発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
しかしながら、特許文献1の方法では、複雑な積層構造を有する冷陰極(電子放出素子)を用いることから、コストが高いという問題がある。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の第1の態様に係る方法は、
電子源から放出された電子線を観察対象位置に配置された試料に照射させる一次光学系と、前記試料から放出される電子線または前記試料を透過した電子線の拡大像を検出器に結像させる二次光学系と、を備えた電子線検査装置の前記二次光学系を評価する方法であって、
前記観察対象位置に光電面を配置し、前記光電面にレーザー光を照射し、前記光電面から放出される電子線の拡大像を・・・ 続きを
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発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明によれば、電子線検査装置の二次光学系を単体で低コストで評価できる。
この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
図1は、第1の電子線検査装置の概略構成を示す図である。
【図2】
図2は、第1の二次光学系評価用キットの概略構成を示す図である。
【図3】
図3は、第1の電子線検査装置の二次光学系を評価する方法を説明するための図である。
【図4】
図4は、第1の実施形態の一変形例に係る二次光学系を評価する方法を説明するための図である。
【図5】
図5は、第2の電子線検査装置の概略構成を示す図である。
【図6】
図6は、第2の電子線検査装置の二次光学系を評価する方法を説明するための図である。
【図7】
図7は、第3の電子線検査装置の概略構成を示す図である。
【図8】
図8は、第3の電子線検査装置の二次光学系を評価する方法を説明するための図である。
10 電子線検査装置
10a 一次光学系
10b 二次光学系
11 一次光学系鏡筒
12 チャンバ
13 二次光学系鏡筒
14 電子源
15 ステージ
16 検出器
171 照射系レンズ
172 対物レンズ
173 中間レンズ
174 結像レンズ
20 二次光学系評価用キット
21 チャンバ
22 光電面
23 ビューポート
24 レーザー源
251 レンズ
252 レンズ
253 ミラー
29 閉止蓋
30 電子線検査装置
30a 一次光学系
30b 二次光学系
31 一次光学系鏡筒
32 チャンバ
33 二次光学系鏡筒
34 電子源
35 ステージ
36 検出器
371 照射系レンズ
372 中間レンズ
373 対物レンズ
374 結像レンズ
375 結像レンズ
38 ウィーンフィルタ
40 電子線検査装置
40a 一次光学系
40b 二次光学系
41 一次光学系鏡筒
42 チャンバ
43 二次光学系鏡筒
44 マルチ電子源
45 ステージ
46 検出器
471 照射系レンズ
472 中間レンズ
473 対物レンズ
474 結像レンズ
475 結像レンズ
48 ウィーンフィルタ
W 試料
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