特許 7151127 挿入光源

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-10-03

(45)【発行日】2022-10-12

(54)【発明の名称】挿入光源

(51)【国際特許分類】

   H05H 7/04 20060101AFI20221004BHJP

   G21K 1/093 20060101ALI20221004BHJP

   H05H 13/04 20060101ALI20221004BHJP

【ＦＩ】

H05H7/04

G21K1/093 Z

H05H13/04 F

【請求項の数】 4

(21)【出願番号】P 2018064570

(22)【出願日】2018-03-29

(65)【公開番号】P2019175766

(43)【公開日】2019-10-10

【審査請求日】2021-02-15

(73)【特許権者】

【識別番号】000005083

【氏名又は名称】日立金属株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000729

【氏名又は名称】特許業務法人 ユニアス国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】幸田 勉

(72)【発明者】

【氏名】沖平 賢一

(72)【発明者】

【氏名】小部 公央

(72)【発明者】

【氏名】加藤 龍好

(72)【発明者】

【氏名】阿達 正浩

【審査官】中尾 太郎

(56)【参考文献】

【文献】実開平０４－０８５６００（ＪＰ，Ｕ）

【文献】特開平０７－２４０３００（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０８－２６４２９９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１０－３２６７００（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１１－１３５３００（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００１－０９３７００（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００１－３２６０９９（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１４／０１７６２７０（ＵＳ，Ａ１）

【文献】T. Tanaka et al.，In-Vacuum Undulators，Proceedings of the 27th International Free Electron Laser Conference，米国，Stanford University，2005年08月26日，pp. 370-377

【文献】M. Calvi et al.，Magnetic assessment and modelling of the Aramis undulator beamline，Journal of Synchrotron Radiation，米国，Wiley-Balackwell，2018年04月03日，Vol. 25，pp. 686-705

【文献】C. J. Milne et al.，SwissFEL: The Swiss X-ray Free Electron Laser，Applied Sciences，スイス，MDPI，2017年07月14日，Vol. 7, 720，pp. 1-57

【文献】J. Zhiqiang, D. Hanwen，"Mechanical analysis and optimization for taper mechanism of in-vacuum undulator"，High Power Laser and Particle Beams，中国，2011年04月，Vol. 23, No. 4，pp. 1039-1042

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０５Ｈ ７／０４

Ｇ２１Ｋ １／０９３

Ｈ０５Ｈ １３／０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

多数の磁石が列状に配置される第１磁石列と、
この第１磁石列が取り付け支持される第１磁石支持体と、
多数の磁石が列状に配置されると共に、前記第１磁石列に対してギャップを介して向かい合う第２磁石列と、
この第２磁石列が取り付け支持される第２磁石支持体と、
第１磁石列、第２磁石列、第１磁石支持体、第２磁石支持体が内部に配置される真空槽と、
第１磁石支持体と第１連結機構を介して一体的に連結され、真空槽の外部に配置された第１ビームと、
第２磁石支持体と第２連結機構を介して一体的に連結され、真空槽の外部に配置された第２ビームと、
前記第１連結機構と第２連結機構の少なくとも一方に設けられ、柔軟性を有する部材により気密封止されたシャフトと、
第１ビームおよび第２ビームの少なくとも一方を前記多数の磁石の配列方向である水平方向に駆動する水平駆動機構と、を備え、
水平駆動機構により前記ギャップを維持したまま、第１磁石列と第２磁石列を相対的に水平方向に移動可能に構成し、かつ、前記気密封止されたシャフトにより前記水平方向の移動中における真空槽内の真空度を維持することを特徴とする挿入光源。

【請求項2】

第１ビームと第２ビームの少なくとも一方は、水平ガイド機構を介してビーム支持基台に支持されており、水平駆動機構により第１ビームと第２ビームの少なくとも一方がビーム支持基台に対して水平移動するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の挿入光源。

【請求項3】

水平駆動機構は、モータと、モータにより回転されるボールねじと、ボールねじに係合するブラケットとを含み、モータ及びボールネジが前記ビームに固定され、ブラケットがビーム支持基台に固定されることを特徴とする請求項２に記載の挿入光源。

【請求項4】

真空槽内の真空度は１０^－７Ｐａ以下であることを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の挿入光源。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、互いに向かい合う第１磁石列と第２磁石列のギャップを維持したまま水平移動させて磁場を調整可能な挿入光源に関するものである。

【背景技術】

【0002】

真空中において光速近くまで加速された電子ビームが磁界中で曲げられると、電子ビームの移動軌跡の接線方向に放射光を発光し、これをシンクロトロン放射光と呼んでいる。このようなシンクロトロン放射光を発生させる光源を、電子貯蔵リング（電子ビーム蓄積リング）の直線部に設置し、高指向性、高強度、高偏光性などの特性を生かした種々の技術の実用化のための研究が行われている。今日の電子貯蔵リングには、より高いビーム電流、より小さなビーム断面積による高輝度光源である挿入光源（アンジュレータ）が複数設けられている。

【0003】

かかる挿入光源として、例えば、下記特許文献１に開示される挿入光源が知られている。この挿入光源は、多数の磁石が列状に配置される第１磁石列と、多数の磁石が列状に配置される第２磁石列がギャップを介して向かいあう構成を備えており、内部が超高真空に維持される真空槽内に配置されている。第１磁石列と第２磁石列の間には電子ビームが通過するギャップ空間が形成されていて、第１磁石列と第２磁石列は真空槽外部に設けられた駆動機構と気密封止可能な昇降シャフトを介して連結している。第１磁石列と第２磁石列を前記駆動機構により垂直方向に昇降させることで、前記ギャップの大きさを変えて磁場を調整し、放射光の波長を選択することができる（ギャップ調整式挿入光源）。特許文献１の装置においては、第１および第２磁石列が、間に何もはさむことなく向かい合って真空槽内に配置されているので、磁石列間のギャップを４ｍｍ程度まで小さくすることが可能である。さらに、磁石列以外の駆動機構やガイド機構等が真空槽の外に配置されているので、高い真空度が得られやすい、という特徴がある。しかしながら、特許文献１に開示の挿入光源において、磁場強度を変えるためにギャップを変えると、磁場分布の積分値が変動し、電子軌道が変動してしまう。電子軌道を一定に保つため、挿入光源の両端部に設けられた補正電磁石で軌道補正を行う必要がある。この操作はギャップ調整ごとに必要であり、挿入光源を電子貯蔵リングに導入するときに、軌道補正のための調整に多大な手間と時間を要してしまう。

【0004】

一方、挿入光源で磁場を調整する方法として、ギャップ調整式以外に、ギャップの大きさは固定で、磁石列を電子ビーム方向（水平方向、長手方向）に動かしてビーム進行方向の磁石列間の位相を調整することで磁場を変える方法（位相調整式挿入光源）が特許文献２に開示されている。特許文献２に開示の挿入光源では、位相調整の際に挿入光源が持つ積分磁場を一定に保つことができるため、磁場強度を変更する度ごとの補正電磁石による軌道補正は修正する必要がない。この方法は、磁石列間に超高真空のビームダクトを配置する楕円偏光アンジュレータ等で実用化されている。楕円偏光アンジュレータでは、磁気回路がビームダクト（真空槽）外にあるため、磁石列を水平方向に動かす駆動機構やガイド機構を容易に設けることができる。しかしながらこの方法では、磁石列間にビームダクトが挟まれる構造であるため、ビームダクトの厚み以下にギャップを小さくすることができず、磁場強度の大きさに限界がある。

【0005】

位相調整式挿入光源を、真空槽内に磁石列を配置して実現したものが特許文献３に開示されている。特許文献３の挿入光源では、リニアベアリング（Miniature linear bearings：ガイド機構に相当）と、駆動機構が磁石列とともに真空槽内に配置され、真空槽外のモータと気密封止可能なシャフト（tube component）によって連結されており、真空槽内の駆動機構を動かすことによって磁石列を水平方向に動かすことができる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【文献】特開２００１－３２６０９９号公報

【文献】特開２０１４－１３６５８号公報

【文献】ＵＳ２０１４／０１７６２７０公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

しかしながら、この方法では、真空槽内にガイド機構や駆動機構等の摩擦が起こる部材を配置しているので、高い真空度が得られにくい。この方法で達成される最終的な真空度は５×１０^－９ｔｏｒｒ（６×１０^－７Ｐａ）であり、近年の挿入光源で必要とされる１０^－８Ｐａ台に達していない。また、真空槽外に設けられたモータと真空槽内の駆動機構が１か所のtube componentで連結される構造であり、１つの駆動機構で磁石列全体を動かしているため、大型化が難しい。

【0008】

本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、その課題は、磁石列を電子ビーム方向に動かして磁場を変える挿入光源において、従来よりも高い真空度を達成可能な挿入光源を提供することである。さらに好ましくは、例えば磁石列の長さが２ｍ以上に大型化が可能な挿入光源を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0009】

上記課題を解決するため本発明に係る挿入光源は、
多数の磁石が列状に配置される第１磁石列と、
この第１磁石列が取り付け支持される第１磁石支持体と、
多数の磁石が列状に配置されると共に、前記第１磁石列に対してギャップを介して向かい合う第２磁石列と、
この第２磁石列が取り付け支持される第２磁石支持体と、
第１磁石列、第２磁石列、第１磁石支持体、第２磁石支持体が内部に配置される真空槽と、
第１磁石支持体と第１連結機構を介して一体的に連結され、真空槽の外部に配置された第１ビームと、
第２磁石支持体と第２連結機構を介して一体的に連結され、真空槽の外部に配置された第２ビームと、
前記第１連結機構と第２連結機構の少なくとも一方に設けられ、柔軟性を有する部材により気密封止されたシャフトと、
第１ビームおよび第２ビームの少なくとも一方を前記多数の磁石の配列方向である水平方向に駆動する水平駆動機構と、を備え、
水平駆動機構により前記ギャップを維持したまま、第１磁石列と第２磁石列を相対的に水平方向に移動可能に構成し、かつ、前記気密封止されたシャフトにより前記水平方向の移動中における真空槽内の真空度を維持することを特徴とするものである。

【0010】

かかる構成による挿入光源の作用・効果を説明する。第１磁石支持体と第２磁石支持体は、それぞれ、第１連結機構、第２連結機構を介して第１ビーム、第２ビームに連結される。第１磁石支持体と第２磁石支持体は真空槽の内部に配置されるが、第１ビーム、第２ビームは真空槽の外部に配置される。水平駆動機構により、第１ビームおよび第２ビームの少なくとも一方を前記多数の磁石の配列方向である水平方向に移動させることで、磁場を変えることができる。この場合、真空槽に対して、第１連結機構と第２連結機構の少なくとも一方には、柔軟性を有する部材により気密封止されたシャフトが設けられている。これにより、真空度を維持したまま、磁石列の水平移動を行うことができる。

【0011】

さらに、磁石列および磁石支持体を水平移動するためのビームや水平駆動機構は、真空槽の外部に配置されている。真空槽の内部で摩擦が発生しないため高い真空度を達成することができる。その結果、磁石列を電子ビーム方向に動かして磁場を変える挿入光源において、従来よりも高い真空度を達成可能な挿入光源を提供することができる。

【0012】

本発明において、真空槽内の真空度は１０^－７Ｐａ以下であることが好ましい。

【0013】

かかる構成により、近年真空封止型アンジュレータとして要求されている真空度を十分満足することができる。

【0014】

本発明において、第１ビームと第２ビームの少なくとも一方は、水平ガイド機構を介してビーム支持基台に支持されており、水平駆動機構により第１ビームと第２ビームの少なくとも一方がビーム支持基台に対して水平移動するように構成されていることが好ましい。

【0015】

かかる構成により、ビーム支持基台に対してビームを水平移動させて、これと一体的に磁石列を水平移動させることができる。

【0016】

本発明に係る水平駆動機構は、モータと、モータにより回転されるボールねじと、ボールねじに係合するブラケットとを含み、モータ及びボールネジが前記ビームに固定され、ブラケットがビーム支持基台に固定されることが好ましい。

【0017】

かかる構成により、ビームに固定されたモーターによりボールネジを回転させることで、ボールネジに係合したブラケットを相対的に水平移動させることができる。この場合、ブラケットは、ビーム支持基台に固定されているので、ビーム支持基台に対してビームを水平移動させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】第１実施形態に係る挿入光源の正面側の斜視図

【図2】第１実施形態に係る挿入光源の正面図

【図3】第１実施形態に係る挿入光源の上方から見た平面図

【図4】第１実施形態に係る挿入光源の側面図

【図5】第１実施形態に係る挿入光源の縦断面図

【図6】水平駆動機構の構成を示す拡大斜視図

【図7】磁石列の水平駆動について説明する概略図

【図8A】ベローズシャフトとベローズの状態を示す図

【図8B】ベローズシャフトとベローズの状態を示す図

【図8C】ベローズシャフトとベローズの状態を示す図

【図8D】図８Ｃの断面図

【図9A】磁石列における各永久磁石の配列と移動態様を示す図

【図9B】磁石列における各永久磁石の配列と移動態様を示す図

【図9C】磁石列における各永久磁石の配列と移動態様を示す図

【図10】磁場特性を示すグラフ

【発明を実施するための形態】

【0019】

本発明に係る挿入光源の好適な実施形態を図面を用いて説明する。図１は、本実施形態に係る挿入光源の正面側の斜視図である。図２は、本実施形態に係る挿入光源の正面図である。図３は、本実施形態に係る挿入光源の上方から見た平面図である。図４は、本実施形態に係る挿入光源の側面図である。図５は、本実施形態に係る挿入光源の縦断面図である。図６は、水平駆動機構の構成を示す拡大斜視図である。

【0020】

＜挿入光源の全体構成＞
図５に示すように、挿入光源は、多数の磁石が列状に配置される第１磁石列Ｍ１と、同じく多数の磁石が列状に配置される第２磁石列Ｍ２がギャップδを介して向かい合っている。このギャップ空間を電子ビームが通過する。なお、磁石列の具体的な配列は後述するが、特許文献２に挙げたものが例示される。ただし、特定の磁石の配置に限定されるものではない。

【0021】

第１磁石列Ｍ１は、第１磁石支持体１により支持され、第２磁石列Ｍ２は、第２磁石支持体２により支持される。例えば、第１磁石列Ｍ１を構成する個々の磁石が第１磁石支持体１に対してボルト等により結合される。第２磁石列Ｍ２も同様である。

【0022】

また、第１磁石列Ｍ１と第２磁石列Ｍ２の磁石が向かい合う方向は垂直方向であるが、挿入光源としては、上記に限定されるものではなく、水平方向や傾斜方向、また、複数の方向の組み合わせを有していてもよい。図２は、真空槽３が取り外された状態で第１磁石列Ｍ１と第２磁石列Ｍ２の配列状態を示している。

【0023】

第１磁石列Ｍ１と第２磁石列Ｍ２は、内部が超高真空（１０^－５Ｐａ～１０^－８Ｐａ）に維持される真空槽３の内部に設置される。真空槽３は、形状が円筒形であり、図１、図３などに示すように図の左右方向（電子ビームの進行方向）に沿った細長い形状を有している。真空槽３内部の真空度は１０^－７Ｐａ以下であることが好ましい。真空度が１０^－７Ｐａ以下であれば、近年真空封止型アンジュレータとして要求されている真空度を十分満足することができる。なお、ギャップδの大きさは後述するギャップ駆動機構により変更することができる。ベース１０は、複数個の台座４により載置面の上に載置される。台座４は、前側と後側に適宜の個数を配置することができる。

【0024】

なお、真空槽３は、支持体６０によりベース１０の上に支持されている。図１などにも示すように、支持体６０の上には支持部材６１が設けられており、真空槽３の下部を受け止めている。支持体６０、支持部材６１、真空槽３は、不図示の機械的手段（例えば、ボルトナット）により結合されている。また、支持体６０もベース１０に対して適宜の機械的手段（例えば、ボルトナット）により結合されている。

【0025】

第１磁石支持体１の上部は、第１連結機構１５０を介して第１ビーム１００に連結される。同様に、第２磁石支持体２の下部は、第２連結機構２５０を介して第２ビーム２００に連結される。なお、第１ビーム１００と第２ビーム２００は同じ構造であるので、第１ビーム１００に関してのみ説明し、第２ビーム２００の説明は省略する。第１連結機構１５０と第２連結機構２５０も同じ構造であるので、第１連結機構１５０に関してのみ説明し、第２連結機構２５０の説明は省略する。

【0026】

第１ビーム１００および第２ビーム２００は、水平方向に長い直方体の形状を呈している。第１ビーム１００には、第１磁石列Ｍ１および第１磁石支持体１を水平方向に駆動するための水平駆動機構５が設けられる。第２ビーム２も同様に水平駆動機構５が配置される。

【0027】

図５は磁石位置が後述のニュートラルな状態の時のべローズシャフトの中心を通る断面図である。第１連結機構１５０は、ベローズシャフト１５１とベローズ１５２を備えている。ベローズシャフト１５１の下部は第１磁石支持体１に連結され、上部はリニアテーブル１５３に連結される。ベローズ１５２は、蛇腹形状を有する筒状体であり、柔軟性を有する。ベローズ１５２の下部は、真空槽３に対して気密封止するように固定され、上部はベローズシャフト１５１に気密封止するように固定される。この構成により、ベローズシャフト１５１の水平方向および垂直方向の移動を許容し、かつ、真空槽３の内部の真空度を維持している。第１連結機構１５０は、水平方向に沿って７か所配置されている。なお配置個数は適宜設定できる。

【0028】

リニアテーブル１５３の上面と、第１ビーム１００の下面は、リニアガイド１５４により連結されている。このリニアガイド１５４は、本来、真空槽３の内部を高温にすることによる磁石支持体１の延びを吸収するためのものであり、磁石列により構成される磁気回路に悪影響が出ないようにしている。後述の通り第１磁石列Ｍ１および第１磁石支持体１が水平駆動するに際しては、リニアガイド１５４はリニアテーブル１５３および第１ビーム１００に固定されており、複数のリニアテーブル１５３を第１ビーム１００に連結する役割を担っている。

【0029】

第１ビーム１００は、第１サドル３００（ビーム支持基台に相当）にリニアガイド３０１を介して支持されている。リニアガイド３０１は、図５に示すように、上下に２か所設けられている。第２ビーム２００も同様に第２サドル４００に支持されている。リニアガイド３０１により、第１ビーム１００は水平方向に移動可能であり、第１磁石列Ｍ１を水平方向に移動可能である。第１サドル３００は、図１に示すように、水平方向に２か所設けられている。

【0030】

第１ビーム１００を水平方向に移動させるための水平駆動機構５が図２、図５、図６等に示される。水平駆動機構５は、ステッピングモーター５０、このステッピングモーター５０により回転駆動されるボールネジ５１と、このボールネジ５１に係合するブラケット５２を有している。第２ビーム２００にも同じ水平駆動機構５が設けられているが、第１ビーム１００と同じであるので説明を省略する。本実施形態では水平駆動機構５が第１ビーム１００に設置される例を示したが、水平駆動機構が設置される箇所はこれに限られない。例えば、第１サドル３００に設置されてもよい。

【0031】

ステッピングモーター５０とボールネジ５１は、第１ビーム１００に適宜の手段で固定されている。ブラケット５２は、図５に示すように、係合部５２ａと連結部５２ｂを有し、連結部５２ｂが第１サドル３００に固定される。連結部５２ｂは、第1ビーム１００に形成された穴１００ａを貫通しており、第１ビーム１００とは干渉しない。連結部５２の上下にリニアガイド３０１が配置されている。ボールネジ５１が回転すると、相対的にブラケット５２が水平移動する。本実施形態においては、ブラケット５２に対して、ボールネジ５１が水平方向に移動する。すなわち、第１ビーム１００が水平方向に移動し、第１連結機構１５０を介して連結されている第１磁石支持体１、第１磁石列Ｍ１が一体的に水平方向に移動する。このとき、べローズシャフト１５１が移動しても柔軟性を有するべローズ１５２が変形して追随するので真空槽３は動かない。すなわち、真空槽３の位置はそのままで第１磁石支持体１、第１磁石列Ｍ１を移動させることができる。同様に第２磁石列Ｍ２も真空槽３の位置はそのままで第１磁石列Ｍ１と逆方向に移動させることができる。これにより、第１磁石列Ｍ１と、第２磁石列Ｍ２の相対的な位置を変化させることができる。

【0032】

本実施形態では、２個で１組のべローズシャフト１５１がリニアテーブル１５３に連結されており、リニアテーブル１５３はリニアガイド１５４を介して複数個（本実施形態では７個）第１ビーム１００に連結されている。すなわち、第１ビーム１００を移動させることによってそれに連結された複数組のべローズシャフト１５１を移動させることが可能である。この構成によって、例えば２ｍ以上の長い磁石列でも無理なく移動させることができ、挿入光源の大型化が可能となる。

【0033】

本実施形態の挿入光源は、磁石列を水平方向に駆動する水平駆動機構５のほかに、ギャップを調整するギャップ駆動機構６も設けられている。これは、磁石列を垂直方向に駆動するためのものである。ギャップ駆動機構６は、本体フレーム１１に搭載されており、さらに、第１サドル３００はリニアガイド３０２により垂直方向に移動可能にガイドされる。第２サドル４００に関しても同じである。ギャップ駆動機構６を駆動することで、第１サドル３００が垂直方向に駆動され、これにより、第１ビーム１００、第１連結機構１５０、第１磁石支持体１、第１磁石列Ｍ１も一体的に垂直方向に駆動される。ギャップ駆動機構６は、例えば、特開２０１７－０３３７６９号公報に開示されている機構を用いることができ、詳細は省略する。本実施形態の挿入光源は、位相調整式でありながらギャップ駆動も可能である。ギャップ駆動機構により必要に応じてギャップを広げることができるため、例えば試運転時に電子ビームが磁気回路に当たらないように回避することが可能である。

【0034】

＜磁石列の水平駆動＞
次に、磁場の調整のために行う磁石列の水平駆動に関して説明する。図７は、水平駆動について説明する概略図である。第１磁石列Ｍ１と第２磁石列Ｍ２のギャップδは維持したまま、第１磁石列Ｍ１と第２磁石列Ｍ２を水平方向に移動する。第１磁石列Ｍ１と第２磁石列Ｍ２の移動方向は、互いに逆である。図７は、第１磁石列Ｍ１が右に移動するとき、第２磁石列Ｍ２は左に移動することを示す。

【0035】

図９Ａ～図９Ｃは、磁石列における各永久磁石の配列と移動態様を示す図である。個々の磁石は５ｍｍピッチで配列されている。図において白抜きの矢印は、着磁されている磁場の方向を示す。この着磁の方向は４通りであり、これを１組として、周期的に繰り返し配置されている。本実施形態では周期は２０ｍｍである。図９Ｂは、ニュートラルな状態を示す。図９Ａは、ニュートラルに対して、第１磁石列Ｍ１が右に２．５ｍｍ、第２磁石列Ｍ２が左に２．５ｍｍ移動した状態、図９Ｃは、ニュートラルに対して、第１磁石列Ｍ１が左に２．５ｍｍ、第２磁石列Ｍ２が右に２．５ｍｍ移動した状態を示す。すなわち、ニュートラルに対して±２．５ｍｍの範囲で磁石列を移動させて磁場を調整する。

【0036】

図８Ａ～図８Ｃは、それぞれ、図９Ａ～図９Ｃの状態におけるベローズシャフト１５１とベローズ１５２の状態を示す。図８Ｄは、図８Ｃの断面図を示す。ベローズシャフト１５１が水平駆動に移動するのに対応して、柔軟性を有するベローズ１５２が変形して追従する。これにより、真空槽３の内部の真空度を維持しつつ、磁石列の水平駆動を行うことができる。

【0037】

図１０は、ニュートラルに対して±２．５ｍｍの範囲で移動させたときの磁場特性を示すグラフ（計算値）である。Ｂｙは水平方向の磁場の大きさ、Ｂｚは垂直方向の磁場の大きさを示す。図１０の例は周期長２０ｍｍの場合であるが、±２．５ｍｍの磁石列の移動により磁場をゼロから最大に変化させられることがわかる。例えば周期長が２４ｍｍ以下の位相調整式挿入光源では、動作量が±３ｍｍ以下であり、本発明の方法を採用できる。
また、１Ｔ以上の挿入光源磁場強度が得られることがわかり、十分な実用性を有している。

【0038】

＜別実施形態＞
本実施形態に係る挿入光源は、水平駆動機構とギャップ駆動機構の双方を有しているが、水平駆動機構のみを有する挿入光源であってもよい。

【0039】

本実施形態では、第１磁石列と第２磁石列の両方を水平駆動機構により移動させているが、いずれか一方のみを駆動する構成を採用してもよい。

【符号の説明】

【0040】

Ｍ１ 第１磁石列
Ｍ２ 第２磁石列
δ ギャップ
１ 第１磁石支持体
２ 第２磁石支持体
３ 真空槽
４ 台座
５ 水平駆動機構
５０ ステッピングモーター
５１ ボールネジ
５２ ブラケット
１００ 第１ビーム
１５０ 第１連結機構
１５１ ベローズシャフト
１５２ ベローズ
１５３ リニアテーブル
２００ 第２ビーム
２５０ 第２連結機構
３００ 第１サドル
３０１ リニアガイド
４００ 第２サドル

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8A】

【図8B】

【図8C】

【図8D】

【図9A】

【図9B】

【図9C】

【図10】