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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-10-03
(45)【発行日】2022-10-12
(54)【発明の名称】樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルム
(51)【国際特許分類】
C08L 1/00 20060101AFI20221004BHJP
C08L 35/04 20060101ALI20221004BHJP
C08F 222/30 20060101ALI20221004BHJP
G02B 5/30 20060101ALI20221004BHJP
【ＦＩ】
C08L1/00
C08L35/04
C08F222/30
G02B5/30
【請求項の数】
4
(21)【出願番号】P 2017223986
(22)【出願日】2017-11-21
(65)【公開番号】P2019019303
(43)【公開日】2019-02-07
【審査請求日】2020-10-16
(31)【優先権主張番号】P 2017137231
(32)【優先日】2017-07-13
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000003300
【氏名又は名称】東ソー株式会社
(72)【発明者】
【氏名】伊藤 早希
(72)【発明者】
【氏名】藤井 靖芳
【審査官】中村 英司
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１６－０７９３７７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００８－０６４８１７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０８Ｌ １０１／００
Ｃ０８Ｌ １／００
Ｃ０８Ｌ ３５／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記一般式（１）で示される残基単位及びスチレン残基単位、ビニルナフタレン残基単位、１－ビニルインドール残基単位、９－ビニルカルバゾール残基単位、Ｎ－ビニルスクシンイミド残基単位、Ｎ－ビニルフタルイミド残基単位、２－ビニルフラン残基単位、２－ビニルベンゾフラン残基単位、ケイ皮酸残基単位、ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸イソプロピル残基単位（また、これらの残基単位は環状基上の水素が任意の置換基で置換されていてもよい。）からなる群より選択される１種以上の残基単位
のみからなる樹脂６～２５重量％およびセルロース系樹脂７５～９４重量％含有することを特徴とする樹脂組成物。
【化1】
（ここで、Ｒ１、Ｒ２のいずれか一方がシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基からなる群より選択され、他方がシアノ基であり、Ｒ ３ ～Ｒ ７ はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基、炭素数３～１４の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、アルコキシ基（－ＯＸ ７ ）、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ ８ ）、スルホニル基（－ＳＯＯＸ ９ ）、アミド基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ １０ ）（Ｘ １１ ）または－ＮＸ １２ Ｃ（＝Ｏ）Ｘ １３ ）、アシル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｘ １４ ）、アミノ基（－Ｎ（Ｘ １５ ）（Ｘ １６ ））、またはアシルオキシ基（－ＯＣ（＝Ｏ）Ｘ １７ ）（ここで、Ｘ ７ ～Ｘ ９ は、それぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状基を示し、Ｘ １０ ～Ｘ １７ はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ ３ ～Ｒ ７ は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。かつ、Ｒ３～Ｒ７のうち少なくとも１以上が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、エステル基、アミド基、アシル基、アミノ基、スルホニル基、アシルオキシ基からなる群より選択される１種以上の水素結合性置換基である。）
【請求項2】
一般式（１）で示される残基単位が２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、３－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２－カルボキシ－４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、４－カルボキシ－２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２－カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、３－カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、４－カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３－ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、３，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２－カルボキシ－３－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、２－カルボキシ－４－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、４－カルボキシ－２－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位からなる群より選択される１種以上であることを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項3】
請求項１～請求項２のいずれかに記載の樹脂組成物を用いてなることを特徴とする光学フィルム。
【請求項4】
請求項１～請求項２のいずれかに記載の樹脂組成物を用いてなり、下記式（ａ）で示される面内位相差（Ｒｅ）が５０～５００ｎｍで、下記式（ｂ）で示されるＮｚ係数が０≦Ｎｚ≦１．０であり、かつ、光の波長４５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）と光の波長５５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．１０であることを特徴とする光学補償フィルム。Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ （ａ）
Ｎｚ＝（ｎｘ－ｎｚ）／（ｎｘ－ｎｙ） （ｂ）
（式中、ｎｘはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムに関するものであり、より詳しくは、位相差特性に優れた液晶ディスプレイ用の光学補償フィルムに関するものである。
【背景技術】
【0002】
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピューター用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。特に光学補償フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。
【0003】
液晶ディスプレイには、垂直配向型（ＶＡ－ＬＣＤ）、面内配向型液晶（ＩＰＳ－ＬＣＤ）、スーパーツイストネマチック型液晶（ＳＴＮ－ＬＣＤ）、反射型液晶ディスプレイ、半透過型液晶ディスプレイなどの多くの方式が有り、ディスプレイにあわせた光学補償フィルムが必要となっている。
【0004】
従来の光学補償フィルムとしては、セルロース系樹脂、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンなどの延伸フィルムが用いられている。特にトリアセチルセルロースフィルムなどのセルロース系樹脂からなるフィルムは、偏光子であるポリビニルアルコールとの接着性も良好なことから幅広く使用されている。
【0005】
しかしながら、セルロース系樹脂からなる光学補償フィルムはいくつかの課題がある。例えば、セルロース系樹脂フィルムは延伸条件を調整することで各種ディスプレイにあわせた位相差値を持つ光学補償フィルムに加工されるが、セルロース系樹脂フィルムの一軸または二軸延伸により得られるフィルムの３次元屈折率は、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚであり、それ以外の３次元屈折率、例えば、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙや、ｎｘ＝ｎｚ＞ｎｙなどの３次元屈折率を有する光学補償フィルムを製造するためには、フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムの厚み方向に収縮力をかけるなど特殊な延伸方法が必要であり、屈折率（位相差値）の制御も困難である（例えば、特許文献１～３参照）。
【0006】
ここで、ｎｘはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示す。
【0007】
また、セルロース系樹脂フィルムは一般に溶剤キャスト法により製造されるが、キャスト法により成膜したセルロース系樹脂フィルムはフィルム厚み方向に４０ｎｍ程度の面外位相差（Ｒｔｈ）を有するため、ＩＰＳモードの液晶ディスプレイなどではカラーシフトが起こるなどの問題がある。ここで、面外位相差（Ｒｔｈ）は以下の式で示される位相差値である。
【0008】
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
また、フマル酸エステル系樹脂からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献４参照）。
（式中、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
また、フマル酸エステル系樹脂からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献４参照）。
【0009】
しかしながら、フマル酸エステル系樹脂からなる延伸フィルムの３次元屈折率は、ｎｚ＞ｎｙ＞ｎｘであり、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙや、ｎｘ＝ｎｚ＞ｎｙなどの３次元屈折率を示す光学補償フィルムを得るためには他の光学補償フィルム等との積層などが必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0010】
【文献】特許２８１８９８３号公報
【文献】特開平５－２９７２２３号公報
【文献】特開平５－３２３１２０号公報
【文献】特開２００８－６４８１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0011】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、光学補償フィルムに適する樹脂組成物およびそれを用いた位相差特性に優れた光学補償フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0012】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムが、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、下記一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂および正の固有複屈折を有する樹脂を含有することを特徴とする樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムに関するものである。
【0013】
【化1】
【0014】
（ここで、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して水素（ただし、Ｒ１、Ｒ２が共に水素である場合を除く。）、シアノ基、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１)、アミド基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ２）（Ｘ３）または－ＮＸ４Ｃ（＝Ｏ）Ｘ５）、またはアシル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｘ６)（ここで、Ｘ１～Ｘ６はそれぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状基を示す。）を示す。Ｒ３～Ｒ７はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、炭素数３～１４の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、アルコキシ基（－ＯＸ７）、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ８）、スルホニル基（－ＳＯＯＸ９）、アミド基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ１０）（Ｘ１１）または－ＮＸ１２Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１３）、アシル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１４）、アミノ基（－Ｎ（Ｘ１５）（Ｘ１６））、またはアシルオキシ基（－ＯＣ（＝Ｏ）Ｘ１７）（ここで、Ｘ７～Ｘ９は、それぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状基を示し、Ｘ１０～Ｘ１７はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ３～Ｒ７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
本発明の樹脂組成物は、一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂および正の固有複屈折を有する樹脂を含有することを特徴とする樹脂組成物である。そして、本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、特定の位相差特性を示すことから、液晶ディスプレイ用光学補償フィルムや反射防止用フィルムとして有用である。
本発明の樹脂組成物は、一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂および正の固有複屈折を有する樹脂を含有することを特徴とする樹脂組成物である。そして、本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、特定の位相差特性を示すことから、液晶ディスプレイ用光学補償フィルムや反射防止用フィルムとして有用である。
【0015】
以下、本発明について詳細に説明する。
【0016】
本発明の樹脂組成物は、一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂および正の固有複屈折を有する樹脂を含む。
【0017】
本発明の一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２はそれぞれ独立して水素（ただし、Ｒ１、Ｒ２が共に水素である場合を除く。）、シアノ基、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１)、アミド基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ２）（Ｘ３）または－ＮＸ４Ｃ（＝Ｏ）Ｘ５）、またはアシル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｘ６)（ここで、Ｘ１～Ｘ６はそれぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状基を示す。）を示す。
【0018】
Ｘ１～Ｘ６における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３～１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【0019】
本発明の一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２としては、位相差特性および透明性により優れることから、いずれか一方がシアノ基；メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ－プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、ｎ－ブチルエステル基、ｓｅｃ－ブチルエステル基、イソブチルエステル基、ｔｅｒｔ－ブチルエステル基等のエステル基；ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジｎ－プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基等のアミド基；アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基からなる群より選択され、他方が水素またはシアノ基であることが好ましく、いずれか一方がシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基からなる群より選択され、他方がシアノ基であることがさらに好ましく、いずれか一方がシアノ基またはエステル基であり、他方がシアノ基であることが特に好ましい。
【0020】
本発明の一般式（１）におけるＲ３～Ｒ７はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、炭素数３～１４の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、アルコキシ基（－ＯＸ７）、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ８）、スルホニル基（－ＳＯＯＸ９）、アミド基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ１０）（Ｘ１１）または－ＮＸ１２Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１３）、アシル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１４）、アミノ基（－Ｎ（Ｘ１５）（Ｘ１６））、またはアシルオキシ基（－ＯＣ（＝Ｏ）Ｘ１７）（ここで、Ｘ７～Ｘ９は、それぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状基を示し、Ｘ１０～Ｘ１７はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ３～Ｒ７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。
【0021】
Ｒ３～Ｒ７における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられ、炭素数３～１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【0022】
Ｒ３～Ｒ７におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられる。
【0023】
Ｘ７～Ｘ１７における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられ、炭素数３～１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【0024】
本発明の一般式（１）におけるＲ３～Ｒ７としては、位相差特性および透明性により優れることから、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ―プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ－プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、アミド基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジｎ－プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基が好ましく、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ－プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ－プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、アミド基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジｎ－プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基が好ましく、ヒドロキシ基、カルボキシ基がさらに好ましい。
【0025】
そして、本発明において、Ｒ１、Ｒ２のいずれか一方がシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基からなる群より選択され、他方がシアノ基であり、かつ、Ｒ３～Ｒ７のうち少なくとも１以上が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、エステル基、アミド基、アシル基、アミノ基、スルホニル基、アシルオキシ基からなる群より選択される１種以上の水素結合性置換基であることが特に好ましい。
【0026】
具体的な一般式（１）で表される残基単位としては、例えば、α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－スルファニル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－スルファニル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－スルファニル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－スルホン酸－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－スルホン酸－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－スルホン酸－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－メトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－メトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－メトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－エトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－エトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－エトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－ホルミル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－ホルミル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－ホルミル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－アセチル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－アセチル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－アセチル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－アミノ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－アミノ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－アミノ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－メチルスルホニル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－メチルスルホニル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－メチルスルホニル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－カルボキシ－４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－カルボキシ－２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－スルファニル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－スルファニル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－スルファニル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－スルホン酸－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－スルホン酸－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－スルホン酸－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－メトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－メトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－メトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－エトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－エトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－エトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－ホルミル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－ホルミル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－ホルミル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－アセチル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－アセチル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－アセチル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－アミノ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－アミノ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－アミノ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－メチルスルホニル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－メチルスルホニル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－メチルスルホニル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－カルボキシ－４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－カルボキシ－２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－スルファニル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－スルファニル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－スルファニル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－スルホン酸－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－スルホン酸－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－スルホン酸－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－メトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－メトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－メトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－エトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－エトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－エトキシカルボニル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－ホルミル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－ホルミル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－ホルミル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－アセチル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－アセチル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－アセチル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－アミノ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－アミノ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－アミノ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－メチルスルホニル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－メチルスルホニル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－メチルスルホニル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－カルボキシ－４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－カルボキシ－２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、２－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、３－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、２－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－カルボキシ－４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－カルボキシ－２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、ベンザルマロノニトリル残基単位、２－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２－カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、３－カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、４－カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３－ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、３，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリ
ル残基単位、２－カルボキシ－３－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、２－スルファニル－ベンザルマロノニトリル残基単位、３－スルファニルベンザルマロノニトリル残基単位、４－スルファニルベンザルマロノニトリル残基単位、２－スルホン酸ベンザルマロノニトリル残基単位、３－スルホン酸ベンザルマロノニトリル残基単位、４－スルホン酸ベンザルマロノニトリル残基単位、２－メトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、３－メトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、４－メトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、２－エトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、３－エトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、４－エトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、２－ホルミルベンザルマロノニトリル残基単位、３－ホルミルベンザルマロノニトリル残基単位、４－ホルミルベンザルマロノニトリル残基単位、２－アセチルベンザルマロノニトリル残基単位、３－アセチルベンザルマロノニトリル残基単位、４－アセチルベンザルマロノニトリル残基単位、２－アミノベンザルマロノニトリル残基単位、３－アミノベンザルマロノニトリル残基単位、４－アミノベンザルマロノニトリル残基単位、２－メチルスルホニルベンザルマロノニトリル残基単位、３－メチルスルホニルベンザルマロノニトリル残基単位、４－メチルスルホニルベンザルマロノニトリル残基単位、シンナモニトリル残基単位、２－ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、３－ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、４－ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、２，３－ジヒドロキシシンナモニトリル残基単位、３，４－ジヒドロキシシンナモニトリル残基単位、２－カルボキシシンナモニトリル残基単位、３－カルボキシシンナモニトリル残基単位、４－カルボキシシンナモニトリル残基単位、２，３－ジカルボキシシンナモニトリル残基単位、３，４－ジカルボキシシンナモニトリル残基単位、２－カルボキシシンナモニトリル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－シンナモニトリル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－シンナモニトリル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－シンナモニトリル残基単位、２－カルボキシ－４－ヒドロキシ－シンナモニトリル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－シンナモニトリル残基単位、カルコン残基単位、２－ヒドロキシカルコン残基単位、４－ヒドロキシカルコン残基単位、４－ヒドロキシカルコン残基単位、２，３－ジヒドロキシカルコン残基単位、３，４－ジヒドロキシカルコン残基単位、２－カルボキシカルコン残基単位、３－カルボキシカルコン残基単位、４－カルボキシカルコン残基単位、２，３－ジカルボキシカルコン残基単位、３，４－ジカルボキシカルコン残基単位、２－カルボキシカルコン残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－カルコン残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－カルコン残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－カルコン残基単位、２－カルボキシ－４－ヒドロキシ－カルコン残基単位、４－カルボキシ－２－ヒドロキシ－カルコン残基単位からなる群より選択される１種以上が挙げられる。
ル残基単位、２－カルボキシ－３－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、２－スルファニル－ベンザルマロノニトリル残基単位、３－スルファニルベンザルマロノニトリル残基単位、４－スルファニルベンザルマロノニトリル残基単位、２－スルホン酸ベンザルマロノニトリル残基単位、３－スルホン酸ベンザルマロノニトリル残基単位、４－スルホン酸ベンザルマロノニトリル残基単位、２－メトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、３－メトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、４－メトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、２－エトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、３－エトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、４－エトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、２－ホルミルベンザルマロノニトリル残基単位、３－ホルミルベンザルマロノニトリル残基単位、４－ホルミルベンザルマロノニトリル残基単位、２－アセチルベンザルマロノニトリル残基単位、３－アセチルベンザルマロノニトリル残基単位、４－アセチルベンザルマロノニトリル残基単位、２－アミノベンザルマロノニトリル残基単位、３－アミノベンザルマロノニトリル残基単位、４－アミノベンザルマロノニトリル残基単位、２－メチルスルホニルベンザルマロノニトリル残基単位、３－メチルスルホニルベンザルマロノニトリル残基単位、４－メチルスルホニルベンザルマロノニトリル残基単位、シンナモニトリル残基単位、２－ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、３－ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、４－ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、２，３－ジヒドロキシシンナモニトリル残基単位、３，４－ジヒドロキシシンナモニトリル残基単位、２－カルボキシシンナモニトリル残基単位、３－カルボキシシンナモニトリル残基単位、４－カルボキシシンナモニトリル残基単位、２，３－ジカルボキシシンナモニトリル残基単位、３，４－ジカルボキシシンナモニトリル残基単位、２－カルボキシシンナモニトリル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－シンナモニトリル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－シンナモニトリル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－シンナモニトリル残基単位、２－カルボキシ－４－ヒドロキシ－シンナモニトリル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－シンナモニトリル残基単位、カルコン残基単位、２－ヒドロキシカルコン残基単位、４－ヒドロキシカルコン残基単位、４－ヒドロキシカルコン残基単位、２，３－ジヒドロキシカルコン残基単位、３，４－ジヒドロキシカルコン残基単位、２－カルボキシカルコン残基単位、３－カルボキシカルコン残基単位、４－カルボキシカルコン残基単位、２，３－ジカルボキシカルコン残基単位、３，４－ジカルボキシカルコン残基単位、２－カルボキシカルコン残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－カルコン残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－カルコン残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－カルコン残基単位、２－カルボキシ－４－ヒドロキシ－カルコン残基単位、４－カルボキシ－２－ヒドロキシ－カルコン残基単位からなる群より選択される１種以上が挙げられる。
【0027】
一般式（１）で表される残基単位としては、位相差特性および透明性により優れることから、２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、３－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル残基単位、２－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２－カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、３－カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、４－カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３－ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、３，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２－カルボキシ－３－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、３－カルボキシ－２－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、３－カルボキシ－４－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位、４－カルボキシ－３－ヒドロキシ－ベンザルマロノニトリル残基単位からなる群より選択される１種以上が好ましい。
【0028】
本発明の一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂は、さらに下記一般式（２）で示される残基単位または下記一般式（３）で示される残基単位を有することが好ましい。
【0029】
【化2】
【0030】
（ここで、Ｒ８は水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基または炭素数３～１４の環状基を示し、Ｒ９は水素、カルボキシ基またはエステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１８）を示し、Ｒ１０～Ｒ１４はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、炭素数３～１４の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、アルコキシ基（－ＯＸ１９）、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ２０）、スルホニル基（－ＳＯＯＸ２１）、アミド基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ２２）（Ｘ２３）または－ＮＸ２４Ｃ（＝Ｏ）Ｘ２５）、アシル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｘ２６）、アミノ基（－Ｎ（Ｘ２７）（Ｘ２８））、またはアシルオキシ基（－ＯＣ（＝Ｏ）Ｘ２９）（ここで、Ｘ１８～Ｘ２１は、それぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状基を示し、Ｘ２２～Ｘ２９はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ１０～Ｒ１４は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
【0031】
【化3】
【0032】
（ここで、Ｒ１５はヘテロ原子を１つ以上含むｍ員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない５員環残基を示し、ｍは５～１０の整数を示す。前記ｍ員環複素環残基および前記５員環残基は縮合環構造を形成してもよい。）
Ｒ８及びＲ１０～Ｒ１４における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられ、炭素数３～１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
Ｒ８及びＲ１０～Ｒ１４における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられ、炭素数３～１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【0033】
Ｒ１０～Ｒ１４におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられる。
【0034】
Ｘ１８～Ｘ２９における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられ、炭素数３～１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【0035】
Ｒ１５におけるヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等が挙げられる。
【0036】
一般式（２）で示される残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α－メチルスチレン残基単位、ｐ－ヒドロキシスチレン残基単位、ｐ－カルボキシスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；２－ビニルナフタレン残基等のビニルナフタレン類残基単位；ケイ皮酸残基単位；ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸イソプロピル残基単位などのケイ皮酸エステル残基単位等およびその置換基付加物等が挙げられる。
【0037】
一般式（３）で示される残基単位としては、例えば、１－ビニルピロール残基単位等のビニルピロール類残基単位；１－ビニルインドール残基単位；９－ビニルカルバゾール残基単位；２－ビニルキノリン残基単位等のビニルキノリン類残基単位；１－ビニルイソキノリン残基単位；２－ビニルピリジン残基単位等のビニルピリジン類残基単位；１－ビニルイミダゾール残基単位等のビニルイミダゾール類残基単位；５－ビニル－２－ピラゾリン残基単位；２－ビニルピラジン残基単位；ビニル－ｓ－トリアジン残基単位；１０－ビニル－９－ヒドロアクリジン残基単位；１－ビニルテトラゾール残基単位等のビニルテトラゾール類残基単位；Ｎ－ビニルピロリドン残基単位；Ｎ－ビニル－ε－カプロラクタム残基単位；Ｎ－ビニルスクシンイミド残基単位；Ｎ－ビニルフタルイミド残基単位；Ｎ－ビニルサッカリン残基単位；２－ビニルフラン残基単位等のビニルフラン類残基単位；２-ビニルベンゾフラン残基単位；２－ビニルチオフェン残基単位等のビニルチオフェン類残基単位；２－ビニルベンゾオキサゾール残基単位；Ｎ－ビニルオキサゾリドン残基単位；２－ビニルチアゾール残基単位；２－ビニルベンゾチアゾール残基単位等およびその置換基付加物等が挙げられる。
【0038】
一般式（２）で示される残基単位及び一般式（３）で示される残基単位の中でも、位相差特性および透明性により優れることから、スチレン残基単位、α－メチルスチレン、ｐ－ヒドロキシスチレン残基単位、ｐ－カルボキシスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；２－ビニルナフタレン残基等のビニルナフタレン類残基単位；１－ビニルインドール残基単位；９－ビニルカルバゾール残基単位；Ｎ－ビニルスクシンイミド残基単位；Ｎ－ビニルフタルイミド残基単位；２－ビニルフラン残基単位等のビニルフラン類残基単位；２-ビニルベンゾフラン残基単位；ケイ皮酸残基単位；ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸イソプロピル残基単位などのケイ皮酸エステル残基単位等およびその置換基付加物等が好ましく、スチレン残基単位、１－ビニルナフタレン残基単位、２－ビニルナフタレン残基単位、１－ビニルインドール残基単位、９－ビニルカルバゾール残基単位、Ｎ－ビニルスクシンイミド残基単位、Ｎ－ビニルフタルイミド残基単位、２－ビニルフラン残基単位、２-ビニルベンゾフラン残基単位（これらの残基単位は環状基上の水素が任意の置換基で置換されていてもよい。）からなる群より選択される１種以上がさらに好ましい。
【0039】
具体的な一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂としては、光学特性に優れるフィルムが得られるため、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルフラン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－スチレン共重合体、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン共重合体、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール共重合体、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール共重合体、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルフラン共重合体、２，３－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、２，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－スチレン共重合体、２，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン共重合体、２，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール共重合体、２，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール共重合体、２，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、２，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、２，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルフラン共重合体、２，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－スチレン共重合体、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン共重合体、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール共重合体、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール共重合体、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルフラン共重合体、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－スチレン共重合体、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン共重合体、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール共重合体、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール共重合体、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルフラン共重合体、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－スチレン共重合体、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン共重合体、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール共重合体、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール共重合体、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルフラン共重合体、２，３－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、２，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－スチレン共重合体、２，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン共重合体、２，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール共重合体、２，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール共重合体、２，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、２，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、２，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルフラン共重合体、２，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－スチレン共重合体、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン共重合体、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール共重合体、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール共重合体、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルフラン共重合体、３，４－ジカルボキシ－α－シアノケイ皮酸エステル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル－スチレン共重合体、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルナフタレン共重合体、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル－１－ビニルインドール共重合体、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル－９－ビニルカルバゾール共重合体、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルフラン共重合体、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、２，３－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－スチレン共重合体、２，３－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルナフタレン共重合体、２，３－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－１－ビニルインドール共重合体、２，３－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－９－ビニルカルバゾール共重合体、２，３－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、２，３－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、２，３－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルフラン共重合体、２，３－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、２，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－スチレン共重合体、２，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルナフタレン共重合体、２，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－１－ビニルインドール共重合体、２，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－９－ビニルカルバゾール共重合体、２，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、２，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、２，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルフラン共重合体、２，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、３，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－スチレン共重合体、３，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルナフタレン共重合体、３，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－１－ビニルインドール共重合体、３，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－９－ビニルカルバゾール共重合体、３，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、３，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、３，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルフラン共重合体、３，４－ジヒドロキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、４－カルボキシベンザルマロノニトリル－スチレン共重合体、４－カルボキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルナフタレン共重合体、４－カルボキシベンザルマロノニトリル－１－ビニルインドール共重合体、４－カルボキシベンザルマロノニトリル－９－ビニルカルバゾール共重合体、４－カルボキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、４－カルボキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、４－カルボキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルフラン共重合体、４－カルボキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、２，３－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－スチレン共重合体、２，３－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルナフタレン共重合体、２，３－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－１－ビニルインドール共重合体、２，３－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－９－ビニルカルバゾール共重合体、２，３－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、２，３－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、２，３－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルフラン共重合体、２，３－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、２，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－スチレン共重合体、２，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルナフタレン共重合体、２，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－１－ビニルインドール共重合体、２，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－９－ビニルカルバゾール共重合体、２，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、２，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、２，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルフラン共重合体、２，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルベンゾフラン共重合体、３，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－スチレン共重合体、３，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルナフタレン共重合体、３，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－１－ビニルインドール共重合体、３，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－９－ビニルカルバゾール共重合体、３，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、３，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、３，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルフラン共重合体、３，４－ジカルボキシベンザルマロノニトリル－２－ビニルベンゾフラン共重合体が好ましい。
【0040】
本発明の一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂は、本発明の範囲を超えない限り、前述した残基単位以外の他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、アクリル酸残基単位；アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸ブチル残基単位などのアクリル酸エステル類残基単位；メタクリル酸残基単位；メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位などのメタクリル酸エステル類残基単位；アクリル酸２－ヒドロキシメチル残基単位等のアクリル酸ヒドロキシエステル残基単位；メタクリル酸２－ヒドロキシメチル残基単位等のメタクリル酸ヒドロキシエステル残基単位；酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位などのビニルエステル類残基単位；アクリロニトリル残基単位；メタクリロニトリル残基単位；メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位などのビニルエーテル残基単位；フマル酸ジエチル残基単位等のフマル酸エステル類残基単位; Ｎ－メチルマレイミド残基単位、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ－フェニルマレイミド残基単位等のＮ－置換マレイミド類残基単位；エチレン残基単位、プロピレン残基単位などのオレフィン類残基単位より選ばれる１種または２種以上を挙げることができる。
【0041】
本発明の一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂は、機械特性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が３，０００～５００，０００であることが好ましく、５，０００～３００，０００であることがさらに好ましく、５，０００～２００，０００であることが特に好ましい。
【0042】
本発明の一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂の組成は、光学補償フィルムとしたときに位相差特性および透明性がより優れたものとなることから、一般式（１）で示される残基単位２０モル％以上が好ましく、一般式（１）で示される残基単位３０モル％以上がさらに好ましく、一般式（１）で示される残基単位３５モル％以上が特に好ましい。
【0043】
一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂の製造方法としては、該樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよい。例えば、一般式（１）で示される残基単位に係る単量体とこれと共重合可能な単量体を併用し、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。
【0044】
ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ－ｔ－ブチルパーオキサイド、ｔ－ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ－ブチルパーオキシアセテート、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン等の有機過酸化物；２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２－ブチロニトリル）、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル－２’－アゾビスイソブチレート、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）等のアゾ系開始剤等が挙げられる。
【0045】
そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法を採用する場合において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン；アセトン；メチルエチルケトン；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド；酢酸イソプロピル；水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。
【0046】
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には３０～１５０℃の範囲で行うことが好ましい。
【0047】
また、一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂は、前駆体を介して得られたものでもよい。
【0048】
本発明において、正の固有複屈折を有する樹脂としては、該樹脂を用いて位相差特性に優れる光学補償フィルムが得られる限り特に制限はなく、例えば、セルロース系樹脂、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリウレタン等が挙げられ、より位相差特性に優れる光学補償フィルムが得られることから、セルロース系樹脂が好ましい。
【0049】
本発明において、正の固有複屈折を有する樹脂としてセルロース系樹脂が用いられる場合、光学補償フィルムとした際に位相差特性および透明性により優れ、かつ面内位相差Ｒｅが大きく、更に延伸加工性に優れるものとなることから、下記一般式（４）で示されるセルロース系樹脂であることが好ましい。
【0050】
【化4】
【0051】
（式中、Ｒ１６～Ｒ１８はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、炭素数３～１４の環状基、またはアシル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｘ３０）（ここで、Ｘ３０は炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、炭素数３～１４の環状基を示す。）を示す。）
ここで、一般式（４）で示されるセルロース系樹脂は、β－グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコース単位の２位、３位および６位の水酸基の一部または全部を置換したポリマーである。
ここで、一般式（４）で示されるセルロース系樹脂は、β－グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコース単位の２位、３位および６位の水酸基の一部または全部を置換したポリマーである。
【0052】
Ｒ１６～Ｒ１８における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３～１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
Ｘ３０における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３～１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
本発明の一般式（４）におけるＲ１６～Ｒ１８としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、イソブチリル基、ｔｅｒｔ－ブチリル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基等を挙げることができる。また、これらの中でも、溶解性、相溶性がより優れたものになることから、メチル基、エチル基、プロピル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基が好ましい。
Ｘ３０における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３～１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
本発明の一般式（４）におけるＲ１６～Ｒ１８としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、イソブチリル基、ｔｅｒｔ－ブチリル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基等を挙げることができる。また、これらの中でも、溶解性、相溶性がより優れたものになることから、メチル基、エチル基、プロピル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基が好ましい。
【0053】
本発明のセルロース系樹脂におけるセルロースの水酸基の酸素原子を介して置換している置換度は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロースの水酸基が置換されている割合（１００％の置換は置換度３）を意味し、溶解性、相溶性、延伸加工性の点から、置換度は、好ましくは１．５～３．０であり、さらに好ましくは１．８～２．８である。
【0054】
具体的な本発明のセルロース系樹脂としては、例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等が挙げられ、位相差特性および透明性により優れた光学補償フィルムが得られることから、エチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましい。
【0055】
本発明のセルロース系樹脂は、機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１，０００～１，０００，０００であることが好ましく、５，０００～２００，０００であることがさらに好ましい。
【0056】
本発明の樹脂組成物は、一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂と正の固有複屈折を有する樹脂とをブレンドすることによって得られるものであり、光学補償フィルムとして用いるとき、該光学補償フィルムが目的の位相差特性を発現することを特徴とするものである。すなわち、一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂が負の複屈折を示し、かつ、一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂と、正の固有複屈折を有する樹脂が優れた相溶性を示すことから、これらをブレンドして得られる本発明に係る樹脂組成物を用いるとき、実用的な透明性を有し、かつ位相差特性に優れる光学補償フィルムを得ることができるものである。
【0057】
本発明の樹脂組成物における一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂と正の固有複屈折を有する樹脂の組成の割合は、位相差フィルムとする際の位相差の制御に好適なため、一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂１～９０重量％および正の固有複屈折を有する樹脂９９～１０重量％であることが好ましい。さらに好ましくは一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂１０～８５重量％および正の固有複屈折を有する樹脂９０～１５重量％であり、特に好ましくは一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂２０～８０重量％および正の固有複屈折を有する樹脂８０～２０重量％である。
【0058】
ブレンドの方法としては、溶融ブレンド、溶液ブレンド等の方法を用いることができる。溶融ブレンド法とは加熱により樹脂を溶融させて混練することにより製造する方法である。溶液ブレンド法とは樹脂を溶剤に溶解しブレンドする方法である。溶液ブレンドに用いる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどの塩素系溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール溶剤；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル溶剤；ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルピロリドン等を用いることができる。各樹脂および添加剤を溶剤に溶解したのちブレンドすることも可能であり、各樹脂の粉体、ペレット等を混練後、溶剤に溶解させることも可能である。
【0059】
本発明の樹脂組成物は、光学フィルムとする際の熱安定性を向上させるために酸化防止剤を含有していても良い。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤、その他酸化防止剤等が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独でもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
【0060】
本発明の樹脂組成物は、光学フィルムとする際の耐候性を高めるためヒンダードアミン系光安定剤や紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等が挙げられる。
【0061】
本発明の樹脂組成物は、いわゆる可塑剤として知られる化合物を、光学フィルムとする際の機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水蒸気透過率低減、レターデーション調整等の目的で添加してもよく、可塑剤としては、例えば、リン酸エステルやカルボン酸エステル等が挙げられる。また、アクリル系ポリマーなども用いられる。
【0062】
リン酸エステルとしては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、フェニルジフェニルホスフェート等を挙げることが出来る。
【0063】
カルボン酸エステルとしては、例えば、フタル酸エステル、クエン酸エステル、脂肪酸エステル、グリセロールエステル、アルキルフタリルアルキルグリコレート等を挙げることができる。フタル酸エステルとしては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート及びジエチルヘキシルフタレート等が挙げられ、またクエン酸エステルとしては、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等を挙げることが出来る。また、脂肪酸エステルとしては、例えば、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチル等が挙げられ、グリセロールエステルとしては、例えば、トリアセチン、トリメチロールプロパントリベンゾエート等が挙げられ、アルキルフタリルアルキルグリコレートとしては、例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等を挙げることが出来る。これら可塑剤は単独でもよく、２種以上混合して使用してもよい。
【0064】
本発明の樹脂組成物は、光学補償フィルムとする際の位相差を調整する目的で、芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤を含有していてもよい。位相差を調整する目的で使用される添加剤の下記式（Ａ）で示される複屈折Δｎについては、特に制限はないが、より光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、好ましくは０．０５以上であり、さらに好ましくは０．０５～０．５、特に好ましくは０．１～０．５である。添加剤のΔｎは分子軌道計算によって求めることができる。
【0065】
Δｎ＝ｎｘ－ｎｙ （Ａ）
（式中、ｎｘは添加剤分子の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｙは添加剤分子の進相軸方向の屈折率を示す。）
本発明の樹脂組成物に芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤が含有される場合、該添加剤において、芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環の分子内の個数については特に制限はないが、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、好ましくは１～１２個であり、さらに好ましくは１～８個である。芳香族炭化水素環としては、例えば、５員環、６員環、７員環または二つ以上の芳香族環からなる縮合環等が挙げられ、芳香族性ヘテロ環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、１，３，５－トリアジン環等が挙げられる。
（式中、ｎｘは添加剤分子の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｙは添加剤分子の進相軸方向の屈折率を示す。）
本発明の樹脂組成物に芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤が含有される場合、該添加剤において、芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環の分子内の個数については特に制限はないが、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、好ましくは１～１２個であり、さらに好ましくは１～８個である。芳香族炭化水素環としては、例えば、５員環、６員環、７員環または二つ以上の芳香族環からなる縮合環等が挙げられ、芳香族性ヘテロ環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、１，３，５－トリアジン環等が挙げられる。
【0066】
芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、水酸基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、カルボン酸残基、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、スルホン酸残基、ホスホニル基、ホスホン酸残基等が挙げられる。
【0067】
本発明で用いられる芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤としては、例えば、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、トリフェニルホスフェート、２－エチルヘキシルジフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）等のリン酸エステル系化合物；ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタレート、ジノルマルオクチルフタレート、２－エチルヘキシルフタレート、ジイソオクチルフタレート、ジカプリルフタレート、ジノニルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジデシルフタレート、ジイソデシルフタレート等のフタル酸エステル系化合物；トリブチルトリメリテート、トリ－ノルマルヘキシルトリメリテート、トリ（２－エチルヘキシル）トリメリテート、トリ－ノルマルオクチルトリメリテート、トリ－イソクチルトリメリテート、トリ－イソデシルトリメリテート等のトリメリット酸エステル系化合物；トリ（２－エチルヘキシル）ピロメリテート、テトラブチルピロメリテート、テトラ－ノルマルヘキシルピロメリテート、テトラ（２－エチルヘキシル）ピロメリテート、テトラ－ノルマルオクチルピロメリテート、テトラ－イソクチルピロメリテート、テトラ－イソデシルピロメリテート等のピロメリット酸エステル系化合物；安息香酸エチル、安息香酸イソプロピル、パラオキシ安息香酸エチル等の安息香酸エステル系化合物；フェニルサリシレート、ｐ－オクチルフェニルサリシレート、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルサリシレート等のサリチル酸エステル系化合物；メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等のグリコール酸エステル系化合物；２－（２’－ヒドロキシ－５’－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物；２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、Ｎ－ベンゼンスルホンアミド等のスルホンアミド系化合物、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－エトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－（２－ヒドロキシ－４－プロポキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－（２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン等のトリアジン系化合物等が挙げられ、より位相差特性に優れた光学補償フィルムが得られるため、トリクレジルホスフェート、２－エチルヘキシルジフェニルホスフェート、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノンが好ましく、これらは必要に応じて１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【0068】
本発明の樹脂組成物に芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤が含有される場合、光学特性及び機械的特性の観点から、好ましくは芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤の割合は０．０１～３０重量％であり、さらに好ましくは０．０１～２０重量％、特に好ましくは０．０１～１５重量％である。
【0069】
本発明の樹脂組成物は、発明の主旨を超えない範囲で、その他ポリマー、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を含有していてもよい。
【0070】
本発明の樹脂組成物は光学フィルムとして好適であり、該樹脂組成物を用いてなる光学フィルムは、光学補償フィルムとして特に好適である。
【0071】
本発明の光学フィルムは、フィルムの取扱い性及び光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが５～２００μｍであることが好ましく、５～１５０μｍがさらに好ましく、５～１２０μｍが特に好ましい。
【0072】
本発明の光学フィルムは、画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。
【0073】
本発明の光学フィルムは、画質の特性が良好なものとなることから、フィルムのヘーズ（曇り度）が２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。
【0074】
本発明の光学補償フィルムの位相差特性は、下記式（ａ）で示される面内位相差（Ｒｅ）が好ましくは５０～５００ｎｍ、さらに好ましくは１００～４５０ｎｍ、特に好ましくは１００～４００ｎｍであって、下記式（ｂ）で示されるＮｚ係数が好ましくは０≦Ｎｚ≦１．０、さらに好ましくは０．３０≦Ｎｚ≦０．６５、特に好ましくは０．３５≦Ｎｚ≦０．６０であるものが好ましい。このときの位相差特性は全自動複屈折計（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ製、商品名ＡｘｏＳｃａｎ）を用い、測定波長５８９ｎｍの条件で測定されるものである。
【0075】
これらは、従来の光学補償フィルムでは発現が困難な位相差特性である。
【0076】
Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ （ａ）
Ｎｚ＝（ｎｘ－ｎｚ）／（ｎｘ－ｎｙ） （ｂ）
（式中、ｎｘはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
本発明の光学補償フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、４５０ｎｍにおけるレターデーションと５５０ｎｍにおけるレターデーションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が好ましくは０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．１０であり、さらに好ましくは０．７０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０２であり、特に好ましくは０．７５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００である。
Ｎｚ＝（ｎｘ－ｎｚ）／（ｎｘ－ｎｙ） （ｂ）
（式中、ｎｘはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
本発明の光学補償フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、４５０ｎｍにおけるレターデーションと５５０ｎｍにおけるレターデーションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が好ましくは０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．１０であり、さらに好ましくは０．７０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０２であり、特に好ましくは０．７５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００である。
【0077】
本発明の光学フィルムの製造方法としては、本発明の光学フィルムの製造が可能であれば如何なる方法を用いてもよいが、光学特性、耐熱性、表面特性などに優れる光学フィルムが得られることから、溶液キャスト法により製造することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液（一般にはドープと称する。）を支持基板上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させて光学フィルムを得る方法である。流延する方法としては、例えば、Ｔダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられ、工業的には、ダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的に用いられている。また、用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック基板などがある。高度に表面性、光学均質性の優れた基板を工業的に連続製膜するには、表面を鏡面仕上げした金属基板が好ましく用いられる。溶液キャスト法において、厚み精度、表面平滑性に優れた光学フィルムを製造する際には、樹脂溶液の粘度は極めて重要な因子であり、樹脂溶液の粘度は樹脂の濃度、分子量、溶媒の種類に依存するものである。
【0078】
本発明の光学フィルムを製造する際の樹脂溶液の粘度は、重合体の分子量、重合体の濃度、溶媒の種類で調整可能である。樹脂溶液の粘度としては、特に制限はないが、フィルム塗工性をより容易にするため、好ましくは１００～１００００ｃｐｓ、さらに好ましくは３００～５０００ｃｐｓ、特に好ましくは５００～３０００ｃｐｓである。
【0079】
本発明の光学補償フィルムの製造方法としては、例えば、一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂、および正の固有複屈折を有する樹脂を含む樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離することが挙げられる。
【0080】
本発明では、樹脂組成物に含まれる樹脂の濃度、樹脂の分子量、溶媒の種類、成膜乾燥温度によって面外位相差（Ｒｔｈ）を制御することができる。
【0081】
本発明の光学補償フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）を発現するために一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが好ましい。光学補償フィルムを延伸する方法としては、ロール延伸による縦一軸延伸法やテンター延伸による横一軸延伸法、これらの組み合わせによるアンバランス逐次二軸延伸法やアンバランス同時二軸延伸法等を用いることができる。また本発明では、熱収縮性フィルムの収縮力の作用下に延伸を行う特殊延伸法を用いずに位相差特性を発現させることができる。
【0082】
延伸する際の光学補償フィルムの厚みは、延伸処理のし易さおよび光学部材の薄膜化への適合性の観点から、１０～２００μｍが好ましく、３０～１５０μｍがさらに好ましく、３０～１２０μｍが特に好ましい。
【0083】
延伸の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは５０～２００℃、さらに好ましくは１００～１８０℃である。一軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、１．０５～３．５倍が好ましく、１．１～３．０倍がさらに好ましい。アンバランス二軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、長さ方向には１．０５～３．５倍が好ましく、１．１～３．０倍がさらに好ましく、幅方向には１．０～１．２倍が好ましく、１．０～１．１倍がさらに好ましい。延伸温度、延伸倍率により面内位相差（Ｒｅ）を制御することができる。
【0084】
本発明の光学フィルムは、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレート、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、ハードコート層やガスバリア層を積層することも可能である。
【実施例】
【0085】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0086】
なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。
【0087】
＜重合体の解析＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ－ＥＣＺ４００Ｓ／Ｌ１）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ－ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。また、１Ｈ－ＮＭＲスペクトル分析により求めることが困難であるものについては、元素分析装置（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ製、商品名２４００ＩＩ）を用い、ＣＨＮ元素分析により求めた。
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ－ＥＣＺ４００Ｓ／Ｌ１）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ－ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。また、１Ｈ－ＮＭＲスペクトル分析により求めることが困難であるものについては、元素分析装置（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ製、商品名２４００ＩＩ）を用い、ＣＨＮ元素分析により求めた。
【0088】
＜数平均分子量の測定＞
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、商品名ＨＬＣ８３２０ＧＰＣ（カラムＧＭＨＨＲ―Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフランまたはＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミドを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、商品名ＨＬＣ８３２０ＧＰＣ（カラムＧＭＨＨＲ―Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフランまたはＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミドを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
【0089】
＜透明性の評価方法＞
ヘーズメーター（日本電色工業製、商品名ＮＤＨ５０００）を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。
ヘーズメーター（日本電色工業製、商品名ＮＤＨ５０００）を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。
【0090】
＜屈折率の測定＞
アッベ屈折率計（アタゴ製）を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１４２（１９８１年版）に準拠して測定した。
＜位相差特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ製、商品名：ＡｘｏＳｃａｎ）を用いて波長５８９ｎｍの光を用いて光学補償フィルムの面内位相差Ｒｅ、面外位相差Ｒｔｈ、Ｎｚ係数を測定した。
＜波長分散特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ製、商品名：ＡｘｏＳｃａｎ）を用い、波長４５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（５５０）の比として光学補償フィルムの波長分散特性を測定した。
アッベ屈折率計（アタゴ製）を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１４２（１９８１年版）に準拠して測定した。
＜位相差特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ製、商品名：ＡｘｏＳｃａｎ）を用いて波長５８９ｎｍの光を用いて光学補償フィルムの面内位相差Ｒｅ、面外位相差Ｒｔｈ、Ｎｚ係数を測定した。
＜波長分散特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ製、商品名：ＡｘｏＳｃａｎ）を用い、波長４５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（５５０）の比として光学補償フィルムの波長分散特性を測定した。
【0091】
合成例１（４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／スチレン共重合体の重合）
容量５０ｍＬのガラスアンプルに４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル１５ｇ、スチレン６．４ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．４４ｇおよびＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド４５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン７５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／スチレン共重合体１３．８ｇを得た（収率：６５％）。
容量５０ｍＬのガラスアンプルに４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル１５ｇ、スチレン６．４ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．４４ｇおよびＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド４５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン７５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／スチレン共重合体１３．８ｇを得た（収率：６５％）。
【0092】
得られた４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／スチレン共重合体の数平均分子量は２９，０００であった。
【0093】
また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、共重合体組成は４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位／スチレン残基単位＝３５／６５（モル％）であることを確認した。
【0094】
合成例２（４－カルボキシベンザルマロノニトリル／１－ビニルインドール共重合体の重合）
容量５０ｍＬのガラスアンプルに４－カルボキシベンザルマロノニトリル５．０ｇ、１－ビニルインドール３．６ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１８ｇおよびＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド８．５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－カルボキシベンザルマロノニトリル／１－ビニルインドール共重合体５．０ｇを得た（収率：５８％）。
容量５０ｍＬのガラスアンプルに４－カルボキシベンザルマロノニトリル５．０ｇ、１－ビニルインドール３．６ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１８ｇおよびＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド８．５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－カルボキシベンザルマロノニトリル／１－ビニルインドール共重合体５．０ｇを得た（収率：５８％）。
【0095】
得られた４－カルボキシベンザルマロノニトリル／１－ビニルインドール共重合体の数平均分子量は２３，０００であった。
【0096】
また、ＣＨＮ元素分析により、共重合体組成は４－カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位／１－ビニルインドール残基単位＝３３／６７（モル％）であることを確認した。
【0097】
合成例３（４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／９－ビニルカルバゾール共重合体の重合）
容量５０ｍＬのガラスアンプルに４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル５．０ｇ、９－ビニルカルバゾール４．４ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１７ｇおよびテトラヒドロフラン８．５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／９－ビニルカルバゾール共重合体７．７ｇを得た（収率：８２％）。
容量５０ｍＬのガラスアンプルに４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル５．０ｇ、９－ビニルカルバゾール４．４ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１７ｇおよびテトラヒドロフラン８．５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／９－ビニルカルバゾール共重合体７．７ｇを得た（収率：８２％）。
【0098】
得られた４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／９－ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は２２，０００であった。
【0099】
また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、共重合体組成は４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位／９－ビニルカルバゾール残基単位＝４２／５８（モル％）であることを確認した。
【0100】
合成例４（４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルナフタレン共重合体の重合）
容量５０ｍＬのガラスアンプルに４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル５．０ｇ、２－ビニルナフタレン４．５ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．２１ｇおよびテトラヒドロフラン１０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルナフタレン共重合体６．２ｇを得た（収率：６５％）。
容量５０ｍＬのガラスアンプルに４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル５．０ｇ、２－ビニルナフタレン４．５ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．２１ｇおよびテトラヒドロフラン１０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルナフタレン共重合体６．２ｇを得た（収率：６５％）。
【0101】
得られた４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルナフタレン共重合体の数平均分子量は１２，０００であった。
【0102】
また、ＣＨＮ元素分析測定により、共重合体組成は４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位／２－ビニルナフタレン残基単位＝４３／５７（モル％）であることを確認した。
【0103】
合成例５（４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体の重合）
容量５０ｍＬのガラスアンプルに４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル５．０ｇ、Ｎ－ビニルスクシンイミド２．６ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１５ｇおよびテトラヒドロフラン８．５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体５．５ｇを得た（収率：７３％）。
容量５０ｍＬのガラスアンプルに４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル５．０ｇ、Ｎ－ビニルスクシンイミド２．６ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１５ｇおよびテトラヒドロフラン８．５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体５．５ｇを得た（収率：７３％）。
【0104】
得られた４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体の数平均分子量は１６，０００であった。
【0105】
また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、共重合体組成は４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位／Ｎ－ビニルスクシンイミド残基単位＝４６／５４（モル％）であることを確認した。
【0106】
合成例６（３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体の重合）
容量５０ｍＬのガラスアンプルに３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル５．０ｇ、Ｎ－ビニルフタルイミド３．７ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１５ｇおよびテトラヒドロフラン８．５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体６．４ｇを得た（収率：７３％）。
容量５０ｍＬのガラスアンプルに３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル５．０ｇ、Ｎ－ビニルフタルイミド３．７ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１５ｇおよびテトラヒドロフラン８．５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体６．４ｇを得た（収率：７３％）。
【0107】
得られた３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体の数平均分子量は２１，０００であった。
【0108】
また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、共重合体組成は３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位／Ｎ－ビニルフタルイミド残基単位＝４１／５９（モル％）であることを確認した。
【0109】
合成例７（４－カルボキシ－３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルフラン共重合体の重合）
容量７５ｍＬのガラスアンプルに４－カルボキシ－３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル１５ｇ、２－ビニルフラン６．６ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．５０ｇおよびテトラヒドロフラン３０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン７５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を１５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－カルボキシ－３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルフラン共重合体１２．６ｇを得た（収率：５８％）。
容量７５ｍＬのガラスアンプルに４－カルボキシ－３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル１５ｇ、２－ビニルフラン６．６ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．５０ｇおよびテトラヒドロフラン３０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン７５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を１５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－カルボキシ－３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルフラン共重合体１２．６ｇを得た（収率：５８％）。
【0110】
得られた４－カルボキシ－３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルフラン共重合体の数平均分子量は１５，０００であった。
【0111】
また、ＣＨＮ元素分析により、共重合体組成は４－カルボキシ－３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位／２－ビニルフラン残基単位＝３６／６４（モル％）であることを確認した。
【0112】
合成例８（４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体の重合）
容量５０ｍＬのガラスアンプルに４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル５．０ｇ、９－ビニルカルバゾール３．９ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１４ｇおよびテトラヒドロフラン８．０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－ヒドロキシ－α－ケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体７．５ｇを得た（収率：８５％）。
容量５０ｍＬのガラスアンプルに４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル５．０ｇ、９－ビニルカルバゾール３．９ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１４ｇおよびテトラヒドロフラン８．０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－ヒドロキシ－α－ケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体７．５ｇを得た（収率：８５％）。
【0113】
得られた４－ヒドロキシ－α－ケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は１２，０００であった。
【0114】
また、ＣＨＮ元素分析により、共重合体組成は４－ヒドロキシ－α－ケイ皮酸イソブチル残基単位／９－ビニルカルバゾール残基単位＝４６／５４（モル％）であることを確認した。
【0115】
実施例１
合成例１により得られた４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／スチレン共重合体２．０ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／メチルエチルケトン＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８３重量％、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／スチレン共重合体：１７重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．３倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
合成例１により得られた４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／スチレン共重合体２．０ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／メチルエチルケトン＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８３重量％、４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／スチレン共重合体：１７重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．３倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
【0116】
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に示す。
【0117】
【表1】
【0118】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）、波長分散特性（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））、Ｎｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【0119】
実施例２
合成例２により得られた４－カルボキシベンザルマロノニトリル／１－ビニルインドール共重合体１．５ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてセルロースアセテートブチレート（分子量Ｍｎ＝７２，０００、アセチル基＝１５モル％、ブチリル基＝７０モル％、全置換度ＤＳ＝２．５５）１０ｇをトルエン／メチルエチルケトン＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８７重量％、４－カルボキシベンザルマロノニトリル／１－ビニルインドール共重合体：１３重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．８倍に一軸延伸した（延伸後の厚み８０μｍ）。
合成例２により得られた４－カルボキシベンザルマロノニトリル／１－ビニルインドール共重合体１．５ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてセルロースアセテートブチレート（分子量Ｍｎ＝７２，０００、アセチル基＝１５モル％、ブチリル基＝７０モル％、全置換度ＤＳ＝２．５５）１０ｇをトルエン／メチルエチルケトン＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８７重量％、４－カルボキシベンザルマロノニトリル／１－ビニルインドール共重合体：１３重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．８倍に一軸延伸した（延伸後の厚み８０μｍ）。
【0120】
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【0121】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）、波長分散特性（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））、Ｎｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【0122】
実施例３
合成例３により得られた４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／９－ビニルカルバゾール共重合体１．５ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝４／６（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８７重量％、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／９－ビニルカルバゾール共重合体：１３重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４５℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
合成例３により得られた４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／９－ビニルカルバゾール共重合体１．５ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝４／６（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８７重量％、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／９－ビニルカルバゾール共重合体：１３重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４５℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
【0123】
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【0124】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）、波長分散特性（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））、Ｎｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【0125】
実施例４
合成例４により得られた４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルナフタレン共重合体２．０ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝４／６（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８３重量％、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルナフタレン共重合体：１７重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．３倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
合成例４により得られた４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルナフタレン共重合体２．０ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝４／６（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８３重量％、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルナフタレン共重合体：１７重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．３倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
【0126】
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【0127】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）、波長分散特性（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））、Ｎｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【0128】
実施例５
合成例５により得られた４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体２．０ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてセルロースアセテートプロピオネート（分子量Ｍｎ＝７５，０００、アセチル基＝５モル％、プロピオニル基＝８０モル％、全置換度ＤＳ＝２．５５）１０ｇをトルエン／メチルエチルケトン＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８３重量％、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体：１７重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．７倍に一軸延伸した（延伸後の厚み６０μｍ）。
合成例５により得られた４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体２．０ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてセルロースアセテートプロピオネート（分子量Ｍｎ＝７５，０００、アセチル基＝５モル％、プロピオニル基＝８０モル％、全置換度ＤＳ＝２．５５）１０ｇをトルエン／メチルエチルケトン＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８３重量％、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体：１７重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．７倍に一軸延伸した（延伸後の厚み６０μｍ）。
【0129】
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【0130】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）、波長分散特性（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））、Ｎｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【0131】
実施例６
合成例６により得られた３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体１．５ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８７重量％、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体：１３重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４５℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
合成例６により得られた３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体１．５ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８７重量％、３，４－ジヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体：１３重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４５℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
【0132】
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【0133】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）、波長分散特性（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））、Ｎｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
実施例７
合成例７により得られた４－カルボキシ－３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルフラン共重合体２．０ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８３重量％、４－カルボキシ－３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルフラン共重合体：１７重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．２倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
実施例７
合成例７により得られた４－カルボキシ－３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルフラン共重合体２．０ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８３重量％、４－カルボキシ－３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルフラン共重合体：１７重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．２倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
【0134】
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【0135】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）、波長分散特性（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））、Ｎｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【0136】
実施例８
合成例８により得られた４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体２．０ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８３重量％、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体：１７重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
合成例８により得られた４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体２．０ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た（エチルセルロース：８３重量％、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体：１７重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
【0137】
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【0138】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）、波長分散特性（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））、Ｎｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【0139】
比較例１
エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。
【0140】
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【0141】
得られたフィルムは、Ｎｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。
【0142】
比較例２
セルロースアセテートブチレート（分子量Ｍｎ＝７２，０００、アセチル基＝１５モル％、ブチリル基＝７０モル％、全置換度ＤＳ＝２．５５）１０ｇをトルエン／メチルエチルケトン＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．８倍に一軸延伸した（延伸後の厚み８０μｍ）。
セルロースアセテートブチレート（分子量Ｍｎ＝７２，０００、アセチル基＝１５モル％、ブチリル基＝７０モル％、全置換度ＤＳ＝２．５５）１０ｇをトルエン／メチルエチルケトン＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．８倍に一軸延伸した（延伸後の厚み８０μｍ）。
【0143】
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【0144】
得られたフィルムは、Ｎｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。
【0145】
比較例３
合成例１により得られた４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／スチレン共重合体１０ｇをトルエン／メチルエチルケトン＝６／４（重量比）溶液に溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１８０℃で１．１倍に一軸延伸した（延伸後の厚み１５μｍ）。
合成例１により得られた４－カルボキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／スチレン共重合体１０ｇをトルエン／メチルエチルケトン＝６／４（重量比）溶液に溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１８０℃で１．１倍に一軸延伸した（延伸後の厚み１５μｍ）。
【0146】
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【0147】
得られたフィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。
【0148】
比較例４
合成例７により得られた４－カルボキシ－３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルフラン共重合体１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝６／４（重量比）溶液に溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１８０℃で１．１倍に一軸延伸した（延伸後の厚み１５μｍ）。
合成例７により得られた４－カルボキシ－３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル／２－ビニルフラン共重合体１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝６／４（重量比）溶液に溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１８０℃で１．１倍に一軸延伸した（延伸後の厚み１５μｍ）。
【0149】
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【0150】
得られたフィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。