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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-04-14
(45)【発行日】2023-04-24
(54)【発明の名称】偏光板及びこれを含む光学表示装置
(51)【国際特許分類】
   G02B 5/30 20060101AFI20230417BHJP
   G02B 5/02 20060101ALI20230417BHJP
   G02F 1/1335 20060101ALI20230417BHJP
【FI】
G02B5/30
G02B5/02 C
G02F1/1335
G02F1/1335 510
【請求項の数】 20
(21)【出願番号】P 2019127131
(22)【出願日】2019-07-08
(65)【公開番号】P2020008858
(43)【公開日】2020-01-16
【審査請求日】2022-06-17
(31)【優先権主張番号】10-2018-0080196
(32)【優先日】2018-07-10
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(73)【特許権者】
【識別番号】590002817
【氏名又は名称】三星エスディアイ株式会社
【氏名又は名称原語表記】SAMSUNG SDI Co., LTD.
【住所又は居所原語表記】150-20 Gongse-ro,Giheung-gu,Yongin-si, Gyeonggi-do, 446-902 Republic of Korea
(74)【代理人】
【識別番号】110000408
【氏名又は名称】弁理士法人高橋・林アンドパートナーズ
(72)【発明者】
【氏名】オ, ヨン
(72)【発明者】
【氏名】イ, チョン ホ
(72)【発明者】
【氏名】ウィ, トン ホ
【審査官】渡邊 吉喜
(56)【参考文献】
【文献】特開2014-123568(JP,A)
【文献】特開2016-126350(JP,A)
【文献】特開2016-161943(JP,A)
【文献】米国特許出願公開第2018/0045876(US,A1)
【文献】国際公開第2011/132773(WO,A1)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
G02B 5/30
G02B 5/02
G02F 1/1335
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
偏光フィルム、及び前記偏光フィルムの光出射面に順次形成された第1基材層及びパターン層を含み、
前記パターン層は、前記第1基材層から順次形成された第1層及び第2層を含み、前記第1層は、前記第2層より高い屈折率を有し、
前記第1層は、前記第2層と対向する少なくとも一部分に2個以上の光学パターンを備えており、前記光学パターンと隣り合う前記光学パターンとの間に平坦部を備えているパターン部を含む、偏光板。
【請求項2】
前記第1層と前記第2層との間の屈折率の差は0.05以上である、請求項1に記載の偏光板。
【請求項3】
前記第1層は、粒子を含まない無粒子型樹脂層である、請求項1に記載の偏光板。
【請求項4】
前記第2層は、粒子を含まない無粒子型樹脂層である、請求項1に記載の偏光板。
【請求項5】
前記光学パターンは、レンチキュラーレンズパターン、最下部に一つの平面が形成され、傾斜面が平面の断面が多角形であるパターン、最下部に一つの平面が形成され、傾斜面が曲面であるパターン、及び断面が長方形又は正方形などのN角形であるパターンのうち1種以上を含む、請求項1に記載の偏光板。
【請求項6】
前記光学パターンは、レンチキュラーレンズパターン、又は、最下部に一つの平面が形成され、傾斜面が平面の断面が多角形であるパターンである、請求項1に記載の偏光板。
【請求項7】
前記パターン部は、下記の数式1を満足する、請求項1に記載の偏光板。
<数1>
1<C/P≦10
(前記数式1において、Cは、パターン部の周期(単位:μm)で、Pは、光学パターンの最大幅(単位:μm)である。)
【請求項8】
前記光学パターンは、最下部に一つの平面が形成され、傾斜面が平面の断面が多角形である陰刻の光学パターン、又は陰刻のレンチキュラーレンズパターンである、請求項1に記載の偏光板。
【請求項9】
前記光学パターンは、アスペクト比が0を超え3.0以下である、請求項1に記載の偏光板。
【請求項10】
前記パターン層は、肉厚が0μmを超え30μm以下である、請求項1に記載の偏光板。
【請求項11】
前記光学パターンは陰刻の光学パターンであって、
前記第2層は、前記第1層との界面に前記陰刻の光学パターンの少なくとも一部分を充填する充填パターンを有する、請求項1に記載の偏光板。
【請求項12】
前記パターン層の断面積において、前記第1層の全体の断面積に対する前記第2層のうち前記充填パターンの全体の断面積の総和の比は40%以上60%以下である、請求項11に記載の偏光板。
【請求項13】
前記第1基材層は、前記第1層に直接形成され、前記第1基材層は、波長550nmでReが15,000nm以下である、請求項1に記載の偏光板。
【請求項14】
前記第2層の光出射面に第2基材層がさらに形成された、請求項1に記載の偏光板。
【請求項15】
前記第2基材層は、前記第2層に直接形成され、前記第2基材層は、波長550nmでReが15,000nm以下である、請求項14に記載の偏光板。
【請求項16】
前記第2基材層は、セルロースエステル系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、非環状ポリオレフィン系樹脂、ポリ(メタ)アクリレート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、及びポリ塩化ビニリデン系樹脂のうち一つ以上を含む、請求項14に記載の偏光板。
【請求項17】
前記第2基材層の光出射面にプライマー層、ハードコーティング層、耐指紋性層、反射防止層、アンチグレア層、低反射層、及び超低反射層のうち1種以上の機能層がさらに形成された、請求項14に記載の偏光板。
【請求項18】
前記第2層の最上部面が機能層化された、請求項1に記載の偏光板。
【請求項19】
前記第1基材層は、前記第1層に直接形成され、前記第1基材層は、波長550nmでReが3,000nm以上15,000nm以下であって、
前記第2基材層は、前記第2層に直接形成され、前記第2基材層は、波長550nmでReが3,000nm以上15,000nm以下のものである、請求項14に記載の偏光板。
【請求項20】
請求項1から19のいずれか1項に記載の偏光板を含む、光学表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、偏光板及びこれを含む光学表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
液晶表示装置は、バックライトユニットから出た光が液晶パネルを介して出射されることによって作動する。バックライトユニットから出た光が液晶表示装置の画面に対して垂直に入射されるので、液晶表示装置の画面のうち側面は、正面に比べて明暗比(contrast ratio、CR)が低下せざるを得ない。よって、側面明暗比を高める光学フィルムに対する開発が進められている。
【0003】
側面明暗比を高める光学フィルムは、偏光フィルムから出射された光が低屈折率樹脂層から高屈折率樹脂層を通過しながら低屈折率樹脂層と高屈折率樹脂層との界面に形成されたパターンによって拡散されることによって側面明暗比を改善する構造である。しかし、このような構造のみでは、側面明暗比を改善するのに限界があった。
【0004】
側面明暗比を改善するためには、パターンの形状を変更してもよく、低屈折率樹脂層又は高屈折率樹脂層に粒子を含ませてもよい。しかし、パターンの形状を変更する場合、パターンの微細な構造の変更でも側面明暗比が激しく変化し得る。また、低屈折率樹脂層及び高屈折率樹脂層のうち一つ以上に粒子を含ませてもよいが、粒子と樹脂層との間の屈折率を制御するという追加的な過程が必要となり、粒子によってヘイズが高くなり、光学的透明性が低下し、粒子によって光効率が低下するという問題があり得る。
【0005】
本発明の背景技術は、特許文献1に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【文献】特開2006-251659号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明の目的は、側面明暗比を改善できる偏光板を提供することにある。
【0008】
本発明の他の目的は、正面明暗比を改善できる偏光板を提供することにある。
【0009】
本発明の更に他の目的は、パターン層に粒子を含まなくても、側面明暗比を著しく改善することができ、粒子を含まないので、ヘイズなどが低く光学的透明性に優れ、粒子によって偏光の光出射が妨害されないので光効率を高めることができる偏光板を提供することにある。
【0010】
本発明の更に他の目的は、本発明の偏光板を含む光学表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明の偏光板は、偏光フィルム、及び前記偏光フィルムの光出射面に順次形成された第1基材層及びパターン層を含み、前記パターン層は、前記第1基材層から順次形成された第1層及び第2層を含み、前記第1層は、前記第2層より高い屈折率を有し、前記第1層は、前記第2層と対向する少なくとも一部分に2個以上の光学パターンを備えると共に、前記光学パターンと隣り合う前記光学パターンとの間に平坦部を備えるパターン部を含んでもよい。
【0012】
本発明の光学表示装置は、本発明の偏光板を含んでもよい。
【発明の効果】
【0013】
本発明は、側面明暗比を改善できる偏光板を提供する。
【0014】
本発明は、正面明暗比を改善できる偏光板を提供する。
【0015】
本発明は、パターン層に粒子を含まなくても、側面明暗比を著しく改善することができ、粒子を含まないので、ヘイズなどが低く光学的透明性に優れ、粒子によって偏光の光出射が妨害されないので光効率を高めることができる偏光板を提供する。
【0016】
本発明は、本発明の偏光板を含む光学表示装置を提供する。
【図面の簡単な説明】
【0017】
図1】本発明の一実施形態に係る偏光板の断面図である。
図2】本発明の一実施形態に係る偏光板のうちパターン層の分離斜視図である。
図3】本発明の他の実施形態に係る偏光板の断面図である。
図4】比較例2及び比較例4の偏光板の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0018】
以下では、添付の図面を参考にして、実施形態に対して本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は、様々な異なる形態に具現可能であり、ここで説明する実施形態に限定されない。図面において、本発明を明確に説明するために説明と関係のない部分は省略し、明細書全体にわたって同一又は類似する構成要素に対しては同一の図面符号を付した。
【0019】
本明細書において、「上部」と「下部」は図面を基準にして定義したものであって、視点又は観点によって「上部」が「下部」に変更されてもよく、「下部」が「上部」に変更されてもよい。また、「上」とは、直上のみならず、中間に他の構造を介在した場合も含み得る。その一方で、「直接上(directly on)」、「真上」、「直接形成」又は「直接接して形成」とは、中間に他の構造が介在していないことを意味する。
【0020】
本明細書において、「水平方向」及び「垂直方向」は、それぞれ矩形の液晶表示装置の画面の長手方向及び短手方向を意味する。本明細書において、「正面」及び「側面」は、水平方向を基準にして、球面座標系(spherical coordinate system)による(φ,θ)に従うとき、正面は(0゜,0゜)であり、左側端地点を(180゜,90゜)とし、右側端地点を(0゜,90゜)としたとき、側面は(0゜,60゜)であることを意味する。
【0021】
本明細書において、「アスペクト比(aspect ratio)」は、光学パターンの最大幅に対する最大高さの比(最大高さ/最大幅)を意味する。
【0022】
本明細書において、「周期」は、隣り合う各光学パターン間の距離、例えば、一つの光学パターンの最大幅と、前記光学パターンと隣り合う一つの平坦部の幅との和を意味する。
【0023】
本明細書において、「最下部(most bottom part)」は、陰刻の光学パターンのうち最大下部を意味し、最下部は、一地点になってもよく、一平面になってもよい。
【0024】
本明細書において、「面方向位相差(Re)」は、波長550nmでの値であり、下記の数式Aで表される。
【0025】
<数A>
Re=(nx-ny) × d
(前記数式Aにおいて、nx及びnyは、波長550nmでそれぞれ該当の保護層又は基材層の遅相軸方向及び進相軸方向の屈折率であり、dは、該当の保護層又は基材層の厚さ(単位:nm)である。)
【0026】
本明細書において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及び/又はメタクリルを意味する。
【0027】
本発明の発明者は、偏光フィルムの光出射面に下記の第1基材層及びパターン層を積層することによって、パターン層を備えていない偏光板に比べて正面輝度及び正面明暗比の減少を最小化しながら側面明暗比を著しく改善できることを見出し、本発明を完成した。また、本発明の発明者は、偏光フィルムの光出射面に下記の第1基材層及びパターン層を積層することによって、パターン層のうち各層の屈折率の関係を制御するだけでも側面明暗比を著しく改善できることを確認し、本発明を完成した。
【0028】
以下では、本発明の一実施形態に係る偏光板を図1及び図2を参考にして説明する。図1は、本発明の一実施形態による偏光板の断面図で、図2は、図1におけるパターン層の分離斜視図である。
【0029】
図1を参照すると、偏光板10は、偏光フィルム100、第1基材層200、パターン層300及び第2基材層400を含んでもよい。
【0030】
偏光フィルム
偏光フィルム100の光出射面には、第1基材層200、パターン層300及び第2基材層400が順次形成されている。偏光フィルム100は、液晶パネル(図1には図示せず)から入射された光を偏光させて出射させることができる。偏光フィルム100から出射された偏光は、第1基材層200、パターン層300及び第2基材層400の順に透過され得る。
【0031】
一具体例において、偏光フィルム100は偏光子を含んでもよい。具体的には、偏光子は、ポリビニルアルコール系フィルムの一軸延伸によって製造されるポリビニルアルコール系偏光子を含んでもよく、ポリビニルアルコール系フィルムの脱水によって製造されるポリエン系偏光子を含んでもよい。偏光子は、厚さが5μm以上40μm以下、例えば、5μm、10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、又は40μmになってもよい。前記範囲で、偏光子が光学表示装置に使用可能である。
【0032】
他の具体例において、偏光フィルム100は、偏光子、及び偏光子の少なくとも一面に形成された基材層をさらに含んでもよい。基材層は、偏光子を保護することによって偏光板の信頼性を高め、偏光板の機械的強度を高めることができる。基材層は、光学的に透明な保護フィルム及び保護コーティング層のうち一つ以上を含んでもよい。基材層は、下記の通りである。
【0033】
図1には示していないが、偏光フィルム100の光入射面には、上述した基材層及び粘着層のうち1種以上がさらに積層されてもよい。粘着層は、偏光板を被着体、例えば、液晶パネル及びOLEDパネルなどに粘着させることができる。
【0034】
第1基材層
第1基材層200は、パターン層300の光入射面に形成され、パターン層300を支持することができる。第1基材層200は、パターン層300のうち第1層310に直接形成され、偏光板10を薄型化させることができる。前記「直接形成」とは、第1基材層200とパターン層300との間に任意の粘着層、接着層又は粘接着層が介在しないことを意味する。しかし、第1基材層200と第1層310とが粘着層、接着層又は粘接着層によって積層される場合も本発明の範囲に含まれ得る。
【0035】
第1基材層200は、可視光線領域での全光線透過率が90%以上、例えば、90%以上100%以下、90%、91%、92%、93%、94%、95%、96%、97%、98%、99%、又は100%になってもよい。前記範囲で、入射光に影響を与えずに入射光を透過させることができる。
【0036】
第1基材層200は、光入射面、及び光入射面と対向する光出射面を含む保護フィルム又は保護コーティング層であってもよい。好ましくは、第1基材層200として保護フィルムを使用することによって、パターン層300をより強固に支持し得る。
【0037】
第1基材層200が保護フィルムである場合、第1基材層200は、単一層の光学的に透明な樹脂フィルムを含んでもよい。しかし、第1基材層200は、樹脂フィルムが複数積層される場合も含み得る。保護フィルムは、樹脂の溶融及び押出によって形成されてもよい。必要な場合は、延伸工程をさらに追加してもよい。前記樹脂は、トリアセチルセルロース(TAC)などを含むセルロースエステル系樹脂、非晶性環状ポリオレフィン(COP)などを含む環状ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)などを含むポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、非環状ポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂などを含むポリ(メタ)アクリレート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、及びポリ塩化ビニリデン系樹脂のうち一つ以上を含んでもよい。
【0038】
保護フィルムは、無延伸フィルムであってもよいが、前記樹脂を所定の方法で延伸させることによって、所定範囲の位相差を有する位相差フィルム又は等方性光学フィルムになってもよい。一具体例において、保護フィルムは、Reが60nm以下、具体的には0nm以上60nm以下、さらに具体的には40nm以上60nm以下、例えば、40nm、41nm、42nm、43nm、44nm、45nm、46nm、47nm、48nm、49nm、50nm、51nm、52nm、53nm、54nm、55nm、56nm、57nm、58nm、59nm、又は60nmの等方性光学フィルムになってもよい。前記範囲で、視野角を補償することによって画像品質を良好にすることができる。前記「等方性光学フィルム」とは、nx、ny及びnzが実質的に同一なフィルムを意味し、前記「実質的に同一」とは、完全に同一な場合のみならず、少しの誤差を含む場合を全て含む。また、保護フィルムの虹ムラが視認されることを防止するために、一軸延伸を行ってもよい。
【0039】
一具体例において、第1基材層200は、Reが15,000nm以下、具体的には3,000nm以上15,000nm以下、具体的には4,000nm以上、さらに具体的には5,000nm以上、さらに具体的には6,000nm以上15,000nm以下、8,000nm以上15,000nm以下、例えば、8,000nm、9,000nm、10,000nm、11,000nm、12,000nm、13,000nm、14,000nm、又は15,000nmになってもよい。前記範囲で、パターン層300は、第1基材層200を通過した光の拡散効果をさらに大きくし、明暗比の改善に効果を与えることができる。
【0040】
保護コーティング層は、活性エネルギー線硬化性化合物及び重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物で形成されてもよい。活性エネルギー線硬化性化合物は、陽イオン重合性硬化性化合物、ラジカル重合性の硬化性化合物、ウレタン樹脂、及びシリコン系樹脂のうち一つ以上を含んでもよい。陽イオン重合性硬化性化合物は、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有するエポキシ系化合物、分子内に少なくとも一つのオキセタン環を有するオキセタン系化合物になってもよい。エポキシ系化合物は、水素化エポキシ系化合物、鎖状脂肪族エポキシ系化合物、環状脂肪族エポキシ系化合物、及び芳香族エポキシ系化合物のうち一つ以上になってもよい。
【0041】
ラジカル重合性の硬化性化合物は、分子内に少なくとも一つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する(メタ)アクリレートモノマー、及び分子内に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する(メタ)アクリレートオリゴマーを含んでもよく、これらは、官能基含有化合物を2種以上反応させることによって得ることができる。(メタ)アクリレートモノマーは、分子内に1個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単官能(メタ)アクリレートモノマー、分子内に2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する2官能(メタ)アクリレートモノマー、及び分子内に3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能(メタ)アクリレートモノマーになってもよい。(メタ)アクリレートオリゴマーは、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー、及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーなどになってもよい。重合開始剤は、活性エネルギー線硬化性化合物を硬化させることができる。重合開始剤は、光カチオン開始剤及び光増感剤のうち一つ以上を含んでもよい。光カチオン開始剤及び光増感剤としては、当業者に通常知られているものを使用可能である。
【0042】
第1基材層200の厚さは、5μm以上200μm以下、具体的には30μm以上120μm以下であって、保護フィルムタイプである場合は、30μm以上100μm以下、好ましくは30μm以上90μm以下、例えば、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、又は90μmになってもよく、保護コーティング層タイプである場合は、1μm以上50μm以下、例えば、1μm、5μm、10μm、20μm、30μm、40μm、又は50μmになってもよい。前記範囲で、第1基材層200が偏光板に使用可能である。
【0043】
第1基材層200の少なくとも一面には、プライマー層、ハードコーティング層、耐指紋性層、反射防止層、アンチグレア層、低反射層、超低反射層などの表面処理層がさらに形成されてもよい。ハードコーティング層、耐指紋性層、反射防止層などは、第1基材層200、偏光フィルム100などに追加的な機能を提供することができる。プライマー層は、第1基材層200と被着体(例えば、パターン層又は偏光フィルム)との間の接着を良好にすることができる。
【0044】
パターン層
パターン層300は、第1基材層200の光出射面に形成され、第1基材層200を透過した光を拡散させることができる。
【0045】
パターン層300は、第1層310、及び第1層310と対向する第2層320で構成される。好ましくは、パターン層300は、第1層310及び第2層320のみで構成されている。
【0046】
第1層310は、第2層320より高い屈折率を有する。第1層310は、第2層320と対向する少なくとも一部分に2個以上の陰刻の光学パターン311を備えており、陰刻の光学パターン311と隣り合う陰刻の光学パターン311との間に平坦部312を備えているパターン部を含んでもよい。これを通じて、第1基材層200から出射された光に対する側面明暗比を著しく改善させることができる。本発明の発明者は、本発明の偏光板10において、パターン層300のうち第1層310と第2層320との間の屈折率の大小が逆転したり、偏光フィルム100が第2層320側に形成される場合、側面での明暗比の改善効果が著しく低下したりすることを確認した。
【0047】
第1層310は、第2層320に直接形成され、第1層310と第2層320とが直接接触する界面に下記のパターン部が形成されている。図1は、第1層310と第2層320とが接触する全面にパターン部が形成されたことを示した図である。しかし、第1層310と第2層320とが接触する全面のうち一部にパターン部が形成される偏光板も本発明の範囲に含まれ得る。
【0048】
パターン部は、2個以上の陰刻の光学パターン311及び陰刻の光学パターン311と隣り合う陰刻の光学パターン311との間に形成された平坦部312で構成される。偏光板には、陰刻の光学パターン311と平坦部312との組み合わせが繰り返し形成されている。前記「陰刻の光学パターン」とは、第1基材層200の光出射面に向かって光学パターンが突出した形態を意味する。
【0049】
パターン部は、下記の数式1を満足することができる。前記範囲で、側面明暗比の改善効果がさらに向上し得る。
【0050】
<数1>
1<C/P≦10
(前記数式1において、Cは、パターン部の周期(単位:μm)で、Pは、光学パターンの最大幅(単位:μm)である。)
【0051】
好ましくは、C/P(Pに対するCの比)は、1.1以上8.0以下、具体的には、1.1以上5.0以下、例えば、1.1、1.2、1.3、1.4、1.5、1.6、1.7、1.8、1.9、2.0、2.1、2.2、2.3、2.4、2.5、2.6、2.7、2.8、2.9、3.0、3.1、3.2、3.3、3.4、3.5、3.6、3.7、3.8、3.9、4.0、4.1、4.2、4.3、4.4、4.5、4.6、4.7、4.8、4.9、又は5.0になってもよい。
【0052】
陰刻の光学パターン311には曲面が形成されている。第1層310から入射された偏光が第2層320に曲面を介して出射され、曲面によって第1基材層200から入射された光を陰刻の光学パターン311の到達位置によって多様な方向に第1層310から第2層320に出射させることによって、側面明暗比を著しく改善することができる。
【0053】
図1は、曲面が非球面で、陰刻の光学パターン311がレンチキュラーレンズパターンである偏光板を示した図である。しかし、曲面は、球面、放物面、楕円面、双曲面又は無定形の曲面になってもよい。図1は、曲面が滑らかな陰刻の光学パターンを示した図であるが、曲面に凹凸がさらに形成されることによって、光の拡散効果をさらに高めることもできる。
【0054】
本発明において、陰刻の光学パターンは、レンチキュラーレンズパターン以外にも、最下部に一つの平面が形成され、傾斜面が平面で、断面が台形の形態(例えば、断面が三角形であるプリズムの上部が切断された形態(cut-prism形態)であるパターン、最下部に一つの平面が形成され、傾斜面が曲面である陰刻パターン(例えば、図1のレンチキュラーレンズパターンの下部が切断された形態(cut-lenticular lensパターン)、マイクロレンズパターンの下部が切断された形態(cut-micro lensパターン)、又は断面が長方形又は正方形などのN角形(Nは、3以上20以下の整数)であるパターンを含んでもよい。
【0055】
陰刻の光学パターン311は、アスペクト比が0を超え3.0以下、具体的には0.4以上3.0以下、さらに具体的には0.7以上3.0以下、例えば、0.7、0.8、0.9、1.0、1.1、1.2、1.3、1.4、1.5、1.6、1.7、1.8、1.9、2.0、2.1、2.2、2.3、2.4、2.5、2.6、2.7、2.8、2.9、又は3.0になってもよい。前記範囲で、側面での明暗比及び側面での視野角を改善することができる。
【0056】
陰刻の光学パターン311の最大幅Pは、0μmを超え15μm以下、具体的には2μm以上15μm以下、例えば、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、11μm、12μm、13μm、14μm、又は15μmになってもよい。陰刻の光学パターン311の最大高さHは、0μmを超え50μm以下、具体的には1μm以上45μm以下、例えば、1μm、5μm、10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、40μm、又は45μmになってもよい。前記幅及び高さの範囲で、拡散効果があり得る。
【0057】
陰刻の光学パターン311の最大幅の全体の和は、第1層310の全体の幅に対して40%以上60%以下、具体的には45%以上55%以下、例えば、45%、46%、47%、48%、49%、50%、51%、52%、53%、54%、又は55%になってもよい。前記範囲で、側面での明暗比を高め、側面での視野角を改善することができる。陰刻の光学パターン311は、所定の周期Cで配置されることによって、集光を拡散させるという効果が大きくなり得る。陰刻の光学パターン311の周期Cは、0μmを超え60μm以下以下、具体的には5μm以上60μm以下、例えば、5μm、10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、40μm、45μm、50μm、55μm、又は60μmになってもよい。前記範囲で、集光及び拡散効果が大きくなり得る。
【0058】
平坦部312の幅Lに対する陰刻の光学パターン311の最大幅Pの比率は、0を超え9以下、具体的には0.1以上3以下、さらに具体的には0.15以上2以下、例えば、0.15、0.2、0.25、0.3、0.35、0.4、0.45、0.5、0.55、0.6、0.65、0.7、0.75、0.8、0.85、0.9、0.95、1.0、1.05、1.1、1.15、1.2、1.25、1.3、1.35、1.4、1.45、1.5、1.55、1.6、1.65、1.7、1.75、1.8、1.85、1.9、1.95、又は2であってもよい。前記範囲で、正面明暗比と側面明暗比との差を減少させることができ、同一の側面視野角及び同一の正面視野角で明暗比を高めることができる。また、モアレ防止効果があり得る。
【0059】
陰刻の光学パターン311と第1基材層200との間の最小距離、すなわち、陰刻の光学パターン311の最下部と第1基材層200との間の最小距離D(「肉厚」ともいう)は、0μmを超え30μm以下、具体的には1μm以上20μm以下、例えば、1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、11μm、12μm、13μm、14μm、15μm、16μm、17μm、18μm、19μm、又は20μmになってもよい。前記範囲で、フィルムの硬度及びコーティング厚さの均一度を確保する効果があり得る。
【0060】
パターン層300の最上部面から陰刻の光学パターン311の最下部までの距離Aに対する陰刻の光学パターン311の最大高さHの比(H/A)は、0を超え1以下、具体的には0.3以上1.0以下、例えば、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、又は1.0になってもよい。前記範囲で、フィルムの硬度及びコーティング厚さの均一度を確保する効果があり得る。
【0061】
パターン層300の断面積において、第1層310の全体の断面積に対する第2層320のうち充填パターン321の全体の断面積の総和の比は、40%以上60%以下、好ましくは45%以上55%以下、例えば、45%、46%、47%、48%、49%、50%、51%、52%、53%、54%、又は55%になってもよい。前記範囲で、側面視認性の改善効果があり得る。
【0062】
第2層320は、第1層310との界面に、陰刻の光学パターン311の少なくとも一部分を充填する充填パターン321が形成されている。充填パターン321は、陰刻の光学パターン311を完全に充填してもよく、陰刻の光学パターン311を部分的に充填してもよい。充填パターン321は、陰刻の光学パターン311を完全に充填することが好ましい。
【0063】
図1は、アスペクト比、最大幅、最大高さ、周期がそれぞれ同一な陰刻の光学パターンが形成された偏光板を示した図であるが、互いに異なるアスペクト比、最大幅、最大高さ又は周期を有する陰刻の光学パターンがパターン部に形成されてもよい。
【0064】
各陰刻の光学パターン311間には平坦部312が形成されてもよい。平坦部312は、第1層310から第2層320に偏光を連続的に透過させることによって、正面輝度を改善し、正面明暗比を改善することができる。
【0065】
第1基材層200から入射された偏光は、第1層310から第2層320に透過され、陰刻の光学パターン311は、その突出部が第1基材層200に向かっており、平坦部312の幅(L)は、0μmを超え50μm以下、具体的には0μmを超え30μm以下、例えば、1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、11μm、12μm、13μm、14μm、15μm、16μm、17μm、18μm、19μm、20μm、21μm、22μm、23μm、24μm、25μm、26μm、27μm、28μm、29μm、又は30μmになってもよい。前記比率及び幅の範囲で、集光及び拡散効果があり得る。
【0066】
図1は、平坦部の幅が互いに同一な偏光板を示した図であるが、平坦部の幅が互いに異なる偏光板も本発明に含まれ得る。
【0067】
図2を参照すると、陰刻の光学パターン311は、光学パターンの長さ方向にストライプ状に延長された形態で形成されてもよい。これを通じて、左右の視野角を拡大させることができる。しかし、本発明では、陰刻の光学パターンがドット状に形成されてもよい。前記「ドット」とは、光学パターンが分散されていることを意味する。
【0068】
第1層310は、第2層320より高い屈折率を有する。本発明の発明者は、偏光フィルム100から出射された偏光が第1層310から第2層320に出射され、第1層310に偏光フィルム100の方向に突出した陰刻の光学パターン311が形成されるように構成することによって、側面明暗比を著しく改善できることを確認した。第1層310と第2層320との間の屈折率の差は、0.05以上、具体的には0.05以上0.3以下、さらに具体的には0.05以上0.2以下、0.1以上0.2以下になってもよい。前記範囲で、側面明暗比の改善効果がさらに大きくなり得る。
【0069】
第1層310は、屈折率が1.50以上、具体的には1.50以上1.70以下、さらに具体的には1.50以上1.65以下になってもよい。前記範囲で、側面明暗比を改善することができる。第2層320は、屈折率が0を超え1.50未満、具体的には1.30以上1.50未満、さらに具体的には1.35以上1.50未満になってもよい。前記範囲で、側面明暗比を改善することができる。
【0070】
第1層310は、上述した屈折率の範囲を満足できる樹脂を含む組成物で形成され得る。例えば、第1層310は、UV硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、例えば、(メタ)アクリル系、エポキシ系、ウレタン系、及びシリコン系のうち1種以上を含んでもよいが、これに制限されない。前記組成物は、樹脂の硬化を促進する開始剤、各種添加剤などをさらに含んでもよい。
【0071】
一具体例において、第1層310は、粒子を含まない無粒子型樹脂層であってもよい。従来の側面明暗比を改善するために、高屈折率層に第1層310に比べて高い屈折率を有する高屈折率粒子、例えば、光拡散剤、光吸収剤などを含ませることが知られている。しかし、本発明は、偏光フィルム100の光出射面における第1層310と第2層320との間の積層関係及び陰刻の光学パターン311の突出方向を調節することによって、第1層310に粒子を含まなくても側面明暗比を著しく改善することができ、光学的透明性をさらに高め、光効率を高めることができた。偏光板10は、ヘイズが0%以上30%以下、好ましくは0%以上25%以下、例えば、0%、1%、2%、3%、4%、5%、6%、7%、8%、9%、10%、11%、12%、13%、14%、15%、16%、17%、18%、19%、20%、21%、22%、23%、24%、又は25%になってもよい。
【0072】
第2層320は、上述した屈折率の範囲を満足できる樹脂を含む組成物で形成され得る。例えば、第2層320は、UV硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、例えば、(メタ)アクリル系、エポキシ系、ウレタン系、及びシリコン系のうち1種以上を含んでもよいが、これに制限されない。前記組成物は、樹脂の硬化を促進する開始剤、各種添加剤などをさらに含んでもよい。
【0073】
一具体例において、第2層320は、粒子を含まない無粒子型樹脂層であってもよい。従来の側面明暗比を改善するために、第2層320に粒子、例えば、光拡散剤、光吸収剤などを含ませることが知られている。しかし、本発明は、偏光フィルム100の光出射面における第1層310と第2層320との間の積層関係及び陰刻の光学パターン311の突出方向を調節することによって、第2層320に粒子を含まなくても側面明暗比を著しく改善することができる。
【0074】
一具体例において、第2層320は、硬化後に接着性を示す接着剤組成物で形成され、接着性であってもよい。これを通じて、第2層320と第2基材層400とを接着させることによって偏光板10を薄型化させることができる。第2層320は、第2基材層400、特に、ポリエステルフィルムに対する接着性を高めることができる。
【0075】
パターン層300は、厚さが0μmを超え200μm以下、具体的には10μm以上150μm以下、例えば、10μm、20μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、又は150μmになってもよい。前記範囲で、パターン層300が偏光板10に使用可能である。
【0076】
第2基材層
第2基材層400は、パターン層300の光出射面に形成され、パターン層300から出射された光を出射させることができる。第2基材層400は、パターン層300のうち第2層320に直接形成され、偏光板10を薄型化させることができる。前記「直接形成」とは、第2基材層400とパターン層300との間に任意の粘着層、接着層、又は粘接着層が介在しないことを意味する。しかし、第2基材層400と第2層320とが粘着層、接着層又は粘接着層によって積層される場合も本発明の範囲に含まれ得る。
【0077】
第2基材層400は、上述した第1基材層200と同一又は異種の材質、厚さ、屈折率、及び位相差を有し得る。
【0078】
一具体例において、第2基材層400は、Reが15,000nm以下、具体的には3,000nm以上15,000nm以下、具体的には4,000nm以上、さらに具体的には5,000nm以上、さらに具体的には6,000nm以上15,000nm以下、8,000nm以上15,000nm以下、例えば、8,000nm、9,000nm、10,000nm、11,000nm、12,000nm、13,000nm、14,000nm、又は15,000nmになってもよい。前記範囲で、明暗比改善層を介して拡散された光の拡散効果がさらに大きくなり、明暗比の改善効果が大きくなり得る。一具体例において、第1基材層200及び第2基材層400がそれぞれ上述したReの範囲を確保することによって、明暗比の改善効果がさらに大きくなり得る。
【0079】
図1には示していないが、第2基材層400の光出射面には機能層がさらに形成されてもよい。前記機能層は、偏光板10に追加的な機能を提供することができる。例えば、機能層は、プライマー層、ハードコーティング層、耐指紋性層、反射防止層、アンチグレア層、低反射層、及び超低反射層のうち1種以上を含んでもよいが、これに制限されない。
【0080】
一方、図1は、パターン層300に第2基材層400が形成された偏光板を示したが、第2基材層400は省略されてもよい。この場合、第2層320の最上部面は機能層化されてもよい。前記「機能層化」とは、第2層320の最上部面がプライマー層、ハードコーティング層、耐指紋性層、反射防止層、アンチグレア層、低反射層、及び超低反射層のうち1種以上の機能を行うことを意味する。前記機能層化は、第2層の形成過程で表面処理などを通じて行われてもよい。
【0081】
以下、図3を参考にして、本発明の他の実施形態に係る偏光板を説明する。
【0082】
図3を参考にすると、偏光板20にはパターン層300Aが形成されてもよい。パターン層300の代わりにパターン層300Aが形成された点を除いては、本発明の一実施形態に係る偏光板10と実質的に同一である。
【0083】
パターン層300Aは、第1層310A及び第1層310Aに直接形成された第2層320Aを含み、第1層310Aと第2層320Aとが直接接触する界面に下記のパターン部が形成されている。
【0084】
パターン部は、2個以上の陰刻の光学パターン311A及び陰刻の光学パターン311Aと隣り合う陰刻の光学パターン311Aとの間に形成された平坦部312Aで構成される。第1層310Aと第2層320Aとが接触する界面には、陰刻の光学パターン311Aと平坦部312Aとの組み合わせが繰り返し形成されている。前記「陰刻の光学パターン」とは、第1基材層200に向かって陰刻の光学パターンが突出した形態を意味する。
【0085】
パターン部は、下記の数式1を満足し、陰刻の光学パターン311Aは、底角θが60゜以上90゜以下になってもよい。底角θは、陰刻の光学パターン311Aの傾斜面313Aと陰刻の光学パターン311Aの最大幅P1とがなす角を意味する。このとき、前記傾斜面313Aは、陰刻の光学パターン311Aの平坦部312Aにそのまま連結される傾斜面を意味する。前記範囲で、側面明暗比を改善させることができ、同一の側面視野角で明暗比を高めることができる。具体的に、底角θは、70゜以上90゜以下、C1/P1(P1に対するC1の比)は、1.1以上8.0以下、例えば、1.1以上5.0以下、1.1、1.2、1.3、1.4、1.5、1.6、1.7、1.8、1.9、2.0、2.1、2.2、2.3、2.4、2.5、2.6、2.7、2.8、2.9、3.0、3.1、3.2、3.3、3.4、3.5、3.6、3.7、3.8、3.9、4.0、4.1、4.2、4.3、4.4、4.5、4.6、4.7、4.8、4.9、5.0になってもよい。
【0086】
<数1>
1<C1/P1≦10
(前記数式1において、C1は、パターン部の周期(単位:μm)で、P1は、光学パターンの最大幅(単位:μm)である。)
【0087】
図1は、陰刻の光学パターン311Aの両側の底角θが同一である場合を示したが、底角が上述した60゜以上90゜以下に含まれる場合、底角θが互いに異なる陰刻の光学パターンも本発明の範囲に含まれ得る。
【0088】
陰刻の光学パターン311Aは、最下部に第1面314Aが形成され、第1面314Aと連結される一つ以上の傾斜面313Aで構成される陰刻の光学パターンであってもよい。図3は、陰刻の光学パターン311Aが、隣り合う2個の傾斜面313Aが第1面314Aによって連結される台形の光学パターンであることを示した図であるが、本発明がこれに制限されることはなく、光学パターンは、断面が台形である光学パターン以外に、長方形又は正方形の光学パターンであってもよい。
【0089】
第1面314Aは、最下部に形成され、光学表示装置で第1層310Aに到逹した光を第1面314Aによってさらに拡散させることによって、視野角及び輝度を高めることができる。よって、光拡散効果を高め、輝度損失を最小化することができる。第1面314Aは、平坦な面であって、偏光板20の製造工程を容易にすることもできる。しかし、第1面314Aは、微細な凹凸が形成された面であってもよく、曲面になってもよい。
【0090】
第1面314Aは、平坦部312A、第1層310Aの最低面、及び第2層320Aの最高面のうち一つ以上と平行に形成されてもよい。
【0091】
第1面314Aは、幅が0.5μm以上30μm以下、具体的には1μm以上15μm以下、例えば、1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、11μm、12μm、13μm、14μm、又は15μmになってもよい。前記範囲で、偏光板20が光学表示装置に使用可能であり、明暗比の改善効果を期待することができる。
【0092】
陰刻の光学パターン311Aは、アスペクト比が0を超え3.0以下、具体的には0.4以上3.0以下、さらに具体的には0.7以上3.0以下、例えば、0.7、0.8、0.9、1.0、1.1、1.2、1.3、1.4、1.5、1.6、1.7、1.8、1.9、2.0、2.1、2.2、2.3、2.4、2.5、2.6、2.7、2.8、2.9、又は3.0になってもよい。前記範囲で、側面での明暗比及び側面での視野角を改善することができる。
【0093】
陰刻の光学パターン311Aの最大高さH1は、0μmを超え50μm以下、具体的には1μm以上45μm以下、例えば、1μm、5μm、10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、40μm、又は45μmになってもよい。前記範囲で、明暗比の改善、視野角の改善、及び輝度の向上を示し、モアレなどが発生しなくなる。
【0094】
陰刻の光学パターン311Aの最大幅P1は、0μmを超え15μm以下、具体的には2μm以上15μm以下、例えば、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、11μm、12μm、13μm、14μm、又は15μmになってもよい。前記範囲で、明暗比の改善、視野角の改善、及び輝度の向上を示し、モアレなどが発生しなくなる。
【0095】
陰刻の光学パターン311Aと第1基材層200との間の最小距離、すなわち、陰刻の光学パターン311Aの最下部と第1基材層200との間の最小距離D1(「肉厚」ともいう)は、0μmを超え30μm以下、具体的には1μm以上20μm以下、例えば、1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、11μm、12μm、13μm、14μm、15μm、16μm、17μm、18μm、19μm、又は20μmになってもよい。前記範囲で、フィルムの硬度及びコーティング厚さの均一度を確保する効果があり得る。
【0096】
陰刻の光学パターン311Aの最大幅P1の全体の和は、第1層310Aの全体の幅に対して40%以上60%以下、具体的には45%以上55%以下、例えば、45%、46%、47%、48%、49%、50%、51%、52%、53%、54%、又は55%になってもよい。前記範囲で、側面での明暗比を高め、側面での視野角を改善することができる。
【0097】
パターン層300Aの最上部面から陰刻の光学パターン311Aの最下部までの距離A1に対する陰刻の光学パターン311Aの最大高さH1の比(H1/A1)は、0を超え1以下、具体的には0.3以上1.0以下、例えば、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、又は1.0になってもよい。前記範囲で、フィルムの硬度及びコーティング厚さの均一度を確保する効果があり得る。図3は、隣り合う陰刻の各光学パターン311Aとして、底角θ、第1面314Aの幅、最大高さH1、最大幅P1がそれぞれ同一な光学パターンが形成されたパターン部を示した図である。しかし、隣り合う各光学パターン311Aは、底角θ、第1面314Aの幅、最大高さH1、最大幅P1がそれぞれ互いに異なってもよい。
【0098】
平坦部312Aは、第1層310Aを通過した光を第2層320Aに出射させることによって、正面輝度を高めることができる。
【0099】
平坦部312Aの幅L1に対する陰刻の光学パターン311Aの最大幅P1の比率は、0を超え9以下、具体的には0.1以上3以下、さらに具体的には0.15以上2以下、例えば、0.15、0.2、0.25、0.3、0.35、0.4、0.45、0.5、0.55、0.6、0.65、0.7、0.75、0.8、0.85、0.9、0.95、1.0、1.05、1.1、1.15、1.2、1.25、1.3、1.35、1.4、1.45、1.5、1.55、1.6、1.65、1.7、1.75、1.8、1.85、1.9、1.95、又は2であってもよい。前記範囲で、正面明暗比と側面明暗比との差を減少させることができ、同一の側面視野角及び同一の正面視野角で明暗比を高めることができる。また、モアレ防止効果があり得る。
【0100】
平坦部312Aの幅L1は、0μmを超え50μm以下、具体的には0μmを超え30μm以下、例えば、1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、11μm、12μm、13μm、14μm、15μm、16μm、17μm、18μm、19μm、20μm、21μm、22μm、23μm、24μm、25μm、26μm、27μm、28μm、29μm、又は30μmになってもよい。前記範囲で、正面輝度を上昇させるという効果があり得る。
【0101】
一つの陰刻の光学パターン311Aの最大幅P1と隣り合う平坦部312Aは、一つの周期C1を形成する。周期C1は、0μmを超え60μm以下、具体的には5μm以上60μm以下、例えば、5μm、10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、40μm、45μm、50μm、55μm、又は60μmになってもよい。前記範囲内で、明暗比の改善効果があると共に、モアレを防止することができる。
【0102】
パターン層300Aの断面積において、第1層310Aの全体の断面積に対する第2層320Aのうち充填パターン321Aの全体の断面積の総和の比は、40%以上60%以下、好ましくは45%以上55%以下、例えば、45%、46%、47%、48%、49%、50%、51%、52%、53%、54%、又は55%になってもよい。前記範囲で、側面視認性の改善効果があり得る。
【0103】
図3は、隣り合う周期C1、最大幅P1がそれぞれ互いに同一なパターン部を示した図であるが、周期C1及び最大幅P1はそれぞれ互いに異なってもよい。
【0104】
本発明の光学表示装置は、本発明の偏光板を含んでもよい。一具体例において、光学表示装置は、液晶表示装置及び発光素子表示装置であってもよい。
【0105】
一具体例において、液晶表示装置において、本発明の偏光板は、液晶パネルに対して視認側偏光板として含んでもよい。前記「視認側偏光板」とは、液晶パネルに対して画面側、すなわち、光源側に対向して配置されるものである。
【0106】
一具体例において、液晶表示装置は、バックライトユニット、第1偏光板、液晶パネル、及び第2偏光板が順次積層され、第2偏光板は、本発明の偏光板を含んでもよい。液晶パネルは、VA(vertical alignment)モード、IPSモード、PVA(patterned vertical alignment)モード又はS-PVA(super-patterned vertical alignment)モードを採用可能であるが、これに制限されない。他の具体例において、本発明の偏光板は、液晶パネルに対して光源側偏光板であってもよい。前記「光源側偏光板」とは、液晶パネルに対して光源側に配置されるものである。更に他の具体例において、液晶パネルに対して視認側偏光板と光源側偏光板の全てが本発明の偏光板であってもよい。
【0107】
以下では、本発明の好ましい実施例を通じて本発明の構成及び作用をさらに詳細に説明する。但し、下記の実施例は、本発明の理解を促進するためのものであって、本発明の範囲が下記の実施例に限定されることはない。
【0108】
(実施例1)
SSC-6000(SHIN-A T&C Co.,Ltd.)樹脂を高屈折層用組成物(粒子を含まない)として使用した。高屈折層用組成物は、所定の溶媒をさらに含んでもよい。
【0109】
SSC-4000(SHIN-A T&C Co.,Ltd.)樹脂を低屈折層用組成物(粒子を含まない)として使用した。低屈折層用組成物は、所定の溶媒をさらに含んでもよい。
【0110】
第1基材層用透明PETフィルム(東洋紡株式会社、SRF、厚さ:80μm、Re=8,000nm)の上部面に前記高屈折層用組成物を所定の厚さで塗布した。パターンと平坦部とが交互に形成されたフィルムを用いて前記塗布層にパターンを印加し、これをUV硬化させることによって、下記の表1のパターン部として陰刻の光学パターンと平坦部とが交互に形成された第1層を形成した。前記第1層には、前記低屈折層用組成物を、前記陰刻の光学パターンを完全に充填するように塗布した。
【0111】
第2基材層として反射防止層が一面に形成された透明PETフィルム(東洋紡株式会社、SRF、厚さ:80μm、透明PETフィルムのみのRe=8,000nm)の他の一面と前記塗布層とを互いに合わせ、これをUV硬化させることによってパターン層に第2基材層を形成した。
【0112】
ポリビニルアルコールフィルムを60℃で3倍延伸し、ヨウ素を吸着させた後、40℃のホウ酸水溶液で2.5倍延伸することによって偏光子を製造した。
【0113】
前記第1基材層用透明PETフィルムの下部面に前記製造した偏光子をUV硬化型接着剤で接着させることによって偏光板を製造した。
【0114】
製造した偏光板は、偏光子の光出射面に第1基材層、第1層(高屈折率層)、第2層(低屈折率層)及び第2基材層が順次積層され、陰刻の光学パターンは第1基材層の方向に突出している。
【0115】
(実施例2)
SSC-5500(SHIN-A T&C Co.,Ltd.)樹脂を高屈折層用組成物(粒子を含まない)として使用した。高屈折層用組成物は、所定の溶媒をさらに含んでもよい。
【0116】
SSC-4500(SHIN-A T&C Co.,Ltd.SHIN-A)樹脂を低屈折層用組成物(粒子を含まない)として使用した。低屈折層用組成物は、所定の溶媒をさらに含んでもよい。
【0117】
実施例1において、前記高屈折層用組成物及び低屈折率層用組成物を用いて第1層と第2層の屈折率を下記の表2のように変更したことを除いては、同一の方法で偏光板を製造した。
【0118】
(実施例3)
実施例1において、陰刻の光学パターンと平坦部を下記の表1のように変更したことを除いては、同一の方法で偏光板を製造した。
【0119】
(実施例4)
実施例3において、第1層と第2層の屈折率を実施例2の高屈折層用組成物及び低屈折層用組成物を用いて下記の表2のように変更したことを除いては、同一の方法で偏光板を製造した。
【0120】
(比較例1)
ポリビニルアルコールフィルムを60℃で3倍延伸し、ヨウ素を吸着させた後、40℃のホウ酸水溶液で2.5倍延伸することによって偏光子を製造した。前記製造した偏光子の上部面に第1基材層用透明PETフィルム(東洋紡株式会社、SRF、厚さ:80μm、Re=14,000nm)をUV硬化型接着剤で接着させることによって偏光板を製造した。
【0121】
(比較例2)
第2基材層として反射防止層が一面に形成された透明PETフィルム(東洋紡株式会社、SRF、厚さ:80μm、Re=8,000nm)の他の一面に、前記実施例1の高屈折率層用組成物を所定の厚さで塗布した。前記塗布層にパターンと平坦部とが交互に形成されたフィルムを用いてパターンを印加し、これをUV硬化させることによって、下記の表1の陰刻の光学パターンと平坦部とが交互に形成された高屈折率層を形成した。前記高屈折層には、前記実施例1の低屈折率層用組成物を、前記陰刻の光学パターンを完全に充填するように塗布した。
【0122】
前記塗布層と第1基材層用透明PETフィルム(東洋紡株式会社、SRF、厚さ:80μm、Re=8,000nm)の上部面とを互いに合わせて硬化させた。前記第1基材層用透明PETフィルムの下部面に前記実施例1の偏光子をUV硬化型接着剤で硬化させることによって偏光板を製造した。
【0123】
図4は、比較例2の偏光板の断面図である。図4を参照すると、偏光板は、偏光子100を含み、偏光子100の光出射面に第1基材層200、低屈折率層510、高屈折率層520、及び第2基材層400が順次積層されたものである。
【0124】
(比較例3)
実施例1において、第1層と第2層の屈折率を下記の表2のように変更したことを除いては、同一の方法で偏光板を製造した。
【0125】
(比較例4)
比較例2において、第1層と第2層の屈折率を下記の表2のように変更し、高屈折率層に高屈折率粒子としてジルコニアを添加したことを除いては、同一の方法で偏光板を製造した。
【0126】
【表1】
【0127】
実施例と比較例の偏光板に対して下記の物性を評価し、その結果を下記の表2に示した。
【0128】
(光源側偏光板の製造)
ポリビニルアルコールフィルムを60℃で3倍延伸し、ヨウ素を吸着させた後、40℃のホウ酸水溶液で2.5倍延伸することによって偏光子を製造した。偏光子の両面に基材層としてトリアセチルセルロースフィルム(厚さ80μm)を偏光板用接着剤(Z-200、日本合成化学工業株式会社)で接着させることによって偏光板を製造した。製造した偏光板を光源側偏光板として使用した。
【0129】
(液晶表示装置用モジュールの製造)
前記製造した光源側偏光板、液晶パネル(PVAモード)、前記実施例と比較例で製造した偏光板を順次組み立てることによって液晶表示装置用モジュールを製造した。そして、実施例と比較例で製造した偏光板のうち第2基材層が最外郭に出るように組み立てた。
【0130】
LED光源、導光板、及び液晶表示装置用モジュールを組み立てることによって、シングルエッジ型LED光源を含む液晶表示装置(実施例及び比較例の液晶表示装置用モジュールの構成を除いては、サムスンTV(55インチのUHD TV、16年製造モデル名:UN55KS8000F)と同一の構成)を製造した。
【0131】
EZCONTRAST X88RC(EZXL-176R-F422A4、ELDIM社)を用いて球面座標系の正面(0゜,0゜)及び側面(0゜,60゜)において白色モード(white mode)及び黒色モード(black mode)のそれぞれで輝度値を測定した。
【0132】
正面明暗比は、球面座標系(0゜,0゜)で黒色モードの輝度値に対する白色モードの輝度値の比と計算した。側面明暗比は、球面座標系(0゜,60゜)で黒色モードの輝度値に対する白色モードの輝度値の比と計算した。
【0133】
1/2視野角は、正面輝度の1/2の輝度を有する視野角を意味する。
【0134】
1/3視野角は、正面輝度の1/3の輝度を有する視野角を意味する。
【0135】
光学的透明性:偏光板に対してヘイズメーター機器を用いて測定した。ヘイズが0%~30%である場合は半透明と評価し、ヘイズが30%超過である場合は不透明と評価した。
【0136】
【表2】
【0137】
表2において、()内の数値は、比較例1の明暗比に対する実施例又は比較例の明暗比の比率の百分率値を意味する。
【0138】
前記表2のように、本発明の偏光板は、正面明暗比の減少を最小化しながらも側面明暗比を著しく改善することができた。また、本発明の偏光板は、光学的透明性も良好であった。
【0139】
その一方で、粒子を含まず、本発明の偏光板構造を有さない比較例2及び比較例3は、正面明暗比が多く減少し、側面明暗比の改善効果が本発明に比べて著しく低かった。また、高屈折率層に粒子を含む比較例4は、透明性及び輝度の均一度に問題があった。
【0140】
本発明の単純な変形及び変更は、本分野で通常の知識を有する者によって容易に実施可能であり、このような変形や変更は、いずれも本発明の範囲に含まれる。
図1
図2
図3
図4