特許 7109400出願番号 特願 2019-60941
疎水性シリカ中の塩素濃度の測定方法
公報発行日 2022年7月29
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7109400 ログイン済みの方はこのURLへ
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技術分野
疎水性シリカ中の塩素濃度の測定方法
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
実施例１の疎水性シリカ溶液をイオンクロマトグラフィー法により分析した際のクロマトグラムである。
【図2】
比較例１の疎水性シリカ溶液をイオンクロマトグラフィー法により分析した際のクロマトグラムである。
代表図 図1本件の代表的な図
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