(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-06-02
(45)【発行日】2023-06-12
(54)【発明の名称】硬さ試験機、硬さ試験方法及びプログラム
(51)【国際特許分類】
G01N 3/42 20060101AFI20230605BHJP
【FI】
G01N3/42 E
(21)【出願番号】P 2019192828
(22)【出願日】2019-10-23
【審査請求日】2022-09-14
(73)【特許権者】
【識別番号】000137694
【氏名又は名称】株式会社ミツトヨ
(74)【代理人】
【識別番号】100090033
【氏名又は名称】荒船 博司
(74)【代理人】
【識別番号】100093045
【氏名又は名称】荒船 良男
(72)【発明者】
【氏名】小澤 功佳
【審査官】西浦 昌哉
(56)【参考文献】
【文献】特開平06-308005(JP,A)
【文献】実開昭58-060204(JP,U)
【文献】特開2018-165638(JP,A)
【文献】中国特許出願公開第111189697(CN,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
G01N 3/00- 3/62
G01B 5/00- 5/30
G01B 7/00- 7/34
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
試料の表面に圧子により所定の試験力を負荷してくぼみを形成させ、当該くぼみの寸法を計測することにより試料の硬さを測定する硬さ試験機であって、
前記圧子の中心軸に対して均等に所定の距離だけ離れた位置に配設される少なくとも2つの接触部と、
前記圧子と前記接触部とがそれぞれ前記試料の表面に接触したタイミングでの高さ位置の差分を測定する第1の測定手段と、
前記第1の測定手段により測定された前記差分と、前記圧子と前記接触部との位置関係と、に基づいて前記試料の径を導出する導出手段と、
前記導出手段により導出された前記試料の径を考慮して当該試料の硬さを測定する第2の測定手段と、
を備えることを特徴とする硬さ試験機。
【請求項2】
前記圧子の中心軸に対する前記接触部の距離を調整可能な調整手段を備えることを特徴とする請求項1に記載の硬さ試験機。
【請求項3】
試料の表面に圧子により所定の試験力を負荷してくぼみを形成させ、当該くぼみの寸法を計測することにより試料の硬さを測定する硬さ試験機の硬さ試験方法であって、
前記圧子と当該圧子の中心軸に対して均等に所定の距離だけ離れた位置に配設される少なくとも2つの接触部とがそれぞれ前記試料の表面に接触したタイミングでの高さ位置の差分を測定する第1の測定工程と、
前記第1の測定工程により測定された前記差分と、前記圧子と前記接触部との位置関係と、に基づいて前記試料の径を導出する導出工程と、
前記導出工程により導出された前記試料の径を考慮して当該試料の硬さを測定する第2の測定工程と、
を含む硬さ試験方法。
【請求項4】
試料の表面に圧子により所定の試験力を負荷してくぼみを形成させ、当該くぼみの寸法を計測することにより試料の硬さを測定する硬さ試験機のコンピュータを、
前記圧子と当該圧子の中心軸に対して均等に所定の距離だけ離れた位置に配設される少なくとも2つの接触部とがそれぞれ前記試料の表面に接触したタイミングでの高さ位置の差分を測定する第1の測定手段、
前記第1の測定手段により測定された前記差分と、前記圧子と前記接触部との位置関係と、に基づいて前記試料の径を導出する導出手段、
前記導出手段により導出された前記試料の径を考慮して当該試料の硬さを測定する第2の測定手段、
として機能させるためのプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、硬さ試験機、硬さ試験方法及びプログラムに関する。
【背景技術】
【0002】
従来、所定の試験力で圧子を試料(ワーク)に押し付けて形成したくぼみの寸法に基づいて試料の硬さを計測する硬さ試験機が知られている。この硬さ試験機を用いた試験では、原則として、材料規格などに指定されていない限り、平滑な表面に対して試験を行うように規定されている。そのため、試料の曲面に対して試験を行う場合には、所定の補正係数によって、見かけの硬さを平面の硬さに変換する必要がある。
【0003】
ところで、上述した所定の補正係数は、試料の曲面部分の径の値を用いて導出されるため、上記の硬さ試験機での試験とは別に、試料の曲面部分の径を測定しなければならない。そこで、例えば、被測定物の内径又は外径を簡便に測定することができる内外径測定器が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、上記特許文献1に開示されている内外径測定器を用いたとしても、依然として、硬さ試験機での試験とは別に、試料の径を測定しなければならないため、試料の曲面に対して試験を行う場合には手間がかかるという問題がある。
【0006】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、試料の曲面に対する試験を効率良く行うことができる硬さ試験機、硬さ試験方法及びプログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
請求項1に記載の発明は、上記目的と達成するためになされたものであり、
試料の表面に圧子により所定の試験力を負荷してくぼみを形成させ、当該くぼみの寸法を計測することにより試料の硬さを測定する硬さ試験機であって、
前記圧子の中心軸に対して均等に所定の距離だけ離れた位置に配設される少なくとも2つの接触部と、
前記圧子と前記接触部とがそれぞれ前記試料の表面に接触したタイミングでの高さ位置の差分を測定する第1の測定手段と、
前記第1の測定手段により測定された前記差分と、前記圧子と前記接触部との位置関係と、に基づいて前記試料の径を導出する導出手段と、
前記導出手段により導出された前記試料の径を考慮して当該試料の硬さを測定する第2の測定手段と、
を備えることを特徴とする。
【0008】
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の硬さ試験機において、
前記圧子の中心軸に対する前記接触部の距離を調整可能な調整手段を備えることを特徴とする。
【0009】
請求項3に記載の発明は、
試料の表面に圧子により所定の試験力を負荷してくぼみを形成させ、当該くぼみの寸法を計測することにより試料の硬さを測定する硬さ試験機の硬さ試験方法であって、
前記圧子と当該圧子の中心軸に対して均等に所定の距離だけ離れた位置に配設される少なくとも2つの接触部とがそれぞれ前記試料の表面に接触したタイミングでの高さ位置の差分を測定する第1の測定工程と、
前記第1の測定工程により測定された前記差分と、前記圧子と前記接触部との位置関係と、に基づいて前記試料の径を導出する導出工程と、
前記導出工程により導出された前記試料の径を考慮して当該試料の硬さを測定する第2の測定工程と、
を含む硬さ試験方法である。
【0010】
請求項4に記載の発明は、
試料の表面に圧子により所定の試験力を負荷してくぼみを形成させ、当該くぼみの寸法を計測することにより試料の硬さを測定する硬さ試験機のコンピュータを、
前記圧子と当該圧子の中心軸に対して均等に所定の距離だけ離れた位置に配設される少なくとも2つの接触部とがそれぞれ前記試料の表面に接触したタイミングでの高さ位置の差分を測定する第1の測定手段、
前記第1の測定手段により測定された前記差分と、前記圧子と前記接触部との位置関係と、に基づいて前記試料の径を導出する導出手段、
前記導出手段により導出された前記試料の径を考慮して当該試料の硬さを測定する第2の測定手段、
として機能させるためのプログラムである。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、試料の曲面に対する硬さ試験を効率良く行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【
図1】本発明に係る硬さ試験機の全体構成を示す斜視図である。
【
図2】本発明に係る硬さ試験機の試験機本体を示す模式図である。
【
図3】本発明に係る硬さ試験機の硬さ測定部を示す模式図である。
【
図4】本発明に係る硬さ試験機の制御構造を示すブロック図である。
【
図5】本発明に係る硬さ試験機において、試料の曲面の硬さを測定する処理を示すフローチャートである。
【
図6】(a)~(c)は、0点調整の過程を示す図である。
【
図7】(a)~(c)は、試料の曲面の径を導出する過程を示す図である。
【
図8】試料の曲面の径の導出方法を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、本発明の実施の形態を、図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の説明において、
図1におけるX方向を左右方向とし、Y方向を前後方向とし、Z方向を上下方向とする。また、X-Y面を水平面とする。
【0014】
硬さ試験機100は、例えば、圧子14a(
図3参照)の平面形状が矩形状に形成されたビッカース硬さ試験機である。硬さ試験機100は、
図1~
図4に示すように、試験機本体10と、制御部6と、操作部7と、モニター8と、を備えて構成されている。
【0015】
試験機本体10は、
図2に示すように、試料Sの硬さ測定を行う硬さ測定部1と、試料Sを載置する試料台2と、試料台2を移動させるXYステージ3と、試料Sの表面に焦点を合わせるためのAFステージ4と、試料台2(XYステージ3、AFステージ4)を昇降する昇降機構部5と、を備えて構成されている。
【0016】
硬さ測定部1は、
図3に示すように、試料Sの表面を照明する照明装置11と、試料Sの表面を撮像するCCDカメラ12と、試料表面標準機構18に保持された圧子軸14と、対物レンズ15と、回転することにより圧子軸14と対物レンズ15との切り替えが可能なターレット16と、を備えて構成されている。
【0017】
照明装置11は、光を照射することにより試料Sの表面を照明するものである。照明装置11から照射される光は、レンズ1a、ハーフミラー1d、ミラー1e、及び対物レンズ15を介して試料Sの表面に到達する。
【0018】
CCDカメラ12は、試料Sの表面から対物レンズ15、ミラー1e、ハーフミラー1d、ミラー1g、及びレンズ1hを介して入力された反射光に基づき、試料Sの表面や圧子14aにより試料Sの表面に形成されるくぼみを撮像して画像データを取得する。そして、CCDカメラ12は、複数フレームの画像データを同時に蓄積、格納可能なフレームグラバー17を介して、取得した画像データを制御部6に出力する。
【0019】
試料表面標準機構18は、制御部6が出力する制御信号に応じて駆動される駆動機構部(図示省略)によって、当該機構によって保持されている圧子軸14とともに図中のZ方向に移動可能に構成されている。また、試料表面標準機構18は、
図7(a)に示すように、2つの接触部18a,18aを備えている。各接触部18aは、圧子軸14に対して均等に所定の距離lだけ離れた位置に配設されている。
【0020】
圧子軸14は、制御部6が出力する制御信号に応じて駆動される負荷機構部(図示省略)により試料台2に載置された試料Sに向けて移動し、先端部に備えた圧子14aを試料Sの表面に所定の試験力で押し付ける。本実施形態では、圧子14aとして、ビッカース用の四角錐圧子(対面角が136±0.5°)を使用する。
【0021】
対物レンズ15は、それぞれ異なる倍率からなる集光レンズであって、ターレット16の下面に複数保持されている。対物レンズ15は、ターレット16の回転により試料Sの上方に配置されることで、照明装置11から照射される光を一様に試料Sの表面に照射させる。
【0022】
ターレット16は、下面に試料表面標準機構18に保持された圧子軸14と複数の対物レンズ15を取り付け可能に構成される。ターレット16は、Z方向を中心に回転することにより、圧子軸14及び複数の対物レンズ15の中の何れか一つを試料Sの上方に配置可能なように構成されている。即ち、圧子軸14を試料Sの上方に配置することで試料Sの表面にくぼみを形成することができ、対物レンズ15を試料Sの上方に配置することで形成されたくぼみを観察することができるようになっている。
【0023】
試料台2は、上面に載置される試料Sを、試料固定部2aで固定する。
XYステージ3は、制御部6が出力する制御信号に応じて駆動する駆動機構部(図示省略)により駆動され、試料台2を圧子14aの移動方向(Z方向)に垂直な方向(X,Y方向)に移動させる。
AFステージ4は、制御部6が出力する制御信号に応じて駆動され、CCDカメラ12が撮像した画像データに基づき試料台2を微細に昇降させることで、試料Sの表面に焦点を合わせる。
昇降機構部5は、制御部6が出力する制御信号に応じて駆動され、試料台2(XYステージ3、AFステージ4)をZ方向に移動させることで、試料台2と対物レンズ15との間の相対距離を変化させる。なお、昇降機構部5は、AFステージ4を含んで一体化された構成とすることも可能である。
また、AFステージ4及び昇降機構部5を備えない構成とすることも可能である。この場合、硬さ測定部1をZ方向に上下動可能に構成するとよい。即ち、硬さ測定部1のZ方向の上下動により、試料台2と対物レンズ15との間の相対距離を変化させて、試料Sの表面に焦点を合わせるオートフォーカス機能を実現することができる。
【0024】
操作部7は、キーボード71と、マウス72と、を備えて構成され、硬さ試験を行う際のユーザーによる入力操作を受け付ける。そして、操作部7は、ユーザーによる所定の入力操作を受け付けると、その入力操作に応じた所定の操作信号を生成して、制御部6へと出力する。
具体的には、操作部7は、ユーザーが、くぼみの合焦位置を決定する条件を選択する操作を受け付ける。
また、操作部7は、ユーザーが、試料台2(昇降機構部5及びAFステージ4)の移動する範囲(試料台2と対物レンズ15との間の相対距離の範囲)を指定する操作を受け付ける。
また、操作部7は、ユーザーが、硬さ試験機100による硬さ試験を実施する際の試験条件値を入力する操作を受け付ける。入力された試験条件値は、制御部6に送信される。ここで、試験条件値とは、例えば、試料Sの材質、圧子14aにより試料Sに負荷される試験力(N)、対物レンズ15の倍率、等の値である。
また、操作部7は、ユーザーが、くぼみの合焦位置の決定を手動で行う手動モード又は自動で行う自動モードの何れかを選択する操作を受け付ける。
また、操作部7は、ユーザーが、硬さ試験を実施する際の試験位置をプログラミングする操作を受け付ける。
【0025】
モニター8は、例えば、LCDなどの表示装置により構成されている。モニター8は、操作部7において入力された硬さ試験の設定条件、硬さ試験の結果、及びCCDカメラ12が撮像した試料Sの表面や試料Sの表面に形成されるくぼみの画像等を表示する。
【0026】
制御部(第1の測定手段、導出手段、第2の測定手段)6は、
図4に示すように、CPU61と、RAM62と、記憶部63と、を備えて構成され、記憶部63に記憶された所定のプログラムが実行されることにより、所定の硬さ試験を行うための動作制御等を行う機能を有する。
【0027】
CPU61は、記憶部63に格納された処理プログラム等を読み出して、RAM62に展開して実行することにより、硬さ試験機100全体の制御を行う。
RAM62は、CPU61により実行された処理プログラム等をRAM62内のプログラム格納領域に展開するとともに、入力データや上記処理プログラムが実行される際に生じる処理結果等をデータ格納領域に格納する。
記憶部63は、例えば、プログラムやデータ等を記憶する記録媒体(図示省略)を有しており、この記録媒体は、半導体メモリ等で構成されている。また、記憶部63は、CPU61が硬さ試験機100全体を制御する機能を実現させるための各種データ、各種処理プログラム、これらプログラムの実行により処理されたデータ等を記憶する。
また、記憶部63は、一つの試料Sにレイアウトされた試験パターンのプログラム(パートプログラム)を記憶する。
【0028】
次に、本実施形態に係る硬さ試験機100の動作について説明する。
具体的には、本実施形態に係る硬さ試験機100において、試料の曲面(例えば、凸円筒面)の硬さを測定する処理について、
図5のフローチャートを参照して説明する。この処理は、ユーザーによる曲面を対象とした硬さ試験開始の指示操作を検出したことを契機として開始される。なお、この指示操作の際に曲面の種類(例えば、凸円筒面、凹円筒面、凸球面、凹球面)の入力操作が行われているものとする。曲面の種類に応じて補正係数の値が異なるためである(JISZ2244:2009 附属書B参照)。
【0029】
まず、制御部6は、試料表面標準機構18の各接触部18aのZ方向の変位量を計測するゲージG0,G1と、圧子軸14のZ方向の変位量を計測するゲージG2とのそれぞれの基準(0目盛)が一致するように各ゲージG0,G1,G2を0点調整する(ステップS101)。具体的には、
図6(a)に示すように、試料保持台2aに表面が平滑な基準試料S1をセットした状態(待機状態)で、ユーザーの操作部7への操作により、0点調整を開始する指示がなされると、制御部6は、駆動機構部による駆動を制御して、圧子軸14と試料表面標準機構18とを一緒に降下させる。そして、
図6(b)に示すように、試料表面標準機構18の各接触部18aが基準試料S1の表面に接すると、制御部6は、各接触部18aの降下を停止させた後、負荷機構部による駆動を制御して、圧子軸14のみを降下させる。そして、
図6(c)に示すように、圧子14aが基準試料S1の表面に接すると、制御部6は、圧子14aの降下を停止させ、この状態において各ゲージG0,G1,G2により計測される値がそれぞれ0で一致するように、各ゲージG0,G1,G2を調整する。
【0030】
次いで、制御部6は、硬さ試験の対象となる試料S2の曲面(凸円筒面)の径を導出する(ステップS102)。具体的には、
図7(a)に示すように、試料保持台2aに試料S2をセットした状態(待機状態)で、ユーザーの操作部7への操作により、硬さ試験を開始する指示がなされると、制御部6は、駆動機構部による駆動を制御して、圧子軸14と試料表面標準機構18とを一緒に降下させる。そして、
図7(b)に示すように、試料表面標準機構18の各接触部18aが試料S2の表面に接すると、制御部6は、各接触部18aの降下を停止させた後、負荷機構部による駆動を制御して、圧子軸14のみを降下させる。そして、
図7(c)に示すように、圧子14aが試料S2の表面に接すると、制御部6は、圧子14aの降下を停止させ、この状態において各ゲージG0,G1,G2により計測された値を読み取る。
【0031】
ここで、例えば、
図7(c)に示すように、ゲージG2で計測された値とゲージG0で計測された値との差分、及び、ゲージG2で計測された値とゲージG1で計測された値との差分の絶対値がそれぞれaであった場合、試料S2の曲面(凸円筒面)の半径をdとすると、
図8に示すように、ピタゴラスの定理(三平方の定理)によって、下記(1)の等式が成り立つこととなる。
d
2=l
2+(d-a)
2・・・(1)
そして、この等式(1)を変形すると下記(2)の等式が成り立つ。
2d=(a
2+l
2)/a・・・(2)
つまり、ゲージG2で計測された値とゲージG0で計測された値との差分、及び、ゲージG2で計測された値とゲージG1で計測された値との差分の絶対値aと、各接触部18aと圧子軸14との距離lの値と、を上記の(2)の等式に代入することによって、試料S2の曲面(凸円筒面)の直径2dが導出されることとなる。
【0032】
次いで、制御部6は、
図7(c)に示すように、圧子14aが試料S2の表面に接している状態において、負荷機構部による駆動を制御して、圧子14aを試料S2の表面(曲面)に所定の試験力で押し付けることにより、くぼみを形成する(ステップS103)。
【0033】
次いで、制御部6は、ステップS103で形成されたくぼみの大きさに基づいて、試料S2の曲面(凸円筒面)の硬さを測定する(ステップS104)。具体的には、制御部6は、くぼみ形成後の試料S2の表面画像を解析し、この試料S2の表面に形成されたくぼみの対角線の長さを計測し、当該計測された対角線長さに基づいて試料S2の硬さ値(未補正値)を算出する。そして、制御部6は、計測された対角線長さと試料S2の曲面(凸円筒面)の直径2dとの関係から導出される補正係数(JISZ2244:2009 附属書B参照)を上記のように算出された硬さ値(未補正値)と掛け合わせることにより、試料S2の曲面(凸円筒面)の硬さ値を算出する。そして、制御部6は、試料の曲面の硬さを測定する処理を終了する。
【0034】
以上のように、本実施形態に係る硬さ試験機100は、圧子14aの中心軸に対して均等に所定の距離lだけ離れた位置に配設される2つの接触部18a,18aと、圧子14aと接触部18a,18aとがそれぞれ試料S2の表面に接触したタイミングでの高さ位置の差分を測定する第1の測定手段(制御部6)と、前記第1の測定手段により測定された前記差分と、圧子14aと接触部18a,18aとの位置関係と、に基づいて試料S2の径dを導出する導出手段(制御部6)と、前記導出手段により導出された試料S2の径dを考慮して当該試料S2の硬さを測定する第2の測定手段(制御部6)と、を備える。
したがって、本実施形態に係る硬さ試験機100によれば、通常の硬さ試験の一連の流れのなかで試料S2の曲面の径を導出し試料S2の曲面の硬さ値を算出する際に用いられる補正係数を得ることができるので、硬さ試験機100による硬さ試験とは別に、ユーザーが試料S2の曲面の径を測定し上記補正係数を得る必要がなくなり、試料S2の曲面に対する硬さ試験を効率良く行うことができる。
【0035】
以上、本発明に係る実施形態に基づいて具体的に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で変更可能である。
【0036】
例えば、上記実施形態では、試料表面標準機構18において、圧子14aの中心軸に対して均等に所定の距離lだけ離れた位置に各接触部18a,18aを配設するようにしたが、圧子14aの中心軸と各接触部18a,18aとの距離を調整可能な調整手段を設けることによって、圧子14aの中心軸に対して各接触部18a,18aを近づけたり遠ざけたりすることができるようにしてもよい。
これにより、試料S2のサイズに応じて、圧子14aの中心軸と各接触部18a,18aとの距離を調整することができるので、試料S2の曲面の径の導出を適切に行うことができる。
【0037】
また、上記実施形態では、硬さ試験機100として、ビッカース硬さ試験機を例示して説明しているが、これに限定されるものではなく、ロックウェル硬さ試験機であってもよい。
【0038】
また、本出願に示す各態様は、方法、プログラムなどとしても把握することができる。方法やプログラムのカテゴリについては、装置のカテゴリで示した「手段」を、例えば、「工程」や「ステップ」のように適宜読み替えるものとする。また、処理やステップの順序は、本出願に直接明記のものに限定されず、順序を変更したり、一部の処理をまとめて若しくは随時一部分ずつ実行するよう変更したりすることができる。
【0039】
その他、硬さ試験機を構成する各装置の細部構成及び各装置の細部動作に関しても、本発明の趣旨を逸脱することのない範囲で適宜変更可能である。
【符号の説明】
【0040】
100 硬さ試験機
10 試験機本体
1 硬さ測定部
11 照明装置
12 CCDカメラ
14 圧子軸
14a 圧子
15 対物レンズ
16 ターレット
17 フレームグラバー
18 試料表面基準機構
18a 接触部
2 試料台
3 XYステージ
4 AFステージ
5 昇降機構部
6 制御部(第1の測定手段、導出手段、第2の測定手段)
7 操作部
8 モニター
S1 基準試料
S2 試料