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特許7254697リチウムイオンバッテリ用の電極およびその電極を製造する装置及び方法
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-03-31
(45)【発行日】2023-04-10
(54)【発明の名称】リチウムイオンバッテリ用の電極およびその電極を製造する装置及び方法
(51)【国際特許分類】
   H01M 4/139 20100101AFI20230403BHJP
   H01M 4/1391 20100101ALI20230403BHJP
   H01M 4/1395 20100101ALI20230403BHJP
   H01M 4/1397 20100101ALI20230403BHJP
   H01M 4/36 20060101ALI20230403BHJP
【FI】
H01M4/139
H01M4/1391
H01M4/1395
H01M4/1397
H01M4/36 C
【請求項の数】 15
(21)【出願番号】P 2019516961
(86)(22)【出願日】2017-09-25
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2019-10-17
(86)【国際出願番号】 EP2017074183
(87)【国際公開番号】W WO2018060118
(87)【国際公開日】2018-04-05
【審査請求日】2020-09-04
(31)【優先権主張番号】102016118404.7
(32)【優先日】2016-09-29
(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE
(73)【特許権者】
【識別番号】502010251
【氏名又は名称】アイクストロン、エスイー
(74)【代理人】
【識別番号】100095267
【弁理士】
【氏名又は名称】小島 高城郎
(74)【代理人】
【識別番号】100124176
【弁理士】
【氏名又は名称】河合 典子
(72)【発明者】
【氏名】シネラー、ベルント
(72)【発明者】
【氏名】テオ、ケネス ビー.ケイ.
(72)【発明者】
【氏名】ルペシンゲ、ナーリン ラリト
【審査官】川村 裕二
(56)【参考文献】
【文献】米国特許第06280697(US,B1)
【文献】特開2009-190948(JP,A)
【文献】米国特許出願公開第2013/0130077(US,A1)
【文献】特表2002-538066(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
H01M 4/00- 4/84
H01M 10/00-10/39
H01M 6/00- 6/48
H01G 11/00-11/86
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板(1)の表面上に均一に配置されている複数のナノフィラメント(2)を束に成形する方法であって、
前記ナノフィラメント(2)のそれぞれが、隣接する複数のナノフィラメントの自由端が相互に当接し、かつ束(3)が相互に離間するように、束(3)として導電性基板に接続された固定端を有し、
光によるエネルギーの印加が前記ナノフィラメントを束にすることを引き起こすような強度の光に曝されることを特徴とする方法。
【請求項2】
前記ナノフィラメント(2)がカーボンナノチューブ(CNT)であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項3】
前記束(3)の断面長さがそれぞれ、0.5μmと5μmとの間、または、1.5μmと2.5μmとの間であることを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
【請求項4】
前記束(3)に施され、互いに接続されると共に前記ナノフィラメント(2)の前記束(3)に接続されるナノ粒子(4)により形成されるイオン吸収コーティング(5)を特徴とする請求項1~3に記載の方法。
【請求項5】
前記ナノ粒子(4)が、シリコン、イオウ、Ge、Sn、Pb、若しくは炭素のうちいずれか一つの元素を有し、または、亜リン酸塩、亜硝酸塩、SiO、TiO、CrO、LiCoO、LiTiO、LiNiO、LiMnO、LiFePO、LiCoPO、LiMnPO、V、若しくはZnOのうちいずれか一つの化合物を有することを特徴とする、請求項4に記載の方法。
【請求項6】
前記ナノフィラメント(2)の層が、キセノンランプ又はレーザーの光に曝されることを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の方法。
【請求項7】
連続的又はパルス的に生成されて帯状に拡大されたレーザービームが、前記ナノフィラメント(2)の層を光に曝すために用いられ、かつ/または、前記レーザービームが一定の速度で前記層の上を移動することを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の方法。
【請求項8】
前記コーティング(5)を施す際に、シリコンのナノ粒子(4)が前記束(3)上に塗布され、シリコンの前記ナノ粒子(4)に印加されるエネルギーにより、シリコンの前記ナノ粒子(4)が互いに接続すると共に、シリコンの前記ナノ粒子(4)の下にある前記ナノフィラメント(2)に接続することを特徴とする請求項4~7のいずれかに記載の方法。
【請求項9】
レーザービームが、前記ナノ粒子(4)を互いに接続させるために、かつ/または、前記ナノ粒子の下にあるナノフィラメント(2)の束に接続するために用いられ、前記ナノ粒子(4)の少なくとも表面が融けるように前記光が前記基板の表面上を移動することを特徴とする請求項8に記載の方法。
【請求項10】
導電性基板(1)を処理装置(10)内に供給するための入口機構(22)を有する装置であって、
前記基板(1)が搬送手段に支援されて前記処理装置(10)を通って搬送方向に搬送されて出口機構(23)に到達し、前記基板(1)は前記出口機構(23)を通って前記処理装置(10)を出て行き、前記処理装置(10)における少なくとも以下の処理ステーション:
ナノフィラメント(2)が前記基板(1)に適用される第1のコーティングステーション(11)と、
光によるエネルギーの印加が束(3)への前記ナノフィラメントの成形を引き起こすような強度の光を出力可能な光を備え、前記ナノフィラメント(2)が前記束(3)へと結束される成形ステーション(12)とが、搬送方向において互いに直接前後して配置されている請求項1~9のいずれかに記載の方法を実行するための装置。
【請求項11】
前記束(3)がイオン吸収コーティング(5)を付与される第2のコーティングステーション(13)を特徴とする請求項10に記載の装置。
【請求項12】
第1のロール(7)が設けられ、前記第1のロール上に前記基板(1)が巻かれており、前記基板が前記入口機構(22)から前記処理装置(10)を通って前記出口機構(23)へと通過し、そして搬送方向において前記出口機構(23)の下流側の第2のロール(8)上に巻かれることを特徴とする請求項10または11に記載の装置。
【請求項13】
前記成形ステーション(12)が、光源(18)を有し、それを用いて、前記第1のコーティングステーション(11)で前記基板(1)に適用された前記ナノフィラメント(2)の層を光に曝すことができ、それによって複数のナノフィラメント(2)が束(3)へと結束することを特徴とする請求項10~12のいずれかに記載の装置。
【請求項14】
前記第2のコーティングステーション(13)が、噴射装置(20)を有し、それを用いて、前記成形ステーションで作製された束(3)に対してナノ粒子(4)を噴射することができることを特徴とする請求項11に記載の装置。
【請求項15】
前記第2のコーティングステーション(13)が、レーザーを有し、それを用いて、前記束(3)または前記ナノフィラメント(2)に塗布された前記ナノ粒子(4)が互いに接続されかつ前記ナノフィラメント(2)に接続されることを特徴とする請求項11又は14に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、特にリチウムイオンバッテリのための電極として使用可能であり、かつ導電性基板を有し、その基板の表面に、イオン吸収コーティングを具備するナノフィラメントが適用された装置に関する。
【0002】
本発明はさらに、そのような電極を製造するための方法に関する。
【0003】
本発明はさらに、少なくとも1つのそのような電極を有するバッテリに関する。
【0004】
本発明はさらに、その方法を実行する装置に関する。
【背景技術】
【0005】
特許文献1は、リチウムイオンバッテリで使用するための電極を開示している。
【0006】
リチウムイオンバッテリは、本質的に2つの室からなり、それらは多孔隔壁により互いに分離されて、その中にリチウムイオンを含む電極が収容されている。銅から形成できる陰極は、シリコンでコーティングされたツリー状のカーボンナノチューブを有する。シリコン層はイオン吸収コーティングを形成し、その中にリチウムカチオンを吸収できることによって同時にその体積が増加する。
【0007】
特許文献2は、リチウムイオンバッテリ用の導電性基板を開示する。シリコン層が適用されるカーボンからなるフィラメントは、基板の表面に配置される。フィラメントはイオン吸収機能を有する。
【0008】
特許文献3は、カーボンナノチューブを束ねるための方法を開示し、カーボンナノチューブは、基板の表面に統計的平均において均一に配置されている。ナノフィラメントの束は、ナノフィラメントを濡らした後に乾燥させることにより毛細管力により形成される。この場合、複数の直接隣接するナノフィラメントがそれらの自由端により互いに接触する。2つの直接隣り合う束同士の間に間隙が形成される。
【0009】
特許文献4および特許文献5は、カーボンナノチューブ(CNT)が導電性基板上に堆積されかつレーザービームを用いて構造が形成される方法を開示している。レーザービームは、ナノフィラメントの均一な表面分布の中に間隙が切り欠かれるように、化学結合を断絶するためのものである。
【0010】
リチウムイオンバッテリの電極の製造において、シリコンは、カーボンよりも単位体積当たり10倍以上のリチウムを吸収できる点で有利である。しかしながら、単結晶または多結晶シリコンによるコーティングは、リチウムイオンの吸収が体積増加に関係することから、その層が数回の充電サイクル後に破壊されるという欠点を有する。
【0011】
CNTを束ねる方法は、さらに非特許文献1および非特許文献2に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0012】
【文献】米国特許第8,420,258号明細書
【文献】米国特許出願公開第2013/0244107号公報
【文献】米国特許出願公開第2012/0126449号公報
【文献】米国特許第8,540,922号明細書
【文献】米国特許第9,064,614号明細書
【非特許文献】
【0013】
【文献】PNAS,"Capillarity-driven assembly of two-dimensional cellular carbon nanotube foams," March 23, 2004/Vol. 101/No. 12/4009-4012
【文献】PNAS,"Behavior of fluids in nanoscopic space," April 27, 2004/Vol. 101/No. 17/6331-6332
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0014】
本発明は、技術的に強化された電極、電極を設けられたバッテリ、電極を製造する方法または処理ステップ、および電極を製造する装置を開示する目的に基づく。
【課題を解決するための手段】
【0015】
先ず、ナノフィラメントが複数の束へと結束され、それらの各々が複数のナノフィラメントを有することが本質的に提示される。各束は、複数のナノフィラメントを含み、それらの固定端は導電性基板に接続されると共に、それらの自由端は隣接するナノフィラメントの自由端に対して当接している。これにより、刈り束の山(コーンショック:corn shock)のような構造が形成され、ナノフィラメントでコーティングされた表面の平面視において、円形状または線形状を有し、互いに間隙により分離されている。すかし細工的な束の外壁には、コーティングプロセス中にイオン吸収コーティングが施される。
ナノフィラメントは、好適にはカーボンナノチューブである。平面視で計測された束の断面長さ、すなわち円と等価のベース領域の直径は、0.5μmと5μmとの間とすることができる。束の断面長さは、好適には1.5μmと2.5μmとの間にある。隣り合う束同士は、それらのナノフィラメントの自由端の領域において、互いに約1.5μm~2.5μmだけ離間している。自由端の領域において、束の断面長さは、束のフィラメントの固定端の領域における断面長さの半分の長さよりも短い。
イオン吸収コーティングは、特に、ナノ粒子によるコーティングである。これらのナノ粒子は、束と束との間の間隙内に噴射することができる。ナノ粒子は、特に、シリコン粒子、イオウ粒子、酸化チタン粒子、または3D金属粒子からなることができる。
本発明の電極を製造する方法において、先ず、基板が供給され、その基板は、例えばアルミ箔または銅箔である金属基板の形態で実現することができる。ナノフィラメントの層は、この基板に適用される。これは、CVDプロセスで行われることが好ましく、そのプロセスは成長プロセスであり、その場合、好適にはカーボンナノチューブからなるナノフィラメントが基板の表面から成長していくことによって、得られるナノフィラメントの配置は、表面上で統計的平均において均一である。このために、この方法を実行するべく用いられる装置は、第1のコーティングステーションを有し、それはCVDリアクタの形態で実現することができる。ナノフィラメントは、次のステップにおいて束へと結束され、それは処理装置の成形ステーションで行われる。
本願の発明者らは、ナノフィラメントが光の適用により束へと結束する驚くべき効果を発見した。したがって、好適な方法では、ナノフィラメントが曝される光を用いることにより結束が実施される。光は、ランプ、特にキセノンランプにより発生させることができる。その光は、レーザーにより発生させることもできる。そのレーザーは、パルスレーザーまたは連続動作するレーザーからなることができる。それは、キセノンレーザー、ダイオードレーザー、ガスレーザー、赤外レーザー、UVレーザー、またはエキシマレーザーの形態で実現することができる。光がレーザービームにより生成されたならば、レーザービームが拡大されることが好適である。この拡大は、線形拡大とすることができる。光、特にレーザービームが、好適には一定の速度で層の上を移動することによって、フィラメントの自由端が互いに接続して束を形成する。
次のステップで、イオン吸収コーティングが束に適用され、それは処理装置のコーティングステーションで行われる。好適には、ナノ粒子がこの目的のために用いられる。好適にはシリコン粒子からなるナノ粒子を、湿式または乾式の形態で基板の表面に噴射することができる。このために処理装置は、好適には例えば噴射装置であるノズル機構を有する。
束に塗布されたナノ粒子は、別の処理ステップにおいて、互いに接続されることができ、かつ/または、ナノフィラメントに対して接続されることができる。これは、第2のコーティングステーションで行われる。このために、第2のコーティングステーションは、光源、ヒーター、または別のエネルギー印加装置を有することができ、それを用いてナノ粒子が互いに焼結されかつ/またはナノ粒子の下にあるナノフィラメントに対して焼結される。そのコーティングステーションは、好適にはレーザーを有し、それは、一定の速度で基板の上を移動する拡大されたレーザービームを発生する。
好適な変形においては、処理装置が、基板の搬送方向において互いに直接前後して配置された複数の処理ステーションを有し、基板はロールから巻き解かれてそれらの処理ステーションを連続的に通過する。この連続処理において製造された電極は、第2のロールに巻き取られる。リチウムイオンバッテリにおいて、シリコン粒子をコーティングされた電極はアノードとして、別の金属例えばイオウまたは酸化チタンをコーティングされた電極はカソードとして用いることができる。個々のナノフィラメントの長さは、20μmと200μmとの間にあることができる。個々のナノフィラメントの直径は、1nmと200nmとの間に、好適には5nmと100nmとの間にあることができる。特にカーボンナノチューブの堆積は、導電性基板上での自己組織化システムで行われる。しかしながら、シード構造、例えばシード粒子により予め構造化された基板上にカーボンナノチューブを堆積することもできる。この処理ステップにおいて、隣接して配置されたカーボンナノチューブの実質的に連続的な森が好適に作製される。
続いて、これらのカーボンナノチューブは、別の処理ステップにおいて、特に光の適用により束へと結束される。束の典型的な直径は、200nmと10μmとの間にある。束になったナノフィラメントをコーティングするナノ粒子は、1nmと500nmとの間の、好適には20nmと200nmとの間の範囲の特性直径を有する。ナノフィラメントは、好適には、5g/m~50g/mで基板に適用される。キセノンレーザーが稼動させられるレーザー出力は、約1mJと100mJとの間にある。レーザービームによるナノ粒子の処理中、それらナノ粒子の表面が融けることによってそれらの表面を互いに溶け合わせることにより隣接するナノ粒子が接続しかつ/またはナノフィラメントの束に接続する。
100mbar~1100mbarの全圧下でコーティング処理を行うことができるプロセスチャンバは、好適には第1のコーティングステーションとして用いられる。アルゴン、窒素、または水素は、通常、不活性ガスとして用いられる。CNT堆積は、好適には200℃~1000℃で生じる。シリコンナノ粒子による束のコーティングは、室温と250℃との間の温度で、好適には室温と150℃との間の温度で行われる。レーザー光は、装置内で発生することができる。レーザー光はまた、遠隔レーザーから装置へ光ファイバーケーブルを用いて伝送されることもできる。ナノ粒子は、好適には、乾式形態でナノフィラメントに塗布することができる。Siに加えて、SiO、TiO、CrO、S、LiCoO、LiTiO、LiNiO、LiMnO、LiFePO、LiCoPO、LiMnPO、V、Ge、Sn、Pb、およびZnOもナノ粒子として考慮することができる。
【0016】
本発明はさらに、基板に適用されたナノフィラメントを結束するための方法に関する。 その結束は、ナノフィラメントに光の形態でエネルギーを印加することによって実現され、その光はスペクトルの可視部分だけでなく、スペクトルの隣接する紫外部分および赤外部分も含む。
【0017】
本発明はさらに、特許文献1に記載されたタイプの電極を製造するための方法を実行するための装置に関する。コーティングされていないかまたは予めコーティングされた金属箔からなることができる導電性基板が、搬送手段に支援されて搬送方向に装置を通って搬送される。基板は、第1のロールから巻き解かれて、第2のロールに再び巻き取られることができる。基板が搬送され通過する装置は、2つのロールの間に位置する。装置は、以下の処理ステーションが搬送方向に連続的に配置された処理装置を有する:
第1のコーティングステーションで、ナノフィラメントが基板に適用される。このコーティングステーションは、CVDプロセスチャンバを有することができ、その中でナノフィラメントが基板上に堆積される。この堆積プロセスで、基板の表面上に実質的に均一に分布したナノフィラメントの森が形成される。しかしながら、基板上に予め堆積されたシード構造に補助されることにより、ナノフィラメントの成長を、構造化された領域に、例えば互いに離間した領域に制限することも可能である。例えば、それらの領域は、均一に分布した島の形態で実現することができる。基板上に堆積したナノフィラメントは、特に個々に起立するナノフィラメントとすることができる。堆積したナノフィラメントは、互いに接触しないように互いに十分に遠く離間することができる。
次のステップにおいて、第2のコーティングステーションで、上述したコーティングがナノフィラメントに適用される。この場合、ナノ粒子、特にシリコンナノ粒子が先ずナノフィラメントに適用される。これは、噴射装置により実現することができ、それを用いてナノ粒子が、ガス流により乾式形態で、または、液体流により湿式形態でプロセスチャンバに導入される、すなわちノズル機構に補助されて導入される。ナノフィラメントによりコーティングされた基板は、プロセスチャンバを通って搬送される。ナノ粒子は、このプロセスにおいてナノフィラメント上に堆積する。
次のステップにおいて、ナノ粒子は、互いに焼結しかつナノフィラメントと焼結することができる。これは、エネルギーを印加することにより実現され、そのエネルギーが、表面上のナノ粒子を好適に融かすために十分大きいことによって、それらのナノ粒子が隣接するナノ粒子およびフィラメントと接続することができる。エネルギー源として、レーザーまたは別の光源、並びに放射ヒーター等のヒーターを用いることができる。
個々のステーション、すなわち第1のコーティングステーション、ナノ粒子適用ステーション、および溶融ステーションは、搬送方向において直接前後して配置することができる。それらは、共通ハウジング内に配置することができる。しかしながら、それらは互いに分離したハウジング内に配置することもできる。個々の分離したハウジング同士の間にガス洗浄ゲートを設けることができる。
【0018】
基板は、その2つの反対向きの広い面のうちの1つのみに上述の構造を備えることができる。しかしながら、基板の両面に上述した構造を設けることも提示される。構造を適用することは、両方の広い面で同時に行うことができる。しかしながら、構造を2つの広い面に連続的に適用することも提示される。
【図面の簡単な説明】
【0019】
図1図1は、本発明の電極を製造するための処理順序を示す。
図2図2は、本方法を実施するための装置の第1の例示的実施形態の概略図を示す。
図3図3は、装置の第2の例示的実施形態を示す。
図4図4は、装置の第3の例示的実施形態を示す。
図5図5は、電極を製造するための方法および装置の第2の例示的実施形態に関する図1と同様の図を示す。
図6図6は、図5に概略的に示した方法を実行するための装置の別の例示的実施形態を示す。
図7図7は、リチウムイオンバッテリの電池を概略的に示す。
【発明を実施するための形態】
【0020】
図1は、リチウムイオンバッテリ用の電極を製造するための処理シーケンスを概略的に示す。例えばアルミ箔または好適には銅箔の形態の薄い金属基板が、第1のロール7から巻き解かれ、4つの連続的な処理ステップA、B、C、Dにおいてマイクロ構造によりコーティングされる。コーティングされた基板1は、その後、第2のロール8に再び巻き取られる。
【0021】
基板1は、第1の処理ステップAにおいて、カーボンナノチューブ2によりコーティングされる。ナノチューブ2は、基板1に堅固に接続された固定端と、基板1から実質的に離れるように向いた自由端とを有する。コーティングプロセスは、第1のコーティングステーション11で行われる。
【0022】
第2の処理ステップBは、基板1の搬送方向においてコーティングステーション11の下流側に配置された成形ステーション2において行われる。第1の処理ステップAで基板上に堆積したナノフィラメントの層に、キセノンレーザーのレーザービームを用いて光エネルギーが印加される。この光への露出は、驚くべきことにナノフィラメント2を束状の態様で結束させる。基板1の表面に均一に配置されたナノフィラメント2の自由端がそれら自体、近接した束3へと配向することによって、隣接する束3同士の間に間隙6が形成される。ナノフィラメント2が延在する方向に計測された束3の長さは、ナノフィラメント2の固定端の領域における束3の断面長さよりも長い。束3において隣接するナノフィラメント2と接触しているナノフィラメント2の自由端の領域における特性断面長さは、ナノフィラメント2の固定端の領域における束の断面長さの半分よりも短い値を有する。
【0023】
第3の処理ステップCにおいて、ナノ粒子適用ステーション14でシリコンナノ粒子4が、乾式または湿式の噴射法により束に噴射される。シリコンナノ粒子14は、束3内および束同士の間の介在空間内に部分的に入り込む。
【0024】
ナノ粒子適用ステーション14は、第4の処理ステップDを実行するためにも用いられる第2のコーティングステーション13の一部を形成し、第2のコーティングステーション13では束3に塗布されたナノ粒子4が互いに焼結させられる。このために、ナノ粒子4を噴射された束3に対し、溶融ステーション15でエネルギーが印加される。そのエネルギーは好適には光の形態で束3に適用され、その場合、その光は赤外光、可視光、または紫外光とすることができる。しかしながら、そのエネルギーを熱の形態で適用することも可能である。第4の処理ステップDにおいて、適用された放射エネルギーによってナノ粒子4は互いに融合させられる。
【0025】
図2は、その方法を実行するための第1の実施形態を示す。その場合、基板1が、両面をナノフィラメント2でコーティングされる。このために、装置は、気密ゲートの形態で実現され得る入口機構を有し、それを通して基板1が装置10内に搬送される。装置は、ハウジング24内に配置された第1のコーティングステーション11を有する。ハウジングは2つのヒーター16を含み、それによってコーティングステーション11のプロセスチャンバはプロセス温度に加熱される。ガス入口要素17が平坦な導電性基板1の各側のプロセスチャンバ内に配置されており、プロセスガスはそのガス入口要素を通してプロセスチャンバ内に供給される。ナノフィラメント2は、熱分解反応により、コーティングステーション11を通って連続的に搬送される基板1上で成長する。基板1が両面をコーティングされるように、ヒーター16およびガス入口要素17が基板1の両側にそれぞれ配置されている。
【0026】
ナノフィラメント2を付与された基板1は、ガス洗浄ゲート9を通って、成形ステーション12に割り当てられている別のハウジング25内に搬送される。ハウジング25は、ナノフィラメント2でそれぞれコーティングされている導電性基板1の両側の広い面に光エネルギーを加える2つのレーザー機構を含む。光はキセノンランプまたはレーザーから生じ、光は、レーザー光の形態のエネルギーの印加によりナノフィラメント2が束3へと自己配向するような強度を有する。このプロセスにおいて、非特許文献1または非特許文献2に記載されたタイプの束3が形成される。
【0027】
導電性基板1は、別のガス洗浄ゲート9を通って第2のコーティングステーション13に搬送される。図2に示す例示的実施形態では、第2のコーティングステーション13は、ナノ粒子適用ステーション14およびその下流側に配置された溶融ステーション15からなる。コーティングステーション13はハウジング26を有する。
【0028】
ナノ粒子適用ステーション14は、ヒーター16と同様に、基板1の両側に配置されたヒーター19を有する。ナノ粒子適用ステーション14のプロセスチャンバは、これらのヒーターによって室温と250℃との間の温度に加熱される。
【0029】
プロセスチャンバはさらに、噴射ノズル20またはガス入口要素20を含み、それによって、特にキャリアガスを用いて基板1の広い面の方向に、ナノ粒子4をプロセスチャンバ内に搬送することができる。ナノ粒子4は、それぞれナノフィラメント2の束3の上に堆積し、束3の内部に到達する。ナノ粒子4とナノフィラメント2との間に空洞を含む緩い結合が形成される。ヒーター19および噴射ノズル20は同じハウジング26内に配置される。
【0030】
このようにして準備された基板1は、別のガス洗浄ゲート9を通って溶融ステーション15に運ばれる。そこでは、隣接するナノ粒子4が互いに融合するように、かつ/または、ナノ粒子4がナノフィラメント2に接続されるように、基板1の両方の広い面が溶融ステーションにおいてレーザー21のレーザ光またはキセノンランプの光に曝される。このプロセスにおいて、溶液中のリチウムイオンを吸収することができる多数の空洞を有する多孔体が形成される。溶融ステーション15は別個のハウジング27を有する。
【0031】
図2に示される例示的な実施形態は、導電性基板1の搬送方向において互いに前後して配置された3つのハウジング24、25、26、27を有し、ここで4つの処理ステップA、B、C、Dのうちの1つがハウジング24、25、26、27の各々で行われる。ハウジング24、25、26、27は、ガス洗浄ゲート9によって互いに接続されている。
【0032】
図3は、すべての処理ステーションが1つのハウジング内に配置されている、本発明の第2の例示的実施形態を示す。ヒーター16、ガス入口要素17、キセノンレーザー18、加熱要素19および噴射装置20は、レーザー21と共に共通のハウジング内に収容されている。入口機構22および出口機構23のみがガス洗浄ゲートを形成し、それを通って基板1が装置10内に搬送され、再び装置10外に搬送される。
【0033】
図4に示す例示的実施形態では、装置10は、ガス洗浄ゲート9によって互いに接続された2つのハウジング部分からなる。第1の処理ステップAはハウジング16内で行われ、第2、第3および第4の処理ステップB、C、Dは第2のハウジング29内で行われる。
【0034】
図5および図6は、導電性基板1を第1のロール7から巻き解く方法を含む、リチウムイオン電池の電極を製造するためのシステムの変形例を示す。処理ステップAにおいて、ナノフィラメント2が基板1上に堆積される。処理ステップCにおいて、ナノ粒子4がナノフィラメント2に塗布される。処理ステップDにおいて、ナノ粒子4はコーティング5に融合される。ナノ粒子はまた、その過程でナノフィラメント2にも接続される。基板1は前処理されてもよい。例えば、その表面にシード構造を設けることができ、それによってナノフィラメント2は、基板1の所定の領域上にのみ成長する。これらの領域は、広い面にわたって均一に分布し、かつ間隙によって互いに隔てられている島状のマイクロ領域からなることができる。それらは、隣接するナノフィラメント2が互いに接触しないように互いに離間していてもよい。
【0035】
処理ステップAで堆積されたナノフィラメント2は、特に、個々に起立しているナノフィラメントとすることもできる。それらはまた、枝分かれしたナノフィラメント2の形で実現されてもよい。
【0036】
この方法を実行するために必要とされる装置はまた、成形ステーション12を除いて、図2図4に示される装置のすべての処理ステーションを有することができる。本発明は特に、図6に示す種類の装置に関する。入口機構22が設けられており、それを通って導電性基板が装置10に進入する。導電性基板1は出口機構23を通って装置から再び出る。入口機構22および出口機構23はガス洗浄ゲートでもよい。コーティングステーション11は、搬送方向において入口機構22の下流側に隣接して配置され、その中を基板1が搬送される。コーティングステーション11は、2つのヒーター16とこれらのヒーター間に配置された2つのガス入口要素17とを収容するハウジング24を備える。導電性基板1は、2つのガス入口要素17の間の中間スペースを通って搬送される。
【0037】
基板1が通過して搬送されるガス洗浄ゲート9は、ハウジング24の下流側に隣接して配置されている。
【0038】
別のハウジング26は、ガス洗浄ゲート9の下流側に隣接して配置されている。しかしながら、ハウジング26はまた、ハウジング24に直接接続することもできる。
【0039】
2つのヒーター19がハウジング26内に配置されている。2つのノズル機構20が2つのヒーター19の間に配置されている。基板1は、2つのノズル機構20の間の空間を通って搬送される。ハウジング26は、上述のナノ粒子適用ステーション14を収容している。
【0040】
基板が通過して搬送されるガス洗浄ゲート9は、ハウジング26の下流側に隣接して配置されている。追加のハウジング27がガス洗浄ゲート9の下流側に隣接して配置され、レーザー21を含む溶融ステーション15を含む。しかしながら、ハウジング27はハウジング26に直接接続することもできる。
【0041】
ナノ粒子適用ステーション14内でナノフィラメント2上に堆積されたナノ粒子4が互いに接続しかつ/またはナノフィラメント2と接続するように、エネルギーが溶融ステーション15内の基板1の両面にレーザービーム21によって印加される。
【0042】
出口機構23は、ハウジング27の直ぐ下流側に配置されている。
【0043】
後者の方法およびこの方法を実行するための装置では、ナノ粒子4はナノフィラメント2に直接適用される。この場合、ナノフィラメント2の事前の結束は行われない。
【0044】
図示されていない変形例では、基板1の片面のみに、ナノ粒子4でコーティングされた上述のフィラメント層が設けられている。この場合、対応して使用される装置は、図面において基板1の上または下に示される要素のみを含む。しかしながら、2つのそのような装置が、ナノ粒子で被覆されたナノフィラメント2を基板1の両面に付与すること、すなわち、ナノ粒子でコーティングされたフィラメント2を最初に基板1の第1の広い面に付与し、続いて基板1の第2の広い面に付与することによっても可能にする。
【0045】
本発明の方法は、本発明の装置のリチウムイオン電池に使用されるタイプの電極34、35を製造することを可能にする。そのようなリチウムイオン電池は、図7に概略的に示されている。2つの電極34、35が電池セル30の両側に配置されている。多孔壁33が電極34、35の間に配置されている。リチウムイオンを含有する電解質が室31、32に収容されている。
【0046】
本発明によれば、最初に均一に分布して本質的に構造のない態様で基板1に適用されたナノフィラメント2が、束3へと結束される。この場合、一群の直接隣接するナノフィラメント2が共通の中心に向けられる。隣接する束が、それぞれ共通の中心に向けられたナノフィラメント2を含むことによって、隣接する束のナノフィラメント2は、複数の束3同士の間に位置する間隙から離れるように向けられる。
【0047】
次の製造ステップにおいて、束3は、シリコンナノ粒子のコーティングを付与される。この場合、各束3がこのようなコーティングを付与されることができ、シリコンナノ粒子のコーティングは互いに離間している。
【0048】
上述した説明は、本願に含まれるすべての発明を説明するのに役立ち、また少なくとも以下の特徴的な特徴の組み合わせにより、それぞれ独立に従来技術を強化する。すなわち:
【0049】
ナノフィラメントが、複数のナノフィラメントをそれぞれ含む複数の束へと結束され、隣接する束3同士の間に隙間6が形成されていることを特徴とする装置。
【0050】
導電性基板1を供給する処理ステップと、
前記基板1の表面に統計的平均において均一に配置されたナノフィラメント2の層を適用する処理ステップと、
複数のナノフィラメント2を束3へとそれぞれ結束することにより隣接する束3同士の間に間隙6が残される処理ステップと、
前記束3にイオン吸収コーティング5を適用する処理ステップとを少なくとも有する方法。
【0051】
前記ナノフィラメント2が光に曝されることを特徴とする方法。
【0052】
前記ナノフィラメント2がカーボンナノチューブCNTであることを特徴とする装置または方法。
【0053】
束3の断面長さがそれぞれ、0.5μmと5μmとの間にあるか、または、1.5μmと2.5μmとの間にあることを特徴とする装置または方法。
【0054】
前記イオン吸収コーティング5が、互いに接続されかつナノフィラメント2の束に接続されたナノ粒子4により形成されることを特徴とする装置または方法。
【0055】
前記ナノ粒子4が、シリコン、イオウ、酸化チタン、亜リン酸塩、亜硝酸塩または炭素であり、かつ、特にSiO、TiO、CrO、S、LiCoO、LiTiO、LiNiO、LiMnO、LiFePO、LiCoPO、LiMnPO、V、Ge、Sn、PbまたはZnOであることを特徴とする装置または方法。
【0056】
前記基板に適用された前記ナノフィラメント2が、光に曝されることにより束3へと成形されることを特徴とする方法。
【0057】
前記ナノフィラメント2の層が、キセノンランプまたはレーザーの光に曝されることを特徴とする方法。
【0058】
ナノフィラメント2の層を露光するために、連続的にまたはパルス状に生成され、帯状に拡大されるレーザービームが使用され、レーザービームは好適には層上を一定の速度で移動することを特徴とする方法。。
【0059】
コーティング5の適用中、束3に対してシリコンナノ粒子4が適用され、特に噴射され、前記シリコンナノ粒子が、それにエネルギーを適用することにより互いに接続すると共に、ナノ粒子の下にあるナノフィラメント2に接続することを特徴とする方法。
【0060】
ナノ粒子4を互いに接続し、かつ/または、ナノ粒子の下にあるナノフィラメント2の束に接続するために、光、特にレーザービームの光が使用され、少なくともナノ粒子4の表面が融けるように前記光が基板の表面上を移動することを特徴とする方法。
【0061】
第1および/または第2の電極34、35が、前述した特徴的構成のいずれかにしたがって実現されることを特徴とするバッテリ。
【0062】
処理装置10の少なくとも以下の処理ステーションが、搬送方向において互いに直接前後して配置されている装置:
ナノフィラメント2が基板1に適用される第1のコーティングステーション11;
ナノフィラメント2がイオン吸収コーティング5を付与される第2のコーティングステーション13。
【0063】
ナノフィラメント2が束3へと結束される成形ステーション12が、第1のコーティングステーション11と第2のコーティングステーション13との間に設けられ、前記束3が第2のコーティングステーション13においてコーティング5を付与されることを特徴とする装置。
【0064】
第1のロール7が設けられ、その上に基板1が巻かれており、前記基板は処理装置10を通って入口機構22から出口機構23まで進み、搬送方向に関して出口機構23の下流側の第2のロール8に巻き取られることを特徴とする装置。
【0065】
成形ステーション12が、光源18、特にレーザーを有し、それを用いて、第1のコーティングステーション11で基板1に適用されたナノフィラメント2の層を光に曝すことによって複数のナノフィラメント2を束3へと結束することができることを特徴とする装置。
【0066】
第2のコーティングステーション13が噴射装置20を有し、それを用いて、ナノ粒子4を、成形ステーションで作製された束3に噴射することができることを特徴とする装置。
【0067】
第2のコーティングステーション13が、光源21、特にレーザーを含み、それを用いて、束3またはナノフィラメント2に適用されたナノ粒子4を互いに接続しかつナノフィラメント2に接続することを特徴とする装置。
【0068】
開示された全ての特徴は、(個々にではあるが互いに組み合わせても)本発明にとって不可欠である。関連する/添付された優先権書類の開示内容(優先権出願の写し)は、すなわちこれらの書類の特徴を本願の特許請求の範囲に統合する目的でも、これにより本出願の開示に完全に組み込まれる。従属請求項の特徴は、特にこれらの請求項に基づいて分割出願を提出するための、先行技術の独立した独創的な機能的改良を特徴付ける。
【符号の説明】
【0069】
1 導電性基板
2 ナノフィラメント
3 束
4 ナノ粒子
5 コーティング
6 間隙
7 第1のロール
8 第2のロール
9 ガスフラッシュゲート
10 装置
11 コーティングステーション
12 成形ステーション
13 コーティングステーション
14 ナノ粒子適用ステーション
15 溶融ステーション
16 ヒーター
17 ガス入口部材
18 レーザー
19 ヒーター
20 噴射ノズル
21 レーザー
22 入口機構
23 出口機構
24 ハウジング
25 ハウジング
26 ハウジング
27 ハウジング
28 ハウジング
29 ハウジング
30 バッテリセル
31 室
32 室
33 多孔隔壁
34 電極
35 電極
A 処理ステップ/ナノフィラメント成長
B 処理ステップ/成形
C 処理ステップ/ナノ粒子適用
D 処理ステップ/焼結
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7