発明の名称 SiC単結晶成長用坩堝、SiC単結晶の製造方法およびSiC単結晶製造装置
出願人 日立化成株式会社 (識別番号 4455)
特許公開件数ランキング 83 位(335件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 46 位(451件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-7286970
公報発行日 2023年6月6
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7286970
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