特許7193740IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

発光装置の製造方法及び発光モジュールの製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

色度のバラツキを低減した発光装置及び色度分布のバラツキを低下した発光モジュールの製造方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示にかかる発光装置の製造方法は、以下の構成を備える。 第1面と、前記第1面の反対側の第2面と、前記第1面と前記第2面の間の側面と、を備える半導体積層体と、前記第2面に配置される電極と、を含む発光素子を準備する工程と、 硬化状態の第1波長変換部材を準備する工程と、 前記第1波長変換部材上に、半硬化状態の第2波長変換材料を配置する工程と、 前記第2波長変換材料の上面と、前記発・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

これにより、色度のバラツキを低減した発光装置及び色度分布のバラツキを低減した発光モジュールを提供することができる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 実施形態にかかる発光装置一例を示す模式断面図である。
【図2A】 実施形態にかかる発光装置の製造工程の一例を示す模式断面図である。
【図2B】 実施形態にかかる発光装置の製造工程の一例を示す模式断面図である。
【図2C】 実施形態にかかる発光装置の製造工程の一例を示す模式断面図である。
【図2D】 実施形態にかかる発光装置の製造工程の一例を示す模式断面図である。
【図2E】 実施形態にかかる発光装置の製造工程の一例を示す模式断面図である。
【図2F】 実施形態にかかる発光装置の製造工程の一例を示す模式断面図である。
【図2G】 実施形態にかかる発光装置の製造工程の一例を示す模式断面図である。
【図3】 実施形態にかかる発光装置一例を示す模式断面図である。
【図4A】 実施形態にかかる発光装置の製造工程の一例を示す模式断面図である。
【図4B】 実施形態にかかる発光装置の製造工程の一例を示す模式断面図である。
【図5】 実施形態にかかる発光装置一例を示す模式断面図である。
【図6A】 実施形態にかかる発光装置の製造工程の一例を示す模式断面図である。
【図6B】 実施形態にかかる発光装置の製造工程の一例を示す模式断面図である。
【図7A】 実施形態にかかる発光モジュールの模式平面図、模式下面図及び断面図である。
【図7B】 図7Aに示すVIIB線における模式断面図及び一部拡大断面図である。
【図8A】 実施形態にかかる発光モジュールの模式平面図である。
【図8B】 図8Aに示すVIIIB線における模式断面図及び一部拡大図である。

代表図 図1本件の代表的な図

100…発光装置 10…発光素子 11…半導体積層体 111…第1面 112…第2面 113…側面 12…電極 20…波長変換部材 21…第1波長変換部材 22…第2波長変換部材 22a…第2波長変換材料 30…光調整部材(第1光調整部材) 31…光調整部材(第2光調整部材) 200…発光モジュール 210…導光板 211…第1主面(光取り出し面) 211a…光学機能部 211b…区画溝 212…第2主面 212a…第1凹部 212b…第2凹部 213…貫通孔 220…被覆部材 230…透光性部材 240…光調整部材(第3光調整部材) 250…配線層 251、252…外部接続端子 260…基板 270…導電部材 280…区画部材 300…押圧部材

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