特許 7167493 共重合体の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-10-31

(45)【発行日】2022-11-09

(54)【発明の名称】共重合体の製造方法

(51)【国際特許分類】

   C08F 220/02 20060101AFI20221101BHJP

【ＦＩ】

C08F220/02

【請求項の数】 2

(21)【出願番号】P 2018108037

(22)【出願日】2018-06-05

(65)【公開番号】P2019210386

(43)【公開日】2019-12-12

【審査請求日】2021-05-19

(73)【特許権者】

【識別番号】000003300

【氏名又は名称】東ソー株式会社

(72)【発明者】

【氏名】北川 貴裕

(72)【発明者】

【氏名】伊藤 早希

(72)【発明者】

【氏名】藤井 靖芳

【審査官】西山 義之

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１７－１３２８８１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－０３１１８６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００２－２１２２２９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００８－２５５２２９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－１４５２８９（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１６／１５８９３９（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第２００９／１３９３３６（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特表２００５－５１５２７０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ０８Ｆ ２２０／０２

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

一般式（１）で表される単量体Ａおよび一般式（２）で表される単量体Ｂを、水溶性有機溶媒と水からなる混合溶媒中または脂肪族炭化水素とアルコールからなる混合溶媒中で油溶性ラジカル開始剤を用いて沈殿重合を行い、混合溶媒が水溶性有機溶媒と水からなる場合、水溶性有機溶媒と水との混合割合が水溶性溶媒８５～６５重量％、水１５～３５重量％であり、混合溶媒が脂肪族炭化水素とアルコールからなる場合、脂肪族炭化水素とアルコールとの混合割合が脂肪族炭化水素６０～３０重量％、アルコール４０～７０重量％であることを特徴とする共重合体の製造方法。

【化1】

（ここで、Ｒ_１、Ｒ_２はそれぞれ独立して水素（ただし、Ｒ_１、Ｒ_２が共に水素である場合を除く。）、シアノ基、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ_１）、アミド基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ_２）（Ｘ_３））、またはアシル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｘ_４）（ここで、Ｘ_１～Ｘ_３はそれぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～６の環状アルキル基を示し、Ｘ_４は炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状基を示す。）を示す。Ｒ_３～Ｒ_７はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基、炭素数３～１４の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基（－ＯＸ_５）、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ_６）、アミド基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ_７）（Ｘ_８））、アシル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｘ_９）、アミノ基（－Ｎ（Ｘ_１０）（Ｘ_１１））、またはスルホン酸基（－ＳＯＯＸ_１２）（ここで、Ｘ_５～Ｘ_８は、それぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～６の環状アルキル基を示し、Ｘ_９～Ｘ_１２はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～６の環状アルキル基を示す。）を示す。また、Ｒ_３～Ｒ_７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）

【化2】

（ここで、Ｒ_８はヘテロ原子を１つ以上含むｍ員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない５員環残基を示し、ｍは５～１０の整数を示す。前記ｍ員環複素環残基および前記５員環残基は縮合環構造を形成してもよい。）

【請求項2】

水溶性有機溶媒と水からなる混合溶媒または脂肪族炭化水素とアルコールからなる混合溶媒１００重量部に対し、単量体Ａおよび単量体Ｂの合計３～５０重量部、ならびに油溶性ラジカル重合開始剤０．００１～５重量部を用いることを特徴とする請求項１に記載の共重合体の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、新規な共重合体の製造方法に関するものであり、さらに詳細には、薄膜においても高い位相差を有する位相差フィルム、特に液晶表示素子用の光学補償フィルムまたは有機ＥＬ用円偏光板の位相差フィルムに適した新規な共重合体の製造方法に関するものである。

【背景技術】

【0002】

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、スマートフォン、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。

【0003】

液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償等大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は以下に示すように定義される。

【0004】

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした屈折率楕円体で表すことができる。

【0005】

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく（進相軸：延伸方向）、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい（進相軸：延伸方向と垂直方向）。

【0006】

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。

【0007】

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えばスーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ（ＳＴＮ－ＬＣＤ）や垂直配向型液晶ディスプレイ（ＶＡ－ＬＣＤ）、面内配向型液晶ディスプレイ（ＩＰＳ－ＬＣＤ）、反射型液晶ディスプレイ（反射型ＬＣＤ）等のディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。

【0008】

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法（例えば、特許文献１～３参照）である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている（例えば、特許文献４参照）。

【0009】

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献５参照）。

【0010】

しかし、特許文献１～４において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性等の制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。

【0011】

特許文献５で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。

【0012】

また、フマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなるフィルムが提案されている（例えば、特許文献６～１２参照）。

【0013】

特許文献６～１２で提案されたフマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなるフィルムは高い位相差を有しているものの、現状においては、より薄膜においても高い位相差を発現する重合体及びその製造方法、並びに該重合体を用いてなるフィルムが求められている。

【0014】

我々は特定の芳香族系共重合体が薄膜で高い位相差を発現することを見出し、該重合体の製造方法を見出している。該製造方法では、ラジカル重合を行うことにより芳香族系共重合体を製造するものである。ここで一般に、ラジカル重合の方法としては、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等がある。これらの中でも、沈殿重合法は粒子状の重合物を得ることができるため、溶液重合における、ポリマー回収のための再沈殿工程が不要であること、懸濁重合法や分散重合法で必要となる懸濁安定剤や分散剤を使用しないため、重合工程後に添加剤の除去工程が不要であること等の有利な特徴を有する。

【0015】

前記薄膜で高い位相差を発現する芳香族系共重合体について、沈殿重合により製造する製造方法が求められている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0016】

【文献】特許２８１８９８３号公報

【文献】特開平５－２９７２２３号公報

【文献】特開平５－３２３１２０号公報

【文献】特開平６－８８９０９号公報

【文献】特開２００５－１５６８６２号公報

【文献】特開２００８－１１２１４１号公報

【文献】特開２０１２－０３２７８４号公報

【文献】ＷＯ２０１２／００５１２０号公報

【文献】特開２００８－１２９４６５号公報

【文献】特開２００６-１９３６１６号公報

【文献】ＷＯ２０１４／０１３９８２号公報

【文献】ＷＯ２０１４／０８４１７８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0017】

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、薄膜においても高い位相差を有する光学特性に優れたフィルムに適した新規な共重合体を、沈殿重合により効率良く経済的に製造する方法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0018】

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の共重合体の製造方法が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

【0019】

すなわち、本発明は、一般式（１）で表される単量体Ａおよび一般式（２）で表される単量体Ｂを、水溶性有機溶媒と水からなる混合溶媒中または脂肪族炭化水素とアルコールからなる混合溶媒中で油溶性ラジカル開始剤を用いて沈殿重合を行うことを特徴とする共重合体の製造方法に関するものである。

【0020】

【化1】

【0021】

（ここで、Ｒ_１、Ｒ_２はそれぞれ独立して水素（ただし、Ｒ_１、Ｒ_２が共に水素である場合を除く。）、シアノ基、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ_１)、アミド基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ_２）（Ｘ_３））、またはアシル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｘ_４)（ここで、Ｘ_１～Ｘ_３はそれぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～６の環状アルキル基を示し、Ｘ_４は炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状基を示す。）を示す。Ｒ_３～Ｒ_７はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、炭素数３～１４の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基（－ＯＸ_５）、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ_６）、アミド基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ_７）（Ｘ_８））、アシル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｘ_９）、アミノ基（－Ｎ（Ｘ_１０）（Ｘ_１１））、またはスルホン酸基（－ＳＯＯＸ_１２）（ここで、Ｘ_５～Ｘ_８は、それぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～６の環状アルキル基を示し、Ｘ_９～Ｘ_１２はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～６の環状アルキル基を示す。）を示す。また、Ｒ_３～Ｒ_７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）

【0022】

【化2】

【0023】

（ここで、Ｒ_８はヘテロ原子を１つ以上含むｍ員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない５員環残基を示し、ｍは５～１０の整数を示す。前記ｍ員環複素環残基および前記５員環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい。）
以下、本発明について詳細に説明する。

【0024】

本発明の共重合体の製造方法は、一般式（１）で表される単量体Ａおよび一般式（２）で表される単量体Ｂを、水溶性有機溶媒と水からなる混合溶媒中または脂肪族炭化水素とアルコールからなる混合溶媒中で油溶性ラジカル開始剤を用いて沈殿重合を行うものである。

【0025】

本発明の共重合体は、一般式（１）で表される単量体Ａを基にする残基単位Ａおよび一般式（２）で表される単量体Ｂを基にする残基単位Ｂを含むことを特徴とする共重合体である。そして、該共重合体は、該残基単位Ａ及び該残基単位Ｂを含んでなることにより、より薄膜においても高い位相差を発現するものである。

【0026】

本発明の一般式（１）におけるＲ_１、Ｒ_２はそれぞれ独立して水素（ただし、Ｒ_１、Ｒ_２が共に水素である場合を除く。）、シアノ基、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ_１）、アミド基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ_２）（Ｘ_３））、またはアシル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｘ_４)（ここで、Ｘ_１～Ｘ_３はそれぞれ独立して、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～６の環状アルキル基を示し、Ｘ_４は炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状基を示す。）を示す。

【0027】

Ｘ_１～Ｘ_４における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、Ｘ_１～Ｘ_３における炭素数３～６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、Ｘ_４における炭素数３～１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

【0028】

本発明の一般式（１）におけるＲ_１としては、より高い位相差を発現することから、シアノ基;メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ－プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基等のエステル基;ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジｎ－プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基等のアミド基;アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基であることが好ましく、シアノ基、メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ－プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジｎ－プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ベンゾイル基であることがさらに好ましく、シアノ基、メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ－プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基であることが特に好ましい。

【0029】

本発明の一般式（１）におけるＲ_２としては、より高い位相差を発現することから、水素;シアノ基;メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ－プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基等のエステル基であることが好ましく、水素、シアノ基、メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ－プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基であることがさらに好ましく、シアノ基、イソブチルエステル基であることが特に好ましい。

【0030】

本発明の一般式（１）におけるＲ_３～Ｒ_７はそれぞれ独立して水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、炭素数３～６の環状アルキル基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基（－ＯＸ_５）、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ_６）、アミド基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ_７）（Ｘ_８））、アシル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｘ_９）、アミノ基（－Ｎ（Ｘ_１０）（Ｘ_１１））、またはスルホニル基（－ＳＯＯＸ_１２）（ここで、Ｘ_５～Ｘ_８は、それぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～１４の環状アルキル基を示し、Ｘ_９～Ｘ_１２はそれぞれ独立して、水素、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数１～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～６の環状アルキル基を示す。）を示す。また、Ｒ_３～Ｒ_７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。

【0031】

Ｒ_３～Ｒ_７における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられ、炭素数３～６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

【0032】

Ｒ_３～Ｒ_７におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられる。

【0033】

Ｘ_５～Ｘ_１２における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられ、炭素数３～６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

【0034】

本発明の一般式（１）におけるＲ_３～Ｒ_７としては、より高い位相差を発現することから、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ―プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジｎ－プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、スルホン酸基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ－プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基が好ましい。

【0035】

具体的な一般式（１）で表される残基単位Ａとしては、例えば、α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－メチル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－メチル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－メチル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－エチル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－エチル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－エチル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－ｎ－プロピル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－ｎ－プロピル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－ｎ－プロピル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－イソプロピル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－イソプロピル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－イソプロピル－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－フルオロ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－フルオロ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－フルオロ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－クロロ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－クロロ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－クロロ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－ブロモ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－ブロモ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－ブロモ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－シアノ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－シアノ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－シアノ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－ニトロ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－ニトロ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－ニトロ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－メトキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－メトキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－メトキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－エトキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－エトキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－エトキシ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、２－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、３－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－メチル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－メチル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－メチル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－エチル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－エチル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－エチル－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－フルオロ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－フルオロ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－フルオロ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－クロロ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－クロロ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－クロロ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－ブロモ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－ブロモ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－ブロモ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－シアノ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－シアノ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－シアノ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－ニトロ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－ニトロ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－ニトロ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－メトキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－メトキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－メトキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－エトキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－エトキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－エトキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、２－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、３－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－メチル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－メチル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－メチル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－エチル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－エチル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－エチル－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－フルオロ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－フルオロ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－フルオロ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－クロロ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－クロロ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－クロロ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－ブロモ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－ブロモ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－ブロモ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－シアノ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－シアノ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－シアノ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－ニトロ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－ニトロ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－ニトロ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－メトキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－メトキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－メトキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－エトキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－エトキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－エトキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、２－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、３－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－メチル－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－メチル－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－メチル－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－エチル－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－エチル－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－エチル－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－フルオロ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－フルオロ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－フルオロ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－クロロ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－クロロ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－クロロ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－ブロモ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－ブロモ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－ブロモ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－シアノ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－シアノ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－シアノ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－ニトロ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－ニトロ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－ニトロ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－メトキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－メトキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－メトキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－エトキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－エトキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－エトキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－メチル－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－メチル－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－メチル－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－エチル－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－エチル－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－エチル－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－フルオロ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－フルオロ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－フルオロ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－クロロ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－クロロ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－クロロ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－ブロモ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－ブロモ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－ブロモ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－シアノ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－シアノ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－シアノ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－ニトロ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－ニトロ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－ニトロ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－メトキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－メトキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－メトキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－エトキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－エトキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－エトキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－ジメチルアミノ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４－ジエチルアミノ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、ベンザルマロノニトリル残基単位、２－メチルベンザルマロノニトリル残基単位、３－メチルベンザルマロノニトリル残基単位、４－メチルベンザルマロノニトリル残基単位、２－エチルベンザルマロノニトリル残基単位、３－エチルベンザルマロノニトリル残基単位、４－エチルベンザルマロノニトリル残基単位、２－フルオロベンザルマロノニトリル残基単位、３－フルオロベンザルマロノニトリル残基単位、４－フルオロベンザルマロノニトリル残基単位、２－クロロベンザルマロ
ノニトリル残基単位、３－クロロベンザルマロノニトリル残基単位、４－クロロベンザルマロノニトリル残基単位、２－ブロモベンザルマロノニトリル残基単位、３－ブロモベンザルマロノニトリル残基単位、４－ブロモベンザルマロノニトリル残基単位、２－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、４－ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２－シアノベンザルマロノニトリル残基単位、３－シアノベンザルマロノニトリル残基単位、４－シアノベンザルマロノニトリル残基単位、２－ニトロベンザルマロノニトリル残基単位、３－ニトロベンザルマロノニトリル残基単位、４－ニトロベンザルマロノニトリル残基単位、２－メトキシベンザルマロノニトリル残基単位、３－メトキシベンザルマロノニトリル残基単位、４－メトキシベンザルマロノニトリル残基単位、２－エトキシベンザルマロノニトリル残基単位、３－エトキシベンザルマロノニトリル残基単位、４－エトキシベンザルマロノニトリル残基単位、２－ジメチルアミノベンザルマロノニトリル残基単位、３－ジメチルアミノベンザルマロノニトリル残基単位、４－ジメチルアミノベンザルマロノニトリル残基単位、２－ジエチルアミノベンザルマロノニトリル残基単位、３－ジエチルアミノベンザルマロノニトリル残基単位、４－ジエチルアミノベンザルマロノニトリル残基単位、シンナモニトリル残基単位、２－メチルシンナモニトリル残基単位、３－メチルシンナモニトリル残基単位、４－メチルシンナモニトリル残基単位、２－エチルシンナモニトリル残基単位、３－エチルシンナモニトリル残基単位、４－エチルシンナモニトリル残基単位、２－フルオロシンナモニトリル残基単位、３－フルオロシンナモニトリル残基単位、４－フルオロシンナモニトリル残基単位、２－クロロシンナモニトリル残基単位、３－クロロシンナモニトリル残基単位、４－クロロシンナモニトリル残基単位、２－ブロモシンナモニトリル残基単位、３－ブロモシンナモニトリル残基単位、４－ブロモシンナモニトリル残基単位、２－メトキシシンナモニトリル残基単位、３－メトキシシンナモニトリル残基単位、４－メトキシシンナモニトリル残基単位、２－エトキシシンナモニトリル残基単位、３－エトキシシンナモニトリル残基単位、４－エトキシシンナモニトリル残基単位、カルコン残基単位、２－メチルカルコン残基単位、３－メチルカルコン残基単位、４－メチルカルコン残基単位、２－エチルカルコン残基単位、３－エチルカルコン残基単位、４－エチルカルコン残基単位、２－メトキシカルコン残基単位、３－メトキシカルコン残基単位、４－メトキシカルコン残基単位、２－エトキシカルコン残基単位、３－エトキシカルコン残基単位、４－エトキシカルコン残基単位、ベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、ベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、ベンジリデンマロン酸ジｎ－プロピル残基単位、ベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、Ｎ，Ｎ－ジメチルシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ－ジエチルシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ－ジｎ－プロピルシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルシンナムアミド残基単位等が挙げられる。

【0036】

これらの中でも高い位相差を発現することから、α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位等のα－シアノケイ皮酸エステル残基単位；ベンザルマロノニトリル残基単位；ニトロベンザルマロノニトリル残基単位；シンナモニトリル残基単位；カルコン残基単位；２－メトキシカルコン残基単位、３－メトキシカルコン残基単位、４－メトキシカルコン残基単位、２－エトキシカルコン残基単位、３－エトキシカルコン残基単位、４－エトキシカルコン残基単位等のアルコキシカルコン残基単位；ベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、ベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、ベンジリデンマロン酸ジｎ－プロピル残基単位、ベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位等のベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位；Ｎ，Ｎ－ジメチルシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ－ジエチルシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ－ジｎ－プロピルシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルシンナムアミド残基単位が好ましく、α－シアノケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位等のα－シアノケイ皮酸エステル残基単位；ベンザルマロノニトリル残基単位がさらに好ましい。

【0037】

本発明の一般式（２）におけるＲ_８はヘテロ原子を１つ以上含むｍ員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない５員環残基を示し、ｍは５～１０の整数を示す。前記ｍ員環複素環残基および前記５員環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい。本発明の一般式（２）におけるＲ_８は、より高い位相差が発現することから、ヘテロ原子を１つ以上含む５員環複素環残基または６員環複素環残基であることが好ましく、窒素原子または酸素原子を１つ以上含む５員環複素環残基または６員環複素環残基であることがさらに好ましい。なお、本発明の一般式（２）におけるＲ_８に係るヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等が挙げられるものである。

【0038】

具体的な一般式（２）で表される残基単位Ｂとしては、例えば、１－ビニルピロール残基単位、２－ビニルピロール残基単位、１－ビニルインドール残基単位、９－ビニルカルバゾール残基単位、２－ビニルキノリン残基単位、４－ビニルキノリン残基単位、１－ビニルイソキノリン残基単位、２－ビニルピリジン残基単位、３－ビニルピリジン残基単位、４－ビニルピリジン残基単位、１－ビニルイミダゾール残基単位、２－ビニルイミダゾール残基単位、４－ビニルイミダゾール残基単位、５－ビニル－２－ピラゾリン残基単位、２－ビニルピラジン残基単位、ビニル－ｓ－トリアジン残基単位、１０－ビニル－９－ヒドロアクリジン残基単位、１－ビニルテトラゾール残基単位、５－ビニルテトラゾール残基単位、Ｎ－ビニルピロリドン残基単位、Ｎ－ビニル－ε－カプロラクタム残基単位、Ｎ－ビニルスクシンイミド残基単位、Ｎ－ビニルフタルイミド残基単位、Ｎ－ビニルサッカリン残基単位、２－ビニルフラン残基単位、３－ビニルフラン残基単位、２-ビニルベンゾフラン残基単位、２－ビニルチオフェン残基単位、３－ビニルチオフェン残基単位、２－ビニルベンゾチオフェン残基単位、２－ビニルベンゾオキサゾール残基単位、Ｎ－ビニルオキサゾリドン残基単位、２－ビニルチアゾール残基単位、２－ビニルベンゾチアゾール残基単位等およびその置換基付加物等が挙げられる。

【0039】

これらの中でも、高い位相差を発現することから、１－ビニルピロール残基単位、２－ビニルピロール残基単位、１－ビニルインドール残基単位、９－ビニルカルバゾール残基単位、２－ビニルキノリン残基単位、４－ビニルキノリン残基単位、Ｎ－ビニルフタルイミド残基単位、Ｎ－ビニルスクシンイミド残基単位、２－ビニルフラン残基単位、２-ビニルベンゾフラン残基単位が好ましく、９－ビニルカルバゾール残基単位、Ｎ－ビニルフタルイミド残基単位がさらに好ましい。

【0040】

本発明の共重合体は、一般式（１）で表される残基単位Ａおよび一般式（２）で表される残基単位Ｂを含む限り特に制限はないが、薄膜とした際に位相差に優れるフィルムがより容易に得られることから、α－シアノケイ皮酸メチル－１－ビニルピロール共重合体、α－シアノケイ皮酸メチル－２－ビニルピロール共重合体、α－シアノケイ皮酸メチル－１－ビニルインドール共重合体、α－シアノケイ皮酸メチル－９－ビニルカルバゾール共重合体、α－シアノケイ皮酸メチル－２－ビニルキノリン共重合体、α－シアノケイ皮酸メチル－４－ビニルキノリン共重合体、α－シアノケイ皮酸メチル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、α－シアノケイ皮酸メチル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、α－シアノケイ皮酸メチル－２－ビニルフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸メチル－２-ビニルベンゾフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸エチル－１－ビニルピロール共重合体、α－シアノケイ皮酸エチル－２－ビニルピロール共重合体、α－シアノケイ皮酸エチル－１－ビニルインドール共重合体、α－シアノケイ皮酸エチル－９－ビニルカルバゾール共重合体、α－シアノケイ皮酸エチル－２－ビニルキノリン共重合体、α－シアノケイ皮酸エチル－４－ビニルキノリン共重合体、α－シアノケイ皮酸エチル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、α－シアノケイ皮酸エチル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、α－シアノケイ皮酸エチル－２－ビニルフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸エチル－２-ビニルベンゾフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル－１－ビニルピロール共重合体、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル－２－ビニルピロール共重合体、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル－１－ビニルインドール共重合体、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル－９－ビニルカルバゾール共重合体、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル－２－ビニルキノリン共重合体、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル－４－ビニルキノリン共重合体、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル－２－ビニルフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル－２-ビニルベンゾフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸イソプロピル－１－ビニルピロール共重合体、α－シアノケイ皮酸イソプロピル－２－ビニルピロール共重合体、α－シアノケイ皮酸イソプロピル－１－ビニ
ルインドール共重合体、α－シアノケイ皮酸イソプロピル－９－ビニルカルバゾール共重合体、α－シアノケイ皮酸イソプロピル－２－ビニルキノリン共重合体、α－シアノケイ皮酸イソプロピル－４－ビニルキノリン共重合体、α－シアノケイ皮酸イソプロピル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、α－シアノケイ皮酸イソプロピル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、α－シアノケイ皮酸イソプロピル－２－ビニルフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸イソプロピル－２-ビニルベンゾフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸イソブチル－１－ビニルピロール共重合体、α－シアノケイ皮酸イソブチル－２－ビニルピロール共重合体、α－シアノケイ皮酸イソブチル－１－ビニルインドール共重合体、α－シアノケイ皮酸イソブチル－９－ビニルカルバゾール共重合体、α－シアノケイ皮酸イソブチル－２－ビニルキノリン共重合体、α－シアノケイ皮酸イソブチル－４－ビニルキノリン共重合体、α－シアノケイ皮酸イソブチル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、α－シアノケイ皮酸イソブチル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、α－シアノケイ皮酸イソブチル－２－ビニルフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸イソブチル－２-ビニルベンゾフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸メチル－１－ビニルピロール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル－２－ビニルピロール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル－１－ビニルインドール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル－９－ビニルカルバゾール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル－２－ビニルキノリン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル－４－ビニルキノリン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル－２－ビニルフラン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸メチル－２-ビニルベンゾフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸エチル１－ビニルピロール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル２－ビニルピロール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル１－ビニルインドール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル９－ビニルカルバゾール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル２－ビニルキノリン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル４－ビニルキノリン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチルＮ－ビニルフタルイミド共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチルＮ－ビニルスクシンイミド共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル２－ビニルフラン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル２-ビニルベンゾフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル１－ビニルピロール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル２－ビニルピロール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル１－ビニルインドール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル９－ビニルカルバゾール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル２－ビニルキノリン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル４－ビニルキノリン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピルＮ－ビニルフタルイミド共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピルＮ－ビニルスクシンイミド共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル２－ビニルフラン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル２-ビニルベンゾフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸イソプロピル１－ビニルピロール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル２－ビニルピロール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル１－ビニルインドール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル９－ビニルカルバゾール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル２－ビニルキノリン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル４－ビニルキノリン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピルＮ－ビニルフタルイミド共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピルＮ－ビニルスクシンイミド共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル２－ビニルフラン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソプロピル２-ビニルベンゾフラン共重合体、α－シアノケイ皮酸イソブチル－１－ビニルピロール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル－２－ビニルピロール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル－１－ビニルインドール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル－９－ビニルカルバゾール共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル－２－ビニルキノリン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル－４－ビニルキノリン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル－２－ビニルフラン共重合体、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル－２-ビニルベンゾフラン共重合体、ベンザルマロノニトリル－１－ビニルピロール共重合体、ベンザルマロノニトリル－２－ビニルピロール共重合体、ベンザルマロノニトリル－１－ビニルインドール共重合体、ベンザルマロノニトリル－９－ビニルカルバゾール共重合体、ベンザルマロノニトリル－２－ビニルキノリン共重合体、ベンザルマロノニトリル－４－ビニルキノリン共重合体、ベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、ベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、ベンザルマロノニトリル－２－ビニルフラン共重合体、ベンザルマロノニトリル－２-ビニルベンゾフラン共重合体、４－ニトロベンザルマロノニトリル－１－ビニルピロール共重合体、４－ニトロベンザルマロノニトリル－２－ビニルピロール共重合体、４－ニトロベンザルマロノニトリル－１－ビニルインドール共重合体、４－ニトロベンザルマロノニトリル－９－ビニルカルバゾール共重合体、４－ニトロベンザルマロノニトリル－２－ビニルキノリン共重合体、４－ニトロベンザルマロノニトリル－４－ビニルキノリン共重合体、４－ニトロベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、４－ニトロベンザルマロノニトリル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、４－ニトロベンザルマロノニトリル－２－ビニルフラン共重合体、４－ニトロベンザルマロノニトリル－２-ビニルベンゾフラン共重合体、シンナモニトリル－１－ビニルピロール共重合体、シンナモニトリル－２－ビニルピロール共重合体、シンナモニトリル－１－ビニルインドール共重合体、シンナモニトリル－９－ビニルカルバゾール共重合体、シンナモニトリル－２－ビニルキノリン共重合体、シンナモニトリル－４－ビニルキノリン共重合体、シンナモニトリル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、シンナモニトリル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、シンナモニトリル－２－ビニルフラン共重合体、シンナモニトリル－２-ビニルベンゾフラン共重合体、カルコン－１－ビニルピロール共重合体、カルコン－２－ビニルピロール共重合体、カルコン－１－ビニルインドール共重合体、カルコン－９－ビニルカルバゾール共重合体、カルコン－２－ビニルキノリン共重合体、カルコン－４－ビニルキノリン共重合体、カルコン－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、カルコン－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、カルコン－２－ビニルフラン共重合体、カルコン－２-ビニルベンゾフラン共重合体、４－メトキシカルコン－１－ビニルピロール共重合体、４－メトキシカルコン－２－ビニルピロール共重合体、４－メトキシカルコン－１－ビニルインドール共重合体、４－メトキシカルコン－９－ビニルカルバゾール共重合体、４－メトキシカルコン－２－ビニルキノリン共重合体、４－メトキシカルコン－４－ビニルキノリン共重合体、４－メトキシカルコン－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、４－メトキシカルコン－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、４－メトキシカルコン－２－ビニルフラン共重合体、４－メトキシカルコン－２-ビニルベンゾフラン共重合体、４－エトキシカルコン－１－ビニルピロール共重合体、４－エトキシカルコン－２－ビニルピロール共重合体、４－エトキシカルコン－１－ビニルインドール共重合体、４－エトキシカルコン－９－ビニルカルバゾール共重合体、４－エトキシカルコン－２－ビニルキノリン共重合体、４－エトキシカルコン－４－ビニルキノリン共重合体、４－エトキシカルコン－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、４－エトキシカルコン－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、４－エトキシカルコン－２－ビニルフラン共重合体、４－エトキシカルコン－２-ビニルベンゾフラン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル－１－ビニルピロール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル－２－ビニルピロール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル－１－ビニルインドール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル－９－ビニルカルバゾール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル－２－ビニルキノリン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル－４－ビニルキノリン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル－２－ビニルフラン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル－２-ビニルベンゾフラン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル－１－ビニルピロール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル－２－ビニルピロール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル－１－ビニルインドール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル－９－ビニルカルバゾール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル－２－ビニルキノリン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル－４－ビニルキノリン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル－２－ビニルフラン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル－２-ビニルベンゾフラン共重合体、Ｎ，Ｎ－ジメチルシンナムアミド－１－ビニルピロール共重合体、Ｎ，Ｎ－ジメチルシンナムアミド－２－ビニルピロール共重合体、Ｎ，Ｎ－ジメチルシンナムアミド－１－ビニルインドール共重合体、Ｎ，Ｎ－ジメチルシンナムアミド－９－ビニルカルバゾール共重合体、Ｎ，Ｎ－ジメチルシンナムアミド－２－ビニルキノリン共重合体、Ｎ，Ｎ－ジメチルシンナムアミド－４－ビニルキノリン共重合体、Ｎ，Ｎ－ジメチルシンナムアミド－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、Ｎ，Ｎ－ジメチルシンナムアミド－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、Ｎ，Ｎ－ジメチルシンナムアミド－２－ビニルフラン共重合体、Ｎ，Ｎ－ジメチルシンナムアミド－２-ビニルベンゾフラン共重合体、Ｎ，Ｎ－ジエチルシンナムアミド－１－ビニルピロール共重合体、Ｎ，Ｎ－ジエチルシンナムアミド－２－ビニルピロール共重合体、Ｎ，Ｎ－ジエチルシンナムアミド－１－ビニルインドール共重合体、Ｎ，Ｎ－ジエチルシンナムアミド－９－ビニルカルバゾール共重合体、Ｎ，Ｎ－ジエチルシンナムアミド－２－ビニルキノリン共重合体、Ｎ，Ｎ－ジエチルシンナムアミド－４－ビニルキノリン共重合体、Ｎ，Ｎ－ジエチルシンナムアミド－Ｎ－ビニルフタルイミド共重合体、Ｎ，Ｎ－ジエチルシンナムアミド－Ｎ－ビニルスクシンイミド共重合体、Ｎ，Ｎ－ジエチルシンナムアミド－２－ビニルフラン共重合体、Ｎ，Ｎ－ジエチルシンナムアミド－２-ビニルベンゾフラン共重合体が好ましい。

【0041】

本発明の共重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α－メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；（メタ）アクリル酸残基単位；（メタ）アクリル酸メチル残基単位、（メタ）アクリル酸エチル残基単位、（メタ）アクリル酸ブチル残基単位等の（メタ）アクリル酸エステル残基単位；酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位；アクリロニトリル残基単位；メタクリロニトリル残基単位；メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位；フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸エステル残基単位;Ｎ－メチルマレイミド残基単位、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ－フェニルマレイミド残基単位等のＮ－置換マレイミド類残基単位；エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位等より選ばれる１種または２種以上を挙げることができる。

【0042】

本発明の共重合体の組成は、位相差フィルムとしたときの位相差特性が優れたものとなることから、一般式（１）で表される残基単位Ａと一般式（２）で表される残基単位Ｂとのモル比Ａ／Ｂが０．０５～６であることが好ましく、０．１～３であることがさらに好ましく、０．１８～２であることが特に好ましく、０．２５～１であることが最も好ましい。

【0043】

本発明の共重合体は、機械特性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が３，０００～５００，０００であることが好ましく、５，０００～４００，０００であることがさらに好ましく、１０，０００～３００，０００であることが特に好ましい。

【0044】

本発明の共重合体の製造方法は、水溶性有機溶媒と水からなる混合溶媒中または脂肪族炭化水素とアルコールからなる混合溶媒中で油溶性ラジカル開始剤を用いて沈殿重合することを特徴とする。そして、本発明は、該溶媒中かつ油溶性ラジカル開始剤を用いることで、沈殿重合により効率良く経済的に本発明に係る共重合体を製造するものである。ここで本発明において、溶媒として水溶性有機溶媒のみまたはアルコールのみを用いるとき、得られる共重合体が溶解するため再沈殿が必要となり、沈殿重合を行うことができない。また、溶媒として水のみまたは脂肪族炭化水素のみを用いるとき、重合性単量体（一般式（１）で表される単量体Ａおよび一般式（２）で表される単量体Ｂ）が溶解せず、沈殿重合を行うことができない。

【0045】

水溶性有機溶媒としては、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジオキサン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。

【0046】

これらの中でも、収率良く共重合体が得られることから、ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルピロリドン、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。

【0047】

重合粒子が安定して得られることから、水溶性有機溶媒と水の混合割合は水溶性溶媒８５～６５重量％、水１５～３５重量％であることが好ましく、特に水溶性溶媒８０～７０重量％、水２０～３０重量％であることが好ましい。

【0048】

脂肪族炭化水素としては、例えば、ｎ－ヘキサン、２－メチルペンタン、ｎ－へプタン、ｎ－オクタン、２－エチルヘキサン、２，２，４－トリメチルペンタン、ｎ－デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等が挙げられる。

【0049】

これらの中でも、収率良く共重合体が得られることから、ｎ－へプタン、ｎ－オクタン、２－エチルヘキサン、シクロヘキサンが好ましい。

【0050】

アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、２－エチル－１－ヘキサノール等が挙げられる。

【0051】

これらの中でも、収率良く共重合体が得られることから、メタノール、２－プロパノール、ブタノールが好ましい。

【0052】

重合粒子が安定して得られることから、脂肪族炭化水素とアルコールの混合割合は脂肪族炭化水素６０～３０重量％、アルコール４０～７０重量％であることが好ましく、特に脂肪族炭化水素５０～４０重量％、アルコール５０～６０重量％であることが好ましい。

【0053】

油溶性ラジカル開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ－ｔ－ブチルパーオキサイド、ｔ－ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ－ブチルパーオキシアセテート、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン等の有機過酸化物；２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２－ブチロニトリル）、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル－２’－アゾビスイソブチレート、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）等のアゾ系開始剤等が挙げられる。

【0054】

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には３０～１５０℃の範囲で行うことが好ましい。

【0055】

本発明の共重合体の製造方法では、反応の制御が容易であることから、水溶性有機溶媒と水からなる混合溶媒中または脂肪族炭化水素とアルコールからなる混合溶媒１００重量部に対し、単量体Ａおよび単量体Ｂの合計３～５０重量部、ならびに油溶性ラジカル重合開始剤０．００１～５重量部を用いることが好ましい。

【0056】

本発明の製造方法により、光学材料として好適な共重合体を効率良く経済的に製造することが可能となり、その産業的価値は極めて高いものである。

【実施例】

【0057】

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、断りのない限り用いた試薬は市販品を用いた。

【0058】

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。

【0059】

＜数平均分子量の測定＞
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、商品名：Ｃ０－８０１１（カラムＧＭＨ_ＨＲ―Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフランを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。

【0060】

＜重合体の解析＞
重合体の構造解析は核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名：ＪＮＭ－ＧＸ２７０）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（^１Ｈ－ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。

【0061】

実施例１（４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体の合成）
容量１００ｍＬのガラスアンプルに４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル３．２ｇ（０．０１３モル）、９－ビニルカルバゾール２．５ｇ（０．０１３モル）、油性ラジカル開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．０９３ｇ（０．０００２２モル）、ジメチルホルムアミド５３ｇおよび水２２．７ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５５℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し吸引ろ過を行い、得られた重合体粒子を５００ｍＬのメタノール／水＝８０／２０（体積％／体積％）混合溶媒中で３０分撹拌洗浄して再度ろ過した後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体５．４ｇを得た（収率：９５％）。

【0062】

得られた４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は２２５，０００であった。

【0063】

また、^１Ｈ－ＮＭＲ測定により、共重合体組成は４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位／９－ビニルカルバゾール残基単位＝４７／５３（モル％）（残基単位Ａ／残基単位Ｂ＝０．８９）であることを確認した。

【0064】

実施例２（４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／９－ビニルカルバゾール共重合体の合成）
容量１００ｍＬのガラスアンプルに４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル２．８ｇ（０．０１３モル）、９－ビニルカルバゾール２．５ｇ（０．０１３モル）、油性ラジカル開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．０９３ｇ（０．０００２２モル）、Ｎ－メチルピロリドン６０．６ｇおよび水２２．４ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５５℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し吸引ろ過を行い、得られた重合体粒子を５００ｍＬのメタノール／水＝８０／２０（体積％／体積％）混合溶媒中で３０分撹拌洗浄して再度ろ過した後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／９－ビニルカルバゾール共重合体５．０ｇを得た（収率：９４％）。

【0065】

得られた４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル／９－ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は２０４，０００であった。

【0066】

また、^１Ｈ－ＮＭＲ測定により、共重合体組成は４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸エチル残基単位／９－ビニルカルバゾール残基単位＝４８／５２（モル％）（残基単位Ａ／残基単位Ｂ＝０．９２）であることを確認した。

【0067】

実施例３（４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体の合成）
容量１００ｍＬのガラスアンプルに４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル３．２ｇ（０．０１３モル）、９－ビニルカルバゾール２．５ｇ（０．０１３モル）、油性ラジカル開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．０９３ｇ（０．０００２２モル）、エチレングリコールモノエチルエーテル５６．２および水２５．２ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５５℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し吸引ろ過を行い、得られた重合体粒子を５００ｍＬのメタノール／水＝８０／２０（体積％／体積％）混合溶媒中で３０分撹拌洗浄して再度ろ過した後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体５．４ｇを得た（収率：９５％）。

【0068】

得られた４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は２１９，０００であった。

【0069】

また、^１Ｈ－ＮＭＲ測定により、共重合体組成は４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位／９－ビニルカルバゾール残基単位＝４７／５３（モル％）（残基単位Ａ／残基単位Ｂ＝０．８９）であることを確認した。

【0070】

実施例４（４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体の合成）
容量１００ｍＬのガラスアンプルに４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル３．２ｇ（０．０１３モル）、９－ビニルカルバゾール２．５ｇ（０．０１３モル）、油性ラジカル開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．０９３ｇ（０．０００２２モル）ｎ－オクタン２５．７およびメタノール２５．７ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５５℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し吸引ろ過を行い、得られた重合体粒子を５００ｍＬのメタノール／水＝８０／２０（体積％／体積％）混合溶媒中で３０分撹拌洗浄して再度ろ過した後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体５．３ｇを得た（収率：９４％）。

【0071】

得られた４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は２３３，０００であった。

【0072】

また、^１Ｈ－ＮＭＲ測定により、共重合体組成は４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル残基単位／９－ビニルカルバゾール残基単位＝４８／５２（モル％）（残基単位Ａ／残基単位Ｂ＝０．９２）であることを確認した。

【0073】

比較例１（４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル／９－ビニルカルバゾール共重合体の合成）
容量５０ｍＬのガラスアンプルに４－ヒドロキシ－α－シアノケイ皮酸イソブチル６．４ｇ（０．０２６モル）、９－ビニルカルバゾール５．０ｇ（０．０２６モル）、油性ラジカル開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１８５ｇ（０．０００４３モル）およびジメチルホルムアミド１７．０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５５℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後の重合物は重合体溶液となっており、再沈殿工程が必要なものであった。