技術分野
成膜装置、及び成膜方法に関する。特に、同一のチャンバ内において、ひとつの蒸着ステージで基板に対して蒸着を行いながら、他のステージで基板の交換を行うことが可能な成膜装置及び成膜方法
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
特許文献1や特許文献2に記載された装置では、真空チャンバ内の底部に蒸着源を水平移動可能に配置し、有機材料を鉛直上方に向けて蒸発させる。各蒸着ステージには、下から順にマスク保持機構、基板保持機構が配置されるとともに、基板搬送機構や両者のアライメントを調整するアライメント調整機構が設けられている。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明は、減圧可能な成膜室の内部で第1蒸着ステージまたは第2蒸着ステージに移動可能な蒸着源と、制御部と、を備える成膜装置であって、前記第1蒸着ステージは、第1マスクを支持して上下動が可能な第1マスク支持部と、基板を支持可能な第1基板支持部とを備え、前記第2蒸着ステージは、第2マスクを支持して上下動が可能な第2マスク支持部と、基板を支持可能な第2基板支持部とを備え、前記制御部は、前記蒸着源が前・・・ 続きを
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発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明によれば、蒸着材料の利用効率と成膜のスループットが高く、しかも真空チャンバの容積がコンパクトなため装置価格が低廉な成膜装置、及び成膜方法を提供することが可能である。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
実施形態の成膜システムの模式的な平面図。
【図2】
実施形態の成膜装置の全体構成を示す模式的な断面図。
【図3】
実施形態の成膜装置の全体構成を示す模式的な断面図。
【図4】
マスク支持部とマスク駆動手段の一部を拡大した模式的な断面図。
【図5】
実施形態の成膜装置の各部の動作を示すタイムチャート。
【図6】
基板の搬出または搬入を行う際の蒸着ステージを示す模式的な断面図。
【図7】
基板を搬入して基板支持部に固定した際の蒸着ステージを示す模式的な断面図。
【図8】
基板を成膜位置にセットした際の蒸着ステージを示す模式的な断面図。
【図9】
実施形態の成膜装置の制御ブロック図。
【図10】
実施形態の有機ELパネル製造システムの説明図。
1・・・真空チャンバ/2・・・蒸着源装置/3・・・X軸スライド機構/4・・・Y軸スライド機構/5・・・第1押さえ板/6・・・第1基板/7・・・第1マスク/8・・・第2基板/9・・・第2マスク/10・・・成膜時におけるマスク支持部の高さを示す一点鎖線/11・・・第1マスク駆動手段/12・・・第1基板駆動手段/13・・・第2マスク駆動手段/14・・・第2基板駆動手段/15・・・タイミングベルト/16・・・プーリー/17・・・駆動モータ/18・・・ボールねじ/19・・・金属ベローズ/20・・・第1マスク支持部/21・・・基板クランプ/22・・・第1アライメント機構/23・・・第1アライメントカメラ/24・・・第2基板支持部/25・・・第2マスク支持部/26・・・第1基板支持部/27・・・第2押さえ板/28・・・第1蒸着ステージ/29・・・基板クランプ/30・・・第2アライメントカメラ/31・・・第2アライメント機構/32・・・第2蒸着ステージ/33・・・基板保持ハンド/34・・・ゲートバルブ/35・・・搬送室/36・・・蒸着源装置2の最も高い部分の高さを示す一点鎖線/50・・・制御部/51・・・外部のコンピュータ/100、101、102・・・成膜装置/103・・・搬送経路/104・・・可動アーム/300・・・有機ELパネルを製造する製造システム/1101、1102、1103・・・搬送室/1105・・・基板供給室/1106・・・マスクストック室/1107・・・受渡室/1108・・・ガラス供給室/1109・・・貼合室/1110・・・取出室/1120・・・ロボット
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