株式会社製）のエピコート１５２、１５４、１５７Ｈ６５および日本化薬株式会社製のＥＰＰＮ２０１、２０２；その他の環状脂肪族エポキシ樹脂にはＣＩＢＡ－ＧＥＩＧＹ Ａ．Ｇ社製のＣＹ１７５、ＣＹ１７７およびＣＹ１７９、Ｕ．Ｃ．Ｃ社製のＥＲＬ－４２３４、ＥＲＬ－４２９９、ＥＲＬ－４２２１およびＥＲＬ－４２０６、昭和電工株式会社製のショーダイン５０９、ＣＩＢＡ－ＧＥＩＧＹ Ａ．Ｇ社製のアラルダイトＣＹ－１８２、ＣＹ－１９２およびＣＹ－１８４、大日本インキ化学工業株式会社製のエピクロン２００および４００、三菱化学株式会社製（旧油化シェルエポキシ株式会社製）のエピコート８７１、８７２およびＥＰ１０３２Ｈ６０、セラニーズコーティング株式会社製のＥＤ－５６６１およびＥＤ－５６６２；脂肪族ポリグリシジルエーテルには三菱化学株式会社製（旧油化シェルエポキシ株式会社製）のエピコート１９０Ｐおよび１９１Ｐ、共栄社油脂化学工業株式会社製のエポライト１００ＭＦ、日本油脂株式会社製のエピオールＴＭＰなどが挙げられる。
【0174】
前記バインダー樹脂は、前記溶媒型硬化性組成物総量に対して１重量％～３０重量％で含まれてもよい。
【0175】
＜溶媒＞
前記溶媒は、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類；エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルなどのグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチルセロソルブアセテートなどのセロソルブアセテート類；メチルエチルカルビトール、ジエチルカルビトール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのカルビトール類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、メチル－ｎ－プロピルケトン、メチル－ｎ－ブチルケトン、メチル－ｎ－アミルケトン、２－ヘプタノンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソブチルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；メチルラクテート、エチルラクテートなどの乳酸アルキルエステル類；メチルヒドロキシアセテート、エチルヒドロキシアセテート、ブチルヒドロキシアセテートなどのヒドロキシ酢酸アルキルエステル類；メトキシメチルアセテート、メトキシエチルアセテート、メトキシブチルアセテート、エトキシメチルアセテート、エトキシエチルアセテートなどの酢酸アルコキシアルキルエステル類；メチル３－ヒドロキシプロピオネート、エチル３－ヒドロキシプロピオネートなどの３－ヒドロキシプロピオン酸アルキルエステル類；メチル３－メトキシプロピオネート、エチル３－メトキシプロピオネート、エチル３－エトキシプロピオネート、メチル３－エトキシプロピオネートなどの３－アルコキシプロピオン酸アルキルエステル類；メチル２－ヒドロキシプロピオネート、エチル２－ヒドロキシプロピオネート、プロピル２－ヒドロキシプロピオネートなどの２－ヒドロキシプロピオン酸アルキルエステル類；メチル２－メトキシプロピオネート、エチル２－メトキシプロピオネート、エチル２－エトキシプロピオネート、メチル２－エトキシプロピオネートなどの２－アルコキシプロピオン酸アルキルエステル類；メチル２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオネート、エチル２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオネートなどの２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸アルキルエステル類；メチル２－メトキシ－２－メチルプロピオネート、エチル２－エトキシ－２－メチルプロピオネートなどの２－アルコキシ－２－メチルプロピオン酸アルキルエステル類；２－ヒドロキシエチルプロピオネート、２－ヒドロキシ－２－メチルエチルプロピオネート、ヒドロキシエチルアセテート、メチル２－ヒドロキシ－３－メチルブタノエートなどのエステル類；またはピルビン酸エチルなどのケトン酸エステル類の化合物があり、またＮ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアニリド、Ｎ－メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセチルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１－オクタノール、１－ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ－ブチロラクトン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられるが、これに限定されるのではない。
前記溶媒は、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類；エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルなどのグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチルセロソルブアセテートなどのセロソルブアセテート類；メチルエチルカルビトール、ジエチルカルビトール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのカルビトール類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、メチル－ｎ－プロピルケトン、メチル－ｎ－ブチルケトン、メチル－ｎ－アミルケトン、２－ヘプタノンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソブチルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；メチルラクテート、エチルラクテートなどの乳酸アルキルエステル類；メチルヒドロキシアセテート、エチルヒドロキシアセテート、ブチルヒドロキシアセテートなどのヒドロキシ酢酸アルキルエステル類；メトキシメチルアセテート、メトキシエチルアセテート、メトキシブチルアセテート、エトキシメチルアセテート、エトキシエチルアセテートなどの酢酸アルコキシアルキルエステル類；メチル３－ヒドロキシプロピオネート、エチル３－ヒドロキシプロピオネートなどの３－ヒドロキシプロピオン酸アルキルエステル類；メチル３－メトキシプロピオネート、エチル３－メトキシプロピオネート、エチル３－エトキシプロピオネート、メチル３－エトキシプロピオネートなどの３－アルコキシプロピオン酸アルキルエステル類；メチル２－ヒドロキシプロピオネート、エチル２－ヒドロキシプロピオネート、プロピル２－ヒドロキシプロピオネートなどの２－ヒドロキシプロピオン酸アルキルエステル類；メチル２－メトキシプロピオネート、エチル２－メトキシプロピオネート、エチル２－エトキシプロピオネート、メチル２－エトキシプロピオネートなどの２－アルコキシプロピオン酸アルキルエステル類；メチル２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオネート、エチル２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオネートなどの２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸アルキルエステル類；メチル２－メトキシ－２－メチルプロピオネート、エチル２－エトキシ－２－メチルプロピオネートなどの２－アルコキシ－２－メチルプロピオン酸アルキルエステル類；２－ヒドロキシエチルプロピオネート、２－ヒドロキシ－２－メチルエチルプロピオネート、ヒドロキシエチルアセテート、メチル２－ヒドロキシ－３－メチルブタノエートなどのエステル類；またはピルビン酸エチルなどのケトン酸エステル類の化合物があり、またＮ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアニリド、Ｎ－メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセチルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１－オクタノール、１－ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ－ブチロラクトン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられるが、これに限定されるのではない。
【0176】
例えば、前記溶媒は、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレンジグリコールメチルエチルエーテルなどのグリコールエーテル類；エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；２－ヒドロキシプロピオン酸エチルなどのエステル類；ジエチレングリコールモノメチルエーテルなどのカルビトール類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；エタノールなどのアルコール類またはこれらの組み合わせを使用するのが好ましい。
【0177】
例えば、前記溶媒は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、エタノール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレンジグリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、２－ブトキシエタノール、Ｎ－メチルピロリジン、Ｎ－エチルピロリジン、プロピレンカーボネート、γ－ブチロラクトンまたはこれらの組み合わせを含む極性溶媒であってもよい。
【0178】
前記溶媒は、前記溶媒型硬化性組成物総量に対して残部量、例えば３０重量％～８０重量％、例えば３５重量％～７０重量％で含まれてもよい。溶媒が前記範囲内に含まれる場合、溶媒型硬化性組成物が適切な粘度を有することによってスピンコーティングおよびスリットを用いた大面積コーティング時に優れたコーティング性を有することができる。
【0179】
例えば、前記溶媒型硬化性組成物は、前記成分以外に前述の末端に炭素－炭素二重結合を有する重合性単量体、重合開始剤、光拡散剤およびその他の添加剤のうちのいずれか一つ以上をさらに含むことができ、具体的な組成や含量などは前述の通りである。
【0180】
例えば、前記溶媒型硬化性組成物は、感光性樹脂組成物であってもよい。この場合、前記溶媒型硬化性組成物は、前記重合開始剤として光重合開始剤を含むことができる。
【0181】
また、他の一実施形態は、前述の無溶媒型硬化性組成物および溶媒型硬化性組成物を用いて製造された硬化膜、前記硬化膜を含むカラーフィルタおよび前記カラーフィルタを含むディスプレイ装置を提供する。
【0182】
前記硬化膜の製造方法のうちの一つは、前述の無溶媒型硬化性組成物および溶媒型硬化性組成物を基板上にインクジェット噴射方法で塗布してパターンを形成する段階（Ｓ１）；および前記パターンを硬化する段階（Ｓ２）を含む。
【0183】
（Ｓ１）パターンを形成する段階
前記無溶媒型硬化性組成物は、インクジェット噴射方式で０．５～２０μｍの厚さで基板上に塗布するのが好ましい。前記インクジェット噴射は、各ノズル当り単一カラーのみ噴射して必要な色の数によって反復的に噴射することによってパターンを形成することができ、工程を減らすために必要な色の数を各インクジェットノズルを通じて同時に噴射する方式でパターンを形成することもできる。
前記無溶媒型硬化性組成物は、インクジェット噴射方式で０．５～２０μｍの厚さで基板上に塗布するのが好ましい。前記インクジェット噴射は、各ノズル当り単一カラーのみ噴射して必要な色の数によって反復的に噴射することによってパターンを形成することができ、工程を減らすために必要な色の数を各インクジェットノズルを通じて同時に噴射する方式でパターンを形成することもできる。
【0184】
（Ｓ２）硬化する段階
前記得られたパターンを硬化させて画素を得ることができる。この時、硬化させる方法としては、熱硬化工程または光硬化工程を全て適用することができる。前記熱硬化工程は１００℃以上の温度で加熱して硬化させるのが好ましく、さらに好ましくは１００℃～３００℃で加熱して硬化させることができ、より一層好ましくは１６０℃～２５０℃で加熱して硬化させることができる。前記光硬化工程は、１９０ｎｍ～４５０ｎｍ、例えば２００ｎｍ～５００ｎｍのＵＶ光線などの化学線を照射する。照射に使用される光源としては低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、金属ハロゲン化物ランプ、アルゴンガスレーザなどを使用することができ、場合によってＸ線、電子線なども用いることができる。
前記得られたパターンを硬化させて画素を得ることができる。この時、硬化させる方法としては、熱硬化工程または光硬化工程を全て適用することができる。前記熱硬化工程は１００℃以上の温度で加熱して硬化させるのが好ましく、さらに好ましくは１００℃～３００℃で加熱して硬化させることができ、より一層好ましくは１６０℃～２５０℃で加熱して硬化させることができる。前記光硬化工程は、１９０ｎｍ～４５０ｎｍ、例えば２００ｎｍ～５００ｎｍのＵＶ光線などの化学線を照射する。照射に使用される光源としては低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、金属ハロゲン化物ランプ、アルゴンガスレーザなどを使用することができ、場合によってＸ線、電子線なども用いることができる。
【0185】
前記硬化膜の製造方法のうちのまた他の一つは、前述の無溶媒型硬化性組成物および溶媒型硬化性組成物を用いてリソグラフィ法を用いて硬化膜を製造することであって、製造方法は次の通りである。
【0186】
（１）塗布および塗膜形成段階
前述の硬化性組成物を所定の前処理を行った基板上にスピンまたはスリットコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法、アプリケータ法などの方法を使用して所望の厚さ、例えば２μｍ～１０μｍの厚さで塗布した後、７０℃～９０℃の温度で１分～１０分間加熱して溶媒を除去することによって塗膜を形成する。
前述の硬化性組成物を所定の前処理を行った基板上にスピンまたはスリットコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法、アプリケータ法などの方法を使用して所望の厚さ、例えば２μｍ～１０μｍの厚さで塗布した後、７０℃～９０℃の温度で１分～１０分間加熱して溶媒を除去することによって塗膜を形成する。
【0187】
（２）露光段階
前記得られた塗膜に必要なパターン形成のために所定形態のマスクを介した後、１９０ｎｍ～４５０ｎｍ、例えば２００ｎｍ～５００ｎｍのＵＶ光線などの化学線を照射する。照射に使用される光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、金属ハロゲン化物ランプ、アルゴンガスレーザなどを使用することができ、場合によってＸ線、電子線なども用いることができる。
前記得られた塗膜に必要なパターン形成のために所定形態のマスクを介した後、１９０ｎｍ～４５０ｎｍ、例えば２００ｎｍ～５００ｎｍのＵＶ光線などの化学線を照射する。照射に使用される光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、金属ハロゲン化物ランプ、アルゴンガスレーザなどを使用することができ、場合によってＸ線、電子線なども用いることができる。
【0188】
露光量は、前記硬化性組成物各成分の種類、配合量および乾燥膜の厚さによって異なるが、例えば、高圧水銀灯を使用する場合、５００ｍＪ／ｃｍ２以下（３６５ｎｍセンサーによる）である。
【0189】
（３）現像段階
前記露光段階に続き、アルカリ性水溶液を現像液として用いて不必要な部分を溶解、除去することによって露光部分のみを残存させて画像パターンを形成させる。即ち、アルカリ現像液で現像する場合、非露光部は溶解され、イメージカラーフィルタパターンが形成される。
前記露光段階に続き、アルカリ性水溶液を現像液として用いて不必要な部分を溶解、除去することによって露光部分のみを残存させて画像パターンを形成させる。即ち、アルカリ現像液で現像する場合、非露光部は溶解され、イメージカラーフィルタパターンが形成される。
【0190】
（４）後処理段階
前記現像によって得られた画像パターンを耐熱性、耐光性、密着性、耐クラック性、耐化学性、高強度、貯蔵安定性などの面で優れたパターンを得るために、再び加熱するか化学線照射などを行って硬化させることができる。
前記現像によって得られた画像パターンを耐熱性、耐光性、密着性、耐クラック性、耐化学性、高強度、貯蔵安定性などの面で優れたパターンを得るために、再び加熱するか化学線照射などを行って硬化させることができる。
【実施例】
【0191】
以下、本発明の好ましい実施例を記載する。但し、下記の実施例は本発明の好ましい一実施例に過ぎず、本発明が下記実施例によって限定されるのではない。
【0192】
＜リガンド合成＞
（合成例１）
ポリオキシエチレンフェニルエーテル（Ｐｏｌｙｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｐｈｅｎｙｌ ｅｔｈｅｒ）（ＰＨ－４、韓農化成社製）２７０ｇ、ＮａＯＨ ４４ｇ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５００ｍＬ、蒸留水１００ｍＬが混合された溶液にｐ－トルエンスルホニルクロリド（ｐ－ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） １９１ｇおよびＴＨＦ １５０ｍＬを０℃で徐々に注入した。注入が終わって３０分後から常温（２３℃）で１２時間攪拌を継続して行った。反応終了後、抽出と中和、濃縮過程を経て収得物を真空オーブンで十分に乾燥した。乾燥された収得物をフラスコに入れて窒素雰囲気下でエタノールに溶解させた。その後、チオ尿素（Ｔｈｉｏｕｒｅａ） ４当量を添加した後、１００℃で１２時間攪拌した。次いで、ＮａＯＨ希釈液を追加注入した後、５時間さらに攪拌した。反応終了後、水と塩酸希釈液で洗浄および抽出、中和した後、真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物に塩化亜鉛（ｚｉｎｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） ６８ｇを添加し８０℃で１２時間反応させて下記化学式１－１で表される最終収得物３００ｇを得た。
（合成例１）
ポリオキシエチレンフェニルエーテル（Ｐｏｌｙｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｐｈｅｎｙｌ ｅｔｈｅｒ）（ＰＨ－４、韓農化成社製）２７０ｇ、ＮａＯＨ ４４ｇ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５００ｍＬ、蒸留水１００ｍＬが混合された溶液にｐ－トルエンスルホニルクロリド（ｐ－ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） １９１ｇおよびＴＨＦ １５０ｍＬを０℃で徐々に注入した。注入が終わって３０分後から常温（２３℃）で１２時間攪拌を継続して行った。反応終了後、抽出と中和、濃縮過程を経て収得物を真空オーブンで十分に乾燥した。乾燥された収得物をフラスコに入れて窒素雰囲気下でエタノールに溶解させた。その後、チオ尿素（Ｔｈｉｏｕｒｅａ） ４当量を添加した後、１００℃で１２時間攪拌した。次いで、ＮａＯＨ希釈液を追加注入した後、５時間さらに攪拌した。反応終了後、水と塩酸希釈液で洗浄および抽出、中和した後、真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物に塩化亜鉛（ｚｉｎｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） ６８ｇを添加し８０℃で１２時間反応させて下記化学式１－１で表される最終収得物３００ｇを得た。
【0193】
【化21】
【0194】
（合成例２）
ポリオキシエチレンモノメチルエーテル（Ｐｏｌｙｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｍｏｎｏｍｅｔｈｙｌ ｅｔｈｅｒ）（ＭＰＥＧ－４００、韓農化成社製）４００ｇ、ＮａＯＨ ４４ｇ、ＴＨＦ ５００ｍＬ、蒸留水 １００ｍＬが混合された溶液にｐ－トルエンスルホニルクロリド（ｐ－ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） １９１ｇおよびＴＨＦ １５０ｍＬを０℃で徐々に注入した。注入が終わって３０分後から常温（２３℃）で１２時間攪拌を継続して行った。反応終了後、抽出と中和、濃縮過程を経て収得物を真空オーブンで十分に乾燥した。乾燥された収得物をフラスコに入れて窒素雰囲気下でエタノールに溶解させた。その後、チオ尿素（Ｔｈｉｏｕｒｅａ） ４当量を添加した後、１００℃で１２時間攪拌した。ＮａＯＨ希釈液を追加注入した後、５時間さらに攪拌した。反応終了後、水と塩酸希釈液で洗浄および抽出、中和した後、真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物に塩化亜鉛（ｚｉｎｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） ６８ｇを添加し８０℃で１２時間反応させて下記化学式１－２で表される最終収得物４２０ｇを得た。
ポリオキシエチレンモノメチルエーテル（Ｐｏｌｙｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｍｏｎｏｍｅｔｈｙｌ ｅｔｈｅｒ）（ＭＰＥＧ－４００、韓農化成社製）４００ｇ、ＮａＯＨ ４４ｇ、ＴＨＦ ５００ｍＬ、蒸留水 １００ｍＬが混合された溶液にｐ－トルエンスルホニルクロリド（ｐ－ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） １９１ｇおよびＴＨＦ １５０ｍＬを０℃で徐々に注入した。注入が終わって３０分後から常温（２３℃）で１２時間攪拌を継続して行った。反応終了後、抽出と中和、濃縮過程を経て収得物を真空オーブンで十分に乾燥した。乾燥された収得物をフラスコに入れて窒素雰囲気下でエタノールに溶解させた。その後、チオ尿素（Ｔｈｉｏｕｒｅａ） ４当量を添加した後、１００℃で１２時間攪拌した。ＮａＯＨ希釈液を追加注入した後、５時間さらに攪拌した。反応終了後、水と塩酸希釈液で洗浄および抽出、中和した後、真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物に塩化亜鉛（ｚｉｎｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） ６８ｇを添加し８０℃で１２時間反応させて下記化学式１－２で表される最終収得物４２０ｇを得た。
【0195】
【化22】
【0196】
（合成例３）
ポリオキシエチレンフェニルエーテル（Ｐｏｌｙｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｐｈｅｎｙｌ ｅｔｈｅｒ）（ＰＨ－４、韓農化成社製）２７０ｇ、無水コハク酸（ｓｕｃｃｎｉｃ ａｎｈｙｄｒｉｄｅ） １００ｇを入れ１００℃まで昇温して１２時間反応させた。常温（２３℃）に冷却した後、塩化亜鉛（ｚｉｎｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） ６８ｇを添加し８０℃で１２時間反応させて下記化学式１－３で表される最終収得物４３５ｇを得た。
ポリオキシエチレンフェニルエーテル（Ｐｏｌｙｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｐｈｅｎｙｌ ｅｔｈｅｒ）（ＰＨ－４、韓農化成社製）２７０ｇ、無水コハク酸（ｓｕｃｃｎｉｃ ａｎｈｙｄｒｉｄｅ） １００ｇを入れ１００℃まで昇温して１２時間反応させた。常温（２３℃）に冷却した後、塩化亜鉛（ｚｉｎｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） ６８ｇを添加し８０℃で１２時間反応させて下記化学式１－３で表される最終収得物４３５ｇを得た。
【0197】
【化23】
【0198】
（合成例４）
ポリオキシエチレンフェニルエーテル（Ｐｏｌｙｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｐｈｅｎｙｌ ｅｔｈｅｒ）（ＰＨ－４、韓農化成社製）２７０ｇ、ＮａＯＨ ４４ｇ、ＴＨＦ ５００ｍＬ、蒸留水 １００ｍＬが混合された溶液にｐ－トルエンスルホニルクロリド（ｐ－ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） １９１ｇおよびＴＨＦ １５０ｍＬを０℃で徐々に注入した。注入が終わって３０分後から常温（２３℃）で１２時間攪拌を継続して行った。反応終了後、抽出と中和、濃縮過程を経て収得物を真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物をフラスコに入れて窒素雰囲気下でエタノールに溶解させた。チオ尿素（Ｔｈｉｏｕｒｅａ） ４当量を添加した後、１００℃で１２時間攪拌した。ＮａＯＨ希釈液を反応物に注入した後、５時間さらに攪拌した。反応終了後、水と塩酸希釈液で洗浄および抽出、中和した後、真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物 ２８６ｇ、アクリル酸亜鉛（ｚｉｎｃ ａｃｒｙｌａｔｅ） １０４ｇ、トリエチルアミン（ｔｒｉｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ） １０ｇおよびＴＨＦ ３００ｍＬを入れてエアーパージ（ａｉｒ ｐｕｒｇｅ）しながら５０℃で１２時間反応させた後、過量のジクロロメタン（ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈａｎｅ）で希釈し、５％ ＨＣｌ水溶液で中和して有機層のみを取って減圧濃縮して、下記化学式１－４で表される最終収得物３５０ｇを得た。
ポリオキシエチレンフェニルエーテル（Ｐｏｌｙｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｐｈｅｎｙｌ ｅｔｈｅｒ）（ＰＨ－４、韓農化成社製）２７０ｇ、ＮａＯＨ ４４ｇ、ＴＨＦ ５００ｍＬ、蒸留水 １００ｍＬが混合された溶液にｐ－トルエンスルホニルクロリド（ｐ－ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） １９１ｇおよびＴＨＦ １５０ｍＬを０℃で徐々に注入した。注入が終わって３０分後から常温（２３℃）で１２時間攪拌を継続して行った。反応終了後、抽出と中和、濃縮過程を経て収得物を真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物をフラスコに入れて窒素雰囲気下でエタノールに溶解させた。チオ尿素（Ｔｈｉｏｕｒｅａ） ４当量を添加した後、１００℃で１２時間攪拌した。ＮａＯＨ希釈液を反応物に注入した後、５時間さらに攪拌した。反応終了後、水と塩酸希釈液で洗浄および抽出、中和した後、真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物 ２８６ｇ、アクリル酸亜鉛（ｚｉｎｃ ａｃｒｙｌａｔｅ） １０４ｇ、トリエチルアミン（ｔｒｉｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ） １０ｇおよびＴＨＦ ３００ｍＬを入れてエアーパージ（ａｉｒ ｐｕｒｇｅ）しながら５０℃で１２時間反応させた後、過量のジクロロメタン（ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈａｎｅ）で希釈し、５％ ＨＣｌ水溶液で中和して有機層のみを取って減圧濃縮して、下記化学式１－４で表される最終収得物３５０ｇを得た。
【0199】
【化24】
【0200】
（合成例５）
ポリオキシエチレンモノアリルエーテル（Ｐｏｌｙｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｍｏｎｏａｌｌｙｌ Ｅｔｈｅｒ） ６００ｇ、ＮａＯＨ ４４ｇ、ＴＨＦ ５００ｍＬ、蒸留水 １００ｍＬが混合された溶液にｐ－トルエンスルホニルクロリド（ｐ－ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） １９１ｇ、ＴＨＦ １５０ｍＬ希釈液を０℃で徐々に注入した。注入が終わって３０分後から常温で１２時間攪拌を行った。反応終了後、抽出と中和、濃縮過程を通じた精製後、収得物を真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物をフラスコに入れて窒素雰囲気下でエタノールに溶解させた。その後、チオ尿素（Ｔｈｉｏｕｒｅａ）４当量を添加した後に１００℃で１２時間攪拌した。ＮａＯＨ希釈液を反応物に注入した後、５時間さらに攪拌した。反応終了後、蒸留水と塩酸希釈液で数回洗浄および抽出、中和した後、真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物に塩化亜鉛（ｚｉｎｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） ６８ｇを添加し８０℃で１２時間反応させて下記化学式１－５で表される最終収得物 ４２０ｇを得た。
ポリオキシエチレンモノアリルエーテル（Ｐｏｌｙｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｍｏｎｏａｌｌｙｌ Ｅｔｈｅｒ） ６００ｇ、ＮａＯＨ ４４ｇ、ＴＨＦ ５００ｍＬ、蒸留水 １００ｍＬが混合された溶液にｐ－トルエンスルホニルクロリド（ｐ－ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） １９１ｇ、ＴＨＦ １５０ｍＬ希釈液を０℃で徐々に注入した。注入が終わって３０分後から常温で１２時間攪拌を行った。反応終了後、抽出と中和、濃縮過程を通じた精製後、収得物を真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物をフラスコに入れて窒素雰囲気下でエタノールに溶解させた。その後、チオ尿素（Ｔｈｉｏｕｒｅａ）４当量を添加した後に１００℃で１２時間攪拌した。ＮａＯＨ希釈液を反応物に注入した後、５時間さらに攪拌した。反応終了後、蒸留水と塩酸希釈液で数回洗浄および抽出、中和した後、真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物に塩化亜鉛（ｚｉｎｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） ６８ｇを添加し８０℃で１２時間反応させて下記化学式１－５で表される最終収得物 ４２０ｇを得た。
【0201】
【化25】
【0202】
（合成例６）
ポリオキシエチレンモノアリルエーテル（Ｐｏｌｙｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｍｏｎｏａｌｌｙｌ Ｅｔｈｅｒ） ６００ｇ、１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物（Ｃｙｃｌｏｂｕｔａｎｅ－１，２，３，４－ｔｅｔｒａｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ｄｉａｎｈｙｄｒｉｄｅ） ９８ｇ、トルエン（ｔｏｌｕｅｎｅ） ５００ｇ、トリエチレンアミン（ｔｒｉｅｔｈｙｌｅｎｅ ａｍｉｎｅ） ６０ｇを入れ１００℃まで昇温して２４時間反応させた。反応終了後、蒸留水と塩酸希釈液で数回洗浄および抽出、中和した後、真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物に塩化亜鉛（ｚｉｎｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） １３６ｇを添加し８０℃で１２時間反応させて下記化学式２－１で表される最終収得物 ８０１ｇを得た。
ポリオキシエチレンモノアリルエーテル（Ｐｏｌｙｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｍｏｎｏａｌｌｙｌ Ｅｔｈｅｒ） ６００ｇ、１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物（Ｃｙｃｌｏｂｕｔａｎｅ－１，２，３，４－ｔｅｔｒａｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ｄｉａｎｈｙｄｒｉｄｅ） ９８ｇ、トルエン（ｔｏｌｕｅｎｅ） ５００ｇ、トリエチレンアミン（ｔｒｉｅｔｈｙｌｅｎｅ ａｍｉｎｅ） ６０ｇを入れ１００℃まで昇温して２４時間反応させた。反応終了後、蒸留水と塩酸希釈液で数回洗浄および抽出、中和した後、真空オーブンで十分に乾燥した。得られた収得物に塩化亜鉛（ｚｉｎｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ） １３６ｇを添加し８０℃で１２時間反応させて下記化学式２－１で表される最終収得物 ８０１ｇを得た。
【0203】
【化26】
【0204】
（比較合成例１）
２口丸底フラスコに２－メルカプト－１－エタノール（２－ｍｅｒｃａｐｔｏ－１－ｅｔｈａｎｏｌ） １０ｇ、２－２－（２－メトキシエトキシ）エトキシ酢酸（２－２－（２－ｍｅｔｈｏｘｙｅｔｈｏｘｙ）ｅｔｈｏｘｙ ａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ） １３．３ｇ、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物（ｐ－ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ａｃｉｄ ｍｏｎｏｈｙｄｒａｔｅ） ２．１ｇをそれぞれ入れてシクロヘキサン（ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ） ３００ｍＬに溶解した。注入口にディーンスターク（ｄｅａｎ ｓｔａｒｋ）を締結し、ここにコンデンサー（ｃｏｎｄｅｎｓｏｒ）を連結した。８時間還流（ｒｅｆｌｕｘ）後、反応を終了した（ディーンスターク（ｄｅａｎ ｓｔａｒｋ）に集まった水の最終収得量確認）。分液漏斗（Ｓｅｐａｒａｔｉｎｇ ｆｕｎｎｅｌ）に反応物を移し、抽出（ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ）、中和段階を経て溶媒を除去した後、真空オーブンで乾燥して、下記化学式Ｃ－１で表される最終収得物を得た。
２口丸底フラスコに２－メルカプト－１－エタノール（２－ｍｅｒｃａｐｔｏ－１－ｅｔｈａｎｏｌ） １０ｇ、２－２－（２－メトキシエトキシ）エトキシ酢酸（２－２－（２－ｍｅｔｈｏｘｙｅｔｈｏｘｙ）ｅｔｈｏｘｙ ａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ） １３．３ｇ、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物（ｐ－ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ａｃｉｄ ｍｏｎｏｈｙｄｒａｔｅ） ２．１ｇをそれぞれ入れてシクロヘキサン（ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ） ３００ｍＬに溶解した。注入口にディーンスターク（ｄｅａｎ ｓｔａｒｋ）を締結し、ここにコンデンサー（ｃｏｎｄｅｎｓｏｒ）を連結した。８時間還流（ｒｅｆｌｕｘ）後、反応を終了した（ディーンスターク（ｄｅａｎ ｓｔａｒｋ）に集まった水の最終収得量確認）。分液漏斗（Ｓｅｐａｒａｔｉｎｇ ｆｕｎｎｅｌ）に反応物を移し、抽出（ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ）、中和段階を経て溶媒を除去した後、真空オーブンで乾燥して、下記化学式Ｃ－１で表される最終収得物を得た。
【0205】
【化27】
【0206】
＜リガンドで表面改質された量子ドット分散液の製造＞
（製造例１）
３口丸底フラスコにマグネチックバーを入れ、量子ドット－ＣＨＡ（ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ａｃｅｔａｔｅ（酢酸シクロヘキシル））溶液（固形分２６ｗｔ％～２７ｗｔ％）を計量投入した。ここに前記化学式１－１で表されるリガンドを投入した。
（製造例１）
３口丸底フラスコにマグネチックバーを入れ、量子ドット－ＣＨＡ（ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ａｃｅｔａｔｅ（酢酸シクロヘキシル））溶液（固形分２６ｗｔ％～２７ｗｔ％）を計量投入した。ここに前記化学式１－１で表されるリガンドを投入した。
【0207】
１分程度よく混合した後、８０℃、窒素雰囲気で攪拌した。反応終了後、常温に冷却（ｃｏｏｌｉｎｇ）した後、シクロヘキサン（Ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ）に量子ドット反応液を入れて沈殿を取った。遠心分離を通じて沈殿された量子ドットパウダーとシクロヘキサン（ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ）を分離した。澄んでいる溶液は注いで廃棄し、沈殿物は真空オーブンで一日間十分に乾燥して、表面改質された量子ドットを収得した。
【0208】
前記表面改質された量子ドットを下記化学式３－２で表される単量体（１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（１，６－ｈｅｘａｎｅｄｉｏｌ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ）、美源商社）に１２時間攪拌して表面改質された量子ドット分散液を収得した。
【0209】
【化28】
【0210】
（製造例２）
化学式１－１で表されるリガンドの代わりに前記化学式１－２で表されるリガンドを使用したことを除いては製造例１と同様に行った。
化学式１－１で表されるリガンドの代わりに前記化学式１－２で表されるリガンドを使用したことを除いては製造例１と同様に行った。
【0211】
（製造例３）
化学式１－１で表されるリガンドの代わりに前記化学式１－３で表されるリガンドを使用したことを除いては製造例１と同様に行った。
化学式１－１で表されるリガンドの代わりに前記化学式１－３で表されるリガンドを使用したことを除いては製造例１と同様に行った。
【0212】
（製造例４）
化学式１－１で表されるリガンドの代わりに前記化学式１－４で表されるリガンドを使用したことを除いては製造例１と同様に行った。
化学式１－１で表されるリガンドの代わりに前記化学式１－４で表されるリガンドを使用したことを除いては製造例１と同様に行った。
【0213】
（製造例５）
化学式１－１で表されるリガンドの代わりに前記化学式１－５で表されるリガンドを使用したことを除いては製造例１と同様に行った。
化学式１－１で表されるリガンドの代わりに前記化学式１－５で表されるリガンドを使用したことを除いては製造例１と同様に行った。
【0214】
（製造例６）
化学式１－１で表されるリガンドの代わりに前記化学式２－１で表されるリガンドを使用したことを除いては製造例１と同様に行った。
化学式１－１で表されるリガンドの代わりに前記化学式２－１で表されるリガンドを使用したことを除いては製造例１と同様に行った。
【0215】
（比較製造例１）
化学式１－１で表されるリガンドの代わりに前記化学式Ｃ－１で表されるリガンドを使用したことを除いては製造例１と同様に行った。
化学式１－１で表されるリガンドの代わりに前記化学式Ｃ－１で表されるリガンドを使用したことを除いては製造例１と同様に行った。
【0216】
＜評価１：分散性＞
粒度分析器（Ｐａｒｔｉｃｌｅ ｓｉｚｅ ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて製造例１～製造例６および比較製造例１から製造された量子ドット分散溶液の粒度をマイクロ粒度分析器（Ｍｉｃｒｏ Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ｓｉｚｅ Ａｎａｌｙｚｅｒ）でそれぞれ３回ずつ測定して平均を求めて、その結果を下記表１に示した。
粒度分析器（Ｐａｒｔｉｃｌｅ ｓｉｚｅ ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて製造例１～製造例６および比較製造例１から製造された量子ドット分散溶液の粒度をマイクロ粒度分析器（Ｍｉｃｒｏ Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ｓｉｚｅ Ａｎａｌｙｚｅｒ）でそれぞれ３回ずつ測定して平均を求めて、その結果を下記表１に示した。
【0217】
【表1】
【0218】
上記表１から、製造例１～製造例６の量子ドット分散溶液は粒度分布が狭い特性を有して、高沸点および高表面張力溶媒によく分散されるのを確認することができるが、比較製造例１の量子ドット分散溶液は粒度分布が広い特性を有して、高沸点および高表面張力溶媒によく分散されないのを確認することができる。
【0219】
＜無溶媒型硬化性組成物の製造＞
（実施例１）
前記製造例１で得られた分散液を計量した後、前記化学式３－２で表される単量体と混合して希釈し、重合禁止剤（メチルヒドロキノン、ＴＯＫＹＯ ＣＨＥＭＩＣＡＬ社（東京化成工業株式会社）製）を入れて５分間攪拌した。次いで、光開始剤（ＴＰＯ－Ｌ、ポリネトロン社）を投入した後、光拡散剤（ＴｉＯ２（固形分５０重量％）；ディットーテクノロジー（株））を入れた。全体分散液を１時間攪拌して無溶媒型硬化性組成物を製造した。無溶媒型硬化性組成物総量を基準にして量子ドットは４０重量％、化学式３－２で表される単量体は４８重量％、重合禁止剤は１重量％、光開始剤は３重量％および光拡散剤は８重量％で含まれた。
（実施例１）
前記製造例１で得られた分散液を計量した後、前記化学式３－２で表される単量体と混合して希釈し、重合禁止剤（メチルヒドロキノン、ＴＯＫＹＯ ＣＨＥＭＩＣＡＬ社（東京化成工業株式会社）製）を入れて５分間攪拌した。次いで、光開始剤（ＴＰＯ－Ｌ、ポリネトロン社）を投入した後、光拡散剤（ＴｉＯ２（固形分５０重量％）；ディットーテクノロジー（株））を入れた。全体分散液を１時間攪拌して無溶媒型硬化性組成物を製造した。無溶媒型硬化性組成物総量を基準にして量子ドットは４０重量％、化学式３－２で表される単量体は４８重量％、重合禁止剤は１重量％、光開始剤は３重量％および光拡散剤は８重量％で含まれた。
【0220】
（実施例２）
製造例１で得られた分散液の代わりに前記製造例２で得られた分散液を使用したことを除いては実施例１と同様に行った。
製造例１で得られた分散液の代わりに前記製造例２で得られた分散液を使用したことを除いては実施例１と同様に行った。
【0221】
（実施例３）
製造例１で得られた分散液の代わりに前記製造例３で得られた分散液を使用したことを除いては実施例１と同様に行った。
製造例１で得られた分散液の代わりに前記製造例３で得られた分散液を使用したことを除いては実施例１と同様に行った。
【0222】
（実施例４）
製造例１で得られた分散液の代わりに前記製造例４で得られた分散液を使用したことを除いては実施例１と同様に行った。
製造例１で得られた分散液の代わりに前記製造例４で得られた分散液を使用したことを除いては実施例１と同様に行った。
【0223】
（実施例５）
製造例１で得られた分散液の代わりに前記製造例５で得られた分散液を使用したことを除いては実施例１と同様に行った。
製造例１で得られた分散液の代わりに前記製造例５で得られた分散液を使用したことを除いては実施例１と同様に行った。
【0224】
（実施例６）
製造例１で得られた分散液の代わりに前記製造例６で得られた分散液を使用したことを除いては実施例１と同様に行った。
製造例１で得られた分散液の代わりに前記製造例６で得られた分散液を使用したことを除いては実施例１と同様に行った。
【0225】
（比較例１）
製造例１で得られた分散液の代わりに前記比較製造例１で得られた分散液を使用したことを除いては実施例１と同様に行った。
製造例１で得られた分散液の代わりに前記比較製造例１で得られた分散液を使用したことを除いては実施例１と同様に行った。
【0226】
＜評価２：光特性評価＞
実施例１～実施例６および比較例１で製造された無溶媒型硬化性組成物をそれぞれイエローフォトレジスト（ＹＰＲ）の上にスピンコーティング機（Ｍｉｋａｓａ社、Ｏｐｔｉｃｏａｔ ＭＳ－Ａ１５０、８００ｒｐｍ、５秒）を使用して約１５μｍの厚さで塗布し、窒素雰囲気下３９５ｎｍ ＵＶ露光器で５０００ｍＪ（８３℃、１０秒）で露光した。その後、積分球装備（ＱＥ－２１００、ｏｔｓｕｋａ ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ）に２ｃｍ×２ｃｍ単膜試片をローディングして、光変換率を測定した。その後、前記ローディングされた単膜試片を１８０℃、窒素雰囲気乾燥炉中で３０分間乾燥した後、露光後乾燥されるまでの光維持率を測定し、測定結果を下記表２に示した。
実施例１～実施例６および比較例１で製造された無溶媒型硬化性組成物をそれぞれイエローフォトレジスト（ＹＰＲ）の上にスピンコーティング機（Ｍｉｋａｓａ社、Ｏｐｔｉｃｏａｔ ＭＳ－Ａ１５０、８００ｒｐｍ、５秒）を使用して約１５μｍの厚さで塗布し、窒素雰囲気下３９５ｎｍ ＵＶ露光器で５０００ｍＪ（８３℃、１０秒）で露光した。その後、積分球装備（ＱＥ－２１００、ｏｔｓｕｋａ ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ）に２ｃｍ×２ｃｍ単膜試片をローディングして、光変換率を測定した。その後、前記ローディングされた単膜試片を１８０℃、窒素雰囲気乾燥炉中で３０分間乾燥した後、露光後乾燥されるまでの光維持率を測定し、測定結果を下記表２に示した。
【0227】
【表2】
【0228】
上記表２から、一実施形態による無溶媒型硬化性組成物は光特性が非常に優れるのを確認することができる。
【0229】
＜溶媒型硬化性組成物の製造＞
（実施例７）
下記言及された構成成分を該当含量にして溶媒型硬化性組成物（感光性樹脂組成物）を製造した。
（実施例７）
下記言及された構成成分を該当含量にして溶媒型硬化性組成物（感光性樹脂組成物）を製造した。
【0230】
具体的に、溶媒に光重合開始剤を溶解させた後、２時間常温で十分に攪拌した。次いで、バインダー樹脂を製造例１の量子ドット分散液、分散剤（ＥＶＯＮＩＫ社、ＴＥＧＯ Ｄ６８５）および重合性単量体と共に投入し、再び２時間常温で攪拌した。ここに光拡散剤およびフッ素系界面活性剤を添加した後、１時間常温で攪拌し、前記生成物を３回ろ過して不純物を除去することによって、感光性樹脂組成物を製造した。
【0231】
１）量子ドット分散液：製造例１
２）バインダー樹脂：カルド系バインダー樹脂（ＴＳＲ－ＴＡ０１、ＴＡＫＯＭＡ社）２５重量％
３）重合性単量体：ペンタエリトリトールヘキサメタクリレート（ＤＰＨＡ、Ｎｉｐｐｏｎ Ｋａｙａｋｕ社）５．４重量％
４）光重合開始剤：ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＴＰＯ、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社）０．７重量％
５）溶媒：ジメチルアジペート（ｄｉｍｅｔｈｙｌ ａｄｉｐａｔｅ）３９重量％
６）光拡散剤：二酸化チタン分散液（ＴｉＯ２固形分２０重量％、平均粒径：２００ｎｍ、ディットーテクノロジー（株））１５重量％
７）その他の添加剤：フッ素系界面活性剤（Ｆ－５５４、ＤＩＣ社）０．９重量％。
２）バインダー樹脂：カルド系バインダー樹脂（ＴＳＲ－ＴＡ０１、ＴＡＫＯＭＡ社）２５重量％
３）重合性単量体：ペンタエリトリトールヘキサメタクリレート（ＤＰＨＡ、Ｎｉｐｐｏｎ Ｋａｙａｋｕ社）５．４重量％
４）光重合開始剤：ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＴＰＯ、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社）０．７重量％
５）溶媒：ジメチルアジペート（ｄｉｍｅｔｈｙｌ ａｄｉｐａｔｅ）３９重量％
６）光拡散剤：二酸化チタン分散液（ＴｉＯ２固形分２０重量％、平均粒径：２００ｎｍ、ディットーテクノロジー（株））１５重量％
７）その他の添加剤：フッ素系界面活性剤（Ｆ－５５４、ＤＩＣ社）０．９重量％。
【0232】
（実施例８）
製造例１の量子ドット分散液の代わりに製造例２の量子ドット分散液を使用したことを除いては実施例７と同様に行った。
製造例１の量子ドット分散液の代わりに製造例２の量子ドット分散液を使用したことを除いては実施例７と同様に行った。
【0233】
（実施例９）
製造例１の量子ドット分散液の代わりに製造例３の量子ドット分散液を使用したことを除いては実施例７と同様に行った。
製造例１の量子ドット分散液の代わりに製造例３の量子ドット分散液を使用したことを除いては実施例７と同様に行った。
【0234】
（実施例１０）
製造例１の量子ドット分散液の代わりに製造例４の量子ドット分散液を使用したことを除いては実施例７と同様に行った。
製造例１の量子ドット分散液の代わりに製造例４の量子ドット分散液を使用したことを除いては実施例７と同様に行った。
【0235】
（実施例１１）
製造例１の量子ドット分散液の代わりに製造例５の量子ドット分散液を使用したことを除いては実施例７と同様に行った。
製造例１の量子ドット分散液の代わりに製造例５の量子ドット分散液を使用したことを除いては実施例７と同様に行った。
【0236】
（実施例１２）
製造例１の量子ドット分散液の代わりに製造例６の量子ドット分散液を使用したことを除いては実施例７と同様に行った。
製造例１の量子ドット分散液の代わりに製造例６の量子ドット分散液を使用したことを除いては実施例７と同様に行った。
【0237】
（比較例２）
製造例１の量子ドット分散液の代わりに比較製造例１の量子ドット分散液を使用したことを除いては実施例７と同様に行った。
製造例１の量子ドット分散液の代わりに比較製造例１の量子ドット分散液を使用したことを除いては実施例７と同様に行った。
【0238】
＜評価３：量子ドットの光変換率および光変換維持率評価＞
前記実施例７～実施例１２および比較例２で製造された硬化性組成物をそれぞれガラス基板の上にスピンコーティング機（Ｍｉｋａｓａ社、Ｏｐｔｉｃｏａｔ ＭＳ－Ａ１５０、１５０ｒｐｍ）を使用して６μｍの厚さで単膜コーティングした後、熱板（ｈｏｔ－ｐｌａｔｅ）を用いて８０℃で１分間乾燥して塗膜を収得した。その後、露光機（Ｕｓｈｉｏ社、ｇｈｉ ｂｒｏａｄｂａｎｄ）を用いて１００ｍＪ／ｃｍ２の出力（ｐｏｗｅｒ）でＵＶを照射した後、対流式クリーンオーブン（ｃｏｎｖｅｃｔｉｏｎ ｃｌｅａｎ ｏｖｅｎ）（ｊｏｎｇｒｏ株式会社）で１８０℃で３０分間ポスト－ベーキング（ｐｏｓｔ－ｂａｋｉｎｇ；ＰＯＢ）を行い、光変換率を測定してその結果を表３に示した。
前記実施例７～実施例１２および比較例２で製造された硬化性組成物をそれぞれガラス基板の上にスピンコーティング機（Ｍｉｋａｓａ社、Ｏｐｔｉｃｏａｔ ＭＳ－Ａ１５０、１５０ｒｐｍ）を使用して６μｍの厚さで単膜コーティングした後、熱板（ｈｏｔ－ｐｌａｔｅ）を用いて８０℃で１分間乾燥して塗膜を収得した。その後、露光機（Ｕｓｈｉｏ社、ｇｈｉ ｂｒｏａｄｂａｎｄ）を用いて１００ｍＪ／ｃｍ２の出力（ｐｏｗｅｒ）でＵＶを照射した後、対流式クリーンオーブン（ｃｏｎｖｅｃｔｉｏｎ ｃｌｅａｎ ｏｖｅｎ）（ｊｏｎｇｒｏ株式会社）で１８０℃で３０分間ポスト－ベーキング（ｐｏｓｔ－ｂａｋｉｎｇ；ＰＯＢ）を行い、光変換率を測定してその結果を表３に示した。
【0239】
【表3】
【0240】
上記表３から分かるように、一実施形態による表面改質された量子ドットを用いた溶媒型硬化性組成物は、カラーフィルタ工程が行われることによる光変換率低下が小さくて、光維持率が高いのを確認することができる。
【0241】
本発明は前記実施例に限定されるのではなく、互いに異なる多様な形態で製造でき、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者は本発明の技術的な思想や必須の特徴を変更せず他の具体的な形態で実施できるのを理解することができる。したがって、以上で記述した実施例は全ての面で例示的なものであり、限定的ではないと理解しなければならない。