特許 7191108出願番号特願 2020-537177
基板グリッドを決定するための測定装置及び方法

出願人エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．（識別番号 504151804）

2026年特許公開件数ランキング 183位 136件（※）

2026年特許取得件数ランキング 324位 64件（※）

公報発行日　2022年12月16

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7191108　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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関連出願の相互参照 [0001] 本出願は、２０１８年１月３０日に出願された欧州出願第１８１５４０５３．５号及び２０１８年１１月３０日に出願された米国出願第６２／７７３，５７６号の優先権を主張し、それらの出願は、参照により、その全体において本明細書に組み込まれる。

【図1】 [00012]リソグラフィ装置の概略的概要を示す。

【図2】 [00013]リソグラフィセルの概略的概要を示す。

【図3】 [00014]半導体製造を最適化する３つの技術間の協力を含むリソグラフィ技術の概略表現を示す。

【図4】 [00015]フィーチャの位置及び非対称性を決定するための測定装置の概略表現を示す。

【図5】 [00016]リソグラフィ装置におけるアライメント及びレベリングセンサ並びに露光装置の概略表現を示す。

【図6】 [00017]オーバーレイを測定するためのメトロロジ装置の概略表現を示す。

【図7】 [00018]基板グリッド、リソグラフィ装置におけるアライメント、及びオーバーレイの測定を決定するための方法の流れ図を示す。

【図8】 [00019]本発明の実施形態に従って、オーバーレイ測定エラー用の値を算出するための方法の流れ図を示す。

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