特許 7196033 スケールおよびその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-12-16

(45)【発行日】2022-12-26

(54)【発明の名称】スケールおよびその製造方法

(51)【国際特許分類】

   G01D 5/347 20060101AFI20221219BHJP

【ＦＩ】

G01D5/347 110A

【請求項の数】 9

(21)【出願番号】P 2019139604

(22)【出願日】2019-07-30

(65)【公開番号】P2021021683

(43)【公開日】2021-02-18

【審査請求日】2022-06-09

(73)【特許権者】

【識別番号】000137694

【氏名又は名称】株式会社ミツトヨ

(74)【代理人】

【識別番号】100087480

【弁理士】

【氏名又は名称】片山 修平

(74)【代理人】

【識別番号】100134511

【弁理士】

【氏名又は名称】八田 俊之

(72)【発明者】

【氏名】三宅 耕作

【審査官】大森 努

(56)【参考文献】

【文献】特開昭６０－１６１５２４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１－０２１９０９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００２－０３９７９９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１３－００７６７６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－０５２１５３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭５７－１４６２８３（ＪＰ，Ａ）

【文献】実開平０５－０９４８６６（ＪＰ，Ｕ）

【文献】米国特許第５１７２２５０（ＵＳ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２００７／００１２０９４（ＵＳ，Ａ１）

【文献】米国特許出願公開第２００２／００３９４６３（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０１Ｄ ５／２６－５／３８，

Ｇ１１Ｂ ７／１２－７／２２，

Ｇ０２Ｂ ６／００－６／５４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

光反射面を有する第１基板と、
前記第１基板上においてスペーサを介して設けられ、前記第１基板と離間して対向する透明な第２基板と、
前記第２基板の前記第１基板と対向する面に設けられ、所定の周期で形成された反射膜によって構成され、前記スペーサよりも薄く形成され、前記光反射面と対向する目盛格子と、を備えることを特徴とするスケール。

【請求項2】

前記第１基板、前記第２基板および前記スペーサは、前記目盛格子が空隙に対して露出するように前記目盛格子を封止し、
前記空隙内の雰囲気は、減圧雰囲気または不活性ガスであることを特徴とする請求項１記載のスケール。

【請求項3】

前記第２基板は、ガラス基板であることを特徴とする請求項１または２に記載のスケール。

【請求項4】

前記目盛格子は、金属薄膜であることを特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載のスケール。

【請求項5】

前記第１基板は、前記第２基板側の面に金属薄膜を備えることで、光を反射することを特徴とする請求項１～４のいずれか一項に記載のスケール。

【請求項6】

光を反射する光反射面を有する第１基板と、所定の周期で設けられる反射膜によって構成される目盛格子が前記第１基板の前記光反射面に対向する面に設けられた透明な第２基板とを、前記目盛格子よりも厚く形成されたスペーサを介して接合することを特徴とするスケールの製造方法。

【請求項7】

前記第１基板の前記第２基板側の面に前記スペーサを配置し、前記第１基板の前記第２基板側の面から前記スペーサの前記第２基板側の面にかけて金属薄膜を形成することで、前記第１基板に前記光反射面を形成し、
前記金属薄膜を介して前記スペーサと前記第２基板とを接合することを特徴とする請求項６記載のスケールの製造方法。

【請求項8】

前記第１基板の前記第２基板側の面に金属薄膜を形成することで、前記第１基板に前記光反射面を形成し、
前記スペーサを前記金属薄膜上に配置し、前記金属薄膜を介して前記第１基板と前記スペーサとを接合することを特徴とする請求項６記載のスケールの製造方法。

【請求項9】

前記第１基板、前記第２基板および前記スペーサを用いて前記目盛格子が空隙に対して露出するように前記目盛格子を封止し、
前記空隙内の雰囲気を、減圧雰囲気または不活性ガスとすることを特徴とする請求項６～８のいずれか一項に記載のスケールの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本件は、スケールおよびその製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

エンコーダなどに用いるためのスケールが開示されている。これらのスケールには、例えば、金属基板に所定の周期で段差を形成することで、目盛格子が構成されている（例えば、特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２００６－１７８３１２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、段差を設けるための加工時に、加工ムラが生じる場合がある。例えば、段差をエッチングで形成する場合、加工深さが大きくなると段差部分が直角にならず、不均質な傾斜面が形成される場合がある。この場合、境界線の位置精度が悪化してしまう。また、使用中に目盛格子の表面に汚染物が付着することがある。以上のことから、スケールの目盛精度が劣化するおそれがある。

【0005】

１つの側面では、本発明は、目盛精度の劣化を抑制することができるスケールおよびその製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

１つの態様では、本発明に係るスケールは、光反射面を有する第１基板と、前記第１基板上においてスペーサを介して設けられ、前記第１基板と離間して対向する透明な第２基板と、前記第２基板の前記第１基板と対向する面に設けられ、所定の周期で形成された反射膜によって構成され、前記スペーサよりも薄く形成され、前記光反射面と対向する目盛格子と、を備えることを特徴とする。

【0007】

上記スケールにおいて、前記第１基板、前記第２基板および前記スペーサは、前記目盛格子が空隙に対して露出するように前記目盛格子を封止し、前記空隙内の雰囲気は、減圧雰囲気または不活性ガスとしてもよい。

【0008】

上記スケールにおいて、前記第２基板は、ガラス基板としてもよい。

【0009】

上記スケールにおいて、前記目盛格子は、金属薄膜としてもよい。

【0010】

上記スケールにおいて、前記第１基板は、前記第２基板側の面に金属薄膜を備えることで、光を反射してもよい。

【0011】

本発明に係るスケールの製造方法は、光を反射する光反射面を有する第１基板と、所定の周期で設けられる反射膜によって構成される目盛格子が前記第１基板の前記光反射面に対向する面に設けられた透明な第２基板とを、前記目盛格子よりも厚く形成されたスペーサを介して接合することを特徴とする。

【0012】

上記スケールの製造方法において、前記第１基板の前記第２基板側の面に前記スペーサを配置し、前記第１基板の前記第２基板側の面から前記スペーサの前記第２基板側の面にかけて金属薄膜を形成することで、前記第１基板に前記光反射面を形成し、前記金属薄膜を介して前記スペーサと前記第２基板とを接合してもよい。

【0013】

上記スケールの製造方法において、前記第１基板の前記第２基板側の面に金属薄膜を形成することで、前記第１基板に前記光反射面を形成し、前記スペーサを前記金属薄膜上に配置し、前記金属薄膜を介して前記第１基板と前記スペーサとを接合してもよい。

【0014】

上記スケールの製造方法において、前記第１基板、前記第２基板および前記スペーサを用いて前記目盛格子が空隙に対して露出するように前記目盛格子を封止し、前記空隙内の雰囲気を、減圧雰囲気または不活性ガスとしてもよい。

【発明の効果】

【0015】

目盛精度の劣化を抑制することができるスケールおよびその製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】（ａ）はスケールの平面図であり、（ｂ）はスケールのＡ－Ａ線断面図である。

【図2】（ａ）～（ｃ）は第１実施形態に係るスケールの製造方法を例示する図であり、（ｄ）はスケールの使用例を例示する図である。

【図3】（ａ）および（ｂ）は第２実施形態に係るスケールの製造方法を例示する図である。

【図4】（ａ）～（ｃ）は第３実施形態に係る製造方法を例示する図であり、（ｄ）はスケールの使用例を例示する図である。

【図5】（ａ）および（ｂ）は第４実施形態に係るスケールの製造方法を例示する図である。

【発明を実施するための形態】

【0017】

実施形態の説明に先立って、スケールの概要について説明する。

【0018】

図１（ａ）は、スケール２００の平面図である。図１（ｂ）は、スケール２００のＡ－Ａ線断面図である。図１（ａ）および図１（ｂ）で例示するように、スケール２００は、例えば、基板２１０上に、所定の間隔で複数の格子２２０が配置された凹凸構造の目盛格子を備えた構造を有している。この構成により、スケール２００は、凹凸構造の凹部における反射光と凸部における反射光との干渉を利用し、所定の光反射特性を実現する。それにより、スケール２００をエンコーダなどに用いることができる。しかしながら、凹凸構造の凹部における反射光と凸部における反射光との干渉を利用するためには、格子２２０に所定の厚さ（凹凸の深さ）が必要となる。

【0019】

例えば、格子２２０を構成する段差をエッチングで形成することが考えられる。しかしながら、格子２２０を形成するための加工深さが大きくなると、加工ムラが生じて段差部分が直角にならず、不均質な傾斜面が形成される場合がある。この場合、各格子２２０の境界線の位置精度が悪化してしまう。その結果、スケール２００の目盛精度が劣化するおそれがある。

【0020】

また、目盛格子の表面に汚染物が付着することがある。この場合、当該汚染物質に起因して、目盛格子の目盛精度が劣化するおそれがある。汚染物質を拭き取ろうとしても、拭き残り残留物が残ることがある。また、拭き取りの際に目盛格子が破損するおそれがある。その結果、スケール２００の目盛精度が劣化するおそれがある。

【0021】

そこで、以下の実施形態では、目盛精度の悪化を抑制することができるスケールおよびその製造方法について説明する。

【0022】

（第１実施形態）
図２（ａ）～図２（ｃ）は、第１実施形態に係るスケール１００の製造方法を例示する図である。スケール１００は、第１基板１０、第２基板２０などを備える。まず、図２（ａ）で例示するように、透明な第２基板２０を用意する。第２基板２０は、例えばガラス基板である。第２基板２０は、板状であるため、主面を２面備えるとともに側面を４面備える。第２基板２０は、例えば、０．１ｍｍ～１０ｍｍの厚さを有する。第２基板２０の各主面は、平坦に加工されている。例えば、第２基板２０の各主面の表面粗さＲｚは、１ｎｍ以下となっている。例えば、表面加工手法として、精密研磨、気相反応、プラズマ処理などを用いることができる。

【0023】

第２基板２０において目盛格子用の主面である目盛面２１に、所定の周期で複数の反射膜２２を形成する。これらの複数の反射膜２２は、複数の格子からなる目盛格子を構成する。複数の反射膜２２が並ぶ方向が測定軸である。反射膜２２は、金属薄膜などの増反射膜によって構成されている。各反射膜２２の厚さは、例えば、１００ｎｍ以内であり、５ｎｍ以上５０ｎｍ以内とすることもできる。

【0024】

次に、図２（ｂ）で例示するように、第１基板１０を用意する。第１基板１０は、特に限定されるものではなく、光反射性を有していてもよく、光透過性を有していてもよい。例えば、第１基板１０は、ガラス基板である。第１基板１０は、板状であるため、主面を２面備えるとともに側面を４面備える。第１基板１０は、例えば、０．１ｍｍ～１０ｍｍの厚さを有する。例えば、第１基板１０は、第２基板２０と同じ厚さを有している。第１基板１０の各主面は、平坦に加工されている。例えば、第１基板１０の各主面の表面粗さＲｚは、１ｎｍ以下となっている。例えば、表面加工手法として、精密研磨、気相反応、プラズマ処理などを用いることができる。第１基板１０の主面は、第２基板２０の主面と同じ大きさを有している。例えば、第１基板１０は、第２基板２０と同一の組成を有している。

【0025】

第１基板１０の第２基板２０に対向する主面である対向面１１上の周縁部の一部に、反射膜２２よりも厚くなるようにスペーサ３０を形成する。スペーサ３０は、絶縁膜、金属膜、またはこれらの多層膜である。スペーサ３０の厚さは、例えば、スケール１００に用いる光の波長λの２分の１（λ／２）である。例えば、スケール１００が用いられる光の波長λは、０．６μｍ～０．９μｍであるため、スペーサの厚さは、０．３μｍ～０．４５μｍである。次に、スペーサ３０の第２基板２０側の面から、スペーサ３０の側面、対向面１１にかけて、増反射膜１２を成膜する。増反射膜１２は、金属薄膜などの増反射膜によって構成されている。増反射膜１２の材料は、例えば、金、銀、銅、アルミニウムなどである。また、増反射膜１２の厚さは、例えば、２０ｎｍ～１００ｎｍである。

【0026】

次に、第２基板２０の目盛面２１が対向面１１に対向するように、スペーサ３０上に第２基板２０を配置する。図２（ｂ）では、図２（ａ）の第２基板２０を上下反転させてある。その後、スペーサ３０と第２基板２０との間の増反射膜１２に対してレーザ溶接、加温加圧による拡散溶接などを行うことで、スペーサ３０と第２基板２０とを接合する。

【0027】

図２（ｃ）は、接合後のスケール１００を例示する断面図である。図２（ｃ）で例示するように、第１基板１０上において、第２基板２０が、スペーサ３０を介して設けられ、第１基板１０と離間して対向している。複数の反射膜２２によって構成される目盛格子が、第２基板２０の第１基板１０側の面に設けられ、スペーサ３０よりも薄く形成されている。第１基板１０の第２基板２０側の面は、増反射膜１２が設けられることによって光反射面として機能する。

【0028】

図２（ｄ）は、スケール１００の使用例を例示する図である。図２（ｄ）で例示するように、第２基板２０の目盛面２１と反対側の主面から光を入射させる。反射膜２２に入射する光は反射膜２２によって反射される。反射膜２２と反射膜２２との間を透過する光は、増反射膜１２によって反射する。それぞれの反射光は、干渉する。このような反射光の干渉を用いることで、スケール１００を、例えばエンコーダなどに用いることができる。

【0029】

本実施形態によれば、反射光を得るための増反射膜１２と、反射光を得るための反射膜２２とが離間している。この場合、目盛格子を構成する反射膜２２を厚く形成しなくてもよい。したがって、目盛格子を形成するための加工アスペクト比を小さくでき、目盛境界線の加工ムラを抑制することができる。また、目盛格子を構成する反射膜２２が第１基板１０側に対向している。それにより、反射膜２２に対する汚染物の付着を抑制することができる。以上のことから、スケール１００の目盛精度の劣化を抑制することができる。

【0030】

さらに、反射膜２２を埋める保護膜を形成しないことで、相対屈折率や透過率などの光特性の悪化が抑制される。また、保護膜を設けることに起因する熱膨張率差が生じないため、スケール１００の反りが抑制される。また、保護膜表面の凹凸などの影響がなくなる。それにより、目盛格子の目盛精度の劣化が抑制される。

【0031】

また、金属薄膜を用いた接合技術を用いるため、樹脂の接着剤が不要となり、接着剤の凹凸などの影響がなくなる。また、接着剤の乾燥後の残留応力などの影響がなくなる。それにより、目盛格子の目盛精度の劣化が抑制される。

【0032】

なお、スケール１００の表面に目盛格子が露出していないため、メンテナンス時にスケール１００の汚れを拭き取るか洗浄することができる。それにより、特別な技術を要することなく、反射膜２２に影響なく容易に汚れを除去することができる。この場合、反射膜２２に機械的強度や耐腐食性が要求されなくなることから、反射膜２２の材料に対する制約が抑制される。

【0033】

また、反射膜２２の破損が抑制されるため、アスペクト比が大きく破損しやすい目盛構造を採用することができる。また、アスペクト比が大きく汚染物質が反射膜２２間の境界線に溜まりやすい構造を採用することができる。例えば、各反射膜２２において、測定軸方向の幅と、第１基板１０の主面方向において測定軸と直交する方向の長さとの比が、０．４～２０のようにアスペクト比が大きい目盛構造を採用することができる。

【0034】

なお、第１基板１０および第２基板２０に対して異種材料となるスペーサ３０は、第１基板１０の対向面１１の周縁部に設けられるため、第１基板１０に対する応力発生を抑制することができる。

【0035】

第２基板２０に対する入射光の反射を抑制するために、第２基板２０の第１基板１０と反対側の面に、フッ化マグネシウムなどの反射防止膜を形成してもよい。

【0036】

本実施形態において、第１基板１０が、光反射面を有する第１基板の一例である。第２基板２０が前記第１基板上においてスペーサを介して設けられ、前記第１基板と離間して対向する透明な第２基板の一例である。複数の反射膜２２によって構成される目盛格子が、前記第２基板の前記第１基板と対向する面に設けられ、所定の周期で形成された反射膜によって構成され、前記スペーサよりも薄く形成され、前記光反射面と対向する目盛格子の一例である。

【0037】

（第２実施形態）
第１実施形態では、目盛格子を構成する反射膜２２が大気に対して露出していたが、目盛格子を封止してもよい。図３（ａ）は、第１基板１０、第２基板２０およびスペーサ３０によって目盛格子を封止する態様を例示する図である。第１実施形態と異なる点は、スペーサ３０の形状である。図３（ａ）で例示するように、第１基板１０の第２基板２０側の面の周縁部に沿ってスペーサ３０を形成する。スペーサ３０は、平面視で目盛格子を囲んでいる。本実施形態においてもスペーサ３０の第２基板２０側の面から、スペーサ３０の側面、第１基板１０の第２基板側の面にかけて増反射膜１２を成膜する。

【0038】

次に、スペーサ３０と第２基板２０との間の増反射膜１２に対してレーザ溶接、加温加圧による拡散溶接などを行うことで、スペーサ３０と第２基板２０とを接合する。それにより、第１基板１０、第２基板２０およびスペーサ３０によって、目盛格子を封止することができる。封止の際に、第１基板１０、第２基板２０およびスペーサ３０によって囲まれる空隙内の雰囲気を、減圧雰囲気または不活性ガスとする。

【0039】

本実施形態によれば、図３（ｂ）で例示するように、目盛格子を構成する各反射膜２２が露出する雰囲気が減圧雰囲気か不活性ガスとなる。この構成によれば、目盛格子の経時劣化を抑制することができる。

【0040】

（第３実施形態）
図４（ａ）～図４（ｃ）は、第３実施形態に係る製造方法を例示する図である。まず、図４（ａ）で例示するように、第１実施形態と同様の第２基板２０を用意する。第２基板２０において目盛格子用の主面である目盛面２１に、所定の周期で複数の反射膜２２を形成する。

【0041】

図４（ｂ）で例示するように、目盛面２１上の周縁部に、反射膜２２よりも厚くなるようにスペーサ３０を形成する。図４（ｂ）では、図４（ａ）の第２基板２０を上下反転させてある。反射膜２２とスペーサ３０とは離間している。次に、第１実施形態と同様の第１基板１０を用意する。第１基板１０の第２基板側の面上に、増反射膜１２を形成する。次に、第２基板２０の目盛面２１が増反射膜１２に対向するように、スペーサ３０下に第１基板１０を配置する。その後、スペーサ３０と第１基板１０との間の増反射膜１２に対してレーザ溶接、加温加圧による拡散溶接などを行うことで、スペーサ３０と第１基板１０とを接合する。

【0042】

図４（ｃ）は、接合後のスケール１００を例示する断面図である。図４（ｃ）で例示するように、第１基板１０上において、第２基板２０が、スペーサ３０を介して設けられ、第１基板１０と離間して対向している。複数の反射膜２２によって構成される目盛格子が、第２基板２０の第１基板１０側の面に設けられ、スペーサ３０よりも薄く形成されている。第１基板１０の第２基板２０側の面は、増反射膜１２が設けられることによって光反射面として機能する。

【0043】

図４（ｄ）は、スケール１００の使用例を例示する図である。図４（ｄ）で例示するように、第２基板２０の目盛面２１と反対側の主面から光を入射させる。反射膜２２に入射する光は反射膜２２によって反射される。反射膜２２と反射膜２２との間を透過する光は、増反射膜１２によって反射する。それぞれの反射光は、干渉する。このような反射光の干渉を用いることで、スケール１００を、例えばエンコーダなどに用いることができる。

【0044】

本実施形態においても、反射光を得るための増反射膜１２と、反射光を得るための反射膜２２とが離間している。この場合、目盛格子を構成する反射膜２２を厚く形成しなくてもよい。したがって、目盛格子を形成するための加工アスペクト比を小さくでき、目盛境界線の加工ムラを抑制することができる。加工ムラを抑えることで、目盛ピッチが２００ｎｍ以下の高精度スケールの加工が容易になる 。また、目盛格子を構成する反射膜２２が第１基板１０側に対向している。それにより、反射膜２２に対する汚染物の付着を抑制することができる。以上のことから、スケール１００の目盛精度の劣化を抑制することができる。

【0045】

さらに、反射膜２２を埋める保護膜を形成しないことで、相対屈折率や透過率などの光特性の悪化が抑制される。また、保護膜を設けることに起因する熱膨張率差が生じないため、スケール１００の反りが抑制される。また、保護膜表面の凹凸などの影響がなくなる。それにより、目盛格子の目盛精度の劣化が抑制される。

【0046】

また、金属薄膜を用いた接合技術を用いるため、樹脂の接着剤が不要となり、接着剤の凹凸などの影響がなくなる。また、接着剤の乾燥後の残留応力などの影響がなくなる。それにより、目盛格子の目盛精度の劣化が抑制される。

【0047】

なお、スケール１００の表面に目盛格子が露出していないため、メンテナンス時にスケール１００の汚れを拭き取るか洗浄することができる。それにより、特別な技術を要することなく、反射膜２２に影響なく容易に汚れを除去することができる。この場合、反射膜２２に機械的強度や耐腐食性が要求されなくなることから、反射膜２２の材料に対する制約が抑制される。

【0048】

また、反射膜２２の破損が抑制されるため、アスペクト比が大きく破損しやすい目盛構造を採用することができる。また、アスペクト比が大きく汚染物質が反射膜２２間の境界線に溜まりやすい構造を採用することができる。例えば、各反射膜２２において、測定軸方向の幅と、第１基板１０の主面方向において測定軸と直交する方向の長さとの比が、０．４～２０のようにアスペクト比が大きい目盛構造を採用することができる。

【0049】

なお、第１基板１０および第２基板２０に対して異種材料となるスペーサ３０は、第２基板２０の目盛面２１の周縁部に設けられるため、第２基板２０に対する応力発生を抑制することができる。

【0050】

なお、本実施形態において、第１基板１０が、光反射面を有する第１基板の一例である。第２基板２０が、前記第１基板上においてスペーサを介して設けられ、前記第１基板と離間して対向する透明な第２基板の一例である。複数の反射膜２２によって構成される目盛格子が、前記第２基板の前記第１基板と対向する面に設けられ、所定の周期で形成された反射膜によって構成され、前記スペーサよりも薄く形成され、前記光反射面と対向する目盛格子の一例である。

【0051】

（第４実施形態）
第３実施形態では、目盛格子を構成する反射膜２２が大気に対して露出していたが、目盛格子を封止してもよい。図５（ａ）は、第１基板１０、第２基板２０およびスペーサ３０によって目盛格子を封止する態様を例示する図である。第３実施形態と異なる点は、スペーサ３０の形状である。図５（ａ）で例示するように、第２基板２０の第１基板１０側の面の周縁部に沿ってスペーサ３０を形成する。スペーサ３０は、平面視で目盛格子を囲んでいる。なお、説明の容易化のために、図５（ａ）では第２基板２０とスペーサ３０とが離間しているが、第２基板２０の第１基板１０側の面に成膜法によってスペーサ３０を形成してもよい。

【0052】

次に、スペーサ３０と第１基板１０との間の増反射膜１２に対してレーザ溶接、加温加圧などを行うことで、スペーサ３０と第１基板１０とを接合する。それにより、第１基板１０、第２基板２０およびスペーサ３０によって、目盛格子を封止することができる。封止の際に、第１基板１０、第２基板２０およびスペーサ３０によって囲まれる空隙内の雰囲気を、減圧雰囲気または不活性ガスとする。

【0053】

本実施形態によれば、図５（ｂ）で例示するように、目盛格子を構成する各反射膜２２が露出する雰囲気が減圧雰囲気か不活性ガスとなる。この構成によれば、目盛格子の経時劣化を抑制することができる。

【0054】

なお、第２基板２０に対する入射光の反射を抑制するために、第２基板２０の第１基板１０と反対側の面に、フッ化マグネシウムなどの反射防止膜を形成してもよい。

【0055】

以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。

【符号の説明】

【0056】

１０ 第１基板
１１ 対向面
１２ 増反射膜
２０ 第２基板
２１ 目盛面
２２ 反射膜
３０ スペーサ
１００ スケール

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】