特許 7161485 基板上に構造化層を堆積するための装置及びその装置のセッティング方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-10-18

(45)【発行日】2022-10-26

(54)【発明の名称】基板上に構造化層を堆積するための装置及びその装置のセッティング方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/68 20060101AFI20221019BHJP

   C23C 14/04 20060101ALI20221019BHJP

   F16F 1/06 20060101ALI20221019BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 K

C23C14/04 A

F16F1/06 Z

【請求項の数】 21

(21)【出願番号】P 2019550737

(86)(22)【出願日】2018-03-12

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2020-05-21

(86)【国際出願番号】 EP2018056033

(87)【国際公開番号】W WO2018166953

(87)【国際公開日】2018-09-20

【審査請求日】2021-03-11

(31)【優先権主張番号】102017105374.3

(32)【優先日】2017-03-14

(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE

(73)【特許権者】

【識別番号】502010251

【氏名又は名称】アイクストロン、エスイー

(74)【代理人】

【識別番号】100095267

【弁理士】

【氏名又は名称】小島 高城郎

(74)【代理人】

【識別番号】100124176

【弁理士】

【氏名又は名称】河合 典子

(72)【発明者】

【氏名】アウドゥス、ヤープ

(72)【発明者】

【氏名】ヤーコブ、マルクス

(72)【発明者】

【氏名】ヤンセン、ヴィルヘルムス

(72)【発明者】

【氏名】レオンテウス、ウラジーミルス

【審査官】鈴木 孝章

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１４－５２０３７１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－１１９７９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１１／０５５８２６（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１６／０４７４８６（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／６８

Ｃ２３Ｃ １４／０４

Ｆ１６Ｆ １／０６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板（１３）上にマスク（４）を適用することにより構造化された層を堆積するための装置であって、支持フレーム（７）に対するマスクキャリア（６）の位置を調整するための鉛直調整装置（１００）と水平調整装置（２００）とからなる調整装置（１００、２００）を具備する、前記装置において、
前記鉛直調整装置（１００）及び前記水平調整装置（２００）の各々が、
旋回ベアリング（１０６、２０６）の回転軸（１０７、２０７）の周りで回転可能であるように前記支持フレーム（７）上に装着された調整レバー（１０１、２０１）を有すると共に、第１のアーム（１０２、２０２）及び第２のアーム（１０３、２０３）を有し、
前記第２のアーム（１０３、２０３）が前記マスクキャリア（６）と係合し、かつ、アクチュエータ（１２１、２２１）により鉛直方向に変位可能な制御ロッド（１０８、２０８）が前記第１のアーム（１０２、２０２）と係合し、
前記鉛直調整装置（１００）には、前記第１のアーム（１０２、２０２）及び前記第２のアーム（１０３、２０３）の内の第３のアーム（１０２）及び第４のアーム（１０３）が割り当てられると共に、前記水平調整装置（２００）には、前記第１のアーム（１０２、２０２）及び前記第２のアーム（１０３、２０３）の内の第５のアーム（２０２）及び第６のアーム（２０３）が割り当てられており、
前記鉛直調整装置（１００）の前記第３のアーム（１０２）及び第４のアーム（１０３）が水平方向に延在し、前記第４のアーム（１０３）が前記マスクキャリア（６）に接続された押しロッド（１１０）と係合し、
前記水平調整装置（２００）の前記第５のアーム（２０２）が水平方向に延在すると共に前記第６のアーム（２０３）が鉛直方向に延在し、前記第６のアーム（２０３）が、前記第６のアーム（２０３）と関節接続されたリンクアーム（２１０）により前記マスクキャリア（６）に接続されていることを特徴とする装置。

【請求項2】

前記第１のアーム（１０２、２０２）が前記調整レバー（１０１、２０１）の長尺アームであり、かつ前記第２のアーム（１０３、２０３）が前記調整レバー（１０１、２０１）の短尺アームであることを特徴とする請求項１に記載の装置。

【請求項3】

前記第１のアーム（１０２、２０２）が、前記第２のアーム（１０３、２０３）の少なくとも５倍の長さであることを特徴とする請求項２に記載の装置。

【請求項4】

前記水平調整装置（２００）の前記リンクアーム（２１０）がプリズムジョイントであり、押しロッド（２１１）の互いに反対側の先端（２１５）が、それぞれ端部片（２１３、２１４）の凹部（２１６）内で支持され、かつ、引張部材（２１２）が前記端部片（２１３、２１４）と係合すると共に前記凹部（２１６）内の前記先端（２１５）に負荷を掛けることを特徴とする請求項１～３のいずれかに記載の装置。

【請求項5】

前記引張部材（２１２）が取付点（２１７）において端部片（２１３）に固定的に接続され、前記引張部材により作用するバネ要素（２２０）が設けられ、前記バネ要素（２２０）が前記引張部材（２１２）上で支持されることにより一方の端部片（２１４）に対して他方の端部片（２１３）の方に力を印加することを特徴とする請求項４に記載の装置。

【請求項6】

前記引張部材（２１２）が空洞を有し、それを通して前記押しロッド（２１１）が案内されることを特徴とする請求項４又は５に記載の装置。

【請求項7】

前記引張部材（２１２）が２つの入れ子要素を有し、前記入れ子要素のうちの内側の１つが、圧縮バネの形態のバネ要素（２２０）により囲まれていることを特徴とする請求項４～６のいずれかに記載の装置。

【請求項8】

前記旋回ベアリング（１０６、２０６）が、摩擦のないリーフスプリングベアリングであることを特徴とする請求項１～７のいずれかに記載の装置。

【請求項9】

前記マスクキャリア（６）と、前記調整レバー（１０１、２０１）と、前記支持フレーム（７）とが、外部環境に対して気密態様でシールされたリアクタハウジング（２）内においてマスクリフト装置によって鉛直方向に変位可能であるように配置されており、前記制御ロッド（１０８、２０８）と、前記支持フレーム（７）に係合する支持柱とが、前記リアクタハウジング（２）の外側から気密性の運動伝達手段によって変位可能であることを特徴とする請求項１～８のいずれかに記載の装置。

【請求項10】

前記マスクリフト装置が、前記リアクタハウジング（２）の外側に配置されていることを特徴とする請求項９に記載の装置。

【請求項11】

前記マスクリフト装置が、マスクリフトプレート（９）を有することを特徴とする請求項１０に記載の装置。

【請求項12】

前記調整レバー（１０１、２０１）の回転軸（１０７、２０７）が、前記支持フレーム（７）により囲まれた面内に位置する共通点（Ｐ１、Ｐ２）の方に向いていることを特徴とする請求項１～１１のいずれかに記載の装置。

【請求項13】

３つの水平調整装置（２００）の各々、及び／又は、３つの鉛直調整装置（１００）の各々が設けられ、調整レバー（１０１、２０１）をそれぞれ有し、それらの回転軸（１０６、２０６）が、前記共通点（Ｐ１、Ｐ２）に対して１００°～１６０°の角度で互いに離れて配置されていることを特徴とする請求項１２に記載の装置。

【請求項14】

前記制御ロッド（１０８、２０８）が制御ロッドガイド（１０９、２０９）内で案内され、前記制御ロッドガイド（１０９、２０９）が上端において圧力伝達方式で前記支持フレーム（７）に取り付けられると共に、それらの下端において圧力伝達方式でアクチュエータユニット（１６）のハウジングに取り付けられ、前記アクチュエータユニット（１６）が、前記アクチュエータ（１２１、２２１）を有するように設けられていることを特徴とする請求項１～１３のいずれかに記載の装置。

【請求項15】

駆動ユニットにより鉛直方向に変位可能であるマスクリフトプレート（９）が、開口（１７）を有し、それを通って前記アクチュエータユニット（１６）に接続された前記制御ロッドガイド（１０９、２０９）が延在することを特徴とする請求項１４に記載の装置。

【請求項16】

中心の支持柱（１１）が基板ホルダ（１０）を支持し、かつ、前記支持柱（１１）の周囲に配置された複数の支持柱（８）が前記支持フレーム（７）を支持することを特徴とする請求項１～１５のいずれかに記載の装置。

【請求項17】

基板（１３）上にマスク（４）を適用することにより構造化された層を堆積するための装置であって、鉛直調整装置（１００）及び水平調整装置（２００）を有し、それらの各々が、基板ホルダ（１０）に対する前記マスク（４）の鉛直位置、傾斜角度及び水平位置を調整するために少なくとも３つの位置でマスクキャリア（６）とそれぞれ係合し、角度的に変位した態様で配置されている、前記装置において、
前記鉛直調整装置（１００）が前記マスクキャリア（６）と係合する位置において、前記マスク（４）の縁から前記基板ホルダ（１０）まで、又は、前記マスクキャリア（６）を支持する支持フレーム（７）までの鉛直方向の距離を決定するように装備された距離センサ（２５）が設けられていることを特徴とする装置。

【請求項18】

前記距離センサ（２５）が誘導性又は容量性の近接スイッチ、又は、光学的距離計測装置であることを特徴とする請求項１７に記載の装置。

【請求項19】

請求項１～１６のいずれかに記載の装置のセッティング方法であって、
マスクキャリア（６）を担持する支持フレーム（７）をマスク変更位置へと変位させるステップと、
マスク（４）を把持するマスクフレーム（５）を有するマスク機構（３）を前記マスクキャリア（６）上に配置するステップと、
前記マスクキャリア（６）及び前記マスク機構（３）と共に前記支持フレーム（７）を、前記マスク変更位置から処理位置へと鉛直方向に変位させ、前記マスクキャリア（６）が前記支持フレーム（７）に対して配列位置をとるステップと、
鉛直調整装置（１００）が前記マスクキャリア（６）と係合する３つの位置において、前記処理位置に変位させた前記マスク（４）の各縁から前記支持フレーム（７）又は基板ホルダ（１０）までの鉛直方向の距離（１５）を決定するステップと、
前記距離（１５）が均等になるまで、前記鉛直調整装置（１００）を用いて前記距離（１５）を変更するステップと、
前記基板ホルダ（１０）を搭載位置に変位させ、基板（１３）を前記基板ホルダ（１０）上に配置するステップと、
前記マスクキャリア（６）が前記配列位置にあるとき、前記基板ホルダ（１０）が前記マスク（４）から最小の前記距離（１５）を有する前記処理位置へと前記基板ホルダ（１０）を変位させるステップと、
前記マスク（４）が前記基板（１３）に対して配列位置に変位するまで、水平調整装置（２００）を用いて前記マスクキャリア（６）の水平方向の調整を行うステップと、
前記マスクを、前記配列位置から前記基板（１３）の表面に対する接触位置へと前記鉛直調整装置（１００）を用いて降下させるステップと、を有するセッティング方法。

【請求項20】

前記鉛直調整装置（１００）及び／又は前記水平調整装置（２００）が調整レバー（１０１、２０１）を有し、前記調整レバー（１０１、２０１）は、リアクタハウジング（２）の外側に配置されたアクチュエータ（１２１、２２１）により変位可能な制御ロッド（１０８、２０８）による鉛直方向の変位を含み、かつ、前記マスクキャリア（６）に接続された押しロッド（１１０）又はリンクアーム（２１０）に係合することを特徴とする請求項１９に記載の方法。

【請求項21】

中心の支持柱（１１）が前記基板ホルダ（１０）を支持し、かつ、前記支持柱（１１）の周囲に配置された複数の支持柱（８）が前記支持フレーム（７）を支持することを特徴とする請求項１９又は２０に記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、支持フレームに対するマスクキャリアの位置を調整するための調整装置を有し、基板上にマスクを適用することにより構造化された層を堆積するための装置に関する。

【0002】

本発明はまた、そのような装置をセッティングするための方法に関する。

【背景技術】

【0003】

本発明の装置は、例えばガラスからなる平坦な基板上にＯＬＥＤを堆積するために用いられる。このような装置は、粉体有機開始材料を蒸気に変換するために、例えば特許文献１に記載されたソース配置を用いる。気化した開始材料は、例えば特許文献２に記載のように搬送ガスと共にガス入口装置へと搬送される。ガス入口装置は、シャワーヘッドである。それは、コーティングされる基板の実質的に全体亘って延在する拡張表面を有する。ガス入口装置のガス出口面には、多数のガス出口孔があり、それらを通って蒸気がプロセスチャンバに入る。ガス入口装置の領域での蒸気の凝縮を回避するために、ガス入口装置は加熱される。ガス入口装置の下方にはプロセスチャンバが位置し、その床は基板ホルダにより形成されている。基板は、基板ホルダ上に載置される。特許文献３に記載されるように、基板ホルダは、搭載位置から処理位置へと鉛直方向に変位させることができる。処理位置において、フレームにより保持されたマスクが基板上に置かれる。それはシャドウマスクの形態をとり、コーティングプロセス中、ガス入口装置に対向する基板の広い面上に接触して載置されている。この手段により、構造化された層が堆積される。堆積プロセスは、実質的に、基板表面におけるマスクによりカバーされていない部分上での蒸気の凝縮である。このために、本発明の基板ホルダは、例えばそれに冷媒を通過させることによって能動的に冷却される。マスクも含め基板表面の冷却は、マスク又は基板表面から基板を通って基板ホルダ内への熱フローにより生じる。基板が変更されるとき、マスクと基板との間の接触が取り除かれることによって、熱放散が低減してマスクの加熱を生じる。このことは、熱膨張によるマスク幾何学形状の歪みを生じさせる。これを回避するために、上述した特許文献３では、基板又はマスクを変更するときに入口装置と基板ホルダとの間に導入される遮蔽板を提案している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】国際公開第2012/175128号パンフレット

【文献】独国特許出願公開第10 2014 116 991号明細書

【文献】独国特許出願公開第10 2010 000 447号明細書

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明の基本的な目的は、上述した概要に係る装置を、その使用に有利な態様で進展させることであり、層の堆積に有利な態様で装置をセッティングする方法を特定することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記目的は、請求の範囲で特定された本発明により達成される。その場合、従属項は従来技術の有利な進展であるだけでなく、個々の目的達成も示している。従属項で特定された発明は、互いに組み合わせることができ、それらの場合、問題とする目的に不要な特徴を省略することもできる。

【0007】

本発明の装置は、例えばスクリーン、ディスプレイ又はソーラーセル等の光学的にアクティブな平坦素子を作製するために、平坦な基板上に有機物質を堆積させるために用いられる。装置は、リアクタハウジングを有し、その中には特にシャワーヘッドの形態のガス入口装置がある。ガス入口装置は、プロセスチャンバ内へ導入される蒸気の開始材料がガス入口装置上で凝縮しないような高温に加熱される。基板は基板ホルダ上に載置され、基板ホルダは、シャワーヘッドから鉛直方向に離れた搭載位置から、ガス入口装置のガス出口面から短い鉛直方向距離に配置される処理位置まで変位可能である。基板上に堆積する層を構造化するためにマスクが設けられ、マスクはキャリア装置により担持される。マスクキャリア装置は、マスク機構を担持してリアクタハウジング内で鉛直方向にマスク変更位置から処理位置へと変位可能であるマスクキャリアを有する。処理位置において、マスクは基板表面上の接触位置に載置される。マスクは、基板表面と接触させられる前に、水平方向において基板の配列マークがマスクの配列マークと揃うように配列させなければならない。マスクを変更するとき、マスクの鉛直位置も調整されなければならない。異なるマスクには公差に関係する違いがあり、それが基板表面に対するマスク面の傾斜位置を生じる可能性がある。この傾斜位置は、鉛直調整により均衡させられる。マスク及び基板表面の大きさがデシメートル又はメートルの範囲である一方、鉛直調整及び水平調整は、ミクロン範囲で行わなければならない。ここで、不可避の振動が、そして装置の部品の公差もまた、阻害する影響をもたらす。

【0008】

本発明の目的の１つは、基板ホルダ又はマスクキャリアに関して、マスクの調整がさらに耐振動性を備えるように構成できる手段を特定することである。

【0009】

本発明によれば、調整装置が提供される。調整装置は、マスクキャアリアを支持する支持フレームに装着される。マスクキャリア上にはマスク機構が載置される。マスク機構は、マスクを把持するフレームを有する。マスクフレームは、マスクキャリア上に適宜の手段で拘束可能であることによってマスクキャリアに対する規定された位置を保持できる。調整装置は調整レバーを有することが好ましく、調整レバーは旋回ベアリングの回転軸の周りで回転可能であるように装着されている。好ましくは調整レバーが短尺アームと好ましくは長尺アームとを有し、そして短尺アームによりマスクキャリアと係合する点において、調整レバーはレバートランスミッションを形成する。トランスミッション比は、好ましくは少なくとも５：１、好ましくは少なくとも６：１である。
鉛直方向に変位可能である制御ロッドが、長尺アームと係合する。制御ロッドは、リアクタハウジングの開口を通り、気密性のリアクタハウジングの外側領域へと延在し、そこには制御ロッドをその延在方向に変位可能とするアクチュエータが配置されいる。
このような調整装置は、鉛直調整装置又は水平調整装置の形態をとることができる。好適な装置は、鉛直調整装置と水平調整装置の双方を有する。
鉛直調整装置については、短尺アーム及び長尺アームが実質的に水平方向に延在し、それらのアームが互いに角度０°又は角度１８０°で配列することができる。したがって、制御ロッドから、マスクキャリアに係合する押しロッドへの制御された運動、又は逆方向への運動の伝達を行うことができる。押しロッドは、関節方式で短尺アームの端部に、又は、関節方式でマスクキャリアにも取り付けることができる
水平調整装置についても、好ましくは長尺アームが水平方向に延在することによって、制御ロッドが関節方式で長尺アームと係合することができる。短尺アームは、好ましくは長尺アームに対して角度９０°をなし、リンクアームによりマスクキャリア上に関節接続されている。リンクアームと、調整レバーの２つのアームとは、好ましくは実質的に同じ方向に延在する。
本発明の好適な進展によれば、リンクアームはプリズムジョイントとすることができ、それは独立した重要性も有する。それは押しロッドを有し、押しロッドの互いに反対向きの先端がカップ形状の凹部と係合し、特に少なくともそれらの凹部の最深点にて係合する。それらの凹部は、端部片により形成される。２つの端部片の一方は、好ましくは短尺アームに接続される。他方の端部片は、マスクキャリアに接続された柱に接続される。押しロッド上で端部片を支持するために支持要素が設けられ、それらは端部片の反対側で支持される。
これは、凹部内に、特にカップ形状の凹部内に先端を挿入することによっても行うことができる。次に、支持要素が引張部材によって互いに接続され、その引張部材は、１又は複数の引きロッド又は引張体により形成することができる。引張力を生成するバネ要素が設けられる。そのバネは、引張バネ又は圧縮バネの形態をとることができる。例えば、引きロッドが支持要素の開口を通過することができる。圧縮バネを引きロッドの端部領域に配置することができ、これは２つの引きロッドの端部が共に接続されている接続片上で支持されている。引張部材は、特に入れ子式引張要素により形成することができ、１つの引張要素は、押しロッドが通過する空洞を有する。これは、バネ要素と重なるか、又は、バネ部材により重ねられることができる。引張力は、螺旋状の圧縮バネにより印加することができ、その圧縮バネは径方向内側の引張要素上に載置されてそこで例えば鍔部である突起により支持されており、そして圧縮バネは径方向外側の引張要素により覆われ、かつその他端において径方向外側の引張要素の、ここでも鍔部として形成できる突起上で支持されている。

【0010】

従来技術の更なる進展は、調整レバーの旋回ベアリングであり、やはり独立した重要性を有する。そして、特に、調整レバーの旋回ベアリングのためにリーフスプリングベアリングを使用することである。リーフスプリングベアリングは２つの領域を有し、各々が円形輪郭を有する。それらの領域は、円の中心を通る軸に関して軸方向に互いに隣り合って配置されている。リーフスプリングの２つの領域は、中心を通過する曲げウェブにより互いに接続されている。２つの軸方向に隣り合う領域は、摩擦又は遊び無しで互いに対して捻れることができ、その場合、実質的に軸を直線的に通って延在するそれらのウェブが曲がる。リーフスプリングベアリングは、調整レバーが装着される中央領域と、支持フレームに装着される２つの軸方向の突出するスタブシャフトとを有する。中央領域及び２つの軸方向外側の領域は、レバーが回転するときに回転しないようにクランプされている。レバーをその軸周りに回転させると、バネ要素を立体的に曲げることができる。
本発明はさらに、マスクリフト装置に関し、それによりマスクキャリアが、外部環境に対して気密態様でシールされたリアクタハウジング内で鉛直方向に変位することができる。ここで、支持フレーム、マスクキャリア、及び少なくとも１つの調整レバーが、同時に鉛直方向に変位することが好ましい。支持フレームと係合する１又は複数の支持柱が、リアクタハウジングの外側に配置された駆動手段により変位可能である。気密性の運動伝達手段がこのために設けられ、それは例えばベローズ機構として構成されている。これらの運動伝達手段により、支持柱が鉛直方向に変位でき、かつ、調整レバーの制御ロッドが鉛直方向に変位できる。
好ましい構成では、制御ロッドが支持柱内に延在している。好ましくは、制御ロッドが制御ロッドガイド内に延在する。制御ロッドガイドは、好適には管の形態をとり、支持柱の内部に配置されている。
マスクリフト装置は、マスクリフトプレートを有することができる。マスクリフトプレートは、好ましくは、フレームに取り付けられたガイドレール又は同様のものの上で案内される。フレームは、リアクタハウジングの外側に配置され、リアクタハウジングを支持することができる。
本発明の好ましい構成では、鉛直調整装置及び水平調整装置がそれぞれ対で設けられる。鉛直調整のための調整レバーは、好ましくは、水平調整のための調整レバーの隣に配置される。支持フレーム上に３対の調整レバーが配置されることが好ましい。調整レバーの回転軸は、好ましくは共通点の方に向いて配列しており、共通点は支持フレームの面内に位置することができる。好ましい構成では、それらの回転軸が等角度でそれぞれ互いに離れている。しかしながら、それらの回転軸が互いに離れている角度は、１００°～１６０°の間であれば十分である。鉛直調整のための調整レバーと水平調整のための調整レバーの回転軸が交差する２つの点が一致していてもよいが、それらが異なっていてもよい。
制御ロッドガイド内で制御ロッドを案内することにより、制御ロッドガイドの下端に位置するアクチュエータユニットの位置に一定の独立性がある。制御ロッドの上端を支持フレームに固定的に取り付けることができ、かつその下端をアクチュエータユニットのハウジングに固定的に接続することができる。アクチュエータユニットは、好ましくは、鉛直調整装置の調整レバーを調整するためのアクチュエータと、水平調整装置の調整レバーを調整するためのアクチュエータとを含む。制御ロッドは、好ましくは引きロッドの形態をとり、それは制御ロッドガイドが支持フレームに対して圧力を伝達したり、アクチュエータユニットのハウジングに取り付けられたりするのに重要である。しかしながら、それらはまた、引張に抗する方式で支持フレームに、すなわちアクチュエータユニットのハウジングに接続されることも好ましく、それにより制御ロッドが引き－押しロッドとして作用することができる。
特に支持フレームを支持する支持柱をその上で支持するマスクリフトプレートが、開口を有することができ、それを通して、アクチュエータユニットに接続された制御ロッドガイドが鉛直方向に自由に通過することができる。この構成により、例えば支持柱をマスクリフトプレートから機械的に切り離すために、マスクリフトプレートに対して支持フレームが変位することが可能となる。

【0011】

本発明の更なる態様は、水平調整装置及び鉛直調整装置を具備し、基板上へのマスクの適用により構造化された層を堆積するための装置に関する。ここでも、調整装置が、マスクキャリア上に配置された３つの角度的に精確に離れた位置において係合することが好ましい。しかしながら、それより多い位置とすることもできる。鉛直調整装置は、マスクの鉛直位置と共にその傾斜角を調整するために用いることができる。
水平調整装置は、マスクの横方向位置を調整するために用いることができる。変位は、面の２つの方向とすることができるが、その面内の回転とすることもできる。したがって、マスクを、マスクキャリアに対する、支持フレームに対する、又は基板ホルダに対する配列位置へと変位させることができる。基板は、基板ホルダ上に再現可能に置くことができないので、マスクが基板に対して調整可能であることが好ましい。その場合、マスクの配列マークが、基板の配位列マークとの配列位置へと変位させられる。これは、光学的な画像取得により行うことができる。
マスクを変更するとき、起こり得る基板面に対するマスク面の傾斜角も均衡させなければならない。マスク面と、基板が載置される基板面とは平行位置に変位させる必要がある。このために、本発明では距離センサが設けられ、それらは特に、鉛直調整のための手段が位置する場所に配置される。距離センサは、近接スイッチの形態をとることが好ましい。誘導性又は容量性の近接スイッチを用いることができる。しかしながら、反射により距離を決定する光学的距離計測計も考えられる。距離センサは、支持フレーム上に配置することができる。しかしながら、それらは、基板ホルダ上にも配置することができる。好ましくは、それらは、マスクの縁すなわちマスクにおけるマスクフレームに隣接する部分と、基板ホルダ又は支持フレームとの間の鉛直方向距離を決定するように配置される。
装置をセッティングする方法においては、以下のステップが順に実行される。
－ マスクキャリアを担持する支持フレームをマスク変更位置へと変位させるステップ。
－ マスクを把持するマスクフレームを有するマスク機構をマスクキャリア上に配置するステップ。
－ マスクキャリア及びマスク機構と共に支持フレームを、マスク変更位置から処理位置へと鉛直方向に変位させ、マスクキャリアが支持フレームに対して配列位置をとるステップ。
－ 鉛直調整装置がマスクキャリアと係合する３つの位置において、処理位置に変位させたマスクの各縁から支持フレーム又は基板ホルダまでの鉛直方向の距離を決定するステップ。
－ 距離が均等になるまで鉛直調整装置を用いて距離を変更するステップ。
－ 前記基板ホルダを搭載位置へと変位させるステップ。
－ 基板を基板ホルダ上に配置するステップ。
－ マスクキャリアが配列位置にあるとき、基板ホルダがマスクから最小の距離を有する処理位置へと基板ホルダを変位させるステップ。
－ マスクが基板に対して配列位置に変位するまで、水平調整装置を用いてマスクキャリアの水平方向の調整を行うステップ。
－ マスクを、配列位置から基板表面に対する接触位置へと鉛直調整装置を用いて降下させるステップ。

【0012】

ここでも、上述した調整レバーを用いて鉛直及び／又は水平の調整が行われる。その後の基板のコーティング中、マスクの鉛直位置は、通常、もはや調整する必要がない。なぜなら傾斜角は通常はもう変化しないからである。したがって、傾斜角は、基板無しで均衡させられている。その一方、水平調整は、基板ホルダに基板を置いた状態で行わなければならない。

【0013】

基板ホルダは、別のリフト装置によってその搭載位置から処理位置へと変位させられる。このために、好ましくは、リアクタハウジングの外側に配置された駆動装置により鉛直方向に変位可能な基板リフトプレートが設けられる。基板リフトプレートは、支持柱を担持する。しかしながら、複数の支持柱があることも可能である。支持柱は、リアクタハウジングの開口を通っている。基板リフトプレートがマスクリフトプレートの下方に位置する場合、マスクリフトプレートが開口を有し、それを基板ホルダリフト装置の支柱が通っている。基板ホルダがその処理位置に変位したとき、好ましくは、基板ホルダが拘束手段により支持フレームに直接接続される。拘束手段は、Ｖ溝と球面の形態をとることができる。球面は、好ましくは、支持フレームに局所的に割り当てられた球状要素により形成される。これらの球状要素は、Ｖ溝の傾斜側面上で支持される。３つの球状要素とＶ溝との相互作用により静的に決定される拘束位置が得られる。その場合、好ましくはＶ溝の頂点ラインが共通点で交差する。
以下、本発明の実施形態の例が添付の図面を用いて説明される。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】図１は、本質的構成要素及びそれらの相互作用を明確とするために高度に概略化した態様で鉛直断面における装置の断面を示し、マスクリフト装置がマスク変更位置に位置し、かつ基板ホルダリフト装置が搭載位置に位置している。

【図2】図２は、図１と同様の図を示すが、マスクリフト装置が処理位置に変位している。

【図3】図３は、図２に続く図を示すが、基板ホルダリフト装置が処理位置に変位している。

【図4】図４は、図３に続く図を示すが、基板リフトプレート１２が僅かに上昇し、又は、マスクリフトプレート９が僅かに降下することによって、間隙１４が形成されている。

【図5】図５は、図４に続く図を示すが、基板ホルダ１０に基板１３を搭載した後、基板ホルダ１０を処理位置とし、コーティングされる基板１３の基板表面上にマスク４を降下している。

【図6】図６は、支持フレーム７に対するマスクキャリア６の水平位置及び鉛直位置を調整可能とする鉛直調整装置１００及び水平調整装置２００の配置を示すために、支持フレーム７に対する概略平面図を示す。

【図7】図７は、水平調整装置２００の調整面２０１を概略的に示す。

【図8】図８は、プリズムジョイント２１０を概略的に示す。

【図9】図９は、鉛直調整装置１００の調整レバー１０１を概略的に示す。

【図10】図１０は、図１のＸの詳細拡大図を示す。

【図11】図１１は、図４のＸＩの詳細拡大図を示す。

【図12】図１２は、図１１のＸＩＩの詳細拡大図を示す。

【図13】図１３は、本発明による装置の台フレームの斜視図を示す。

【図14】図１４は、支持フレーム７に対する平面図、及び支持フレーム７のポケットに配置された調整装置１００、２００を示す。

【図15】図１５は、図１３に示す装置の幾つかの部品の展開図を示す。

【図16】図１６は、図１４のラインＸＶＩ－ＸＶＩに沿った断面図を示す。

【図17】図１７は、図１６のＸＶＩＩの詳細拡大図を示す。

【図18】図１８は、図１６のＸＶＩＩＩの詳細拡大図を示す。

【図19】図１９は、図１６のＸＩＸの詳細拡大図を示す。

【図20】図２０は、図１９に示す拡大図の領域であるが、図１４のラインＸＸ－ＸＸに沿った断面図を示す。

【図21】図２１は、旋回ベアリング１０６、２０６を形成するリーフスプリング２７の斜視図を示す。

【図22】図２２は、図２１のラインＸＸＩＩに沿った断面図を示す。

【図23】図２３は、図２１のラインＸＸＩＩＩ－ＸＸＩＩＩに沿った断面図を示す。

【図24】図２４は、鉛直調整装置１００の斜視図を示す。

【図25】図２５は、調整レバー１０１に対する平面図を示す。

【図26】図２６は、図２５のラインＸＸＶＩ－ＸＸＶＩに沿った断面図を示す。

【図27】図２７は、水平調整装置２００の斜視図を示す。

【図28】図２８は、水平調整装置を示す。

【図29】図２９は、図２８のラインＸＸＩＸ－ＸＸＩＸに沿った断面図を示す。

【図30】図３０は、第２の例示的実施形態の水平調整装置を示す。

【図31】図３１は、図３０の水平調整装置に対する平面図を示す。

【図32】図３２は、図３１のラインＸＸＸＩＩ－ＸＸＸＩＩに沿った断面図を示す。

【発明を実施するための形態】

【0015】

図１～図１２は、以下に説明する本発明の動作及び構成の説明に関する詳細を概略的に示す。

【0016】

鋼製のリアクタハウジング２は、外部環境に対して気密態様でシールされ、真空にすることができる。このために真空ポンプ（ここでは図示せず）が設けられる。さらに、リアクタハウジング２は閉鎖可能な開口を有し、それを通してマスク４及びマスクフレーム５からなるマスク機構をリアクタハウジング２内に挿入することができる。リアクタハウジング２の壁も開口（図示せず）を有し、それを通して基板を搭載することができる。

【0017】

鉛直方向に変位可能な基板リフトプレート１２は、リアクタハウジング２を担持できるフレーム（図示せず）に装着されている。基板リフトプレート１２は、開口を通してリアクタハウジング２内に突出する支持柱１１を担持する。支持柱１１はそこで基板ホルダ１０を担持し、基板ホルダ１０は冷却チャネル２３を有し、それを通して冷媒が基板ホルダ１０の基板支持面を冷却するために流れることができる。リアクタハウジング２において、開口を通して気密態様で支持柱１１を動作可能とするために、運動伝達手段、例えばベローズを設けることができる。

【0018】

基板ホルダ１０の鉛直上方には、シャワーヘッドの形態のガス入口装置１があり、それは図示しない加熱要素を有することができ、加熱要素は、ガス入口装置１を通って下方のプロセスチャンバ内に導入される有機原材料の蒸気が凝縮しない温度にガス入口装置１を加熱する。

【0019】

リアクタハウジング２の外側には、マスクリフトプレート９も配置されており、それも鉛直方向に変位可能である。支持柱１１は、マスクリフトプレート９の開口を通過することができる。ここでも、マスクリフトプレート２の運動を気密態様でリアクタハウジング２内に伝達するために適切な運動伝達手段を設けることができる。マスクリフトプレート９は、複数の支持柱８を担持しており、それらは開口を通ってリアクタハウジング２内に突出している。それらの上端において、支持柱８は支持フレーム７を支持し、その中には３つの鉛直調整装置１００及び３つの水平調整装置２００が配置されている。図１～図６では、それらは符号のみで表され、図７～図９では機能に関して符号のみで表される。

【0020】

支持柱８の下端は、マスクリフトプレート９上でのみ支持されている。それらの支持柱８は、図示の間隙１４を調整できるように、それらが鉛直方向にマスクリフトプレート９から離れて変位可能であるようにバネ要素２２によりマスクリフトプレート９に接続されている。そのとき支持柱８は、マスクリフトプレート９から切り離されている。

【0021】

支持柱８は中空である。制御ロッドガイド１０９は、鉛直調整装置１００の制御ロッド１０８のためにマスク支持柱の空洞内に延在し、制御ロッドガイド２０９は、水平調整装置２００の制御ロッド２０８のためのマスク支持柱の空洞内に延在している。１つの制御ロッドガイド１０９及び１つの制御ロッドガイド２０９は、それぞれマスクリフトプレート９の開口１７を通過し、そしてそれらの下端はアクチュエータユニット１６のハウジングに接続されている。したがって、アクチュエータユニット１６は、直接的にマスクリフトプレート９に接続されていない。アクチュエータユニット１６には、制御ロッド１０８を制御ロッドガイド１０９内で変位させるための第１のアクチュエータ１２１が配置され、そして制御ロッド２０８を制御ロッドガイド２０９内で変位させるための第２のアクチュエータ２２１が配置されている。

【0022】

鉛直調整装置１００は、旋回ベアリング１０６を具備する調整レバー１０１をそれぞれ有する。旋回ベアリング１０６の回転軸１０７同士は、支持フレーム７により囲まれた面内にある点Ｐ１で交差する（図６参照）。

【0023】

水平調整装置２００は３つの調整レバー２０１を有し、それらは、大凡、３つの調整レバー１０１も配置されているところに配置されている。調整レバー２０１はさらに、旋回ベアリング２０６の周りで回転可能である。旋回ベアリング２０６の回転軸２０７同士は、点Ｐ２において交差する。点Ｐ１と点Ｐ２の位置は、原理的には任意とすることができる。しかしながら好ましくは、点Ｐ１と点Ｐ２がほぼ一致している。図６に一点鎖線で示される軸１０７、２０７は、好ましくは１２０°の角度αをなす。しかしながら、その角度は１００°～１６０°の範囲内とすることもできる。

【0024】

図７は、水平調整装置２００の単一要素の構成を概略的に示している。支持フレーム７に固定的に接続された旋回ベアリング２０６は、特に遊びなしで、ここではアングルレバーとして構成された調整レバー２０１をリーフスプリングベアリングを用いて支持する。短尺レバーアーム２０３の約５倍の長さである長尺レバーアーム２０２が水平方向に延在し、一方、短尺レバーアーム２０３は鉛直方向に延在する。長尺アーム２０２の自由端における関節点２０４において制御ロッド２０８が関節接続され、制御ロッド２０８は管状の制御ロッドガイド２０９内で鉛直方向に変位可能である。短尺アーム２０３の自由端における関節点２０５においてリンクアーム２１０が関節接続され、リンクアーム２１０は他方で柱２２２に関節接続され、柱２２２はマスクキャリア６に固定的に接続されている。

【0025】

制御ロッド２０８が鉛直方向に変位する場合、調整レバー２０１がその旋回ベアリング２０６の周りで回転することで、図７の両矢印の方向の水平運動となる短尺アーム２０３上の関節点２０５の変位を生じさせる。この水平運動は、剛体柱２２２を介してマスクキャリア６に伝達される。

【0026】

図８は、リンクアーム２１０の好ましい構成の例を示す。リンクアームは、端部片２１３及び２１４により短尺アーム２０３の関節点２０５及び柱２２２に接続される。端部片２１３、２１４の互いに対向する側には凹部２１６を有し、その中で、押しロッド２１１の互いに反対向きの先端２１５が支持されている。各凹部２１６はカップ状の最下点を有し、そこで先端２１５が支持されている。端部片２１３、２１４は、反対側にも凹部２１６’を有し、その中で支持要素２１７、２１７’が支持されている。支持要素２１７、２１７’は、引張部材２１２により互いに接続されている。ここで、これらは、一端を支持要素２１７に取り付けられた引きロッドの形態をとる。それらの他端は、他方の支持要素２１７’の通路２１８を通過する。先端２１５の反対側では、ここでは圧縮バネであり支持要素２１７’上で支持されるバネ要素２２０が引張部材２１２により貫通され、それらのバネ要素２２０の他端は、引張部材２１２の端が取り付けられた接続片２１９により作用されることによって、バネ要素２２０が、凹部２１６に割り当てられた凹部２１６内の先端２１５を保持する引張力を形成する。

【0027】

図９は、鉛直調整装置１００の要素の調整レバー１０１の構成及びベアリング機構を概略的に示す。それは、短尺アーム１０３の約５倍の長さである長尺レバーアーム１０２を具備する２アームレバーの形態をとる。２つのアーム１０２及び１０３は、１８０°の角度で水平方向に延在している。しかしながら、それらは互いに９０°の角度でも延在することができる。長尺レバーアーム１０２の自由端において、管状の制御ロッドガイド１０９により案内される制御ロッド１０８が、関節点１０４で関節接続されている。短尺アーム１０３の自由端において、マスクキャリア６の下に係合する押しロッド１１０が関節点１０５で関節接続されている。押しロッド１１０は、関節点１１１においてスライド又は関節接続の態様でマスクキャリア６と係合している。制御ロッド１０８が鉛直方向に変位した場合、この鉛直変位は、押しロッド１１０の鉛直変位へと縮小される。さらに、任意のバネ要素１２０が設けられ、バネ要素１２０は、押しロッド１１０がマスクキャリア６に対して単純にスライド接続されている場合にマスクキャリア６に対して鉛直方向に付加的な引張力を印加する。

【0028】

図１１及び図１２は、基板ホルダ１０の上部を示す。基板ホルダ１０は、Ｖ溝の形態の拘束要素２１を有する。Ｖ溝２１はここでは概略のみを示す。それは延長部２４に設けられている。全部で３つのＶ溝２１が設けられる。それらのＶ溝２１の頂点ラインは共通点で交差する。Ｖ溝２１は水平面内に延在する。Ｖ溝２１は上方に開いている。

【0029】

支持フレーム７は、その下面に球を有し、それはＶ溝の側面上で支持される球面２０を形成する。Ｖ溝２１と球面２０により形成されるこの拘束手段により、支持フレーム７は、基板ホルダ１０により静的に決定された態様で直接支持されることができる。その結果、基板ホルダ１０と支持フレーム７との間の剛性かつ特に耐振動性の接続が得られる。支持フレーム７は、調整レバー１０１及び２０１によって、マスクフレーム５を担持するマスクキャリア６に機械的に剛接合されている。

【0030】

マスク変更後の装置のセッティングは、好ましくは以下のステップにより行われる。

【0031】

図１に示す位置では、基板ホルダ１０と、支持フレーム、マスクキャリア６及び調整装置１００、２００により形成されるマスクキャリア装置との双方が、それぞれ変更位置を占める。基板は、支持面１０’を形成する基板ホルダ１０の上面に配置することができる。そのマスクフレーム５を具備する別のマスクを、マスクキャリア６上に配置することができる。開口部を有する薄いマスク４がほぼ１つの面内に延在するように、マスクフレーム５上に引き伸ばされる。

【0032】

交換されたマスク機構３を設けられたマスクキャリア６は、マスクリフトプレート９を変位させることによって図２に示す処理位置へと上方に変位させられる。

【0033】

その後、基板リフトプレート１２の変位により、基板ホルダ１０が上方に、球面２０が未だＶ溝２１内で支持されていない図３に示す位置に持ち上げられる。

【0034】

その後、基板ホルダ１０が、マスクリフトプレート９に対して上方に変位させられるか、又は、マスクリフトプレート９が下方に僅かに変位させられる。この基板リフトプレート１２とマスクリフトプレート９との間の相対的変位により、球面２０がＶ溝２１に入り込む。マスクリフトプレート９と支持フレーム７との間の距離が大きくなる。支持柱８は、引張に抗する態様ではマスクリフトプレート９に接続されていないので、図４に符号１４で示すように支持柱８とマスクリフトプレート９との間に間隙が形成される。支持フレーム７は、もはやマスクリフトプレート９によって支持されておらず、基板ホルダ１０のみによって支持され、特に球面２０がＶ溝２１の側面上でそれぞれ支持される３つの支持点において支持されている。

【0035】

次のステップでは、図４に示す動作位置において、マスク４の縁と基板ホルダ１０との間の鉛直方向の距離が、近接スイッチの形態をとり得る図１１に示す距離センサ２５により少なくとも３つの位置において決定され、好ましくは鉛直調整装置１００の要素が配置された３つの位置において決定される。それらの鉛直方向の距離が均等になるまで、鉛直調整装置１００の調整レバー１０１を用いてそれらの鉛直方向の距離が変更される。その後、マスク４は、基板ホルダ１０に対して平行に位置する。

【0036】

しかしながら、本発明の変形形態では、距離センサ２５を支持フレーム７に取り付けることもできる。

【0037】

マスク４が基板ホルダ１０の上面１０’に対して平行な位置とされた後、基板ホルダ１０は、基板１３を搭載するためにその搭載位置（図２）へと降下させて戻すことができる。その後、基板ホルダ１０は処理位置へと変位させられ、そこではマスク４が、最初はまだ基板１３の上面から例えば０．５ｍｍの僅かな離間距離を有している。マスク４は、水平調整装置２００及び画像調整補助具（図示せず）を用いて基板１３に対して水平方向に調整することができる。このために、マスクの配列マーク（図示せず）が基板の配列マーク（図示せず）と一致させられる。調整レバー１０１、及び各短尺アーム１０３のマスクキャリア６との関節的な接続によって、マスクキャリア６は、面内で線形にのみ変位できるのではない。マスクキャリア６は回転することもできる。調整補助具は、基板ホルダに取り付けられたレーザーを有することができ、そしてそのレーザービームがマスクに向かう方向に向けられる。

【0038】

図１３～図３２は、基板上に有機分子を堆積するための本発明の装置を詳細に示す。図１３の斜視図は、マスクリフトプレート９及び基板リフトプレート１２が互いに実質的に独立して鉛直方向に変位可能であるフレームを具備する台フレームを示す。マスクリフトプレート９及び基板リフトプレート１２の変位のために電気的駆動部が設けられる。マスクリフトプレート９により、マスクキャリア６を担持する支持フレーム７が鉛直方向に変位可能であり、マスクキャリア６は他方では、シャドウマスク（図示せず）が取り付けられたマスクフレーム５を担持する。シャドウマスクは、鉛直方向において僅かだけ撓むようにマスクフレーム５に対して挟持される。基板ホルダ及びそれに載置される基板は、気密性のリアクタハウジングであるのでこの図では隠れている。

【0039】

図１４は、マスクキャリア６を取り外した支持フレーム７の方を向いた平面図である。支持フレーム７は、長方形の輪郭と、水平調整装置２００が中に配置されたポケット２８とを有する。それらのポケット２８は上方に開いており、鉛直調整装置１００が中に配置されたポケット２９も同様である。各鉛直調整装置１００は、それぞれ押しロッド１１０を有する。それらの押しロッド１１０は、三角形の頂点に配置されている。水平調整装置２００は、水平方向に変位可能な柱２２２を有する。柱２２２もまた、三角形の頂点に配置されている。

【0040】

２つの調整装置は、支持フレーム７の短いレグ上に、その延在方向に前後して位置している。鉛直調整装置１００は、水平調整装置２００と並んで延在している。押しロッド１１０と柱２２２は、鉛直調整装置１００及び水平調整装置２００により形成される配置における互いに反対側の２つの端部に位置している。

【0041】

鉛直調整装置１００及び水平調整装置２００の２つの更なる鏡像配置が、もう一方の短いフレームレグの隅領域に配置されている。ここでも、鉛直調整装置１００が、水平調整装置２００の隣に配置され、押しロッド１１０が柱２２２の反対側に配置されている。鉛直調整装置１００及び水平調整装置２００の配置は、調整レバー１０１、２０１の旋回ベアリング１０６、２０６がそれぞれ支持フレーム７により囲まれた領域内の点の方に向くようになっている。

【0042】

図１５は、調整装置１００、２００の旋回ベアリング２０６、１０６が装着されるベアリング凹部３０を示す。これらは、それぞれ半円凹部の形態をとって互いに並んでおり、その中に旋回ベアリング１０６、２０６のスタブシャフトが配置されている。ベアリング凹部３０を上方にてロックするベアリングロック要素３１が設けられる。

【0043】

図１７は、鉛直調整装置１００の断面を示す。調整レバー１０１は、旋回ベアリング１０６の周りで回転可能に装着されている。調整レバー１０１は、水平方向に延在する長尺アームを有する。長尺アーム１０２の端部における関節点１０４にて制御ロッド１０８が関節接続され、それは制御ロッドガイド１０９を通って延在している。バネ要素１２０が、やはり水平方向に延在する調整レバー１０１の短尺アーム１０３と係合している。短尺アーム１０３は、バネ要素により上方に引っ張られている。短尺アーム１０３上には、マスクキャリア６上で支持される押しロッド１１０もある。

【0044】

図１８は、水平調整装置２００の複数の例の１つを示す。レバーアーム２０１が、旋回ベアリング２０６の周りに装着されている。レバーアームは、長尺レバーアーム２０２と、短尺レバーアーム２０３とを有する。長尺レバーアーム２０２は水平方向に延在し、そして関節点２０４において制御ロッド２０８と関節接続され、制御ロッド２０８は、制御ロッドガイド２０９を通って鉛直方向に延在している。

【0045】

短尺レバーアーム２０３は、鉛直方向上方に延在している。リンクアーム２１０は、短尺レバーアーム２０３と関節接続されている。リンクアーム２１０は、押しロッド２１１とバネ要素２２０の形態の引張部材とを有する。押しロッド２１１は、その一端にて短尺アーム２０３上で支持され、その他端にて柱２２２上で支持され、柱２２２は曲げ抵抗を有する態様でマスクキャリア６に接続されている。バネ要素２２６は、柱２２２に対して下方への負荷を掛ける。バネ要素２２６はポケット２８の床に取り付けられている。

【0046】

図１９は、マスクリフトプレート９を貫通する通路１７を示す。部品３５がマスクリフトプレート９に取り付けられ、その部品の上で端部プレート３３を支持可能である。ベローズ２６の形態の運動伝達手段が、端部プレート３３に取り付けられている。ベローズの外側は大気圧であり、ベローズの内側は真空又は低圧である。端部プレート３３の縁領域は、バネ２２により部品３４に対してバネ付勢されている。部品３４は、部品３５と同様に、マスクリフトプレート９に固定的に接続されている。マスクリフトプレート９が降下されるとき、端部プレート３３は部品３５から離れ、部品３４と部品３５との間の空間に浮くことができる。

【0047】

部品３３はリング片３６を担持しており、リング片３６は、鉛直調整装置の制御ロッド１０８用の通路１２５、及び、水平調整装置２００の制御ロッド２０８用の通路２２５を形成している。それらのリング片３６は、それぞれベローズ２２３、１２３の端部分であり、それらの他端において、押しロッド１０８、２０８に固定的に接続されたリング片１２４、２２４を形成している。したがって、ベローズ１２３、２２３は、制御ロッド１０８及び２０８のための運動伝達手段を形成している。ベローズ１２３、２２３の内側は大気圧である。ベローズ１２３、２２３の外側は、真空又は低圧である。

【0048】

リング片１２４、２２４の上方には、端部プレート３３に固定的に接続されたブリッジ３２がある。制御ロッドガイド１０９、２０９は両方とも管状の形態であり、ブリッジ３２上で支持されている。制御ロッド１０９、２０９が支持柱として機能できることによって、端部プレート３３が部品３５上に載置されたとき、マスクリフトプレート９により支持フレーム７を支持する。そのとき、ブリッジ３２は、端部プレート３３に剛性的に接続されていることが好ましい。

【0049】

制御ロッド１０８、２０８の２つの下端は、アクチュエータ１２１、２２１に接続されている。図１９には示されていないアクチュエータハウジングは、端部プレート３３に、したがってブリッジ３２にも固定的に接続されている。

【0050】

図２０の断面は、図１９と同様の、後方に変位した断面を示す。端部プレート３３は、ここでは球３７により部品３５に対して支持されている。部品３５は、ここでは２つのＶ溝３８を形成し、それらは互いに反対側に位置し、そしてその中に球３７が位置している。

【0051】

図２１は、旋回ベアリング１０６及び２０６に用いられるリーフスプリング要素２７の斜視図を示す。中央領域４２が調整レバー１０１又は２０１を支持する。このために調整レバーが円形孔を有し、その円形孔は、中央領域４２が旋回ベアリング１０６又は２０６のベアリング孔内に回転可能に固定されて位置するようにクランプ螺子を用いて狭めることができる。

【0052】

両方の軸方向において、調整レバー１０１、２０１の広い面からスタブシャフト４１、４３が突出している。リーフスプリング２７の２つの部分の間、すなわちスタブシャフト４１の領域と中央領域４２との間及びスタブシャフト４３の領域と中央領４２との間には、ジョイント４４が延在している。リーフスプリング２７の端部には、ウェブ３９又は４０がそれぞれ設けられ、ウェブ３９はスタブシャフト４１、３２の領域に配置され、そしてウェブ４０は中央領域４２に配置されている。中央領域４２が２つの外側のスタブシャフト４１、４３の領域に対して回転する場合、ウェブ３９、４０が曲がることによって、単に曲げの結果として摩擦のない態様で回転運動が生じ得る。その際、ジョイント４４の領域においてリーフスプリングの領域４２と４３が互いに対して回転方向に動く。

【0053】

図２４～図２６は、鉛直調整装置の調整レバー１０１を示す。押しロッド１１０は、開口１２６内に挿入される。旋回ベアリング１０６を形成するリーフスプリングは、ベアリングアイ１２７に挿入することができる。

【0054】

図２７～図２９は、水平調整装置の実施形態の一例を示す。調整レバー２０１は長尺アーム２０２を有し、その端部に関節点２０４が配置されている。リーフスプリング２７が、ベアリングアイ２２７に挿入される。短尺レバーアーム２０３は、短尺レバーアーム２０３を効果的に形成する端部片２１３を担持している。引張部材２１２は、端部片の一方の面上で支持されている。端部片２１３の他方の面上では押しロッド２１１が支持されている。引張部材２１２は空洞を有し、それを押しロッド２１１が通過している。押しロッド２１１は、マスクキャリア６に固定的に接続された柱２２上に置かれた他方の先端により、端部片２１４上で支持されている。引張部材２１２の一部２２８は、圧縮ばねとして構成されたバネ要素２２０の背面に係合する。バネ要素２２０は別の引張部材２３０の突起２２９上で支持されている。引張部材２３０は管形態を有し、バネ要素２２０をその外壁上で支持している。引張部材２３０は、端部片２１４に取り付けられている。引張部材は、ここでは互いにバネ付勢された２つの引張部材により形成されている。

【0055】

図３０～図３２は、水平調整装置２００の別の例示的実施形態を示し、その場合、引張部材２１２が互いに平行に延在する２つの引きロッドからなる。ここでも、調整レバー２０１が、旋回ベアリング２０６を形成するためのベアリングアイを有し、その中にリーフスプリングベアリング２７が挿入される。ベアリングアイは、リーフスプリングベアリング２７の中央領域に対して押圧することができる。この例示的実施形態の説明のために、図８の説明を参照する。

【0056】

上記の説明は、本願により記録された発明を全体的に説明するためのものであり、それは、少なくとも以下の特徴の組合せにより及び各々独立しても従来技術をさらに進展させるものであり、その場合、２つ、複数、又は全てのこれらの特徴の組合せもまた組み合わせることができる。

【0057】

調整装置１００、２００が、旋回ベアリング１０６、２０６の回転軸１０７、２０７の周りで回転可能であるように支持フレーム７上に装着された調整レバー１０１、２０１を有すると共に、第１のアーム１０１、２０２及び第２のアーム１０３、２０３を有し、前記第２のアーム１０３、２０３がマスクキャリア６と係合し、かつ、アクチュエータ１２１、２２１により鉛直方向に変位可能な制御ロッド１０８、２０８が第１のアーム１０２、２０２と係合することを特徴とする装置。

【0058】

鉛直調整装置１００において、前記第２のアーム１０３及び前記第１のアーム１０２が水平方向に延在し、前記第２のアーム１０３が、前記マスクキャリア６に接続された押しロッド１１０と係合することを特徴とする装置。

【0059】

水平調整装置２００において、前記第２のアーム２０３が鉛直方向に延在すると共に、前記第１のアーム２０２が水平方向に延在し、前記第２のアーム２０３が、前記第２のアームに関節接続されたリンクアーム２２０により前記マスクキャリア６に接続されていることを特徴とする装置。

【0060】

前記第１のアームが前記調整レバー１０１、２０１の長尺アームであり、かつ前記第２のアームが前記調整レバー１０１、２０１の短尺アームであることを特徴とする装置。

【0061】

前記水平調整装置２００の前記リンクアーム２２０がプリズムジョイントであり、押しロッド２１１の互いに反対側の先端２１５が、それぞれ端部片２１３、２１４の凹部２１６内で支持され、かつ、引張部材２１３が前記端部片２１３、２１４と係合すると共に前記凹部２１６内の前記先端２１５に対して負荷を掛けることを特徴とする装置。

【0062】

前記引張部材２１２が取付点２１７において端部片２１３に固定的に接続され、前記引張部材により作用するバネ要素２２０が設けられ、前記バネ要素２２０が前記引張部材２１２上で支持されることにより一方の端部片２１４に対して他方の端部片２１３の方への力を印加することを特徴とする装置。

【0063】

前記引張部材２１２が空洞を有し、それを通して前記押しロッド２１１が案内されることを特徴とする装置。

【0064】

前記引張部材２１２が２つの入れ子要素を有し、前記要素のうちの内側の１つが、圧縮バネの形態のバネ要素２２０により囲まれていることを特徴とする装置。

【0065】

前記旋回ベアリング１０６、２０６が、摩擦のないリーフスプリングベアリングであることを特徴とする装置。

【0066】

前記長尺レバーアーム１０２、２０２が、前記短尺レバーアーム１０３、２０３の少なくとも５倍、好ましくは少なくとも６倍の長さであることを特徴とする装置。

【0067】

前記マスクキャリア６と、前記調整レバー１０１、２０１と、前記支持フレーム７とが、外部環境に対して気密態様でシールされたリアクタハウジング２内においてマスクリフト装置により鉛直方向に変位可能であるように配置されており、前記制御ロッド１０８、２０８と、前記支持フレーム７に対して作用する支持柱とが、前記リアクタハウジング２の外側から気密性の運動伝達手段によって変位可能であることを特徴とする装置。

【0068】

特にマスクリフトプレート９を有する前記マスクリフト装置が、前記リアクタハウジング２の外側に配置されていることを特徴とする装置。

【0069】

前記調整レバー１０１、２０１の回転軸１０７、２０７が、前記支持フレーム７により囲まれた面内に位置する共通点Ｐ１、Ｐ２の方に向いていることを特徴とする装置。

【0070】

３つの水平調整装置２００の各々、及び／又は、３つの鉛直調整装置１００の各々が設けられ、調整レバー１０１、２０１をそれぞれ有し、それらの回転軸１０６、２０６が、前記共通点Ｐ１、Ｐ２に対して１００°～１６０°の角度で互いに離れて配置されていることを特徴とする装置。

【0071】

前記制御ロッド１０８、２０８が、制御ロッドガイド１０９、２０９内で案内され、前記制御ロッドガイド１０９、２０９が、上端において圧力伝達態様で前記支持フレーム７に取り付けられると共に、それらの下端において圧力伝達態様でアクチュエータユニット（１６）のハウジングに取り付られ、特に、前記アクチュエータユニット１６が、前記鉛直調整装置の前記制御ロッド１０８を変位させるためのアクチュエータ１２１と、前記水平調整装置２００のアクチュエータ２２１とを有するように設けられていることを特徴とする装置。

【0072】

駆動ユニットにより鉛直方向に変位可能であるマスクリフトプレート９が、開口１７を有し、それを通って前記アクチュエータユニットに接続された前記制御ロッドガイド１０９、２０９が延在することを特徴とする装置。

【0073】

前記鉛直調整装置１００が前記マスクキャリア６と係合する位置において、前記マスク４の縁から前記基板ホルダ１０又は前記支持フレーム７までの鉛直方向の距離を検知するように装備された距離センサ２５が設けられていることを特徴とする装置。

【0074】

前記距離センサ１９が誘導性又は容量性の近接スイッチ、又は、光学的距離計測装置であることを特徴とする装置。

【0075】

以下のステップを有することを特徴とする方法。
－ マスクキャリア６を担持する支持フレーム７をマスク変更位置へと変位させるステップ。
－ マスク４を把持するマスクフレーム５を有するマスク機構３を前記マスクキャリア６上に配置するステップ。
－ 前記マスクキャリア６及び前記マスク機構３と共に前記支持フレーム７を、前記マスク変更位置から処理位置へと鉛直方向に変位させ、前記マスクキャリア６が前記支持フレーム７に対して配列位置をとるステップ。
－ 鉛直調整装置が前記マスクキャリア６と係合する３つの位置において、前記処理位置に変位させた前記マスク４の各縁から前記支持フレーム７又は前記基板ホルダ１０までの鉛直方向の距離１５を決定するステップ。
－ 前記距離１５が均等になるまで前記鉛直調整装置１０を用いて前記距離を変更するステップ。
－ 前記基板ホルダ１０を搭載位置へと変位させるステップ。
－ 基板１３を前記基板ホルダ１０上に配置するステップ。
－ 前記マスクキャリア６が前記配列位置にあるとき、前記基板ホルダ１０が前記マスク４から最小の前記距離１５を有する前記処理位置へと前記基板ホルダ１０を変位させるステップ。
－ 前記マスク４が前記基板１３に対して配列位置に変位するまで、水平調整装置２００を用いて前記マスクキャリア６の水平方向の調整を行うステップ。
－ 前記マスクを、前記配列位置から前記基板１３の表面に対する接触位置へと前記鉛直調整装置１００を用いて降下させるステップ。

【0076】

前記鉛直調整装置１００及び／又は前記水平調整装置２００が調整レバー１０１、２０１を有し、前記調整レバー１０１、２０１は、前記リアクタハウジングの外側に配置されたアクチュエータ１２１、２２１により変位可能な制御ロッド１０８、２０８による鉛直方向の変位を含み、かつ、前記マスクキャリア６に接続された押しロッド１１０又はリンクアーム２１０に係合することを特徴とする方法。

【0077】

中心の支持柱１１が前記基板ホルダ１０を支持し、かつ、前記支持柱１１の周囲に配置された複数の支持柱８が前記支持フレーム７を支持することを特徴とする装置。

【0078】

前記基板ホルダ１０を、前記支持フレーム７の前記処理位置に拘束する拘束手段２０、２１を特徴とする装置。

【0079】

前記拘束手段が、Ｖ溝２１と球面２０とを有することを特徴とする装置。

【0080】

前記球面２０が、前記支持フレーム７の球状要素により形成され、かつ、前記球面２０が前記基板ホルダ１０により形成された前記Ｖ溝２１の側面上で支持されることを特徴とする装置。

【0081】

Ｖ溝２１とそれぞれ相互作用する前記球状要素が設けられ、前記Ｖ溝２１が共通点に対して配列していることを特徴とする装置。

【0082】

前記マスクリフト装置が、前記リアクタハウジング２の外側に配置された駆動装置により鉛直方向に変位可能である少なくとも１つの支持柱８を有することを特徴とする装置。

【0083】

前記基板ホルダリフト装置が、前記リアクタハウジング２の外側に配置された駆動装置により鉛直方向に変位可能である少なくとも１つの支持柱１１を有することを特徴とする装置。

【0084】

前記マスクリフト装置及び／又は前記基板ホルダリフト装置が、前記リアクタハウジング２に接続されたフレーム上で案内される水平方向に延在するマスクリフトプレート９又は基板リフトプレート１２を有することを特徴とする装置。

【0085】

特にベローズ機構である気密性の運動伝達手段が設けられ、それによって前記駆動装置の鉛直方向の運動が前記支持柱８、１１に伝達されることを特徴とする装置。

【0086】

前記マスク４が前記基板１３の表面に接触して載置されている前記マスク機構３の処理位置において、前記マスクリフト装置の前記支持柱８が、前記リアクタハウジング２に機械的に結合したフレームに取り付けられたマスクリフトプレート９から機械的に切り離されていることによって、前記支持フレーム７が前記基板ホルダ１０のみにより支持されることを特徴とする装置。

【0087】

前記支持柱８の前記マスクリフトプレート９からの機械的な切り離しは、前記支持柱８と前記マスクリフトプレート９との間の間隙１４の形成により得られることを特徴とする装置。

【0088】

前記マスクリフトプレート９から機械的に切り離された前記支持柱８をその位置に保持するための保持バネ１８を特徴とする装置。

【0089】

中心の支持柱１１が前記基板ホルダ１０を支持すると共に、前記支持柱１１の周囲に配置された複数の支持柱８が前記支持フレーム７を支持することを特徴とする装置又は方法。

【0090】

前記支持フレーム７に対する前記マスクキャリア６の位置を調整するための調整装置１００、２００であって、前記支持フレーム７上で前記調整装置１００、２００が、アクチュエータ１２１、２２１により鉛直方向に変位可能である制御ロッド１０８、２０８と係合することを特徴とする装置。

【0091】

前記制御ロッド１０８、２０８が、外部環境に対して気密態様でシールされたリアクタハウジング２の外側から気密性の運動伝達手段を用いて変位可能であることを特徴とする装置。

【0092】

開示されたすべての特徴は、（個別に、そして互いの組合せの双方において）本発明にとって不可欠である。本願の開示において、関連する／添付の優先書類の開示内容（先行出願の複写）もまた、本願の請求項にこれらの書類の特徴を組込む目的のために、ここに完全に包含される。従属項は、特にこれらの請求項に基づいて分割出願を行うために、先行技術の本発明の開発とは独立した構成を特徴とする。各請求項で特定される本発明は、上記の説明で説明された特徴、特に参照符号を備えた特徴および/または参照符号のリストで特定された特徴をさらに含むことができる。本発明はまた、特に個々の目的のために認識可能に不要であるか、または他の技術的に均等の手段で置き換えることができる限り、上記の説明で言及した特徴の各々が実装されない形態にも関連する。

【符号の説明】

【0093】

１ ガス入口装置
２ リアクタハウジング
３ マスク機構
４ マスク
５ マスクフレーム
６ マスクキャリア
７ 支持フレーム
８ 支持柱
９ マスクリフトプレート
１０ 基板ホルダ
１０’ 支持面
１１ 支持柱
１２ 基板リフトプレート
１３ 基板
１４ 間隙
１５ 距離
１６ アクチュエータユニット
１７ 開口
１９ 保持バネ
２０ 球面
２１ Ｖ溝
２２ バネ要素
２３ 冷却通路
２４ 延長部
２５ 距離センサ
２６ 運動伝達手段、ベローズ
２７ リーフスプリング、リーフスプリングベアリング
２８ ポケット
２９ ポケット
３０ ベアリング凹部
３１ ベアリングロック要素
３２ ブリッジ
３３ 端部プレート
３４ 部品
３５ 部品
３６ リング片
３７ 球
３８ Ｖ溝
３９ ウェブ
４０ ウェブ
４１ スタブシャフト軸方向端部
４２ 中央領域
４３ スタブシャフト軸方向端部
１００ 鉛直調整装置
１０１ 調整レバー
１０２ 長尺アーム
１０３ 短尺アーム
１０４ 関節点
１０５ 関節点
１０６ 回転軸、旋回ベアリング
１０７ 回転軸
１０８ 制御ロッド
１０９ 制御ロッドガイド
１１０ 押しロッド
１２０ バネ要素
１２１ アクチュエータ
１２３ ベローズ
１２４ リング
１２５ 開口
１２６ 開口
１２７ ベアリングアイ
２００ 水平調整装置
２０１ 調整レバー
２０２ 長尺アーム
２０３ 短尺アーム
２０４ 関節点
２０５ 関節点
２０６ 旋回ベアリング
２０７ 回転軸
２０８ 制御ロッド
２０９ 制御ロッドガイド
２１０ リンクアーム
２１１ 押しロッド
２１２ 引張部材
２１３ 端部片
２１４ 端部片
２１５ 先端
２１６ 凹部
２１６’ 凹部
２１７ 支持要素
２１７’ 支持要素
２１８ 開口
２１９ 接続片
２２０ バネ要素
２２１ アクチュエータ
２２２ 柱
２２３ ベローズ
２２４ リング
２２５ 開口
２２６ バネ要素
２２７ ベアリングアイ
２２８ 引張部材の一部
２２９ 突起
２３０ 引張部材
Ｐ１ 点
Ｐ２ 点
α 角度

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】

【図29】

【図30】

【図31】

【図32】