知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
- 弁理士法人プロスペック特許事務所 (東京、名古屋、在宅勤務可)
▶ 東京エレクトロン株式会社の特許一覧 ▶ 国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学の特許一覧
特許7156620微細パターンを有する基板にシリコン膜を形成する方法
発明の名称 微細パターンを有する基板にシリコン膜を形成する方法
出願人 東京エレクトロン株式会社 （識別番号 219967）
特許公開件数ランキング 36 位（601件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 20 位（804件）（共同出願を含む）
出願人 国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学 （識別番号 304024430）
特許公開件数ランキング 2546 位（8件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 1952 位（15件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-7156620
公報発行日 2022年10月19
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7156620
知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特許-7156620「微細パターンを有する基板にシリコン膜を形成する方法」の公報全文を閲覧することができます。
ログインはこちら ログイン・ユーザー登録