図１は、液滴重合用の反応器の縦断面を示し、例えばこの反応器は、ポリ（メタ）アクリレート粒子を製造するために使用されることが好ましい。 液滴重合用の反応器１は、内部に滴下装置５が収容されている反応器ヘッド３、重合反応が起こる中部領域７、および反応が完了する流動層１１を有する下部領域９を含む。 ポリ（メタ）アクリレートを製造するための重合反応を実施するために、滴下装置５にモノマー溶液を、モノマー供給部１２を介して供給する。滴下装置５が複数の通路を有する場合、各通路に、専用のモノマー供給部１２を介してモノマー溶液を供給することが好ましい。モノマー溶液は、滴下装置５内の、図１には図示されていない孔を通して排出され、分裂してそれぞれ液滴になり、これらの液滴は、反応器内で下方に向かって落ちる。滴下装置５の上方にある第一気体供給箇所１３を介して、気体、例えば窒素または空気が反応器１に導入される。ここで気体流は、滴下装置５の孔から排出されるモノマー溶液が分裂してそれぞれ液滴になるのを補助する。さらに、この気体流によって、液滴がそれぞれ触れ合わないように、かつ一体化してより大きな液滴にならないように分離される。 一方で反応器の円筒形中部領域７をなるべく短く形作るために、そしてさらに、液滴が反応器１の壁にぶつかるのを回避するために、反応器ヘッド３は好適には、ここで図示されているように円錐形に作り上げられており、ここで滴下装置５は、円筒形領域の上方にある円錐形反応器ヘッド３内に存在している。しかしながら代替的には、反応器を、反応器ヘッド３においても中部領域７にあるような直径で円筒形に形作ることも可能である。しかしながら、反応器ヘッド３を円錐形に形作ることが好ましい。滴下装置５の位置は、モノマー溶液が供給される最も外側の孔と反応器の壁との間に、なおも十分に大きな間隔があり、液滴が壁に衝突するのが防止されるように選択される。そのために、この間隔は、少なくとも５０～１５００ｍｍの範囲、好ましくは１００～１２５０ｍｍの範囲、殊に２００～７５０ｍｍの範囲にあることが望ましい。当然のことながら、反応器の壁への距離はより大きくてもよい。しかしながら、このことには、間隔が大きくなるほど、反応器断面の利用性が悪化するという欠点がある。 供給箇所１３を介して供給される気体のさらに良好な利用性を得るためには、本発明による乱流を増加させる装置３１をモノマー溶液の滴下装置５の領域において使用する。乱流を増加させる装置により気体の乱流が増加され、そのため、気体と滴下装置５により生成される液滴とのより良好な混合が実現される。これにより、液滴はより均一に水分を気体に放出することができる。さらに、反応器内で液滴の滞留時間にわたりより均一な温度分布が得られる。ここで、乱流を増加させる装置３１により形成された乱流には、矢印３３が付されている。 乱流を増加させる装置３１としては、例えば、バッフルまたはノズル、殊に気体ノズル、気体／液体ノズルもしくは液体ノズルを使用することができる。ここに図示される実施形態において、乱流を増加させる装置３１としては、気体ノズル３５が用いられる。これらは、図１に図示される実施形態において、滴下装置５の下方に、好ましくは最大で下方２ｍに配置されている。気体ノズル３５から排出される気体噴流３７により、気体供給箇所１３を介して供給される気体が加速される。同時に、気体ノズル３５から排出される気体は減速され、それにより、気体噴流３７は偏向および変形され、さらなる乱流が誘導される。ここで、気体供給箇所１３により供給される気体と気体ノズル３５により供給される気体との間の速度差は、生成される乱流が摩擦の発生により散逸しないように、大きすぎないよう注意すべきである。 下部領域９は流動層１１で終わり、この層へと、落下の間にモノマー液滴から生成したポリマー粒子が落下する。流動層では、所望の生成物への後反応が起こる。本発明によると、モノマー溶液が滴下される最も外側の孔は、垂直に下方に向かって落ちる液滴が流動層１１に落ちるように位置決めされている。このことは例えば、流動層の直径が少なくとも、滴下装置５における最も外側の孔を結んだ線により囲まれる面の直径と同じ大きさであることによって実現され、ここで流動層の断面と、最も外側の孔を結んだ線により形成される面とは、同じ形を有し、２つの面の中心点は、垂直投影図で同じ位置に重なって存在している。流動層１１の位置に対して最も外側の孔の位置は、図１において点線１５により図示されている。 さらに、液滴が中部領域７においても反応器の壁にぶつかるのを回避するために、滴下装置と気体取出し箇所との中間点の高さにおける流動領域の直径は、流動層の水力直径より少なくとも１０％大きい。 ここで反応器１は、あらゆる任意の断面形を有することができる。しかしながら、好ましくは、反応器１の断面は円形である。この場合、流動領域の直径は反応器１の直径に相応する。 ここで図示する実施形態において、流動層１１の上方では、反応器１の直径は増大し、そのため、反応器１は、下部領域９において下から上に円錐形に広がる。このことには、反応器１内で生成したポリマー粒子が壁にぶつかり、壁上で下方に向かって流動層１１に滑り込めるという利点がある。さらに、固着物を回避するために、ここでは図示されていないノッカーを備えておくことができ、これらのノッカーにより、反応器の壁が振動し、それによって、付着しているポリマー粒子が剥がれ、流動層１１に滑り込む。 流動層１１を稼動させるための気体供給のために、流動層１１の下方にガス分配器１７が存在しており、これによって気体が流動層１１に吹き込まれる。 気体は上からも下からも反応器１に導入されるため、適切な位置で気体を反応器１から取り出す必要がある。そのために、一定の断面を有する中部領域７から、円錐形に下から上に広がる下部領域９への移行部において、少なくとも１つの気体取出し箇所１９が配置されている。ここで円筒形中部領域７は、その壁と一緒に、上に向かって円錐形に広がる下部領域９に入り込み、ここで、この位置において円錐形下部領域９の直径は、中部領域７の直径より大きい。こうすることで、中部領域７の壁を取り巻く環状チャンバ２１が形成され、気体はこの中に流れ込み、環状チャンバ２１と接続している少なくとも１つの気体取出し箇所１９を通して抜き取ることができる。 流動層１１の後反応したポリマー粒子は、流動層の領域にある生成物取出し箇所２３を介して取り出される。 図２は、代替的な実施形態における液滴重合用の反応器を示す。 図１に図示される液滴重合用の反応器１とは異なり、図２に図示される反応器１においては、乱流を増加させる装置３１は、モノマー溶液の滴下装置５の上方に配置されている。図２においても、例えば、乱流を増加させる気体ノズル３５が図示されている。気体ノズル３５から排出される気体噴流３７により、気体流における乱流が増加し、ここで、気体ノズル３５が滴下装置５の上方に配置されている場合、気体ノズル３５を滴下装置５の下方に有する図１に示される変形形態の場合よりも、より高い位置において乱流の増加が開始する。よって、乱流を調整する際に、滴下装置５から出るモノマー液滴が滴下装置５にぶつかって堆積物を形成しないように注意する必要がある。殊に気体ノズル３５を使用する場合、乱流は、気体ノズル３５から出る気体の速度を変えることにより容易に調整可能である。 殊に乱流を増加させる装置３１が滴下装置５の下方に配置されている場合、乱流を増加させる装置３１に堆積物が形成されることを防止するために、乱流を増加させる装置３１の個別のバッフルまたはノズルは、これらが滴下装置５の個別の滴下器ユニットの間に配置されるように位置決めされる。これは例示的には、乱流を増加させる装置３１としての気体ノズル３５の使用および滴下装置５の滴下器ユニットとしての滴下器通路２５の使用について、図３～６に図示されている。 図３では、半径方向に延びる様々な長さの滴下器通路の配置が図示されている。 第一の実施形態において、滴下装置は、半径方向に延びる通路２５を有する。ここで、通路２５の部分は反応器１の中心まで突き出ている。通路２４におけるさらなる部分はそれよりも反応器１内に突き出してはいない。反応器１の中心まで半径方向に延びて突き出た通路２５の周方向間隔が大きい反応器外部領域において殊に、付加的に通路２４が備えられており、これらを通して、モノマー溶液を反応器１に滴下投入することができる。これにより、反応器断面全体にわたり液滴を均一に分布させることが可能になる。 乱流を増加させるために使用される個別の気体ノズル３５は、通路２４、２５の間に位置決めされている。ここで、反応器内における均一な乱流、ひいては均一な気体流のために、気体ノズル３５は反応器断面にわたり均一に分布している。 通路２５の相応する放射状の配置は、図４に図示されている。 図３に図示される実施形態および図４に図示される実施形態のどちらにおいても、通路２４、２５を水平面に対して角度βで傾けることが可能である。その結果、通路２４、２５が反応器の中心に向かって上っていると殊に有利である。このように傾けることで、反応器１内で均一な液滴分布が得られ、液滴と反応器壁との予定よりも早い接触が回避される。 図５および６は、通路のさらなる可能な配置を示す。ただしこれらにおいては、水平面に対する角度βでの配置を実現することは非常に難しく、そのため、この場合、通路２５は水平に延びることが好ましい。図５は、長方形に分割された配置を示し、この配置では、個別の通路２５は、それぞれ互いに９０°の角度で配置されており、そのため、通路の交点２７により、それぞれ長方形、好ましくは正方形が形成される。 図６は、三角形に分割された配置を示す。ここで通路２５は、それぞれ互いに６０°の角度で配置されており、そのため、通路２５の交点２７により、それぞれ辺の等しい三角形が形成される。ただしこれは、それぞれ平行に延びる通路が常に等しい大きさの間隔を有することをさらに条件とする。 滴下器ユニットとして使用される通路２５の配置にかかわらず、バッフルまたはノズル、例えば気体ノズル３５は、滴下器ユニットの間に位置決めされて、反応器断面にわたり均一に分布している。ここで長方形の分割または三角形の分割の場合、バッフルまたはノズルの位置は、通路２５により形成される長方形または三角形の中心点にそれぞれあることが好ましい。 ここで、必要な気体および／または液体供給を、図３および４に図示されているように通路２４、２５の間に延在する管路３９、または図５または６に図示されているように通路２５の上方に延在する管路３９を介して行い、滴下装置５内で生成された液滴が管路３９に落下してそこで堆積物を形成することを防止する。 当然のことながら、ここに図示される実施形態の代わりに、平行に配置された通路の間の間隔が変わるように、または平行に配置された通路の間の間隔がそれぞれ等しい大きさであるように、また様々な方向に延びる平行に配置された通路の間の間隔が異なるように、通路を配置することも可能である。さらに、通路を互いに任意の別の角度で配置することも可能である。 しかしながら、殊に反応器断面が円形である場合、図３および４に図示されている配置が好ましい。しかしながらここで、通路の数は、反応器の周囲長に応じて変わってもよい。さらに、図３に示されているように、通路が異なる長さで反応器１内へと突き出るように、通路を異なる長さで形作ることが可能である。しかしながらここで、回転対称配置が常に好ましい。 モノマー溶液が反応器へと滴下される孔が形成されていて、モノマー溶液を供給するための通路が下面で終わっている滴下器プレート２６の位置は、図３～６において網掛けされた面により示されている。 本発明によると、通路２４、２５の数は、最も外側の孔に沿った線の周囲長により画定される面積に対する、反応器内における通路２４、２５または滴下器ヘッドにより覆われた面積の比率が５０％未満になるように選択される。これにより、気体が通路２４、２５を十分に流れ去ることが可能になること、および気体と通路２４、２５を出る液滴との十分な接触が実現されることが保証される。 気体流内に増加した乱流を生成するためのさらなる可能性は、図７に図示されている。ここでは、図１～６における実施形態とは異なり、気体供給箇所１３は、増加した乱流が生成されるように形作られている。そのために、気体供給箇所１３は少なくとも１つの孔付き板４１を含み、これを通して気体が導かれる。ここで孔付き板は、５～２００ｃｍ、好ましくは１０～１００ｃｍの直径の孔を有する。ここで、複数の孔付き板が互いに重なり合って配置されており、かつ気体の流れ方向で最後の孔付き板が、先に記載のように、５～２００ｃｍの直径の孔を少なくとも有すると特に有利である。ここで孔付き板は、個別の孔付き板の孔が互いに正確に重ならないように配置されることが好ましい。これは、互いに上下に重なり合った孔の中心点が１つの垂直線上に位置しないことを意味する。 孔の形状は、任意で選択されてもよい。しかしながら、円形の孔が好ましい。 増加した乱流が生成されるように気体供給箇所１３が形作られる場合、気体流は、すでに滴下装置５の上方で乱流３３を有し、これにより、滴下装置５内で生成された液滴が反応器断面にわたり均質に分布する。ただし、乱流の増加は局所的に制限されるべきであり、好ましくは、滴下器ユニットの領域内または下方にのみ生じるべきである。それにより、乾燥ガスと液滴導入されたモノマー溶液との混合の望ましい改善が保証され、液滴が反応器断面にわたり均質に分布し、反応器壁における堆積物の形成のような不所望な効果は起こらない。 乱流を増加させる装置の好ましい図８に図示されている。 気体ノズル３５が下方に向けられた図１および２に図示される乱流を増加させる装置とは異なり、図８において、気体ノズル３５は、上方に向かって垂直に向けられている。したがって、気体供給箇所１３を介して供給される乾燥ガスの流れ方向とは反対に向けられた気体噴流３７が、気体ノズル３５からそれぞれ出る。気体が乾燥ガスの流れ方向とは反対に気体ノズル３５から排出されることにより、乱流３３は滴下装置５の領域で生成される。乾燥ガスが主な気体流であるため、気体流全体は下方に向けられており、乾燥ガス流は、乾燥ガスの流れ方向において、滴下装置５を流れて通過する際にも乱流のままである。気体ノズル３５を上方に垂直に向けることにより、流動乱流が、滴下装置５のさらに上流で誘導される。これにより、乾燥ガス流における流動乱流を滴下装置５までより良好に横向きに分布させることができ、したがって、効果的かつ均一に、滴下装置５から排出されるモノマー溶液に影響を与えることもできる。 滴下器ユニットの配置にかかわらず、乱流を増加させる装置３１のバッフルまたはノズルは、常に液滴がバッフルまたはノズルに落下できないように位置決めされる。さらに、バッフルまたはノズルは、反応器断面にわたり均一に分布されており、そのため、均一な気体流および等しい乱流が反応器断面全体にわたり得られ、それにより、均一な製品ができあがる。 実施例 以下の例は、気体流における乱流生成を伴うおよび伴わない、液滴重合反応器の稼働の比較を示す。比較のために、数値での流動シミュレーションを用いて計算により求めた結果を引用した。比較において２つの場合を観察する： （１） 液滴重合用の反応器を、図１に図示されているように、乱流を増加させる気体ノズルを１６個用いて稼働させ、ここで気体ノズルは、３．８ｍおよび５．８ｍの直径をそれぞれ有する２つの理論上の同心円において周囲長にわたり均一に分布しており、滴下器通路に対して対称に配置されており、同心円のそれぞれに８つの気体ノズルが位置決めされている。そのために、図４に図示される実施形態に相応して放射状に配置された８つの滴下器通路を備える。ノズルすべてを通る気体体積流は、合計７５００Ｎｍ３／ｈである。ノズルは、開口部の直径が４５ｍｍである。直径が一定である反応器の中部における直径は、１０．３ｍである。滴下器ユニットの高さにおける反応器の直径は、７．２ｍである。気体供給箇所１３を介して施与される気体体積流は、１７５０００Ｎｍ３／ｈである。 （２） 最初の場合と同じ条件下で液滴重合反応器を稼働させるが、乱流ノズルおよびそれにより供給されるさらなる気体流を用いない。 図９は、計算した場合の双方について、粒子滞留時間に対する粒子温度の標準偏差のプロファイルを示し、ここで、乱流を増加させる気体ノズルを用いた第一の場合についてのプロファイルは、破線で図示されており、乱流の増加なしの第二の場合についてのプロファイルは、実線で図示されている。そのために、横軸に粒子滞留時間が秒で図示されており、縦軸に標準偏差が図示されている。標準偏差が大きいほど、粒子が不均等に加熱される。乱流ノズルを用いた稼働の場合、０～６秒の滞留時間範囲において、標準偏差は、乱流ノズルなしの場合よりも５Ｋまで低い。ここで６秒の滞留時間は、粒子が反応器の下端部にある流動層に到達するのに平均的に必要とする時間に相当する。 図１０は、粒子滞留時間に応じた、粒子をその軌道に沿って囲む気体の気体温度を示す。ここでも、粒子滞留時間は秒で横軸に図示されている。縦軸は、粒子を囲む気体の温度を℃で示す。ここでも、乱流を増加させる気体ノズルを用いた第一の場合は、破線で図示されており、さらなる乱流の増加なしの第二の場合は、実線で図示されている。乱流を増加させる気体ノズルを用いて稼働させる場合、気体温度はより速く低下し、このことは、粒子が平均的により速く加熱されることを意味する。粒子温度の標準偏差と、粒子をその軌道に沿って囲む気体の気体温度のどちらも、乱流を増加させる気体ノズルを用いた稼働での粒子の乾燥が、より均一かつ速く行われることを示し、これにより、粒子が乾燥状態で反応器の下端部の流動床に到達し、よって、より低い凝集化傾向を有することに繋がる。