特許 7147059 容器用レチクル支持体

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-09-26

(45)【発行日】2022-10-04

(54)【発明の名称】容器用レチクル支持体

(51)【国際特許分類】

   G03F 1/66 20120101AFI20220927BHJP

   H01L 21/673 20060101ALI20220927BHJP

   B65D 85/38 20060101ALI20220927BHJP

【ＦＩ】

G03F1/66

H01L21/68 T

B65D85/38 310

【請求項の数】 5

(21)【出願番号】P 2021517677

(86)(22)【出願日】2019-10-21

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2022-01-06

(86)【国際出願番号】 US2019057274

(87)【国際公開番号】W WO2020096759

(87)【国際公開日】2020-05-14

【審査請求日】2021-03-29

(31)【優先権主張番号】62/756,932

(32)【優先日】2018-11-07

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(73)【特許権者】

【識別番号】505307471

【氏名又は名称】インテグリス・インコーポレーテッド

(74)【代理人】

【識別番号】100105957

【弁理士】

【氏名又は名称】恩田 誠

(74)【代理人】

【識別番号】100068755

【弁理士】

【氏名又は名称】恩田 博宣

(74)【代理人】

【識別番号】100142907

【弁理士】

【氏名又は名称】本田 淳

(72)【発明者】

【氏名】ティーベン、アンソニー マティアス

(72)【発明者】

【氏名】エッグム、ショーン ダニエル

(72)【発明者】

【氏名】ラシュケ、ラス ブイ．

(72)【発明者】

【氏名】ワイズマン、ブライアン

(72)【発明者】

【氏名】ワン、ホアピン

【審査官】今井 彰

(56)【参考文献】

【文献】韓国登録特許第１０－０８５８６３４（ＫＲ，Ｂ１）

【文献】特開２０１２－１８６３９１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００５－３２１５２９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－０４９２０９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００９－０５４９１７（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１５／０９８１５３（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０３Ｆ １／６６

Ｈ０１Ｌ ２１／６８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ワークピースを支持するための容器であって、
水平面を有するドアと、
前記容器内に隔絶された環境を画定するために前記ドアと結合することができるシェルと、
前記ドアに取り付けられたワークピース支持体と、を備え、
前記ワークピース支持体は支持柱を含み、前記支持柱はワークピースを支持するように構成され、前記支持柱は、
一対の第１傾斜壁であって、各傾斜壁が垂直に対して第１角度をなす、一対の第１傾斜壁と、
前記一対の第１傾斜壁の底部の一対の第２傾斜壁と、からなる傾斜壁を含み、
前記一対の第２傾斜壁は、ワークピースを支持する唯一の接触点であるように構成され、
前記一対の第１傾斜壁及び前記一対の第２傾斜壁は、異なるゼロでない傾斜で配置され、
前記第２傾斜壁は、水平軸に対して第２角度で方向付けられており、
前記第１角度が前記第２角度よりも大きく、
前記一対の第１傾斜壁は互いに接触しており、
前記一対の第２傾斜壁が互いに接触している、
容器。

【請求項2】

前記一対の第１傾斜壁が、垂直軸に対して、４５°以下の角度で配向される、
請求項１に記載の容器。

【請求項3】

前記一対の第２傾斜壁が、水平軸に対して、０°より大きく、１５°以下の角度で配向される、
請求項１に記載の容器。

【請求項4】

着座状態において、前記一対の第２傾斜壁が、ワークピースの下縁の周りの面取りの下縁で前記ワークピースと係合するように構成される、
請求項１に記載の容器。

【請求項5】

着座していない状態で、ワークピースとの偶発的な接触が前記ワークピースの下縁の周りの面取りの上縁で生じるように、前記一対の第１傾斜壁が配向される、
請求項１に記載の容器。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、概して、半導体製造工場内でレチクルなどのワークピースを移送するための容器に関する。より具体的には、本開示は、レチクルの重要な表面に接触することなくレチクルを支持する、レチクルなどのワークピース用の支持体に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイスの製造中、半導体上の様々な層のパターンが、レチクルと呼ばれるマスク上に含まれる。レチクルは、フォトリソグラフィ等によりパターンが形成された光学的に透明な石英基板である。特に、フォトレジストの層が、コーティングされたレチクルブランクに塗布される。その後、半導体ウェーハ上に形成される選択層のパターンが、例えば、レーザーパターン発生器又は電子ビームによって、レチクル上に転写される。フォトレジスト上にパターンが形成された後、フォトレジストの露光部分が除去されて、コーティング層の不要な部分が露出されたまま残される。次に、これらの不要な部分がエッチングで除去される。次に、残りのフォトレジストが、レチクルの表面に清浄なパターンを残すプロセスで除去される。レチクルの表面を清浄な状態に維持することは不可欠であり、したがって粒子の発生を回避することが重要である。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0003】

本開示は、概して、半導体製造工場内でレチクルなどのワークピースを移送するための容器に関する。より具体的には、本開示は、レチクルの重要な表面に接触することなくレチクルを支持する、レチクルなどのワークピース用の支持体に関する。

【課題を解決するための手段】

【0004】

ワークピースを支持するための容器であって、ワークピースはワークピースの上縁及び下縁の周りに面取りを含んでいる容器が開示される。容器はドア及びドアと結合して容器内に隔絶された環境を画定することができるシェルを含む。容器は、ドアに取り付けられたワークピース支持体を含む。ワークピース支持体は支持柱を含む。支持柱は、ワークピースの角でワークピースを支持するように構成される。支持柱は一対の第１傾斜壁を含む。一対の第２傾斜壁が一対の第１傾斜壁の底部にある。一対の第２傾斜側壁は、角でワークピースの隣接する側面を支持するように構成される。一対の第１傾斜壁及び一対の第２傾斜壁は、異なるゼロでない傾斜で配向される。

【0005】

ワークピースを支持するための容器が同じく開示される。ワークピースはワークピースの上縁及び下縁の周りに面取りを含む。容器はドア及びシェルを含む。シェルは隔絶された環境を画定するためにドアと結合することができる。ワークピース支持体がドアに固定される。ワークピース支持体は支持柱を含む。支持柱はワークピースを支持するように構成される。支持柱は互いに角度を付けられた一対の第１傾斜壁を含む。一対の第２傾斜壁が、一対の第１傾斜壁の底部で互いに角度を付けられる。一対の第２傾斜壁は、ワークピースの隣接する側面を支持するように構成される。一対の第１傾斜壁及び一対の第２傾斜壁は、異なるゼロでない傾斜で配向される。

【0006】

ワークピースを支持するための容器が同じく開示される。ワークピースはワークピースの上縁及び下縁の周りに面取りを含む。容器はドア及び容器内に隔絶された環境を画定するためにドアと結合することができるシェルを含む。容器は、ドアに取り付けられたワークピース支持体を含む。ワークピース支持体は支持柱を含む。支持柱はワークピースを支持するように構成される。支持柱は、一対の第１傾斜壁と、一対の第１傾斜壁の底部の一対の第２傾斜壁とからなる。一対の第２傾斜壁は、ワークピースの隣接する側面を支持する唯一の接触点であるように構成される。一対の第１傾斜壁及び一対の第２傾斜壁は、異なるゼロでない傾斜で配置される。
本開示の一部を形成し、本明細書に記載のシステム及び方法を実施することができる実施形態を示す添付の図面を参照する。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1A】本開示の一実施形態による、容器、及び容器の支持構造に着座する前のワークピースの斜視図である。

【図1B】本開示の一実施形態による、容器、及び容器の支持構造に着座したときの図１Ａのワークピースの斜視図である。

【図2】本開示の一実施形態による、図１Ａ及び図１Ｂに示される容器の平面図である。

【図3】図２の線３－３に沿う、図１Ａ及び図１Ｂに示される容器の断面図である。

【図4】図２の線３－３に沿う、図１Ａ及び図１Ｂに示される容器の支持構造の一部の断面図である。

【図5】図１Ａ及び図１Ｂの容器の支持構造の一部の斜視図である。

【図6】本開示の一実施形態による、容器の平面図である。

【図7】本開示の一実施形態による、支持構造及びその中のワークピースの断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

本開示は様々な修正及び代替形態を受け入れ、その詳細は例として図面に示され、詳細に記載される。しかしながら、その意図は、本開示の態様を、記載された特定の例示的な実施形態に限定することではないことを理解されたい。反対に、その意図は、本開示の趣旨及び範囲に含まれるすべての修正、均等物、及び代替形態を網羅することである。

【0009】

以下の詳細な記載は図面を参照して読むべきである。図面中、異なる図面内の同様の要素に、同じ番号が付けられている。詳細な記載、及び必ずしも一定の縮尺ではない図面は、例示的な実施形態を示しており、本発明の範囲を限定することを意図していない。示されている例示的な実施形態は、例示として意図されているに過ぎない。任意の例示的な実施形態の選択された特徴は、明確に反対に述べられていない限り、追加の実施形態に組み込むことができる。

【0010】

本開示は、概して、半導体製造工場内でレチクルなどのワークピースを移動するための容器に関する。より具体的には、本開示は、レチクルの重要な表面に接触することなくレチクルを支持する、レチクルなどのワークピースの支持体に関する。ワークピースの容器は、標準化された機械的インターフェース（ＳＭＩＦ：Standardized Mechanical Interface）容器又はポッド、レチクルＳＭＩＦポッド、又はレチクルポッドと呼ばれる場合がある。容器は、本明細書の様々な実施形態に従って記載されるように、半導体又はレチクル製造工場内で使用するためのレチクルを固定するために使用することができる。本明細書で使用される際、「重要な表面」という用語は、レチクルの上面及び／又は下面を含む。

【0011】

レチクルなどであるがこれに限定されないワークピースの製造中、パターンが形成されているレチクルの表面への粒子フラックスを最小限に抑えることが重要である。このような任意の粒子はパターンを破壊する可能性がある。パターンを形成し、より大きな又はマクロのペリクルを貼り付けた後でも、汚染物質がレチクルに付着し、半導体ウェーハへのパターンの転写を妨げる可能性がある。

【0012】

粒子形成の１つの原因は、ワークピースが容器にロードされるときである。ロード工程の間に、より硬いワークピースは、ワークピースの支持構造に使用される比較的より柔らかい材料のへこみ又は変形を引き起こす可能性がある。へこみ又は変形が発生すると、発生した粒子がワークピースの重要な表面に接触し、それによりワークピースのパターンが破損する可能性がある。本開示の実施形態は、支持構造のへこみ又は変形の可能性を低減し、それによって支持構造の清浄度を高め、ワークピースを破損する可能性のある粒子形成の可能性を低減し得る支持構造に向けられる。具体的には、本開示の実施形態は、第１傾斜壁及び第１傾斜壁の底部の第２傾斜壁を有する支柱を含む。ワークピースが着座状態にあるとき、支持柱上に形成された表面は、以前の支持構造に対してワークピースとの角度及び接触点が変更されている。一実施形態では、ワークピースが着座状態にあるとき、第２傾斜壁に形成された接触面をへこませたり又は変形させたりするためにより大きな力が必要とされる。その結果、これにより粒子の発生を減らすことができ、それによってワークピース上での粒子の形成を減らす。ロードの際、ワークピースの接触は第２傾斜壁のより大きな接触面積を伴い、それによってさらなるへこみ又は変形が発生する前に必要な力が増加する。

【0013】

以下でより詳細に記載するように、一実施形態では、ワークピースを支持構造にロードする工程の間に、ワークピースが中心に置かれると、水平軸に対するより大きな角度を有する第１傾斜壁からワークピースに加えられる横方向の力は、水平軸に対してより小さな角度を有する反対側の支持上に形成された第２傾斜壁からのより小さな横方向の反力によって対抗される。これにより、ワークピースと傾斜面との間の摩擦の減少が促され、それによりワークピースをより簡単に中心に置くことが可能になる。

【0014】

図１Ａ及び図１Ｂは、一実施形態による、容器１０及びワークピース１５の斜視図である。
図１Ａは、一実施形態による、容器１０、及び、容器の１つ又は複数の支持構造２０に着座する前（例えば、着座していない状態）の、ワークピース１５の斜視図である。図１Ｂは、一実施形態による、容器１０、及び、容器１０の１つ又は複数の支持構造２０に着座したとき（例えば、着座状態）の図１Ａのワークピース１５の斜視図である。容器１０は、シェル３０と結合することができるドア２５を含む。ドア２５及びシェル３０が固定されると、密封された静的環境が、ワークピース１５のための容器１０内に形成される。図示の実施形態では、ワークピース１５はレチクルである。

【0015】

容器１０のドア２５は、炭素繊維が充填されたポリカーボネートなどであるがこれに限定されない、静電気散逸性で耐久性のあるポリマーから形成することができる。容器１０のシェル３０は、ワークピース２０の観察を可能にするために透明である耐久性のあるポリマーから形成することができる。シェル３０はまた、静電気散逸性であり得る。シェル３０を形成することができる透明な静電気散逸性材料の適切な例は、ポリメチルメタクリレートである。一実施形態では、シェル３０は、代わりに、不透明な静電気散逸性の炭素繊維充填ポリカーボネートから形成され、ワークピースを見ることができる透明な窓を含むことができる。別の実施形態では、シェル３０は、透明なポリカーボネート、難燃性ポリエーテルイミド等から形成することができる。ドア２５及びシェル３０のためのこれらの材料は例である。一実施形態では、ドア２５及びシェル３０は、他の適切な材料から形成することができる。一実施形態では、ドア２５及びシェル３０は、射出成形等によって形成することができる。一実施形態では、ドア２５及びシェル３０は、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）を含むことができる。

【0016】

容器１０は、ワークピース１５を支持するための１つ又は複数の支持構造２０を含む。支持構造２０は、ドア２５上に形成するか、又はドア２５に取り付けることができる。一実施形態では、支持構造２０は、ドア２５とワンピースの一体構造であり得る。別の実施形態では、支持構造２０は、ドア２５の最初の形成からの後続の成形手順でドア２５に成形することができる。さらに別の実施形態では、支持構造２０は、例えば、締結具（例えば、ねじなど）等によってドア２５に取り付けることができる。したがって、ドア２５に関して上で考察された材料は、支持構造２０にも適用可能である。

【0017】

支持構造２０は、低粒子発生性の静電気散逸性材料から形成することができる。一実施形態では、支持構造２０は、熱可塑性材料を含むことができる。別の実施形態では、支持構造２０は、溶融加工可能なポリマーを含むことができる。さらに別の実施形態では、支持構造は、例えば、ワークピース１５を容器１０にロードする際にワークピース１５によって力が加えられたときにへこみに抵抗するのに適した剛性を有するポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）を含むことができる。ＰＥＥＫ材料は、例えば、炭素が充填されたＰＥＥＫであり得ることを理解されたい。

【0018】

図示の実施形態では、４つの支持構造２０が示されている。支持構造２０は、例えば、ワークピース１５の角１５Ａと一致するように配置される。支持構造２０の数は、ワークピース１５の形状に応じて変化し得ることを理解されたい。

【0019】

支持構造２０は、ワークピース１５の重要な表面が接触しないように、ワークピース１５を受け入れることができるように構成される。先に定義したように、重要な表面は、ワークピース１５の上面３５又は底面４０であり得る。ワークピース１５は、上部面取り４５及び下部面取り５０を含む。上部面取り４５及び下部面取り５０は、４５°の面取りである。換言すれば、面取りは、上面３５又は底面４０に対して４５°の角度で形成される。この明細書に記載されている原理は、４５°以外の面取りにも適用可能であることを理解されたい。上部面取り４５及び下部面取り５０は、以下で図４に従ってさらに詳細に示され、記載されている。図示の実施形態では、下部面取り５０は、上縁８０及び下縁７５を含む。

【0020】

各支持構造２０は、基部２５の表面２５Ａから延びる支柱５５を含む。支柱５５は、表面２５Ａから距離ｄ１延びる。距離ｄ１は、ワークピース１５が着座状態にあるとき（図１Ｂ）、ワークピース１５の底面４０と表面２５Ａとの間に空間を提供する。ワークピース１５の底面４０と表面２５Ａとの間の空間を維持することにより、例えば、ワークピース１５が清浄な状態に維持されることを確実にすることができる。いくつかの実施形態では、ワークピース１５の底面４０とドア２５の底面との間に、３９．３ｍｍ又は約３９．３ｍｍの業界標準距離を維持することができる。支柱５５は、支柱５５の端部に支持特徴部６０を含む。図４及び図５を参照すると、支持特徴部６０は、複数の第１傾斜壁６５と、複数の第１傾斜壁６５の底部にある複数の第２傾斜壁７０とを含む。第１傾斜壁６５は、第２傾斜壁７０に隣接しているか、又はそれと別個であり得る。支持特徴部６０は、以下で図４及び図５に従って、さらに詳細に示され、記載される。

【0021】

図２は、一実施形態による、図１Ａ及び図１Ｂの容器１０の平面図である。図２では、ワークピース１５は着座状態にある。したがって、ワークピース１５は、ワークピース１５の各角１５Ａにおいて支持特徴部２０と接触して配置される。

【0022】

図３は、一実施形態による、図２の線３－３に沿う、図１Ａ及び図１Ｂの容器１０の断面図である。図４は、一実施形態による、図２の線３－３に沿う、図１Ａ及び図１Ｂの容器１０の支持構造２０の一部の断面図である。図５は、一実施形態による、図１Ａ及び図１Ｂの容器１０の支持構造２０の一部の斜視図である。
具体的に別段に記載されない限り、図３～図５について大まかに考察する。

【0023】

図３及び図５に関連して以下でより詳細に記載するように、ワークピース１５を支持構造２０に（例えば、図１Ａの非着座状態から図１Ｂの着座状態へ）ロードする工程の間、ワークピース１５は、例えば、ワークピース１５の自動ハンドリングに起因する位置ずれによって、複数の第１傾斜壁６５と接触する可能性がある。そのような接触は、下部面取り５０の上縁８０に沿って起こり得る。結果として、粒子の発生は、もしあれば、ワークピース１５の面４０から離れて生じる。これは、容器１０内の清浄な環境を維持する能力の向上をもたらすことができる。ワークピース１５が適所に（例えば、着座状態に）移動されると、支持構造２０との接触は、下部面取り５０の下縁に沿った接触点に限定される。

【0024】

着座状態にあるとき、ワークピース１５は、複数の第１傾斜壁６５から離れている。このように離間させることが可能になるのは、複数の第１傾斜壁６５は垂直軸ｙに対して角度Θで配向されているためである。垂直軸ｙは、ドア２５（図１Ａ、１Ｂ）の表面２５Ａ（図１Ａ、１Ｂ）に対して垂直である。

【0025】

一実施形態では、角度Θは、約４５°未満になるように選択される。
一実施形態では、角度Θは、約４２°未満になるように選択される。
一実施形態では、角度Θは、３９°又は約３９°になるように選択される。

【0026】

角度Θは以下のように選択することができる。すなわち、ワークピース１５が支持構造２０に取り付けられようとするときに、ワークピース１５の位置ずれが発生し、ワークピース１５と複数の第１傾斜壁６５との間に接触が生じた場合に、接触は、下部面取り５０の下縁７５から離れた、下部面取り５０の上縁８０の方で生じるように選択することができる。有利には、複数の第１傾斜壁６５のへこみ又は変形がワークピース１５との接触から生じる場合、粒子は、ワークピース１５の底面４０から離れた所で発生する。したがって、複数の第１傾斜壁６５の配置は、ワークピース１５を清浄な状態に維持するのに役立つことができる。さらに、複数の第１傾斜壁６５の急な角度は、ワークピース１５の下部面取り５０に接触する可能性を低減するのに役立つことができる。

【0027】

一実施形態では、複数の第１傾斜壁６５は、曲率を含むことができる。すなわち、一実施形態では、複数の第１傾斜壁６５は、ワークピース１５の位置ずれが発生した場合に、第１傾斜壁６５とワークピース１５との間の接触が下部面取り５０の上縁８０に沿っている限り、凹面などの平坦でない面形状を含むことができる。

【0028】

ワークピース１５は、着座状態にあるとき、下部面取り５０の下縁７５で複数の第２傾斜壁７０に接触する。下部面取り５０の上縁８０は、支持特徴部６０から離間している。一実施形態では、ワークピース１５が着座状態にあるとき、下部面取り５０は、支持特徴部６０との唯一の接触点として機能する。したがって、ワークピース１５は、着座状態にあるとき、複数の第１傾斜壁６５と接触しない。

【0029】

この構成は、粒子の発生を低減することを可能にし、それにより、ワークピース上での粒子形成を低減する。これは、従来の支持構造が使用されている場合、ワークピースは支持構造の底壁によって支持されず、代わりに、図３及び図４の複数の第１傾斜壁６５に対応する上部傾斜壁によって支持されるためである。接触面が上部傾斜壁に形成される従来の支持構造と比較して、図３及び図４に示される実施形態は、複数の第２傾斜壁７０に形成される接触面をへこませたり又は変形させたりするためにより大きな力を必要とする。その結果、これは粒子の発生を低減させ、それによりワークピース上の粒子形成を低減する。

【0030】

複数の第２傾斜壁７０は、水平軸ｘに対して角度ａで角度が付けられている。水平軸ｘは、ドア２５の表面２５Ａに平行である。
一実施形態では、角度ａは、０°より大きくなるように選択される。

【0031】

一実施形態では、角度ａは、０°より大きく、約１５°未満になるように選択される。
一実施形態では、角度ａは、０°より大きく、約１０°未満になるように選択される。
一実施形態では、角度ａは、６°又は約６°より大きく、１５°又は約１５°未満になるように選択される。

【0032】

一実施形態では、角度ａは、８°又は約８°になるように選択される。
角度ａは、ワークピース１５の底面４０が複数の第２傾斜壁７０に物理的に接触するのを防ぐように選択することができる。したがって、複数の第２傾斜壁７０の傾斜はゼロに等しくない。すなわち、複数の第２傾斜壁７０は、ゼロでない傾斜を有する。

【0033】

一実施形態では、複数の第２傾斜壁７０は、曲率を含むことができる。すなわち、一実施形態では、複数の第２傾斜壁７０は、ワークピース１５が着座状態にあるときに、ワークピース１５の底面４０と複数の第２傾斜壁７０との間に物理的接触が生じない限り、凹面などの平坦でない面形状を含むことができる。

【0034】

一実施形態では、支持構造２０とワークピース１５の接触点が複数の第２傾斜壁７０上にあることにより、ワークピース１５を安全な位置に維持して、ワークピース１５が例えばドア２５の表面２５Ａに平行な方向に移動するのを抑制することができる。

【0035】

アンシス（ＡＮＳＹＳ）（登録商標）から市販されているソフトウェアを利用する有限要素解析を使用して、複数の第２傾斜壁７０のへこみ又は変形が生じる臨界力を特定するためのシミュレーションを行った。シミュレーションには、アンシス（ＡＮＳＹＳ）（登録商標）メカニカルバージョン１９．１を利用した。入力パラメータとして、シミュレーションでは、複数の第２傾斜壁７０の形状、複数の第２傾斜壁７０を形成する材料の材料特性、ワークピース１５の寸法、及び、ワークピース１５の硬度特性を利用した。ワークピース１５に加えられる力をシミュレートした。シミュレーションでは、変形をもたらす臨界力は１．６３キログラム（３．６０ポンド）又は約１．６３キログラム（３．６０ポンド）であると推定された。逆に、同じシミュレーション、及び、接触が複数の第１傾斜壁に沿って存在する現行の支持構造の形状を利用すると、結果として生じる臨界力は０．９８キログラム（２．１７ポンド）だった。つまり、本明細書に従ってシミュレートされた設計では、臨界力が６５％増加した。

【0036】

角度Θ又は角度ａは、上述のように制御できることを理解されたい。すなわち、一実施形態では、角度ａが０°より大きい場合、角度Θは４５°近くに維持することができる。一実施形態では、角度Θを４５°未満に減少させることにより、ワークピース１５上での粒子形成を防止する際の支持構造２０の有効性を高めることができる。

【0037】

支持特徴部６０は角として配置されるので、特徴部は、支持特徴部６０の対称線である線８５に沿って対称であり得る。一実施形態では、支持特徴部６０は対称ではない。

【0038】

図６を参照すると、代替の実施形態では、支持構造１２０は、８つの支持柱１５５を含み、支持柱１５５のそれぞれは、第１傾斜壁１６５及び第２傾斜壁１７０を有する。支持構造の支持柱の数は変化する可能性があり、各支持柱は、１つ又は複数の第１傾斜壁及び１つ又は複数の第２傾斜壁を含むことができることを理解されたい。支持柱が２つ以上の第１傾斜壁を含む場合、第１傾斜壁は、必要に応じて隣接又は分離できることも理解されたい。

【0039】

図７を参照すると、一実施形態では、支持構造は、第１支持柱２５５と、第１支持柱２５５の反対側に位置する第２支持柱２５７とを含む。第１支持柱２５５は、第１傾斜壁２６５及び第２傾斜壁２７０を含む。第２支持柱２５７は、第１傾斜壁２６７及び第２傾斜壁２７２を含む。ワークピース２１５を支持構造にロードする工程の間に、ワークピース２１５が中心に置かれると、水平軸に対してより大きな角度を有する第１支持柱２５５の第１傾斜壁２６５からワークピースに加えられる横方向の力ｆ１は、水平軸に対してより小さい角度を有する第２支持柱２７２の第２傾斜壁２７２からのより小さな横方向反力ｆ２によって対抗される。これにより、ワークピース２１５と傾斜面２６５、２７０との間の摩擦を低減することができ、それにより、ワークピース２１５をより容易に中心に置くことができる。

【0040】

態様：
態様１～８のいずれか１つは、態様９～１４、１５～２４、又は２５のいずれか１つと組み合わせることができることを理解されたい。態様９～１４のいずれか１つは、態様１５～２４又は２５のいずれか１つと組み合わせることができる。態様１５～２４のいずれか１つは態様２５と組み合わせることができる。

【0041】

態様１．ワークピースを支持するための容器であって、ワークピースはワークピースの上縁及び下縁の周りに面取りを含み、容器はドア及びドアと結合して容器内に隔絶された環境を画定することができるシェルを含み、容器は、ドアに取り付けられたワークピース支持体を含み、ワークピース支持体は支持柱を含み、支持柱は、ワークピースの角でワークピースを支持するように構成され、支持柱は第１傾斜壁と、第１傾斜壁の底部の第２傾斜壁とを含み、第２傾斜側壁は、角でワークピースの隣接する側面を支持するように構成され、第１傾斜壁及び第２傾斜壁は、異なるゼロでない傾斜で配向される、容器。

【0042】

態様２．第１傾斜壁が、垂直軸に対して、４５°又は約４５°以下の角度で配向されている、態様１に記載の容器。
態様３．第２傾斜壁が、水平軸に対して、０°又は約０°より大きく、１５°又は約１５°以下の角度で配向されている、態様１又は２のいずれか１つに記載の容器。

【0043】

態様４．着座状態において、第２傾斜壁が、ワークピースの下縁の周りの面取りの下縁でワークピースと係合するように構成される、態様１～３のいずれか１つに記載の容器。
態様５．ワークピースがレチクルである、態様１～４のいずれか１つに記載の容器。

【0044】

態様６．支持柱が熱可塑性材料を含む、態様１～５のいずれか１つに記載の容器。
態様７．ワークピース支持体が４つの支持柱を含む、態様１～６のいずれか１つに記載の容器。
態様８．第１傾斜壁及び第２傾斜壁のうちの１つ又は複数が湾曲した平坦でない面を含む、態様１～７のいずれか１つに記載の容器。

【0045】

態様９．ワークピースを支持するための容器であって、ワークピースはワークピースの上縁及び下縁の周りに面取りを含み、容器はドア及びシェルを含み、シェルは隔絶された環境を画定するためにドアと結合することができ、容器は、ドアに取り付けられたワークピース支持体を含み、ワークピース支持体は支持柱を含み、支持柱はワークピースを支持するように構成され、支持柱は互いに角度を付けられた第１傾斜壁と、第１傾斜壁の底部の互いに角度を付けられた第２傾斜壁とを含み、第２傾斜壁は、ワークピースの隣接する側面を支持するように構成され、第１傾斜壁及び第２傾斜壁は、異なるゼロでない傾斜で配向される、容器。

【0046】

態様１０．ワークピースがレチクルである、態様９に記載の容器。
態様１１．シェルがドアに結合されているときに、レチクルはワークピース支持体とシェルとの間に挟まれている、態様９又は１０のいずれか１つに記載の容器。

【0047】

態様１２．第１傾斜壁が、垂直軸に対して、４５°又は約４５°以下の角度で配向されている、態様９～１１のいずれか１つに記載の容器。
態様１３．第２傾斜壁が、水平軸に対して、０°又は約０°より大きく、１５°又は約１５°以下の角度で配向されている、態様９～１２のいずれか１つに記載の容器。

【0048】

態様１４．第１傾斜壁及び第２傾斜壁のうちの１つ又は複数が湾曲した平坦でない面を含む、態様９～１３のいずれか１つに記載の容器。
態様１５．ワークピースを支持するための容器であって、ワークピースはワークピースの上縁及び下縁の周りに面取りを含み、容器はドア及び容器内に隔絶された環境を画定するためにドアと結合することができるシェルを含み、容器は、ドアに取り付けられたワークピース支持体を含み、ワークピース支持体は支持柱を含み、支持柱はワークピースを支持するように構成され、支持柱は、一対の第１傾斜壁と、一対の第１傾斜壁の底部の一対の第２傾斜壁とからなり、一対の第２傾斜壁は、ワークピースの隣接する側面を支持する唯一の接触点であるように構成され、一対の第１傾斜壁及び一対の第２傾斜壁は、異なるゼロでない傾斜で配置される、容器。

【0049】

態様１６．一対の第１傾斜壁が、垂直軸に対して、４５°又は約４５°以下の角度で配向されている、態様１５の容器。
態様１７．一対の第２傾斜壁が、水平軸に対して、０°又は約０°より大きく、１５°又は約１５°以下の角度で配向されている、態様１５又は１６のいずれか１つに記載の容器。

【0050】

態様１８．着座状態において、一対の第２傾斜壁が、ワークピースの下縁の周りの面取りの下縁でワークピースと係合するように構成される、態様１５～１７のいずれか１つに記載の容器。
態様１９．ワークピースがレチクルである、態様１５～１８のいずれか１つに記載の容器。

【0051】

態様２０．支持柱が熱可塑性材料を含む、態様１５～１９のいずれか１つに記載の容器。
態様２１．ワークピース支持体が４つの支持柱を含む、態様１５～２０のいずれか１つに記載の容器。

【0052】

態様２２．着座していない状態で、ワークピースとの偶発的な接触がワークピースの下縁の周りの面取りの上縁で生じるように、一対の第１傾斜壁が配向される、態様１５～２１のいずれか１つに記載の容器。

【0053】

態様２３．一対の第１傾斜壁及び一対の第２傾斜壁のうちの１つ又は複数が、湾曲した平坦でない面を含む、態様１５～２２のいずれか１つに記載の容器。
態様２４．一対の第１傾斜壁が、一対の第２傾斜壁に隣接しているか、又は一対の第２傾斜壁から離れている、態様１５～２３のいずれか１つに記載の容器。
態様２５．容器アセンブリであって、ワークピースを備え、ワークピースはワークピースの上縁及び下縁の周りに面取りを含み、容器はドア及び容器内に隔絶された環境を画定するためにドアと結合することができるシェルを含み、容器は、ドアに取り付けられたワークピース支持体を含み、ワークピース支持体は支持柱を含み、支持柱はワークピースを支持するように構成され、支持柱は第１傾斜壁と、第１傾斜壁の底部の第２傾斜壁とを含み、第２傾斜壁は、ワークピースの隣接する側面を支持する唯一の接触点であるように構成され、第１傾斜壁及び第２傾斜壁は、異なるゼロでない傾斜で配置される、容器アセンブリ。

【0054】

本明細書で使用される用語は、特定の実施形態を記載することを意図しており、限定することを意図するものではない。「１つの（ａ）」、「１つの（ａｎ）」、及び「その（ｔｈｅ）」という用語は、特に明記されていない限り、複数形も含む。「含む（comprises）」及び／又は「含んでいる（comprising）」という用語は、本明細書で使用される場合、記載された特徴、整数、ステップ、操作、要素、及び／又は構成要素の存在を特定するが、１つ又は複数の他の特徴、整数、ステップ、操作、要素、及び／又は構成要素の存在又は追加を排除するものではない。
前述の記載に関して、本開示の範囲から逸脱することなく、特に使用される構築材料並びに部品の形状、サイズ、及び配置に関して、詳細に変更を加えることができることを理解されたい。本明細書及び記載された実施形態は例示に過ぎず、本開示の真の範囲及び趣旨は、以下の特許請求の範囲によって示されている。

【図1A】

【図1B】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】