特許7226095オニウム塩化合物、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法

発明の名称　オニウム塩化合物、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法

出願人　信越化学工業株式会社　（識別番号 2060）

　　　　特許公開件数ランキング 65 位（373件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 64 位（371件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7226095

公報発行日　2023年2月21

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7226095

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