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特許7123668レジスト多層膜付き基板及びパターン形成方法
発明の名称 レジスト多層膜付き基板及びパターン形成方法
出願人 信越化学工業株式会社 （識別番号 2060）
特許公開件数ランキング 54 位（155件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 62 位（125件）（共同出願を含む）
出願人 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション （識別番号 390009531）
特許公開件数ランキング 173 位（59件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 29 位（211件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-7123668
公報発行日 2022年8月23
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7123668
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