特許7305422IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

パターン評価システム及びパターン評価方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

近年、半導体製品におけるパターンの3次元化に伴い、深さ方向に配列した同一形状の複数の3次元パターンを測長SEMで計測して、製造工程を管理するニーズが増えている。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示のパターン評価システムは、試料の内部に形成されたパターンの性状を評価するためのプログラムを格納するメモリから前記プログラムを読み出して前記パターンの性状を評価する処理を実行するコンピュータサブシステムを備え、前記コンピュータサブシステムは、前記試料の画像を取得する処理と、前記画像から信号波形を抽出する処理と、前記信号波形の所定の領域における特徴量を算出する処理と、前記特徴量と、前記特徴・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示によれば、試料の二次元情報から、試料の内部に形成されたパターンの性状を評価することができる。
以外の課題、構成及び効果は、以下の実施の形態の説明により明らかにされる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 第1のパターン評価システムの一例を示す概略構成図。
【図2】 第1のパターン評価システムの一例を示す概略構成図。
【図3】 第1の信号処理部及びコンピュータサブシステムの機能ブロック図。
【図4】 第1の計測対象のパターンの一例を示す断面斜視図。
【図5】 図4に示したパターンを上方から観察したSEM画像を示す模式図。
【図6】 図5に示したSEM画像の輝度値をY方向に積算したラインプロファイルを示す図。
【図7】 輝度値のラインプロファイルからパターン寸法を算出する方法を説明する図。
【図8】 第1のパターンの断面斜視図及びラインプロファイルを示す図。
【図9】 第1のパターン評価方法の一例を示すフローチャート。
【図10】 計測データを記録したファイルのGUI画面を示す模式図。
【図11】 計測データを可視化して表示するためのGUI画面を示す模式図。
【図12】 計測データを管理するためのGUI画面を示す模式図。
【図13】 第2の試料を示す断面斜視図。
【図14】 第2のパターン評価方法の一例を示すフローチャート。
【図15】 加速電圧を設定するGUI画面を示す模式図。
【図16】 第3の計測対象のパターンの一例を示す断面図。
【図17】 第4の試料の一例を示す断面図及び試料を上方から観察したSEM画像を示す模式図。
【図18】 第4のパターン評価方法の一例を示すフローチャート。
【図19】 第5の信号処理部の機能ブロック図。
【図20】 第6の計測対象の柱状パターンの一例を示す断面図。
【図21】 第6の柱状パターンについて、シミュレーションにて算出したラインプロファイルを示す図。

代表図 図1本件の代表的な図

1、2…パターン評価システム、3…堆積装置、4、14、24、34、44、64…パターン、5、45…SEM画像、6、16、66…ラインプロファイル、9…充填装置、27…ウェハ、28…ゲート、31…ウェハ、37…金属膜、67…空洞、100、502、512、602、612…コンピュータサブシステム、101…荷電粒子ビーム照射サブシステム(走査型電子顕微鏡)、102…全体制御部、103…信号処理部、104…入出力部、105…メモリ部、106…電子銃、107…電子ビーム、108…集束レンズ、109…集束レンズ、110…偏向器、111…対物レンズ、112…試料、113…ステージ、114…放出電子、115…偏向器、116…検出絞り、117…反射板、118…三次電子、119…検出器、120…三次電子、121…検出器、123…偏向器、130…シャッター、131…ブランキング偏向器、132…ブランキング用電極、200…ネットワーク、500…SEM画像記憶部、501…SEM画像生成部、503、513、603、613…輝度評価部、504、514、604、614…演算部、505、515、605、615…メモリ部、506、516、606、616…表示部、507、517、607、617…入力部

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