知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-07-27
(45)【発行日】2023-08-04
(54)【発明の名称】光学フィルム
(51)【国際特許分類】
G02B 5/22 20060101AFI20230728BHJP
G02B 5/30 20060101ALI20230728BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20230728BHJP
G02F 1/13363 20060101ALI20230728BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20230728BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20230728BHJP
H10K 50/10 20230101ALI20230728BHJP
【ＦＩ】
G02B5/22
G02B5/30
G02F1/1335 500
G02F1/1335 510
G02F1/13363
G09F9/00 313
H01L27/32
H05B33/14 A
【請求項の数】
10
(21)【出願番号】P 2018119679
(22)【出願日】2018-06-25
(65)【公開番号】P2019008292
(43)【公開日】2019-01-17
【審査請求日】2021-05-12
【審判番号】
【審判請求日】2022-10-06
(31)【優先権主張番号】P 2017125437
(32)【優先日】2017-06-27
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000002093
【氏名又は名称】住友化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001195
【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】阪上 智恵
(72)【発明者】
【氏名】小橋 亜依
(72)【発明者】
【氏名】淺津 悠司
【合議体】
【審判長】里村 利光
【審判官】大▲瀬▼ 裕久
【審判官】清水 康司
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１７／０９９０１６（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２００９－２４４７５７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００５－１８９６４５（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
G02B5/20
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
活性エネルギー線硬化性組成物から形成される光選択吸収層を少なくとも１層含む光学フィルムであって、前記光学フィルムは、樹脂フィルム、前記光選択吸収層、及び樹脂フィルムがこの順に積層された層構成を有し、かつ式（１）及び式（３）を満たし、
前記光選択吸収層は、接着剤層である光学フィルム。
Ａ（４０５）≧０．５ （１）
Ａ（４０５）／Ａ（４４０）≧６０ （３）
［式（１）及び（３）中、Ａ（４０５）は、波長４０５ｎｍにおける吸光度を表し、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
【請求項2】
さらに、下記式（２）を満たす請求項１に記載の光学フィルム。Ａ（４４０）≦０．１ （２）
［式（２）中、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
【請求項3】
光選択吸収層の２３℃における貯蔵弾性率Ｅが、１００ＭＰａ以上である請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項4】
光選択吸収層が、光硬化性成分（Ａ）、光選択吸収化合物（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有する活性エネルギー線硬化性組成物から形成される層である請求項１～３のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項5】
光選択吸収化合物（Ｂ）の含有量が、光硬化性成分（Ａ）１００質量部に対して、０．０１～２０質量部である請求項４に記載の光学フィルム。
【請求項6】
光選択吸収化合物（Ｂ）が、下記式（４）を満たす化合物である請求項４又は５に記載の光学フィルム。ε（４０５）≧２０ （４）
〔式（４）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）である。〕
【請求項7】
光選択吸収化合物（Ｂ）は、式（５）を満たす化合物である請求項６に記載の光学フィルム。ε（４０５）／ε（４４０）≧２０ （５）
［式（５）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε（４４０）は波長４４０ｎｍにおけるグラム吸光係数を表す。］
【請求項8】
光硬化性成分（Ａ）が、（メタ）アクリロイルオキシ基含有化合物及びエポキシ化合物からなる群から選ばれる少なくとも１つを含む請求項５～７のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項9】
請求項１～８のいずれかに記載の光学フィルムの少なくとも一方の面に、粘着剤層を有する粘着剤層付き光学フィルム。
【請求項10】
請求項９に記載の粘着剤層付き光学フィルムを有する表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、少なくとも１層の光選択吸収層を含む光学フィルムに関する。
【背景技術】
【0002】
有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の表示装置（ＦＰＤ：フラットパネルディスプレイ）には、有機ＥＬ素子、液晶セル等の表示素子や偏光板等の光学フィルムなど様々な部材が用いられている。これらの部材に用いられる有機ＥＬ化合物および液晶化合物等は有機物であるため、紫外線（ＵＶ）による劣化が問題となりやすい。このような問題を解決するため、例えば、特許文献１には３７０ｎｍ以下の波長域の紫外線吸収能が優れる紫外線吸収剤を偏光板の保護フィルムに添加した偏光板が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２００６－３０８９３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
近年の表示装置の薄型化が進む中、重合性液晶化合物を配向・光硬化させてなる液晶系位相差フィルムの開発が進められている。これらの液晶系位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子は紫外線による劣化のみではなく、短波長の可視光においても劣化する傾向があることが明らかになってきた。しかしながら、特許文献１に記載の偏光板は、３７０ｎｍ以下の波長域の紫外線吸収能が優れていても、４００ｎｍ付近の短波長の可視光の吸収性能が低く、液晶系位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子の劣化抑制が十分ではない場合があった。
【0005】
そこで、４００ｎｍ付近の短波長の可視光の吸収性能を有する粘着剤層を配置することで、液晶系位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子の劣化を抑制できないか検討を行った。検討の結果、粘着剤層に４００ｎｍ付近の短波長の可視光の吸収性能を有する化合物を含有させると、粘着剤層に含まれる４００ｎｍ付近の短波長の可視光の吸収性能を有する化合物が、他の層に移行することによって位相差フィルムや偏光板の劣化を生じさせてしまう傾向にあることが明らかになった。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、以下に記載の発明を含む
［１］光学フィルムを提供する活性エネルギー線硬化性組成物から形成される光選択吸収層を少なくとも１層含み、かつ下記式（１）を満たす光学フィルム。
Ａ（４０５）≧０．５ （１）
［式（１）中、Ａ（４０５）は、波長４０５ｎｍにおける吸光度を表す。］
［２］さらに、下記式（２）を満たす［１］に記載の光学フィルム。
Ａ（４４０）≦０．１ （２）
［式（２）中、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
［３］下記式（３）を満たす［１］又は［２］に記載の光学フィルム。
Ａ（４０５）／Ａ（４４０）≧５ （３）
［式（３）中、Ａ（４０５）は波長４０５ｎｍにおける吸光度を表し、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
［４］光選択吸収層の２３℃における貯蔵弾性率Ｅが、１００ＭＰａ以上である［１］～［３］のいずれかに記載の光学フィルム。
［５］光選択吸収層が、光硬化性成分（Ａ）、光選択吸収化合物（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有する活性エネルギー線硬化性組成物から形成される層である［１］～［４］のいずれかに記載の層
［６］光選択吸収化合物（Ｂ）の含有量が、光硬化性成分（Ａ）１００質量部に対して、０．０１～２０質量部である［５］に記載の光学フィルム。
［７］光選択吸収化合物（Ｂ）が、下記式（４）を満たす化合物である［５］又は［６］に記載の光学フィルム。
ε（４０５）≧２０ （４）
〔式（４）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）である。〕
［８］光選択吸収化合物（Ｂ）は、式（５）を満たす化合物である［７］に記載の光学フィルム。
ε（４０５）／ε（４４０）≧２０ （５）
［式（５）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε（４４０）は波長４４０ｎｍにおけるグラム吸光度係数を表す。］
［９］光硬化性成分（Ａ）が、（メタ）アクリロイルオキシ基含有化合物及びエポキシ化合物からなる群から選ばれる少なくとも１つを含む［６］～［８］のいずれかに記載の光学フィルム。
［１０］［１］～［９］に記載の光学フィルムの少なくとも一方の面に、粘着剤層を有する粘着剤層付き光学フィルム。
［１１］［１０］に記載の粘着剤層付き光学フィルムを有する表示装置。
［１］光学フィルムを提供する活性エネルギー線硬化性組成物から形成される光選択吸収層を少なくとも１層含み、かつ下記式（１）を満たす光学フィルム。
Ａ（４０５）≧０．５ （１）
［式（１）中、Ａ（４０５）は、波長４０５ｎｍにおける吸光度を表す。］
［２］さらに、下記式（２）を満たす［１］に記載の光学フィルム。
Ａ（４４０）≦０．１ （２）
［式（２）中、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
［３］下記式（３）を満たす［１］又は［２］に記載の光学フィルム。
Ａ（４０５）／Ａ（４４０）≧５ （３）
［式（３）中、Ａ（４０５）は波長４０５ｎｍにおける吸光度を表し、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
［４］光選択吸収層の２３℃における貯蔵弾性率Ｅが、１００ＭＰａ以上である［１］～［３］のいずれかに記載の光学フィルム。
［５］光選択吸収層が、光硬化性成分（Ａ）、光選択吸収化合物（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有する活性エネルギー線硬化性組成物から形成される層である［１］～［４］のいずれかに記載の層
［６］光選択吸収化合物（Ｂ）の含有量が、光硬化性成分（Ａ）１００質量部に対して、０．０１～２０質量部である［５］に記載の光学フィルム。
［７］光選択吸収化合物（Ｂ）が、下記式（４）を満たす化合物である［５］又は［６］に記載の光学フィルム。
ε（４０５）≧２０ （４）
〔式（４）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）である。〕
［８］光選択吸収化合物（Ｂ）は、式（５）を満たす化合物である［７］に記載の光学フィルム。
ε（４０５）／ε（４４０）≧２０ （５）
［式（５）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε（４４０）は波長４４０ｎｍにおけるグラム吸光度係数を表す。］
［９］光硬化性成分（Ａ）が、（メタ）アクリロイルオキシ基含有化合物及びエポキシ化合物からなる群から選ばれる少なくとも１つを含む［６］～［８］のいずれかに記載の光学フィルム。
［１０］［１］～［９］に記載の光学フィルムの少なくとも一方の面に、粘着剤層を有する粘着剤層付き光学フィルム。
［１１］［１０］に記載の粘着剤層付き光学フィルムを有する表示装置。
【発明の効果】
【0007】
本発明の光学フィルムは、光選択吸収層に含まれる４００ｎｍ付近の短波長の可視光を選択的に吸収する化合物が光選択吸収層以外の層へ移行せず、位相差フィルムの劣化を抑制することができ、良好な表示特性を付与し得る。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【図1】本発明に係る光学フィルムの一例を示す概略断面図である。
【図2】本発明に係る光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。
【図3】本発明に係る光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。
【図4】本発明に係る光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。
【図5】本発明に係る光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。
【図6】本発明に係る光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。
【0010】
本発明の光学フィルムは、活性エネルギー線硬化樹脂組成物から形成される光選択吸収層を少なくとも１層含み、下記式（１）を満たす光学フィルムである。
Ａ（４０５）≧０．５ （１）
［波長４０５ｎｍにおける光学フィルムの吸光度を表す。］
Ａ（４０５）の値は大きいほど波長４０５ｎｍにおける吸収が大きいことを示す。Ａ（４０５）の値が１未満であると、波長４０５ｎｍにおける吸収が低く、短波長の可視光における位相差フィルムや有機ＥＬ素子等の表示装置の劣化を抑制する効果が小さい。Ａ（４０５）の値は、耐候劣化抑制の観点から、好ましくは０．６以上であり、より好ましくは０．８以上であり、特に好ましくは１．０以上である。
Ａ（４０５）≧０．５ （１）
［波長４０５ｎｍにおける光学フィルムの吸光度を表す。］
Ａ（４０５）の値は大きいほど波長４０５ｎｍにおける吸収が大きいことを示す。Ａ（４０５）の値が１未満であると、波長４０５ｎｍにおける吸収が低く、短波長の可視光における位相差フィルムや有機ＥＬ素子等の表示装置の劣化を抑制する効果が小さい。Ａ（４０５）の値は、耐候劣化抑制の観点から、好ましくは０．６以上であり、より好ましくは０．８以上であり、特に好ましくは１．０以上である。
【0011】
本発明の光学フィルムは、さらに下記式（２）を満たすことが好ましい。
Ａ（４４０）≦０．１ （２）
［式（２）中、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
Ａ（４４０）の値が小さいほど波長４４０ｎｍにおける吸収が低いことを表す。Ａ（４４０）の値が０．１を超えると、表示装置における良好な色彩表現を損なう傾向にある。また、表示装置の発光を阻害する傾向にあるため、表示装置の輝度も低下する可能性がある。Ａ（４４０）の値は、表示装置の発光阻害を抑制する観点から、好ましくは０．０５以下であり、より好ましくは０．０４以下であり、特に好ましくは０．０３以下である。
Ａ（４４０）≦０．１ （２）
［式（２）中、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
Ａ（４４０）の値が小さいほど波長４４０ｎｍにおける吸収が低いことを表す。Ａ（４４０）の値が０．１を超えると、表示装置における良好な色彩表現を損なう傾向にある。また、表示装置の発光を阻害する傾向にあるため、表示装置の輝度も低下する可能性がある。Ａ（４４０）の値は、表示装置の発光阻害を抑制する観点から、好ましくは０．０５以下であり、より好ましくは０．０４以下であり、特に好ましくは０．０３以下である。
【0012】
本発明の光学フィルムは、さらに式（３）を満たすことが好ましい。
下記式（３）を満たす請求項１又は２に記載の光学フィルム。
Ａ（４０５）／Ａ（４４０）≧５ （３）
［式（３）中、Ａ（４０５）は波長４０５ｎｍにおける吸光度を表し、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
Ａ（４０５）／Ａ（４４０）の値は、波長４４０ｎｍにおける吸収の大きさに対する波長４０５ｎｍの吸収の大きさを表す。Ａ（４０５）／Ａ（４４０）の値が大きいほど４０５ｎｍ付近の波長域に特異的な吸収があることを表す。Ａ（４０５）／Ａ（４４０）の値は１０以上であることが好ましく、３０以上であることがより好ましく、特に好ましくは６０以上である。
下記式（３）を満たす請求項１又は２に記載の光学フィルム。
Ａ（４０５）／Ａ（４４０）≧５ （３）
［式（３）中、Ａ（４０５）は波長４０５ｎｍにおける吸光度を表し、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
Ａ（４０５）／Ａ（４４０）の値は、波長４４０ｎｍにおける吸収の大きさに対する波長４０５ｎｍの吸収の大きさを表す。Ａ（４０５）／Ａ（４４０）の値が大きいほど４０５ｎｍ付近の波長域に特異的な吸収があることを表す。Ａ（４０５）／Ａ（４４０）の値は１０以上であることが好ましく、３０以上であることがより好ましく、特に好ましくは６０以上である。
【0013】
＜本発明の光学積層体＞
本発明の光学積層体の層構成の一例の断面模式図を図１に示した。
図１に示す本発明の光学フィルム１０は、樹脂フィルム２（例えば、後述する樹脂フィルム（ａ））の少なくとも一方の面に光選択吸収層１が形成される。光選択吸収層１は、単層であってもよいし、多層であってもよい。また、樹脂フィルム２と光選択吸収層１との間に接着剤層又は粘着剤層があってもよい。この場合の接着剤層は、公知の接着剤（水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤）から形成される接着剤層であればよく、粘着剤層も公知の粘着剤から形成される粘着剤層であればよい。
本発明の光学積層体の層構成の一例の断面模式図を図１に示した。
図１に示す本発明の光学フィルム１０は、樹脂フィルム２（例えば、後述する樹脂フィルム（ａ））の少なくとも一方の面に光選択吸収層１が形成される。光選択吸収層１は、単層であってもよいし、多層であってもよい。また、樹脂フィルム２と光選択吸収層１との間に接着剤層又は粘着剤層があってもよい。この場合の接着剤層は、公知の接着剤（水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤）から形成される接着剤層であればよく、粘着剤層も公知の粘着剤から形成される粘着剤層であればよい。
【0014】
図２に記載の光学積層体１０Ａは、本発明の光学フィルム１０と偏光板フィルムとを含む光学積層体である。図２に示した光選択吸収層１は、接着剤層としても機能する。
図３に記載の光学積層体１０Ｂは、樹脂フィルム２、光選択吸収層１、偏光フィルム３、接着剤層４、保護フィルム５を含む光学積層体である。接着剤層４は、公知の接着剤から形成された接着剤層であってもよいし、本願の光選択吸収層２を接着剤層として用いてもよい。保護フィルム５は、位相差を有したフィルム（位相差フィルム）であってもよい。
図４に記載の光学積層体１０Ｃ及び図５に記載の光学積層体１０Ｄは、樹脂フィルム２、光選択吸収層１、偏光フィルム３、接着剤層４、保護フィルム５、粘着剤層６、光学フィルム４０、粘着剤層３０、発光素子１１０含む光学積層体である。接着剤層４は、公知の接着剤から形成された接着剤層であってもよいし、本願の光選択吸収層２を接着剤層として用いてもよい。
図６に記載の光学積層体１０Eは、光選択吸収層１、樹脂フィルム２、接着剤層４、偏光フィルム３、接着剤層４、樹脂フィルム２を含む光学積層体である。図６において、光選択吸収層１は、表面処理層としても機能する。
つまり、本発明の光選択吸収層１は、接着剤層としても機能するし、表面処理層としても機能する。
図３に記載の光学積層体１０Ｂは、樹脂フィルム２、光選択吸収層１、偏光フィルム３、接着剤層４、保護フィルム５を含む光学積層体である。接着剤層４は、公知の接着剤から形成された接着剤層であってもよいし、本願の光選択吸収層２を接着剤層として用いてもよい。保護フィルム５は、位相差を有したフィルム（位相差フィルム）であってもよい。
図４に記載の光学積層体１０Ｃ及び図５に記載の光学積層体１０Ｄは、樹脂フィルム２、光選択吸収層１、偏光フィルム３、接着剤層４、保護フィルム５、粘着剤層６、光学フィルム４０、粘着剤層３０、発光素子１１０含む光学積層体である。接着剤層４は、公知の接着剤から形成された接着剤層であってもよいし、本願の光選択吸収層２を接着剤層として用いてもよい。
図６に記載の光学積層体１０Eは、光選択吸収層１、樹脂フィルム２、接着剤層４、偏光フィルム３、接着剤層４、樹脂フィルム２を含む光学積層体である。図６において、光選択吸収層１は、表面処理層としても機能する。
つまり、本発明の光選択吸収層１は、接着剤層としても機能するし、表面処理層としても機能する。
【0015】
本発明の光選択吸収層１の厚みは、通常０．１～３０μｍである。
光選択吸収層１が、表面処理層として使用される場合の厚みは、５～１５μｍであることが好ましい。５μｍ未満であると、硬度が不充分となるおそれがある。１５μｍを超えると、残留溶剤が残ったり、塗膜密着性が低下するおそれがある。
光選択吸収層１が、接着剤層として使用される場合の厚みは、通常２０μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以下、特に好ましくは３μｍ以下である。
光選択吸収層１が、表面処理層として使用される場合の厚みは、５～１５μｍであることが好ましい。５μｍ未満であると、硬度が不充分となるおそれがある。１５μｍを超えると、残留溶剤が残ったり、塗膜密着性が低下するおそれがある。
光選択吸収層１が、接着剤層として使用される場合の厚みは、通常２０μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以下、特に好ましくは３μｍ以下である。
【0016】
光選択吸収層の２３℃における貯蔵弾性率（Ｅ‘）が１００ＭＰａ以上であることが好ましく、５００ＭＰａ以上であることがより好ましく、１０００ＭＰａ以上であることがさらに好ましく、１０００００ＭＰａ以下であることが好ましい。また光選択吸収層の８０℃における貯蔵弾性率が、６００ＭＰａ以上であることが好ましく、１０００ＭＰａ以上であることがより好ましく、１５００ＭＰａ以上であることがさらに好ましく、１００００ＭＰａ以下であることが好ましい。
【0017】
光選択吸収層１が表面処理フィルムとして機能する場合、光選択吸収層の硬度が、ＪＩＳ Ｋ５６００－５－４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましく、４Ｈ以上であることがよりさらに好ましい。
【0018】
＜光選択吸収層＞
本発明の光学フィルムは、活性エネルギー線硬化性組成物から形成される光選択吸収層を少なくとも１層含む。該光選択吸収層を含むことにより、本発明の光学フィルムは式（１）を満たす。光選択吸収層は、上述した式（１）を満たすことが好ましく、上述した式（１）及び式（２）を満たすことがより好ましく、上述した式（１）、式（２）及び式（３）を満たすことがさらに好ましい。
光選択吸収層は、樹脂フィルム（以下、樹脂フィルム（ａ）という場合がある。）の少なくとも一方の面に形成される。
本発明の光学フィルムは、活性エネルギー線硬化性組成物から形成される光選択吸収層を少なくとも１層含む。該光選択吸収層を含むことにより、本発明の光学フィルムは式（１）を満たす。光選択吸収層は、上述した式（１）を満たすことが好ましく、上述した式（１）及び式（２）を満たすことがより好ましく、上述した式（１）、式（２）及び式（３）を満たすことがさらに好ましい。
光選択吸収層は、樹脂フィルム（以下、樹脂フィルム（ａ）という場合がある。）の少なくとも一方の面に形成される。
【0019】
活性エネルギー線硬化性組成物とは、活性エネルギー線の照射を受けて硬化する組成物を表す。活性エネルギー線としては、紫外線、電子線、Ｘ線、可視光等が挙げられ、好ましくは紫外線である。紫外線光源としては、波長４００ｎｍ以下に発光分布を有する光源が好ましく、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等を挙げることができる。
活性エネルギー線硬化性組成物は、光硬化性成分（Ａ）、光選択吸収化合物（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有する。
活性エネルギー線硬化性組成物は、光硬化性成分（Ａ）、光選択吸収化合物（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有する。
【0020】
光硬化性成分（Ａ）としては、活性エネルギー線の照射によりラジカル重合反応により硬化する化合物又はオリゴマー（ラジカル重合性化合物）、並びに又は活性エネルギー線の照射によりカチオン重合反応により硬化する化合物（カチオン重合性化合物）等が挙げられる。
【0021】
＜ラジカル重合性化合物＞
ラジカル重合性化合物としては、ラジカル重合性（メタ）アクリル系化合物等が挙げられる。本明細書において「（メタ）アクリル系化合物」とは、分子内に１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物をいう。「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基及びメタクリロイル基から選択される少なくとも一方を意味する。「（メタ）アクリロイルオキシ基」や「（メタ）アクリル」、「（メタ）アクリレート」などというときについても同様である。活性エネルギー線硬化性接着剤組成物は、ラジカル重合性（メタ）アクリル系化合物を１種又は２種以上含有することができる。
ラジカル重合性化合物としては、ラジカル重合性（メタ）アクリル系化合物等が挙げられる。本明細書において「（メタ）アクリル系化合物」とは、分子内に１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物をいう。「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基及びメタクリロイル基から選択される少なくとも一方を意味する。「（メタ）アクリロイルオキシ基」や「（メタ）アクリル」、「（メタ）アクリレート」などというときについても同様である。活性エネルギー線硬化性接着剤組成物は、ラジカル重合性（メタ）アクリル系化合物を１種又は２種以上含有することができる。
【0022】
（メタ）アクリル系化合物としては、分子内に少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリレートモノマー、（メタ）アクリルアミドモノマー、及び、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリルオリゴマー等の（メタ）アクリロイル基含有化合物を挙げることができる。（メタ）アクリルオリゴマーは好ましくは、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリレートオリゴマーである。（メタ）アクリル系化合物は、１種のみを単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。
【0023】
（メタ）アクリレートモノマーとしては、分子内に１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単官能（メタ）アクリレートモノマー、分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する２官能（メタ）アクリレートモノマー、分子内に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーが挙げられる。
【0024】
単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートにおいて、そのアルキル基は炭素数３以上であれば直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキル（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル（メタ）アクリレート；イソボルニル（メタ）アクリレート等のテルペンアルコールの（メタ）アクリレート；テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等のテトラヒドロフルフリル構造を有する（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルメチルメタクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート等のアルキル基部位にシクロアルキル基を有する（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のアミノアルキル（メタ）アクリレート；２－フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のアルキル部位にエーテル結合を有する（メタ）アクリレートも等も挙げられる。
【0025】
さらに、官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アルキル部位に水酸基を有する単官能（メタ）アクリレート；アルキル部位にカルボキシル基を有する単官能（メタ）アクリレートが挙げられる。アルキル部位に水酸基を有する単官能（メタ）アクリレートとしては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－又は３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。アルキル部位にカルボキシル基を有する単官能（メタ）アクリレートとしては、２－カルボキシエチル（メタ）アクリレート、ω－カルボキシ－ポリカプロラクトン（ｎ＝２）モノ（メタ）アクリレート、１－［２－（メタ）アクリロイルオキシエチル］フタル酸、１－［２－（メタ）アクリロイルオキシエチル］ヘキサヒドロフタル酸、１－［２－（メタ）アクリロイルオキシエチル］コハク酸、４－［２－（メタ）アクリロイルオキシエチル］トリメリット酸、Ｎ－（メタ）アクリロイルオキシ－Ｎ’，Ｎ’－ジカルボキシメチル－ｐ－フェニレンジアミン等が挙げられる。
【0026】
（メタ）アクリルアミドモノマーは、好ましくはＮ－位に置換基を有する（メタ）アクリルアミドである。そのＮ－位の置換基の典型的な例はアルキル基であるが、（メタ）アクリルアミドの窒素原子とともに環を形成していてもよく、この環は、炭素原子及び（メタ）アクリルアミドの窒素原子に加え、酸素原子を環構成員として有してもよい。さらに、その環を構成する炭素原子には、アルキルやオキソ（＝Ｏ）のような置換基が結合していてもよい。
【0027】
Ｎ－置換（メタ）アクリルアミドとしては、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｎ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｔ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヘキシル（メタ）アクリルアミドのようなＮ－アルキル（メタ）アクリルアミド；Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミドのようなＮ，Ｎ－ジアルキル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。また、Ｎ－置換基は水酸基を有するアルキル基であってもよく、その例として、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシプロピル）（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。さらに、上記した５員環又は６員環を形成するＮ－置換（メタ）アクリルアミドの具体的な例としては、Ｎ－アクリロイルピロリジン、３－アクリロイル－２－オキサゾリジノン、４－アクリロイルモルホリン、Ｎ－アクリロイルピペリジン、Ｎ－メタクリロイルピペリジン等が挙げられる。
【0028】
２官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート及びネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；
ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；
テトラフルオロエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のハロゲン置換アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート；
トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の脂肪族ポリオールのジ（メタ）アクリレート；
水添ジシクロペンタジエニルジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等の水添ジシクロペンタジエン又はトリシクロデカンジアルカノールのジ（メタ）アクリレート；
１，３－ジオキサン－２，５－ジイルジ（メタ）アクリレート〔別名：ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート〕等のジオキサングリコール又はジオキサンジアルカノールのジ（メタ）アクリレート；
ビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物ジアクリレート物、ビスフェノールＦエチレンオキサイド付加物ジアクリレート物等のビスフェノールＡ又はビスフェノールＦのアルキレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート；
ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物等のビスフェノールＡ又はビスフェノールＦのエポキシジ（メタ）アクリレート；シリコーンジ（メタ）アクリレート；
ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのジ（メタ）アクリレート；
２，２－ビス［４－（メタ）アクリロイルオキシエトキシエトキシフェニル］プロパン；２，２－ビス［４－（メタ）アクリロイルオキシエトキシエトキシシクロヘキシル］プロパン；
２－（２－ヒドロキシ－１，１－ジメチルエチル）－５－エチル－５－ヒドロキシメチル－１，３－ジオキサン〕のジ（メタ）アクリレート；
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート；等が挙げられる。
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート及びネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；
ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；
テトラフルオロエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のハロゲン置換アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート；
トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の脂肪族ポリオールのジ（メタ）アクリレート；
水添ジシクロペンタジエニルジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等の水添ジシクロペンタジエン又はトリシクロデカンジアルカノールのジ（メタ）アクリレート；
１，３－ジオキサン－２，５－ジイルジ（メタ）アクリレート〔別名：ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート〕等のジオキサングリコール又はジオキサンジアルカノールのジ（メタ）アクリレート；
ビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物ジアクリレート物、ビスフェノールＦエチレンオキサイド付加物ジアクリレート物等のビスフェノールＡ又はビスフェノールＦのアルキレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート；
ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物等のビスフェノールＡ又はビスフェノールＦのエポキシジ（メタ）アクリレート；シリコーンジ（メタ）アクリレート；
ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのジ（メタ）アクリレート；
２，２－ビス［４－（メタ）アクリロイルオキシエトキシエトキシフェニル］プロパン；２，２－ビス［４－（メタ）アクリロイルオキシエトキシエトキシシクロヘキシル］プロパン；
２－（２－ヒドロキシ－１，１－ジメチルエチル）－５－エチル－５－ヒドロキシメチル－１，３－ジオキサン〕のジ（メタ）アクリレート；
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート；等が挙げられる。
【0029】
３官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、グリセリントリ（メタ）アクリレート、アルコキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の脂肪族ポリオールのポリ（メタ）アクリレート；３官能以上のハロゲン置換ポリオールのポリ（メタ）アクリレート；グリセリンのアルキレンオキシド付加物のトリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンのアルキレンオキシド付加物のトリ（メタ）アクリレート；１，１，１－トリス［（メタ）アクリロイルオキシエトキシエトキシ］プロパン；トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0030】
（メタ）アクリルオリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリルオリゴマー、ポリエステル（メタ）アクリルオリゴマー、エポキシ（メタ）アクリルオリゴマー等が挙げられる。
【0031】
ウレタン（メタ）アクリルオリゴマーとは、分子内にウレタン結合（－ＮＨＣＯＯ－）及び少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。具体的には、分子内に少なくとも１個の（メタ）アクリロイル基及び少なくとも１個の水酸基をそれぞれ有する水酸基含有（メタ）アクリルモノマーとポリイソシアネートとのウレタン化反応生成物や、ポリオールをポリイソシアネートと反応させて得られる末端イソシアナト基含有ウレタン化合物と、分子内に少なくとも１個の（メタ）アクリロイル基及び少なくとも１個の水酸基をそれぞれ有する（メタ）アクリルモノマーとのウレタン化反応生成物等であり得る。
【0032】
上記ウレタン化反応に用いられる水酸基含有（メタ）アクリルモノマーは、例えば水酸基含有（メタ）アクリレートモノマーであることができ、その具体例は、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートを含む。水酸基含有（メタ）アクリレートモノマー以外の具体例は、Ｎ－ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド等のＮ－ヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミドモノマーを含む。
【0033】
水酸基含有（メタ）アクリルモノマーとのウレタン化反応に供されるポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、これらジイソシアネートのうち芳香族のイソシアネート類を水素添加して得られるジイソシアネート（例えば、水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート等）、トリフェニルメタントリイソシアネート、ジベンジルベンゼントリイソシアネート等のジ－又はトリ－イソシアネート、及び、上記のジイソシアネートを多量化させて得られるポリイソシアネート等が挙げられる。
【0034】
また、ポリイソシアネートとの反応により末端イソシアナト基含有ウレタン化合物とするために用いられるポリオールとしては、芳香族、脂肪族又は脂環式のポリオールの他、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等を使用することができる。脂肪族及び脂環式のポリオールとしては、１，４－ブタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ジメチロールヘプタン、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、グリセリン、水添ビスフェノールＡ等が挙げられる。
【0035】
ポリエステルポリオールは、上記したポリオールと多塩基性カルボン酸又はその無水物との脱水縮合反応により得られるものである。多塩基性カルボン酸又はその無水物の例を、無水物であり得るものに「（無水）」を付して表すと、（無水）コハク酸、アジピン酸、（無水）マレイン酸、（無水）イタコン酸、（無水）トリメリット酸、（無水）ピロメリット酸、（無水）フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸等がある。
【0036】
ポリエーテルポリオールは、ポリアルキレングリコールの他、上記したポリオール又はジヒドロキシベンゼン類とアルキレンオキサイドとの反応により得られるポリオキシアルキレン変性ポリオール等であり得る。
【0037】
ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーとは、分子内にエステル結合と少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有するオリゴマーを意味する。
ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーは、例えば、（メタ）アクリル酸、多塩基性カルボン酸又はその無水物、及びポリオールを脱水縮合反応させることにより得ることができる。
多塩基性カルボン酸又はその無水物としては、無水コハク酸、アジピン酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、フタル酸、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ヘキサヒドロフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等が挙げられる。
ポリオールとしては、１，４－ブタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ジメチロールヘプタン、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、グリセリン、水添ビスフェノールＡ等が挙げられる。
ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーは、例えば、（メタ）アクリル酸、多塩基性カルボン酸又はその無水物、及びポリオールを脱水縮合反応させることにより得ることができる。
多塩基性カルボン酸又はその無水物としては、無水コハク酸、アジピン酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、フタル酸、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ヘキサヒドロフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等が挙げられる。
ポリオールとしては、１，４－ブタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ジメチロールヘプタン、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、グリセリン、水添ビスフェノールＡ等が挙げられる。
【0038】
エポキシ（メタ）アクリルオリゴマーは、ポリグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸との付加反応により得ることができる。エポキシ（メタ）アクリルオリゴマーは、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する。
ポリグリシジルエーテルとしては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル等が挙げられる。
ポリグリシジルエーテルとしては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0039】
光選択吸収層を表面処理層として用いる場合は、光選択吸収層の硬度を高めるため、２官能（メタ）アクリレートモノマー及び多官能（メタ）アクリレートモノマーの合計含有量が光硬化性成分（Ａ）１００質量部に対して、５０質量部以上、好ましくは６０質量部以上、さらに好ましくは８０質量部以上である。
光選択吸収層を接着剤層として用いる場合、密着性の観点から、単官能（メタ）アクリレートモノマーの含有量が、光硬化性成分（Ａ）１００質量部に対して５０質量部以上、好ましくは６０質量部以上、更に好ましくは６０質量部以上である。
光選択吸収層を接着剤層として用いる場合、密着性の観点から、単官能（メタ）アクリレートモノマーの含有量が、光硬化性成分（Ａ）１００質量部に対して５０質量部以上、好ましくは６０質量部以上、更に好ましくは６０質量部以上である。
【0040】
［カチオン重合性化合物］
カチオン重合性化合物は、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射や加熱によりカチオン重合反応が進行し、硬化する化合物又はオリゴマーを表す。カチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニル化合物等を挙げられる。カチオン重合性化合物は、好ましくはエポキシ化合物である。エポキシ化合物とは、分子内に１個以上（好ましくは２個以上）のエポキシ基を有する化合物である。エポキシ化合物は、１種のみを単独で使用してもよいし２種以上を併用してもよい。
エポキシ化合物としては、脂環式エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、水素化エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等を挙げることができる。中でも、耐候性、硬化速度及び接着性の観点から、エポキシ化合物は、脂環式エポキシ化合物及び脂肪族エポキシ化合物であることが好ましく、脂環式エポキシ化合物であることがより好ましい。
カチオン重合性化合物は、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射や加熱によりカチオン重合反応が進行し、硬化する化合物又はオリゴマーを表す。カチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニル化合物等を挙げられる。カチオン重合性化合物は、好ましくはエポキシ化合物である。エポキシ化合物とは、分子内に１個以上（好ましくは２個以上）のエポキシ基を有する化合物である。エポキシ化合物は、１種のみを単独で使用してもよいし２種以上を併用してもよい。
エポキシ化合物としては、脂環式エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、水素化エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等を挙げることができる。中でも、耐候性、硬化速度及び接着性の観点から、エポキシ化合物は、脂環式エポキシ化合物及び脂肪族エポキシ化合物であることが好ましく、脂環式エポキシ化合物であることがより好ましい。
【0041】
脂環式エポキシ化合物は、脂環式環に結合したエポキシ基を分子内に１個以上有する化合物である。「脂環式環に結合したエポキシ基」とは、下記式（Ｉ）で示される構造における橋かけの酸素原子－Ｏ－を意味する。下記式（Ｉ）中、ｍは２～５の整数である。
【0042】
【化1】
【0043】
上記式（Ｉ）における（ＣＨ2）m中の１個又は複数個の水素原子を取り除いた形の基が他の化学構造に結合している化合物が、脂環式エポキシ化合物となり得る。（ＣＨ2）m中の１個又は複数個の水素原子は、メチル基やエチル基のような直鎖状アルキル基で適宜置換されていてもよい。
【0044】
中でも、エポキシシクロペンタン構造〔上記式（Ｉ）においてｍ＝３のもの〕や、エポキシシクロヘキサン構造〔上記式（Ｉ）においてｍ＝４のもの〕を有する脂環式エポキシ化合物は、硬化物のガラス転移温度が高く、接着性の面でも有利である。以下に、脂環式エポキシ化合物の具体的な例を掲げる。ここでは、まず化合物名を挙げ、その後、それぞれに対応する化学式を示すこととし、化合物名とそれに対応する化学式には同じ符号を付す。
【0045】
Ａ：３，４－エポキシシクロヘキシルメチル ３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
Ｂ：３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルメチル ３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、
Ｃ：エチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、
Ｄ：ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル） アジペート、
Ｅ：ビス（３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルメチル） アジペート、
Ｆ：ジエチレングリコールビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチルエーテル）、
Ｇ：エチレングリコールビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチルエーテル）、
Ｈ：２，３，１４，１５－ジエポキシ－７，１１，１８，２１－テトラオキサトリスピ
ロ［５.２.２.５.２.２］ヘンイコサン、
Ｉ：３－（３，４－エポキシシクロヘキシル）－８，９－エポキシ－１，５－ジオキサスピロ［５.５］ウンデカン、
Ｊ：４－ビニルシクロヘキセンジオキサイド、
Ｋ：リモネンジオキサイド、
Ｌ：ビス（２，３－エポキシシクロペンチル）エーテル、
Ｍ：ジシクロペンタジエンジオキサイド。
Ｂ：３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルメチル ３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、
Ｃ：エチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、
Ｄ：ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル） アジペート、
Ｅ：ビス（３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルメチル） アジペート、
Ｆ：ジエチレングリコールビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチルエーテル）、
Ｇ：エチレングリコールビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチルエーテル）、
Ｈ：２，３，１４，１５－ジエポキシ－７，１１，１８，２１－テトラオキサトリスピ
ロ［５.２.２.５.２.２］ヘンイコサン、
Ｉ：３－（３，４－エポキシシクロヘキシル）－８，９－エポキシ－１，５－ジオキサスピロ［５.５］ウンデカン、
Ｊ：４－ビニルシクロヘキセンジオキサイド、
Ｋ：リモネンジオキサイド、
Ｌ：ビス（２，３－エポキシシクロペンチル）エーテル、
Ｍ：ジシクロペンタジエンジオキサイド。
【0046】
【化2】
【0047】
【化3】
【0048】
芳香族エポキシ化合物は、分子内に芳香族環とエポキシ基とを有する化合物である。芳香族エポキシ化合物としては、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ビスフェールＦのジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳのジグリシジルエーテル等のビスフェノール型エポキシ化合物又はそのオリゴマー；フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型のエポキシ樹脂；２，２’，４，４’－テトラヒドロキシジフェニルメタンのグリシジルエーテル、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノンのグリシジルエーテル等の多官能型のエポキシ化合物；エポキシ化ポリビニルフェノール等の多官能型のエポキシ樹脂等が挙げられる。
【0049】
水素化エポキシ化合物は、脂環式環を有するポリオールのグリシジルエーテルであり、芳香族ポリオールを触媒の存在下、加圧下で芳香環に選択的に水素化反応を行うことにより得られる核水添ポリヒドロキシ化合物をグリシジルエーテル化したものであることができる。芳香族ポリオールの具体例は、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール型化合物；フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラック樹脂等のノボラック型樹脂；テトラヒドロキシジフェニルメタン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ポリビニルフェノール等の多官能型の化合物を含む。芳香族ポリオールの芳香環に水素化反応を行って得られる脂環式ポリオールにエピクロロヒドリンを反応させることにより、グリシジルエーテルとすることができる。水素化エポキシ化合物の中でも好ましいものとして、水素化されたビスフェノールＡのジグリシジルエーテルが挙げられる。
【0050】
脂肪族エポキシ化合物は、脂肪族炭素原子に結合するオキシラン環（３員の環状エーテル）を分子内に少なくとも１個有する化合物である。例えば、ブチルグリシジルエーテル、２－エチルヘキシルグリシジルエーテル等の単官能のエポキシ化合物；１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル等の２官能のエポキシ化合物；トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等の３官能以上のエポキシ化合物；４－ビニルシクロヘキセンジオキサイド、リモネンジオキサイド等の、脂環式環に直接結合するエポキシ基１個と、脂肪族炭素原子に結合するオキシラン環とを有するエポキシ化合物等がある。中でも、接着性の観点から、脂肪族炭素原子に結合するオキシラン環を分子内に２個有する２官能のエポキシ化合物（脂肪族ジエポキシ化合物ともいう）が好ましい。かかる好適な脂肪族ジエポキシ化合物は、例えば、下記式（ＩＩ）で表すことができる。
【0051】
【化4】
【0052】
上記式（ＩＩ）中のＹは、炭素数２～９のアルキレン基、エーテル結合が介在している総炭素数４～９のアルキレン基、又は脂環構造を有する炭素数６～１８の２価の炭化水素基である。
【0053】
上記式（ＩＩ）で表される脂肪族ジエポキシ化合物としては、アルカンジオールのジグリシジルエーテル、繰り返し数４程度までのオリゴアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、又は脂環式ジオールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0054】
オキセタン化合物は、分子内に１個以上のオキセタン環（オキセタニル基）を含有する化合物である。オキセタン化合物としては、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、２－エチルヘキシルオキセタン、１，４－ビス〔｛（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ｝メチル〕ベンゼン、３－エチル－３〔｛（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ｝メチル〕オキセタン、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン、３－（シクロヘキシルオキシ）メチル－３－エチルオキセタン等が挙げられる。オキセタン化合物は、カチオン重合性化合物の主成分として用いてもよいし、エポキシ化合物と併用してもよい。オキセタン化合物を併用することで、硬化速度や接着性を向上できることがある。
【0055】
ビニル化合物としては、脂肪族又は脂環式のビニルエーテル化合物が挙げられる。ビニル化合物としては、ｎ－アミルビニルエーテル、ｉ－アミルビニルエーテル、ｎ－ヘキシルビニルエーテル、ｎ－オクチルビニルエーテル、２－エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ－ドデシルビニルエーテル、ステアリルビニルエーテル、オレイルビニルエーテル等の炭素数５～２０のアルキル又はアルケニルアルコールのビニルエーテル；２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、３－ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル等の水酸基含有ビニルエーテル；シクロヘキシルビニルエーテル、２－メチルシクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル等の脂肪族環又は芳香族環を有するモノアルコールのビニルエーテル；グリセロールモノビニルエーテル、１，４－ブタンジオールモノビニルエーテル、１，４－ブタンジオールジビニルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、ペンタエリトリトールジビニルエーテル、ペンタエリトリトールテトラビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、１，４－ジヒドロキシシクロヘキサンモノビニルエーテル、１，４－ジヒドロキシシクロヘキサンジビニルエーテル、１，４－ジヒドロキシメチルシクロヘキサンモノビニルエーテル、１，４－ジヒドロキシメチルシクロヘキサンジビニルエーテル等の多価アルコールのモノ～ポリビニルエーテル；ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルモノビニルエーテル等のポリアルキレングリコールモノ～ジビニルエーテル；グリシジルビニルエーテル、エチレングリコールビニルエーテルメタクリレート等が挙げられる。
ビニル化合物は、カチオン重合性化合物の主成分として用いてもよいし、エポキシ化合物、又はエポキシ化合物及びオキセタン化合物と併用してもよい。ビニル化合物を併用することで、硬化速度や接着剤の低粘度化を向上できることがある。
ビニル化合物は、カチオン重合性化合物の主成分として用いてもよいし、エポキシ化合物、又はエポキシ化合物及びオキセタン化合物と併用してもよい。ビニル化合物を併用することで、硬化速度や接着剤の低粘度化を向上できることがある。
【0056】
光硬化性成分（Ａ）は、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物を併用してもよい。
光硬化性成分（Ａ）の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物１００質量％に対して、通常５０～９９．５質量％であり、好ましくは７０～９７質量％である。
光硬化性成分（Ａ）の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物１００質量％に対して、通常５０～９９．５質量％であり、好ましくは７０～９７質量％である。
【0057】
＜光選択吸収化合物（Ｂ）＞
光選択吸収化合物（Ｂ）としては、波長４０５ｎｍの光を選択的に吸収する化合物であり、式（５）を満たす化合物であることが好ましく、さらに式（６）を満たす化合物であることがより好ましい。
ε（４０５）≧２０ （５）
〔式（５）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）である。〕
ε（４０５）／ε（４４０）≧２０ （６）
［式（６）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε（４４０）は波長４４０ｎｍにおけるグラム吸光度係数を表す。］
なお、グラム吸光度係数は、実施例に記載の方法で測定する。
光選択吸収化合物（Ｂ）としては、波長４０５ｎｍの光を選択的に吸収する化合物であり、式（５）を満たす化合物であることが好ましく、さらに式（６）を満たす化合物であることがより好ましい。
ε（４０５）≧２０ （５）
〔式（５）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）である。〕
ε（４０５）／ε（４４０）≧２０ （６）
［式（６）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε（４４０）は波長４４０ｎｍにおけるグラム吸光度係数を表す。］
なお、グラム吸光度係数は、実施例に記載の方法で測定する。
【0058】
ε（４０５）の値が大きい化合物ほど波長４０５ｎｍの光を吸収しやすく、紫外線や短波長の可視光による劣化抑制機能を発現しやすい。ε（４０５）の値が２０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）未満であると、位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子の紫外線や短波長の可視光による劣化抑制機能を発現するために、光吸収選択層中の光選択吸収化合物（Ｂ）の含有量が増大する。光選択吸収化合物（Ｂ）の含有量が増大すると、光選択吸収化合物（Ｂ）がブリードアウト又は不均一に分散してしまい、光吸収機能が不十分となることがある。ε（４０５）の値は２０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることが好ましく、３０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることがより好ましく、４０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることがさらにより好ましく、通常５００Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以下である。
【0059】
ε（４０５）／ε（４４０）の値が大きい化合物ほど、表示装置の色彩表現を阻害することなく４０５ｎｍ付近の光を吸収し、位相差フィルムや有機ＥＬ素子等の表示装置の光劣化を抑制することができる。ε（４０５）／ε（４４０）の値は２０以上が好ましく、４０以上がより好ましく、７０以上がさらにより好ましく、８０以上が特により好ましい。
【0060】
また、光選択吸収化合物（Ｂ）は、分子内にメロシアニン構造を含む化合物であることが好ましい。メロシアニン構造を含む化合物とは、－（Ｎ－Ｃ＝Ｃ－Ｃ＝Ｃ）－で示される部分構造を分子内に含有している化合物であって、例えば、メロシアニン系化合物、シアニン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物等が挙げられる。
光選択吸収化合物（Ｂ）は、式（Ｉ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ）という場合がある。）であることが好ましい。
［式中、Ｒ１及びＲ５は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～２５のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数７～１５のアラルキル基、炭素数６～１５のアリール基、複素環基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる－ＣＨ２－は－ＮＲ１Ａ－、－ＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－又は－Ｓ－に置換されていてもよい。
Ｒ１Ａは、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、該アルキル基に含まれる－ＣＨ２－は－ＮＲ１Ｂ－、－ＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－又は－Ｓ－で置換されていてもよい。
Ｒ１Ｂは、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～２５のアルキル基又は電子吸引性基を表すか、Ｒ６及びＲ７は互いに連結して環構造を形成してもよい。
Ｒ１及びＲ２は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ２及びＲ３は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ２及びＲ４は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ３及びＲ６は、互いに連結して環構造を形成してもよい。］
光選択吸収化合物（Ｂ）は、式（Ｉ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ）という場合がある。）であることが好ましい。
［式中、Ｒ１及びＲ５は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～２５のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数７～１５のアラルキル基、炭素数６～１５のアリール基、複素環基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる－ＣＨ２－は－ＮＲ１Ａ－、－ＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－又は－Ｓ－に置換されていてもよい。
Ｒ１Ａは、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、該アルキル基に含まれる－ＣＨ２－は－ＮＲ１Ｂ－、－ＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－又は－Ｓ－で置換されていてもよい。
Ｒ１Ｂは、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～２５のアルキル基又は電子吸引性基を表すか、Ｒ６及びＲ７は互いに連結して環構造を形成してもよい。
Ｒ１及びＲ２は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ２及びＲ３は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ２及びＲ４は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ３及びＲ６は、互いに連結して環構造を形成してもよい。］
【0061】
Ｒ１及びＲ５で表される炭素数１～２５のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、２－シアノプロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、１－メチルブチル基、３－メチルブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル、２－へキシル－オクチル基等が挙げられる。
Ｒ１及びＲ５で表される炭素数１～２５のアルキル基が有していてもよい置換基としては、以下の群Ａに記載の基が挙げられる。
群Ａ：ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルキルシリル基、炭素数２～８のアルキルカルボニル基、＊－Ｒａ１－（Ｏ－Ｒａ２）ｔ１－Ｒａ３（Ｒａ１及びＲａ２は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルカンジイル基を表し、Ｒａ３は炭素数１～６のアルキル基を表し、ｓ１は１～３の整数を表す。）で表される基等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルキルシリル基としては、メチルシリル基、エチルシリル、プロピルシリル基等のモノアルキルシリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、メチルエチルシリル基等のジアルキルシリル基；トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル基等のトリアルキルシリル基が挙げられる。
炭素数２～８のアルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
Ｒ１及びＲ５で表される炭素数１～２５のアルキル基が有していてもよい置換基としては、以下の群Ａに記載の基が挙げられる。
群Ａ：ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルキルシリル基、炭素数２～８のアルキルカルボニル基、＊－Ｒａ１－（Ｏ－Ｒａ２）ｔ１－Ｒａ３（Ｒａ１及びＲａ２は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルカンジイル基を表し、Ｒａ３は炭素数１～６のアルキル基を表し、ｓ１は１～３の整数を表す。）で表される基等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルキルシリル基としては、メチルシリル基、エチルシリル、プロピルシリル基等のモノアルキルシリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、メチルエチルシリル基等のジアルキルシリル基；トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル基等のトリアルキルシリル基が挙げられる。
炭素数２～８のアルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
【0062】
Ｒ１及びＲ５で表される炭素数７～１５のアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。アラルキル基に含まれる－ＣＨ２－が、－ＳＯ２－又は－ＣＯＯ－に置き換わった基としては２-フェニル酢酸エチル基等が挙げられる。
Ｒ１及びＲ５で表される炭素数７～１５のアラルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ１及びＲ５で表される炭素数７～１５のアラルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
【0063】
Ｒ１及びＲ５で表される炭素数６～１５のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
Ｒ１及びＲ５で表される炭素数６～１５のアリール基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ１及びＲ５で表される炭素数６～１５の複素環基としては、ピリジル基、ピロリジル基、キノリル基、チオフェン基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、ピロール基、チアゾリル基及びフラニル基等の炭素数３～９の芳香族複素環基が挙げられる。
Ｒ１及びＲ５で表される炭素数６～１５のアリール基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ１及びＲ５で表される炭素数６～１５の複素環基としては、ピリジル基、ピロリジル基、キノリル基、チオフェン基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、ピロール基、チアゾリル基及びフラニル基等の炭素数３～９の芳香族複素環基が挙げられる。
【0064】
Ｒ１Ａ及びＲ１Ｂで表される炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。
【0065】
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される炭素数１～６のアルキル基としては、Ｒ１Ｂで表される炭素数１～６のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される炭素数１～６のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等炭素数６～１５のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７～１５のアラルキル基が挙げられる。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される芳香族複素環としては、ピリジル基、ピロリジル基、キノリル基、チオフェン基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、ピロール基、チアゾリル基及びフラニル基等の炭素数３～９の芳香族複素環基が挙げられる。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される芳香族複素環が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される炭素数１～６のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等炭素数６～１５のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７～１５のアラルキル基が挙げられる。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される芳香族複素環としては、ピリジル基、ピロリジル基、キノリル基、チオフェン基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、ピロール基、チアゾリル基及びフラニル基等の炭素数３～９の芳香族複素環基が挙げられる。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される芳香族複素環が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
【0066】
Ｒ６及びＲ７で表される炭素数１～２５のアルキル基としては、Ｒ１及びＲ５で表される炭素数１～２５のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ６及びＲ７で表される炭素数１～２５のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ６及びＲ７で表される炭素数１～２５のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
【0067】
Ｒ６及びＲ７で表される電子吸引性基としては、例えば、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、式（Ｉ－１）で表される基が挙げられる。
［式中、Ｒ１１は、水素原子又は炭素数１～２５のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれるメチレン基の少なくとも１つは酸素原子に置換されていてもよい。
Ｘ１は、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ１２ＣＯ－又はＣＯＮＲ１３－を表す。
Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基を表す。］
［式中、Ｒ１１は、水素原子又は炭素数１～２５のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれるメチレン基の少なくとも１つは酸素原子に置換されていてもよい。
Ｘ１は、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ１２ＣＯ－又はＣＯＮＲ１３－を表す。
Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基を表す。］
【0068】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等のパーフルオロアルキル基等が挙げられる。ハロゲン原子で置換されたアルキル基の炭素数としては、通常１～２５である。
ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等のパーフルオロアルキル基等が挙げられる。ハロゲン原子で置換されたアルキル基の炭素数としては、通常１～２５である。
【0069】
Ｒ１１で表される炭素数１～２５のアルキル基としては、Ｒ１及びＲ５で表されるアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ１２及びＲ１３で表される炭素数１～６のアルキル基としては、Ｒ１Ａで表される炭素数１～６で表されるアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ１２及びＲ１３で表される炭素数１～６のアルキル基としては、Ｒ１Ａで表される炭素数１～６で表されるアルキル基と同じものが挙げられる。
【0070】
Ｒ６及びＲ７は互いに連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ６及びＲ７より形成される環構造としては、例えば、メルドラム酸構造、バルビツール酸構造、ジメドン構造等が挙げられる。
【0071】
Ｒ２及びＲ３が互いに結合して形成される環構造としては、Ｒ２と結合している窒素原子を含む含窒素環構造であって、例えば、４～１４員環の含窒素複素環が挙げられる。Ｒ２及びＲ３が互いに連結して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよい。具体的には、ピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、オキサゾリン環、チアゾリン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、インドール環、イソインドール環等が挙げられる。
【0072】
Ｒ１及びＲ２が互いに結合して形成される環構造としては、Ｒ１及びＲ２が結合している窒素原子を含む含窒素環構造であって、例えば、４～１４員環（好ましくは４～８員環）の含窒素複素環が挙げられる。Ｒ１及びＲ２が互いに連結して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよい。具体的には、Ｒ２及びＲ３が互いに連結して形成される環構造と同じものが挙げられる。
【0073】
Ｒ２及びＲ４が互いに結合して形成される環構造としては、４～１４員環の含窒素環構造が挙げられ、５員環～９員環の含窒素環構造が好ましい。Ｒ２及びＲ４が互いに結合して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよい。これらの環は置換基を有していてもよく、このような環構造としては、前記Ｒ２及びＲ３が互いに連結して形成される環構造として例示したものと同じものが挙げられる。
【0074】
Ｒ３及びＲ６が互いに連結して形成される環構造としては、Ｒ３－Ｃ＝Ｃ－Ｃ＝Ｃ－Ｒ６が環の骨格を形成する環構造である。例えば、フェニル基等が挙げられる。
【0075】
Ｒ２とＲ３が互いに連結して環構造を形成している式（Ｉ）で表される化合物としては式（Ｉ－Ａ）で表される化合物が挙げられ、Ｒ２及びＲ４が互いに連結して環構造を形成している式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ－Ｂ）で表される化合物等が挙げられる。
［式（Ｉ－Ａ）、式（Ｉ－Ｂ）中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
環Ｗ１及び環Ｗ２は、それぞれ独立して、含窒素環を表す。］
［式（Ｉ－Ａ）、式（Ｉ－Ｂ）中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
環Ｗ１及び環Ｗ２は、それぞれ独立して、含窒素環を表す。］
【0076】
環Ｗ１及び環Ｗ２は、環の構成単位として窒素原子を含有する含窒素環を表す。環Ｗ１及び環Ｗ２は、それぞれ独立して、単環であってもよいし、多環であってもよく、窒素以外のヘテロ原子を環の構成単位として含んでいてもよい。環Ｗ１及び環Ｗ２は、それぞれ独立して、５員環～９員環の環であることが好ましい。
【0077】
式（Ｉ－Ａ）で表される化合物は、式（Ｉ－Ａ－１）で表される化合物であることが好ましい。
［式（Ｉ－Ａ）中、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ａ１は、－ＣＨ２－、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＲ１Ｄ－を表す。
Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～１２のアルキル基を表す。
Ｒ１Ｄは、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。］
［式（Ｉ－Ａ）中、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ａ１は、－ＣＨ２－、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＲ１Ｄ－を表す。
Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～１２のアルキル基を表す。
Ｒ１Ｄは、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。］
【0078】
式（Ｉ－Ｂ）で表される化合物は、式（Ｉ－Ｂ－１）で表される化合物及び式（Ｉ－Ｂ－２）で表される化合物であることが好ましい。
［式（Ｉ－Ｂ－１）中、Ｒ１、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ１６は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～１２のアルキル基、アリール基を表す。］
［式（Ｉ－Ｂ－１）中、Ｒ１、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ１６は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～１２のアルキル基、アリール基を表す。］
【0079】
［式（Ｉ－Ｂ－２）中、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ３０は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、メルカプト基、アミノ基、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、炭素数２～１３のアシル基、炭素数２～１３のアシルオキシ基又は炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基を表す。
Ｒ３１は、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、メルカプト基、炭素数１～１２のアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアミノ基又は複素環基を表す。］
【0080】
Ｒ３０で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ３０で表されるＲ３０で表される炭素数２～１３のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Ｒ３０で表される炭素数２～１３のアシルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Ｒ３０で表される炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
Ｒ３０で表される炭素数６～１８の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等の炭素数６～１８のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７～１８のアラルキル基が挙げられる。
Ｒ３０で表される炭素数１～１２のアルキル基としては、Ｒ１４で表される炭素数１～１２のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ３０で表される炭素数１～１２のアルキル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられる。
Ｒ３０は、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、アミノ基又はメルカプト基であることが好ましい。
Ｒ３０で表されるＲ３０で表される炭素数２～１３のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Ｒ３０で表される炭素数２～１３のアシルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Ｒ３０で表される炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
Ｒ３０で表される炭素数６～１８の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等の炭素数６～１８のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７～１８のアラルキル基が挙げられる。
Ｒ３０で表される炭素数１～１２のアルキル基としては、Ｒ１４で表される炭素数１～１２のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ３０で表される炭素数１～１２のアルキル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられる。
Ｒ３０は、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、アミノ基又はメルカプト基であることが好ましい。
【0081】
Ｒ３１で表される炭素数１～１２のアルキル基としては、Ｒ１４で表される炭素数１～１２のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ３１で表される炭素数１～１２のアルコキシ基としては、Ｒ３０で表される炭素数１～１２のアルコキシ基と同じものが挙げられる。
Ｒ３１で表される炭素数１～１２のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられる。
Ｒ３１で表される置換基を有していてもよいアミノ基としては、アミノ基；Ｎ－メチルアミノ基、Ｎ－エチルアミノ基等の１つの炭素数１～８のアルキル基で置換されたアミノ基；Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ－メチルエチルアミノ基等の２つの炭素数１～８のアルキル基で置換されたアミノ基；等が挙げられる。
Ｒ３１で表される複素環としては、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モルホリニル基等の炭素数４～９の含窒素複素環基等が挙げられる。
Ｒ３１で表される炭素数１～１２のアルコキシ基としては、Ｒ３０で表される炭素数１～１２のアルコキシ基と同じものが挙げられる。
Ｒ３１で表される炭素数１～１２のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられる。
Ｒ３１で表される置換基を有していてもよいアミノ基としては、アミノ基；Ｎ－メチルアミノ基、Ｎ－エチルアミノ基等の１つの炭素数１～８のアルキル基で置換されたアミノ基；Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ－メチルエチルアミノ基等の２つの炭素数１～８のアルキル基で置換されたアミノ基；等が挙げられる。
Ｒ３１で表される複素環としては、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モルホリニル基等の炭素数４～９の含窒素複素環基等が挙げられる。
【0082】
Ｒ３及びＲ６が互いに連結して環構造を形成し、かつＲ２及びＲ４が互いに結合して環構造を形成する式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ－Ｃ）で表される化合物等が挙げられる。
［式（Ｉ－Ｃ）中、Ｒ１、Ｒ６及びＲ７は上記と同じ意味を表す。
Ｒ２１、Ｒ２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１２のアルキル基又はヒドロキシ基を表す。
Ｘ２及びＸ３は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－又は－Ｎ（Ｒ２５）＝を表す。
Ｒ２５は、水素原子、炭素数１～２５のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。］
［式（Ｉ－Ｃ）中、Ｒ１、Ｒ６及びＲ７は上記と同じ意味を表す。
Ｒ２１、Ｒ２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１２のアルキル基又はヒドロキシ基を表す。
Ｘ２及びＸ３は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－又は－Ｎ（Ｒ２５）＝を表す。
Ｒ２５は、水素原子、炭素数１～２５のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。］
【0083】
Ｒ２５で表される炭素数１～２５のアルキル基としては、Ｒ１で表される炭素数１～２５のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ２５で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基等のアリール基：ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基：ビフェニル基等が挙げられ、炭素数６～２０の芳香族炭化水素基であることが好ましい。Ｒ２５で表される芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ヒドロキシ基等が挙げられる。
Ｒ２５で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基等のアリール基：ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基：ビフェニル基等が挙げられ、炭素数６～２０の芳香族炭化水素基であることが好ましい。Ｒ２５で表される芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ヒドロキシ基等が挙げられる。
【0084】
Ｒ３及びＲ６は、それぞれ独立して、電子吸引性基であることが好ましい。
【0085】
Ｒ１及びＲ２が互いに連結して環構造を形成し、かつＲ３及びＲ６が互いに結合して環構造を形成する式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ－D）で表される化合物等が挙げられる。
［式（Ｉ－D）中、Ｒ４、Ｒ5、Ｒ7は上記と同じ意味を表す。
Ｒ２5、Ｒ２6、Ｒ２7及びＲ２8は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１～１２のアルキル基、ヒドロキシ基、アラルキル基を表す。］
［式（Ｉ－D）中、Ｒ４、Ｒ5、Ｒ7は上記と同じ意味を表す。
Ｒ２5、Ｒ２6、Ｒ２7及びＲ２8は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１～１２のアルキル基、ヒドロキシ基、アラルキル基を表す。］
【0086】
Ｒ２5、Ｒ２6、Ｒ２7及びＲ２8で表される炭素数１～１２のアルキル基としては、Ｒ１Ａ及びＲ１Ｂで表される炭素数１～１２のアルキル基と同じものが挙げられる。Ｒ２5、Ｒ２6、Ｒ２7及びＲ２8で表される炭素数１～１２のアルキル基が有していてもよい置換基としてはヒドロキシ基が挙げられる。
Ｒ２5、Ｒ２6、Ｒ２7及びＲ２8で表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７～１５のアラルキル基が挙げられる。
Ｒ２5、Ｒ２6、Ｒ２7及びＲ２8で表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７～１５のアラルキル基が挙げられる。
【0087】
Ｒ６及びＲ７が互いに連結して環構造を形成している化合物（Ｉ）としては、式（Ｉ－Ｅ）で表される化合物等が挙げられる。
［式（Ｉ－Ｃ）中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
環Ｗ３は、環状化合物を表す。]
環Ｗ３は、５員環～９員環の環であり、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を環の構成単位として含んでいてもよい。
［式（Ｉ－Ｃ）中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
環Ｗ３は、環状化合物を表す。]
環Ｗ３は、５員環～９員環の環であり、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を環の構成単位として含んでいてもよい。
【0088】
式（Ｉ－Ｅ）で表される化合物は、式（ＩＥ－１）で表される化合物であることが好ましい。
［式（Ｉ－Ｅ－１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ５は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒｑは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有してもよい炭素数１～１２のアルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる－ＣＨ２－基は－ＮＲ２Ｄ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－Ｏ－、－Ｓ－に置換されていてもよく、Ｒ１７及びＲ１８は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ１８及びＲ１９は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ１９及びＲｑは、互いに連結して環構造を形成してもよい。Ｒ２Ｄは水素原子、又は置換基を有してもよい炭素数１～１２のアルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる－ＣＨ２－基は－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－Ｏ－、－Ｓ－に置換されていてもよい。
ｍ、ｐ、ｑはそれぞれ独立して１～３の整数を表す。］
［式（Ｉ－Ｅ－１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ５は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒｑは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有してもよい炭素数１～１２のアルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる－ＣＨ２－基は－ＮＲ２Ｄ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－Ｏ－、－Ｓ－に置換されていてもよく、Ｒ１７及びＲ１８は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ１８及びＲ１９は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ１９及びＲｑは、互いに連結して環構造を形成してもよい。Ｒ２Ｄは水素原子、又は置換基を有してもよい炭素数１～１２のアルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる－ＣＨ２－基は－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－Ｏ－、－Ｓ－に置換されていてもよい。
ｍ、ｐ、ｑはそれぞれ独立して１～３の整数を表す。］
【0089】
式（Ｉ）で表される化合物としては、以下の化合物が挙げられる。
【0090】
【0091】
【0092】
【0093】
【0094】
【0095】
【0096】
【0097】
【0098】
【0099】
【0100】
光選択吸収化合物（Ｂ）の含有量は、光硬化性成分（Ａ）１００質量部に対して、通常０．０１～２０質量部であり、好ましくは０．０５～１５質量部であり、より好ましくは０．１～１０質量部であり、さらに好ましくは０．１～５質量部である。
【0101】
＜光重合開始剤（Ｃ）＞
［ラジカル重合性開始剤］
光硬化性成分（Ａ）がラジカル重合化合物である場合、光重合開始剤（Ｃ）は光ラジカル重合開始剤を含有する。また、さらに、熱ラジカル重合開始剤を含有していてもよい。光ラジカル重合開始剤は、可視光線、紫外線、Ｘ線、又は電子線のような活性エネルギー線の照射によって、ラジカル硬化性化合物の重合反応を開始させるものである。活性エネルギー線硬化性接着剤組成物は、ラジカル重合開始剤を１種又は２種以上含有することができる。
［ラジカル重合性開始剤］
光硬化性成分（Ａ）がラジカル重合化合物である場合、光重合開始剤（Ｃ）は光ラジカル重合開始剤を含有する。また、さらに、熱ラジカル重合開始剤を含有していてもよい。光ラジカル重合開始剤は、可視光線、紫外線、Ｘ線、又は電子線のような活性エネルギー線の照射によって、ラジカル硬化性化合物の重合反応を開始させるものである。活性エネルギー線硬化性接着剤組成物は、ラジカル重合開始剤を１種又は２種以上含有することができる。
【0102】
光ラジカル重合開始剤及び熱ラジカル重合開始剤としては従来公知のものを使用できる。光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン、３－メチルアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル－２－モルホリノプロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン等のアセトフェノン系開始剤；ベンゾフェノン、４－クロロベンゾフェノン、４，４’－ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系開始剤；ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインメ、チルエーテルベンゾインエチルエーテル等のベンゾインエーテル系開始剤；４－イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系開始剤；キサントン、フルオレノン、カンファーキノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン等が挙げられる。
【0103】
ラジカル重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性化合物１００質量部に対して、通常０．５～２０質量部であり、好ましくは１～６質量部である。ラジカル重合開始剤を０．５重量部以上含有させることにより、ラジカル重合性化合物を十分に硬化させることができる。
【0104】
（カチオン重合性開始剤）
光硬化性成分（Ａ）がカチオン重合性化合物である場合、光重合開始剤（Ｃ）は光カチオン重合開始剤である。光カチオン重合開始剤は、可視光線、紫外線、Ｘ線、又は電子線のような活性エネルギー線の照射によって、カチオン種又はルイス酸を発生し、カチオン硬化性化合物の重合反応を開始させるものである。光カチオン重合開始剤は、光で触媒的に作用するため、光カチオン硬化性化合物に混合しても保存安定性や作業性に優れる。活性エネルギー線の照射によりカチオン種又はルイス酸を生じる化合物として、例えば、芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩；芳香族ジアゾニウム塩；鉄－アレーン錯体等を挙げることができる。
光硬化性成分（Ａ）がカチオン重合性化合物である場合、光重合開始剤（Ｃ）は光カチオン重合開始剤である。光カチオン重合開始剤は、可視光線、紫外線、Ｘ線、又は電子線のような活性エネルギー線の照射によって、カチオン種又はルイス酸を発生し、カチオン硬化性化合物の重合反応を開始させるものである。光カチオン重合開始剤は、光で触媒的に作用するため、光カチオン硬化性化合物に混合しても保存安定性や作業性に優れる。活性エネルギー線の照射によりカチオン種又はルイス酸を生じる化合物として、例えば、芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩；芳香族ジアゾニウム塩；鉄－アレーン錯体等を挙げることができる。
【0105】
芳香族ヨードニウム塩は、ジアリールヨードニウムカチオンを有する化合物であり、当該カチオンとして、典型的にはジフェニルヨードニウムカチオンを挙げることができる。芳香族スルホニウム塩は、トリアリールスルホニウムカチオンを有する化合物であり、当該カチオンとして、典型的にはトリフェニルスルホニウムカチオンや４，４’－ビス（ジフェニルスルホニオ）ジフェニルスルフィドカチオン等を挙げることができる。芳香族ジアゾニウム塩は、ジアゾニウムカチオンを有する化合物であり、当該カチオンとして、典型的にはベンゼンジアゾニウムカチオンを挙げることができる。また、鉄－アレーン錯体は、典型的にはシクロペンタジエニル鉄（ＩＩ）アレーンカチオン錯塩である。
【0106】
上に示したカチオンは、アニオン（陰イオン）と対になって光カチオン重合開始剤を構成する。光カチオン重合開始剤を構成するアニオンの例を挙げると、特殊リン系アニオン［（Ｒｆ）nＰＦ6-n］-、ヘキサフルオロホスフェートアニオンＰＦ6
-、ヘキサフルオロアンチモネートアニオンＳｂＦ6
-、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネートアニオンＳｂＦ5（ＯＨ）-、ヘキサフルオロアーセネートアニオンＡｓＦ6
-、テトラフルオロボレートアニオンＢＦ4
-、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートアニオンＢ(Ｃ6Ｆ5)4
-等がある。中でも、カチオン重合性化合物の硬化性及び得られる光選択吸収層の安全性の観点から、特殊リン系アニオン［（Ｒｆ）nＰＦ6-n］-、ヘキサフルオロホスフェートアニオンＰＦ6
-であることが好ましい。
【0107】
光カチオン重合開始剤は、１種のみを単独で使用してもよいし２種以上を併用してもよい。中でも、芳香族スルホニウム塩は、３００ｎｍ付近の波長領域でも紫外線吸収特性を有することから、硬化性に優れ、良好な機械的強度や接着強度を有する硬化物を与えることができるため好ましく用いられる。
【0108】
光カチオン重合開始剤の含有量は、カチオン重合性化合物１００質量部に対して通常、０．５～１０質量部であり、好ましくは６質量部以下である。光カチオン重合開始剤を０．５質量部以上配合することにより、カチオン重合性化合物を十分に硬化させることができる。
【0109】
（任意成分）
活性エネルギー線硬化性組成物は、必要に応じて、添加剤を含むことができる。添加剤としては、イオントラップ剤、連鎖移動剤、重合促進剤、増感剤、増感助剤、光安定剤、粘着付与剤、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、シランカップリング剤、透光性微粒子、有機溶剤等の溶剤、熱重合開始剤、ブロッキング剤、防汚剤、界面活性剤、架橋剤、硬化剤、粘度調整剤、帯電防止剤、防汚剤、スリップ剤、屈折率調整剤、分散剤等が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性組成物は、必要に応じて、添加剤を含むことができる。添加剤としては、イオントラップ剤、連鎖移動剤、重合促進剤、増感剤、増感助剤、光安定剤、粘着付与剤、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、シランカップリング剤、透光性微粒子、有機溶剤等の溶剤、熱重合開始剤、ブロッキング剤、防汚剤、界面活性剤、架橋剤、硬化剤、粘度調整剤、帯電防止剤、防汚剤、スリップ剤、屈折率調整剤、分散剤等が挙げられる。
【0110】
活性エネルギー線硬化性組成物を、ハードコート層等の表面処理層の形成に用いる場合、有機溶剤を含むことが好ましい。有機溶剤としては、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、ｓ－ブタノール、ｔ－ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール、シクロヘキサノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル化グリコールエーテル類；２－メトキシエタノール、２－エトキシエタノール、２－ブトキシエタノール等のセルソルブ類；２－（２－メトキシエトキシ）エタノール、２－（２－エトキシエトキシ）エタノール、２－（２－ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類；ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；１－メトキシ－２－プロパノール等のエーテルアルコール類、；水等が挙げられる。有機溶媒は、粘度等を考慮して選択して用いることができる。活性エネルギー線硬化性組成物に有機溶剤を含むことにより、樹脂フィルムに対する塗工性が向上する。
【0111】
これらの有機溶剤は、単独で用いてもよいし、必要に応じて数種類を混合して用いてもよい。活性エネルギー線硬化性組成物が有機溶剤を含む場合には、塗工後にその有機溶剤を蒸発させる必要がある。そのため有機溶剤は、６０℃～１６０℃の範囲の沸点を有するものであることが望ましい。また、その２０℃における飽和蒸気圧は、０．１ｋＰａ～２０ｋＰａの範囲にあることが好ましい。
【0112】
レベリング剤としては、例えば、フッ素系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤、アクリル系レベリング剤等の公知のものを挙げることができる。レベリング剤の含有量は、光硬化性成分（Ａ）１００質量部に対して０．１～１質量部であることが好ましい。０．１質量部未満であると、特に光選択吸収層が表面処理層である場合、表面の平面性が悪くなり、ヘイズやムラが生じやすく、ブロッキング防止性が充分に発揮されないおそれがある。一方、１質量部を超えると、活性エネルギー線硬化性組成物の分散性やポットライフが悪くなりやすい。
【0113】
活性エネルギー線硬化性組成物は、光硬化性成分（Ａ）の種類等によっては、接着機能を有する場合があり、接着剤として使用することができる。活性エネルギー線硬化性組成物を接着剤として使用する場合、その粘度が低いことが好ましい。具体的には、２５℃における粘度が、好ましくは１０００ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以下、さらに好ましくは３００ｍＰａ・ｓ以下であり、通常２５０ｍＰａ・ｓ以上である。本発明に係る硬化性接着剤組成物は無溶剤型であることができるが、採用する塗工方式に適した粘度に調整するために有機溶剤を含有させてもよい。
【0114】
＜樹脂フィルム（ａ）＞
樹脂フィルム（ａ）は、特に限定されず、公知の樹脂フィルムを使用することができる。
樹脂フィルム（ａ）としては、偏光フィルム、位相差フィルム、ウィンドフィルム等の光学機能を有するフィルムであってもよい。光学機能を有するフィルムとは、光線を透過、反射、吸収することができるフィルムを意味する。
樹脂フィルム（ａ）は、特に限定されず、公知の樹脂フィルムを使用することができる。
樹脂フィルム（ａ）としては、偏光フィルム、位相差フィルム、ウィンドフィルム等の光学機能を有するフィルムであってもよい。光学機能を有するフィルムとは、光線を透過、反射、吸収することができるフィルムを意味する。
【0115】
ウィンドフィルムとは、フレキシブルディスプレイ等のフレキシブル表示装置における前面板を意味し、一般的には表示装置の最表面に配置される。ウィンドウフィルムは、例えばポリイミド樹脂からなる樹脂フィルムが挙げられる。ウィンドウフィルムは、例えばポリイミド及びシリカを含む樹脂フィルム等の有機材料と無機材料とのハイブリッドフィルムであってもよい。また、ウィンドウフィルムはその表面に、表面硬度や防汚性、耐指紋性を機能付与するためのハードコート層が配置されていてもよい。ウィンドウフィルムとしては、特開２０１７―９４４８８号記載のフィルム等が挙げられる。
【0116】
〔位相差フィルム〕
位相差フィルムとは、光学異方性を示す光学フィルムであって、例えば、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリビニリデンフルオライド／ポリメチルメタクリレート、アセチルセルロース、エチレン－酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリ塩化ビニルなどからなる高分子フィルムを１．０１～６倍程度に延伸することにより得られる延伸フィルムなどが挙げられる。中でも、ポリカーボネートフィルムやシクロオレフィン系樹脂フィルムを一軸延伸または二軸延伸した高分子フィルムであることが好ましい。また、位相差フィルムは重合性液晶化合物を硬化させてなる位相差フィルムであってもよい。なお、本明細書において、位相差フィルムは、ゼロレタデーションフィルムを含み、一軸性位相差フィルム、低光弾性率位相差フィルム、広視野角位相差フィルムなどと称されるフィルムも含む。
位相差フィルムとは、光学異方性を示す光学フィルムであって、例えば、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリビニリデンフルオライド／ポリメチルメタクリレート、アセチルセルロース、エチレン－酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリ塩化ビニルなどからなる高分子フィルムを１．０１～６倍程度に延伸することにより得られる延伸フィルムなどが挙げられる。中でも、ポリカーボネートフィルムやシクロオレフィン系樹脂フィルムを一軸延伸または二軸延伸した高分子フィルムであることが好ましい。また、位相差フィルムは重合性液晶化合物を硬化させてなる位相差フィルムであってもよい。なお、本明細書において、位相差フィルムは、ゼロレタデーションフィルムを含み、一軸性位相差フィルム、低光弾性率位相差フィルム、広視野角位相差フィルムなどと称されるフィルムも含む。
【0117】
液晶性化合物の塗布・配向によって光学異方性を発現させたフィルムや、無機層状化合物の塗布によって光学異方性を発現させたフィルムとしては、温度補償型位相差フィルムと称されるフィルム、ＪＸ液晶フィルム株式会社ら販売されている「ＮＨフィルム（商品名；棒状液晶が傾斜配向したフィルム）」、富士フイルム株式会社から販売されている「ＷＶフィルム（商品名；円盤状液晶が傾斜配向したフィルム）」、住友化学株式会社から販売されている「ＶＡＣフィルム（商品名；完全二軸配向型のフィルム）」、「new VACフィルム（商品名；二軸配向型のフィルム）」などが挙げられる。
【0118】
ゼロレタデーションフィルムとは、正面レタデーションＲeと厚み方向のレタデーションＲthとが、ともに－１５～１５ｎｍであり、光学的に等方なフィルムをいう。ゼロレタデーションフィルムとしては、セルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂（鎖状ポリオレフィン系樹脂、ポリシクロオレフィン系樹脂など）またはポリエチレンテレフタレート系樹脂からなる樹脂フィルムが挙げられ、レタデーション値の制御が容易で、入手も容易であるという点で、セルロース系樹脂またはポリオレフィン系樹脂が好ましい。ゼロレタデーションフィルムは、保護フィルムとしても用いることができる。ゼロレタデーションフィルムとしては、富士フイルム（株）から販売されている“Ｚ－ＴＡＣ”（商品名）、コニカミノルタオプト（株）から販売されている“ゼロタック（登録商標）”、日本ゼオン（株）から販売されている“ＺＦ－１４”（商品名）などが挙げられる。
【0119】
本発明の光学フィルムにおいて、位相差フィルムは、重合性液晶化合物を硬化させてなる位相差フィルムが好ましい。
【0120】
液晶性化合物の塗布・配向によって光学異方性を発現させたフィルムとしては、
第一の形態：棒状液晶化合物が支持基材に対して水平方向に配向した位相差フィルム、
第二の形態：棒状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した位相差フィルム、
第三の形態：棒状液晶化合物が面内で螺旋状に配向の方向が変化している位相差フィルム、第四の形態：円盤状液晶化合物が傾斜配向している位相差フィルム、
第五の形態：円盤状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した二軸性の位相差フィルムがあげられる。
第一の形態：棒状液晶化合物が支持基材に対して水平方向に配向した位相差フィルム、
第二の形態：棒状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した位相差フィルム、
第三の形態：棒状液晶化合物が面内で螺旋状に配向の方向が変化している位相差フィルム、第四の形態：円盤状液晶化合物が傾斜配向している位相差フィルム、
第五の形態：円盤状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した二軸性の位相差フィルムがあげられる。
【0121】
たとえば、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイに用いられる光学フィルムとしては、第一の形態、第二の形態、第五の形態が好適に用いられる。またはこれらを積層させて用いてもよい。
【0122】
位相差フィルムが、重合性液晶化合物の配向状態における重合体からなる層（以下、「光学異方性層」と称する場合がある）である場合、位相差フィルムは逆波長分散性を有することが好ましい。逆波長分散性とは、短波長での液晶配向面内位相差値の方が長波長での液晶配向面内位相差値よりも小さくなる光学特性であり、好ましくは、位相差フィルムが下記式（７）および式（８）を満たすことである。なお、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１ （７）
１≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０） （８）
本発明の光学フィルムにおいて、位相差フィルムが第一の形態でかつ逆波長分散性を有する場合、表示装置での黒表示時の着色が低減するため好ましく、前記式（７）において０．８２≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦０．９３であればより好ましい。さらに１２０≦Ｒｅ（５５０）≦１５０が好ましい。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１ （７）
１≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０） （８）
本発明の光学フィルムにおいて、位相差フィルムが第一の形態でかつ逆波長分散性を有する場合、表示装置での黒表示時の着色が低減するため好ましく、前記式（７）において０．８２≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦０．９３であればより好ましい。さらに１２０≦Ｒｅ（５５０）≦１５０が好ましい。
【0123】
位相差フィルムが、光学異方性層を有するフィルムである場合の重合性液晶化合物としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、並びに、特開２０１０－３１２２３号公報、特開２０１０－２７０１０８号公報、特開２０１１－６３６０号公報、特開２０１１－２０７７６５号公報、特開２０１１－１６２６７８号、特開２０１６－８１０３５号公報、国際公開第２０１７／０４３４３８号公報及び特表２０１１－２０７７６５号公報に記載の重合性液晶化合物が挙げられる。
【0124】
重合性液晶化合物の配向状態における重合体から位相差フィルムを製造する方法は、例えば、特開２０１０－３１２２３号公報に記載の方法が挙げられる。
【0125】
第２の形態の場合、正面位相差値Ｒｅ（５５０）は０～１０ｎｍの範囲に、好ましくは０～５ｎｍの範囲に調整すればよく、厚み方向の位相差値Ｒthは、－１０～－３００ｎｍの範囲に、好ましくは－２０～－２００ｎｍの範囲に調整すればよい。厚み方向の屈折率異方性を意味する厚み方向の位相差値Ｒthは、面内の進相軸を傾斜軸として５０度傾斜させて測定される位相差値Ｒ50と面内の位相差値Ｒ0 とから算出できる。すなわち、厚み方向の位相差値Ｒthは、面内の位相差値Ｒ0、進相軸を傾斜軸として５０度傾斜させて測定した位相差値Ｒ５0、位相差フィルムの厚みｄ、及び位相差フィルムの平均屈折率ｎ0から、以下の式 (１０)～（１２）によりｎx、ｎy及びｎz を求め、これらを式（９）に代入して、算出することができる。
【0126】
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ （９）
Ｒ０ ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ （１０）
Ｒ5０＝（ｎｘ－ｎｙ'）×ｄ／ｃｏｓ(φ) （１１）
(ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ)／３＝ｎ０ （１２）
ここで、
φ＝sin－１〔sin（４０°）／ｎ０〕
ｎｙ'＝ｎｙ×ｎｚ／〔ｎｙ ２×sin２（φ）＋ｎｚ ２×cos２（φ）〕１／２
Ｒ０ ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ （１０）
Ｒ5０＝（ｎｘ－ｎｙ'）×ｄ／ｃｏｓ(φ) （１１）
(ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ)／３＝ｎ０ （１２）
ここで、
φ＝sin－１〔sin（４０°）／ｎ０〕
ｎｙ'＝ｎｙ×ｎｚ／〔ｎｙ ２×sin２（φ）＋ｎｚ ２×cos２（φ）〕１／２
【0127】
位相差フィルムは、二以上の層を有する多層フィルムであってもよい。例えば、位相差フィルムの片面又は両面に保護フィルムが積層されたものや、二以上の位相差フィルムが粘着剤又は接着剤を介して積層されたものが挙げられる。
【0128】
光学フィルム４０が二以上の位相差フィルムが積層された多層フィルムである場合、本発明の光学フィルムを含む光学積層体の構成としては、図４に示したように、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長位相差層５０と透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長位相差層７０とを、接着剤又は粘着剤６０を介して積層した光学フィルム４０を含む構成が挙げられる。また、図５に示したように、１／４波長位相差層５０ａとポジティブＣ層８０とを、接着剤層又は粘着剤層を介して積層した光学フィルム４０を含む構成も挙げられる。
【0129】
図４の１／４波長分の位相差を付与する１／４波長位相差層５０、および透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長位相差層７０は上記第一の形態の光学フィルムであっても第五の形態の光学フィルムであってもよい。図４の構成の場合、少なくとも片方が第五の形態であることがより好ましい。
【0130】
図５の構成の場合、１／４波長位相差層５０ａは上記第一の形態の光学フィルムであることが好ましく、さらに式（７）、式（８）を満たすことがより好ましい。
【0131】
〔偏光フィルム〕
偏光フィルムは、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過する機能を有するフィルムである。例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素としてのヨウ素を吸着・配向させたヨウ素系偏光フィルム、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素としての二色性染料を吸着・配向させた染料系偏光フィルム、及びリオトロビック液晶状態の二色性染料をコーティングし、配向・固定化した塗布型偏光フィルム等が挙げられる。これらの偏光フィルムは、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過し、もう一方向の直線偏光を吸収するため吸収型偏光フィルムと呼ばれている。偏光フィルムは、吸収型偏光フィルムに限定されず、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過し、もう一方向の直線偏光を反射する反射型偏光フィルム、又はもう一方向の直線偏光を散乱する散乱型偏光フィルムでも構わないが、視認性に優れる点から吸収型偏光フィルムが好ましい。中でも、ポリビニルアルコール系樹脂で構成されるポリビニルアルコール系偏光フィルムがより好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムにヨウ素や二色性染料等の二色性色素を吸着・配向させたポリビニルアルコール系偏光フィルムがさらに好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムにヨウ素を吸着・配向させたポリビニルアルコール系偏光フィルムが特に好ましい。
偏光フィルムは、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過する機能を有するフィルムである。例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素としてのヨウ素を吸着・配向させたヨウ素系偏光フィルム、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素としての二色性染料を吸着・配向させた染料系偏光フィルム、及びリオトロビック液晶状態の二色性染料をコーティングし、配向・固定化した塗布型偏光フィルム等が挙げられる。これらの偏光フィルムは、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過し、もう一方向の直線偏光を吸収するため吸収型偏光フィルムと呼ばれている。偏光フィルムは、吸収型偏光フィルムに限定されず、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過し、もう一方向の直線偏光を反射する反射型偏光フィルム、又はもう一方向の直線偏光を散乱する散乱型偏光フィルムでも構わないが、視認性に優れる点から吸収型偏光フィルムが好ましい。中でも、ポリビニルアルコール系樹脂で構成されるポリビニルアルコール系偏光フィルムがより好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムにヨウ素や二色性染料等の二色性色素を吸着・配向させたポリビニルアルコール系偏光フィルムがさらに好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムにヨウ素を吸着・配向させたポリビニルアルコール系偏光フィルムが特に好ましい。
【0132】
ポリビニルアルコール系偏光フィルムを構成するポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルと共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体の例は、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、及びアンモニウム基を有する（メタ）アクリルアミド類等を含む。
【0133】
ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は通常、８５～１００ｍｏｌ％程度であり、９８ｍｏｌ％以上が好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール又はポリビニルアセタール等を用いることもできる。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は通常、１０００～１００００程度であり、１５００～５０００程度が好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６に準拠して求めることができる。
【0134】
このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光フィルムの原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法が採用される。ポリビニルアルコール系原反フィルムの厚みは、例えば１５０μｍ以下であり、好ましくは１００μｍ以下（例えば５０μｍ以下）である。
【0135】
偏光フィルムは、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程；ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより二色性色素を吸着させる工程；二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理（架橋処理）する工程；及び、ホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を含む方法によって製造できる。
【0136】
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素の染色前、染色と同時、又は染色の後に行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前又はホウ酸処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行ってもよい。
【0137】
一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤や水を用いてポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は通常、３～８倍程度である。
【0138】
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色する方法としては、例えば、該フィルムを二色性色素が含有された水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素としては、ヨウ素や二色性有機染料が用いられる。なお、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理の前に水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。
【0139】
ヨウ素による染色処理としては通常、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、水１００重量部あたり０．０１～１重量部程度であることができる。ヨウ化カリウムの含有量は、水１００重量部あたり０．５～２０重量部程度であることができる。また、この水溶液の温度は、２０～４０℃程度であることができる。一方、二色性有機染料による染色処理としては通常、二色性有機染料を含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬する方法が採用される。二色性有機染料を含有する水溶液は、硫酸ナトリウム等の無機塩を染色助剤として含有していてもよい。この水溶液における二色性有機染料の含有量は、水１００重量部あたり１×１０-4～１０重量部程度であることができる。この水溶液の温度は、２０～８０℃程度であることができる。
【0140】
二色性色素による染色後のホウ酸処理としては通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸含有水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素としてヨウ素を用いる場合、このホウ酸含有水溶液は、ヨウ化カリウムを含有することが好ましい。ホウ酸含有水溶液におけるホウ酸の量は、水１００重量部あたり２～１５重量部程度であることができる。この水溶液におけるヨウ化カリウムの量は、水１００重量部あたり０．１～２０重量部程度であることができる。この水溶液の温度は、５０℃以上であることができ、例えば５０～８５℃である。
【0141】
ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬することにより行うことができる。水洗処理における水の温度は通常、５～４０℃程度である。水洗後に乾燥処理を施して、偏光フィルム３０が得られる。乾燥処理は、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。この偏光フィルムの片面又は両面に保護フィルムなどとしての熱可塑性樹脂フィルムを硬化性接着剤組成物等を用いて貼合することにより、偏光板を得ることができる。
【0142】
また、偏光フィルムの製造方法の他の例として、例えば、特開２０００－３３８３２９号公報や特開２０１２－１５９７７８号公報に記載の方法が挙げられる。
【0143】
偏光フィルムの厚みは、４０μｍ以下とすることができ、好ましくは３０μｍ以下（例えば２０μｍ以下、さらには１５μｍ以下、なおさらには１０μｍ以下）である。特開２０００－３３８３２９号公報や特開２０１２－１５９７７８号公報に記載の方法によれば、薄膜の偏光フィルム３０をより容易に製造することができ、偏光フィルム３０の厚みを、例えば２０μｍ以下、さらには１５μｍ以下、なおさらには１０μｍ以下とすることがより容易になる。偏光フィルム３０の厚みは、通常２μｍ以上である。偏光フィルムの厚みを小さくすることは、偏光板、ひいては画像表示装置の薄型化に有利である。
【0144】
偏光板の好ましい構成としては、偏光フィルムの少なくとも一方の面に接着剤層を介して保護フィルムが積層された偏光板である。前記接着剤層が本発明の光選択吸収層１であってもよい。保護フィルムが偏光フィルムの一方の面にしか積層されない場合、視認側（パネルと逆側）に積層されることがより好ましい。視認側に積層された保護フィルムは、トリアセチルセルロース系樹脂又はシクロオレフィン系樹脂からなる保護フィルムであることが好ましい。保護フィルムは未延伸フィルムであってもよいし、任意の方向に延伸され位相差を有していてもよい。視認側に積層された保護フィルムの表面にはハードコート層やアンチグレア層などの表面処理層が設けられていてもよい。該表面処理層が、本発明における光選択吸収層であってもよい。
保護フィルムが偏光フィルムの両面に積層される場合、パネル側（視認側と反対側）の保護フィルムは、トリアセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィン系樹脂又はアクリル系樹脂からなる保護フィルム又は位相差フィルムであることが好ましい。位相差フィルムは後述するゼロレタデーションフィルムであってもよい。
偏光板とパネルとの間には、さらにその他の層又はフィルムが積層されていてもよい。有機ＥＬディスプレイ用の円偏光板として用いる場合は、１／４波長位相差層と１／２波長位相差層とを有する位相差層、後述する逆波長分散性の１／４波長層が積層されていることが好ましい。位相差層は薄膜化の観点から液晶系位相差フィルムであることが好ましい。
保護フィルムが偏光フィルムの両面に積層される場合、パネル側（視認側と反対側）の保護フィルムは、トリアセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィン系樹脂又はアクリル系樹脂からなる保護フィルム又は位相差フィルムであることが好ましい。位相差フィルムは後述するゼロレタデーションフィルムであってもよい。
偏光板とパネルとの間には、さらにその他の層又はフィルムが積層されていてもよい。有機ＥＬディスプレイ用の円偏光板として用いる場合は、１／４波長位相差層と１／２波長位相差層とを有する位相差層、後述する逆波長分散性の１／４波長層が積層されていることが好ましい。位相差層は薄膜化の観点から液晶系位相差フィルムであることが好ましい。
【0145】
＜光選択吸収層の製造方法＞
活性エネルギー線硬化性組成物を、上記樹脂フィルム（ａ）上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて乾燥させた後、上記塗膜を硬化させることで、光選択吸収層を形成することができ、本発明の光学フィルムを製造することができる。活性エネルギー線硬化性組成は、その成分によって、接着機能を有する場合がある。
活性エネルギー線硬化性組成物を、上記樹脂フィルム（ａ）上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて乾燥させた後、上記塗膜を硬化させることで、光選択吸収層を形成することができ、本発明の光学フィルムを製造することができる。活性エネルギー線硬化性組成は、その成分によって、接着機能を有する場合がある。
【0146】
活性エネルギー線硬化性組成物を塗布して塗膜を形成する方法としては、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の公知の各種方法を挙げることができる。
【0147】
乾燥の方法としては特に限定されないが、一般的に乾燥温度３０～８０℃で、乾燥時間３～１２０秒で行うとよい。上記乾燥温度が３０℃未満であると、表面処理フィルムの製造に長時間を要し、また、製造コストが高くなることがある。一方、上記乾燥温度が８０℃を超えると、表面処理フィルムの製造コストが高くなる問題があり、かつ、開始剤、溶剤等が乾燥炉内等に付着し外観を悪化させる恐れがある。また、上記乾燥時間が３秒未満であると、基材フィルムと表面処理層との密着性に劣ったり、干渉縞が発生したりするこことがある。一方、上記乾燥時間が１２０秒を超えると、上記塗膜の乾燥に長時間を要し、製造コストが高くなることがある。
【0148】
活性エネルギー線照射強度は、硬化性組成物毎に決定されるが、光重合開始剤の活性化に有効な波長領域の光照射強度が０．１～１０００ｍＷ／ｃｍ2となるようにすることが好ましい。光照射強度が小さすぎると、反応時間が長くなりすぎ、一方でその光照射強度が大きすぎると、ランプから輻射される熱及び硬化性組成物の重合時の発熱により、硬化層の黄変や偏光フィルムの劣化、又は保護フィルムの肌不良を生じる可能性がある。また、硬化性組成物への光照射時間も、硬化性組成物毎に制御されるが、光照射強度と光照射時間の積として表される積算光量が１０～５０００ｍＪ／ｃｍ2となるように設定されることが好ましい。積算光量が小さすぎると、光重合開始剤由来の活性種の発生が十分でなく、得られる硬化層の硬化が不十分となる可能性があり、一方でその積算光量が大きすぎると、光照射時間が非常に長くなって生産性向上には不利になりやすい。
【0149】
（表示装置）
本発明の光学フィルムは、有機ＥＬ素子、液晶セル等の表示素子に積層させて、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の表示装置（ＦＰＤ：フラットパネルディスプレイ）に用いる事ができる。
本発明の光学フィルムは、有機ＥＬ素子、液晶セル等の表示素子に積層させて、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の表示装置（ＦＰＤ：フラットパネルディスプレイ）に用いる事ができる。
【実施例】
【0150】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す％及び部は、特に断りのない限り重量基準である。
【0151】
＜光選択吸収性化合物の合成＞
［合成例１］光選択吸収性化合物（１）の合成
ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ－四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、特許文献（特開２０１４－１９４５０８）を参考に合成した式（ａａ）で表される化合物１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業株式会社製）３．６ｇ、シアノ酢酸２－エチルヘキシル（東京化成工業株式会社製）６．９ｇ、およびアセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）６０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで撹拌した。内温２５℃にてＤＩＰＥＡ（東京化成工業株式会社製）４．５ｇを滴下漏斗から１時間かけて滴下し、滴下終了後に内温２５℃にてさらに２時間保温した。反応終了後、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製し、式（ａａ１）で表される光選択吸収性化合物を含む流出液を、減圧エバポレーターを用いて溶媒を除去し、黄色結晶を得た。該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末として式（ａａ１）で表される光選択吸収性化合物（１）を４．６ｇ得た。収率は５０％であった。
［合成例１］光選択吸収性化合物（１）の合成
ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ－四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、特許文献（特開２０１４－１９４５０８）を参考に合成した式（ａａ）で表される化合物１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業株式会社製）３．６ｇ、シアノ酢酸２－エチルヘキシル（東京化成工業株式会社製）６．９ｇ、およびアセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）６０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで撹拌した。内温２５℃にてＤＩＰＥＡ（東京化成工業株式会社製）４．５ｇを滴下漏斗から１時間かけて滴下し、滴下終了後に内温２５℃にてさらに２時間保温した。反応終了後、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製し、式（ａａ１）で表される光選択吸収性化合物を含む流出液を、減圧エバポレーターを用いて溶媒を除去し、黄色結晶を得た。該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末として式（ａａ１）で表される光選択吸収性化合物（１）を４．６ｇ得た。収率は５０％であった。
【0152】
１Ｈ－ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、光選択吸収性化合物１が生成したことが確認された。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．８７－０．９４（ｍ、６Ｈ）、１．３２－１．６７（ｍ、８Ｈ）、１．５９－１．６６（ｍ、２Ｈ）、２．０９（ｑｕｉｎ、２Ｈ）、３．００（ｍ、５Ｈ）、３．６４（ｔ、２Ｈ）、４．１０（ｄｄ、２Ｈ）、５．５２（ｄ、２Ｈ）、７．８７（ｄ、２Ｈ）
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．８７－０．９４（ｍ、６Ｈ）、１．３２－１．６７（ｍ、８Ｈ）、１．５９－１．６６（ｍ、２Ｈ）、２．０９（ｑｕｉｎ、２Ｈ）、３．００（ｍ、５Ｈ）、３．６４（ｔ、２Ｈ）、４．１０（ｄｄ、２Ｈ）、５．５２（ｄ、２Ｈ）、７．８７（ｄ、２Ｈ）
【0153】
＜グラム吸光係数ε測定＞
得られた光選択吸収性化合物（１）のグラム吸光係数を測定するために、光選択吸収性化合物（１）を２－ブタノンに溶解させた。得られた溶液（濃度；0.006g・Ｌ-1）を１ｃｍの石英セルに入れ、石英セルを分光光度計ＵＶ－２４５０（株式会社島津製作所製）にセットし、ダブルビーム法により１ｎｍステップ３００～８００ｎｍの波長範囲で吸光度を測定した。得られた吸光度の値と、溶液中の光吸収性化合物濃度、石英セルの光路長から、波長ごとのグラム吸光係数を下記式を用いて算出した。
ε（λ）＝Ａ（λ）／ＣＬ
〔式中、ε（λ）は波長λｎｍにおける化合物のグラム吸光係数Ｌ／（ｇ・ｃｍ）を表し、Ａ（λ）は波長λｎｍにおける吸光度を表し、Ｃは濃度ｇ／Ｌを表し、Ｌは石英セルの光路長ｃｍを表す。〕
光選択吸収性化合物（１）の吸収極大波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３８９ｎｍ（２－ブタノン中）であり、ε（４０５）の値は４７Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４４０）の値は０．１Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以下であり、ε（４０５）／ε（４４０）の値は８０以上であった。
得られた光選択吸収性化合物（１）のグラム吸光係数を測定するために、光選択吸収性化合物（１）を２－ブタノンに溶解させた。得られた溶液（濃度；0.006g・Ｌ-1）を１ｃｍの石英セルに入れ、石英セルを分光光度計ＵＶ－２４５０（株式会社島津製作所製）にセットし、ダブルビーム法により１ｎｍステップ３００～８００ｎｍの波長範囲で吸光度を測定した。得られた吸光度の値と、溶液中の光吸収性化合物濃度、石英セルの光路長から、波長ごとのグラム吸光係数を下記式を用いて算出した。
ε（λ）＝Ａ（λ）／ＣＬ
〔式中、ε（λ）は波長λｎｍにおける化合物のグラム吸光係数Ｌ／（ｇ・ｃｍ）を表し、Ａ（λ）は波長λｎｍにおける吸光度を表し、Ｃは濃度ｇ／Ｌを表し、Ｌは石英セルの光路長ｃｍを表す。〕
光選択吸収性化合物（１）の吸収極大波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３８９ｎｍ（２－ブタノン中）であり、ε（４０５）の値は４７Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４４０）の値は０．１Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以下であり、ε（４０５）／ε（４４０）の値は８０以上であった。
【0154】
［合成例２］光選択吸収性化合物（２）の合成
ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ－四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気において、特開２０１４－１９４５０８を参考に合成した式（ａａ）で表される化合物１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業株式会社製）３．６ｇ、シアノ酢酸２－ブチルオクチル（東京化成工業株式会社製）１０ｇ、及びアセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）６０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで撹拌した。内温２５℃にてＤＩＰＥＡ（東京化成工業株式会社製）４．５ｇを、得られた混合物に１時間かけて滴下した後、内温２５℃にてさらに２時間保温した。その後、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製し、式（ａａ２）で表される化合物を含む流出液を、減圧エバポレーターを用いて溶媒を除去し、黄色結晶を得た。該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末として式（ａａ２）で表される化合物（光選択吸収化合物（２））を４．６ｇ得た。収率は５６％であった。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、式（ａａ２）で表される化合物のε（４０５）の値は４５Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は２．１Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。
ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ－四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気において、特開２０１４－１９４５０８を参考に合成した式（ａａ）で表される化合物１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業株式会社製）３．６ｇ、シアノ酢酸２－ブチルオクチル（東京化成工業株式会社製）１０ｇ、及びアセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）６０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで撹拌した。内温２５℃にてＤＩＰＥＡ（東京化成工業株式会社製）４．５ｇを、得られた混合物に１時間かけて滴下した後、内温２５℃にてさらに２時間保温した。その後、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製し、式（ａａ２）で表される化合物を含む流出液を、減圧エバポレーターを用いて溶媒を除去し、黄色結晶を得た。該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末として式（ａａ２）で表される化合物（光選択吸収化合物（２））を４．６ｇ得た。収率は５６％であった。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、式（ａａ２）で表される化合物のε（４０５）の値は４５Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は２．１Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。
【0155】
＜活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の調製＞
（調製例１）活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１の調製
各成分を以下の割合で混合して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１を調製した。
Ｎ－ヒドロキシルエチルアクリルアミド ８０部
ペンタエリスリトールトリアクリレート １２部
多官能ウレタン化アクリレート ８部
（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物）
イルガキュア ５００（ＢＡＳＦ（株）から入手） ３部
合成例１で得た光選択吸収性化合物（１） １部
（調製例１）活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１の調製
各成分を以下の割合で混合して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１を調製した。
Ｎ－ヒドロキシルエチルアクリルアミド ８０部
ペンタエリスリトールトリアクリレート １２部
多官能ウレタン化アクリレート ８部
（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物）
イルガキュア ５００（ＢＡＳＦ（株）から入手） ３部
合成例１で得た光選択吸収性化合物（１） １部
【0156】
（調製例２）活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ２の調製
各成分を以下の割合で混合して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１を調製した。
Ｎ－ヒドロキシルエチルアクリルアミド ８０部
ペンタエリスリトールトリアクリレート １２部
多官能ウレタン化アクリレート ８部
（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物）
イルガキュア ５００（ＢＡＳＦ（株）から入手） ３部
合成例２で得た光選択吸収性化合物（２） １部
各成分を以下の割合で混合して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１を調製した。
Ｎ－ヒドロキシルエチルアクリルアミド ８０部
ペンタエリスリトールトリアクリレート １２部
多官能ウレタン化アクリレート ８部
（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物）
イルガキュア ５００（ＢＡＳＦ（株）から入手） ３部
合成例２で得た光選択吸収性化合物（２） １部
【0157】
（調製例３）活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂを調製
各成分を以下の割合で混合して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂを調製した。
Ｎ－ヒドロキシルエチルアクリルアミド ８０部
ペンタエリスリトールトリアクリレート １２部
多官能ウレタン化アクリレート ８部
（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物）
イルガキュア ５００（ＢＡＳＦ（株）から入手） ３部
各成分を以下の割合で混合して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂを調製した。
Ｎ－ヒドロキシルエチルアクリルアミド ８０部
ペンタエリスリトールトリアクリレート １２部
多官能ウレタン化アクリレート ８部
（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物）
イルガキュア ５００（ＢＡＳＦ（株）から入手） ３部
【0158】
（実施例１）光学フィルムＡ１の作製
厚み２３μｍの環状ポリオレフィン系樹脂からなる樹脂フィルム〔商品名「ＺＥＯＮＯＲ」、日本ゼオン株式会社製；以下ＣＯＰ樹脂フィルムという場合がある。〕を２枚用意した。ＣＯＰ樹脂フィルムの表面にコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１をバーコーターを用いて硬化後の膜厚が約５．０μｍとなるように塗工した。もう１枚のＣＯＰ樹脂フィルムの表面にもコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面との活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａを塗工した面を貼合し、ベルトコンベア付き紫外線照射装置〔ランプはフュージョンＵＶシステムズ社製の「Ｈバルブ」使用〕を用いて照度２５０ｍW/ｃｍ2、積算光量が２５０ｍＪ／ｃｍ2（ＵＶＢ）となるように紫外線を照射し、光学フィルムＡ１を得た。光学フィルムＡ１は、ＣＯＰ樹脂フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１の硬化層／ＣＯＰ樹脂フィルムの層構成を有する。
厚み２３μｍの環状ポリオレフィン系樹脂からなる樹脂フィルム〔商品名「ＺＥＯＮＯＲ」、日本ゼオン株式会社製；以下ＣＯＰ樹脂フィルムという場合がある。〕を２枚用意した。ＣＯＰ樹脂フィルムの表面にコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１をバーコーターを用いて硬化後の膜厚が約５．０μｍとなるように塗工した。もう１枚のＣＯＰ樹脂フィルムの表面にもコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面との活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａを塗工した面を貼合し、ベルトコンベア付き紫外線照射装置〔ランプはフュージョンＵＶシステムズ社製の「Ｈバルブ」使用〕を用いて照度２５０ｍW/ｃｍ2、積算光量が２５０ｍＪ／ｃｍ2（ＵＶＢ）となるように紫外線を照射し、光学フィルムＡ１を得た。光学フィルムＡ１は、ＣＯＰ樹脂フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１の硬化層／ＣＯＰ樹脂フィルムの層構成を有する。
【0159】
（実施例２）光学フィルムＡ２の作製
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、製造例２で得られた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ２に代えた以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＡ２を作製した。光学フィルムＡ２は、ＣＯＰ樹脂フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ２の硬化層／ＣＯＰ樹脂フィルムの層構成を有する。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、製造例２で得られた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ２に代えた以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＡ２を作製した。光学フィルムＡ２は、ＣＯＰ樹脂フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ２の硬化層／ＣＯＰ樹脂フィルムの層構成を有する。
【0160】
［製造例１］偏光フィルムの作製
平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％、厚み３０μｍのポリビニルアルコールフィルム〔（株）クラレ製の商品名「クラレビニロン ＶＦ－ＰＥ♯３０００」〕を、３７℃の純水に浸漬した後、ヨウ素とヨウ化カリウムとを含む水溶液（ヨウ素／ヨウ化カリウム／水（重量比）＝０．０４／１．５／１００）に３０℃で浸漬した。その後、ヨウ化カリウムとホウ酸とを含む水溶液（ヨウ化カリウム／ホウ酸／水（重量比）＝１２／３．６／１００）に５６．５℃で浸漬した。フィルムを１０℃の純水で洗浄した後、８５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向された厚み約１２μｍの偏光子を得た。延伸は、主に、ヨウ素染色及びホウ酸処理の工程で行い、トータルの延伸倍率は５．３倍であった。
平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％、厚み３０μｍのポリビニルアルコールフィルム〔（株）クラレ製の商品名「クラレビニロン ＶＦ－ＰＥ♯３０００」〕を、３７℃の純水に浸漬した後、ヨウ素とヨウ化カリウムとを含む水溶液（ヨウ素／ヨウ化カリウム／水（重量比）＝０．０４／１．５／１００）に３０℃で浸漬した。その後、ヨウ化カリウムとホウ酸とを含む水溶液（ヨウ化カリウム／ホウ酸／水（重量比）＝１２／３．６／１００）に５６．５℃で浸漬した。フィルムを１０℃の純水で洗浄した後、８５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向された厚み約１２μｍの偏光子を得た。延伸は、主に、ヨウ素染色及びホウ酸処理の工程で行い、トータルの延伸倍率は５．３倍であった。
【0161】
（実施例３）偏光板Ａ１の作製
厚み２３μｍの環状ポリオレフィン系樹脂からなる樹脂フィルム〔商品名「ＺＥＯＮＯＲ」、日本ゼオン株式会社製；以下ＣＯＰ樹脂フィルムという場合がある。〕の表面にコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１をバーコーターを用いて硬化後の膜厚が約５．０μｍとなるように塗工した。その塗工面に、製造例１で作製した偏光フィルムを貼合し、保護フィルム付き偏光フィルム（１）を得た。
次いで、厚み４０μｍのトリアセチルセルロース系樹脂からなる位相差フィルム〔商品名「ＫＣ４ＣＷ」、コニカミノルタ株式会社製；以下ＴＡＣフィルムという場合がある。〕の表面にコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１を硬化後の膜厚が約５．０μｍとなるようにバーコーターを用いて塗工した。その塗工面と、保護フィルム付の偏光フィルム（１）の偏光フィルム側とを貼合して積層体を得た。この積層体における保護フィルム側から、ベルトコンベア付き紫外線照射装置〔ランプはフュージョンＵＶシステムズ社製の「Ｈバルブ」使用〕を用いて照度２５０ｍW/ｃｍ2、積算光量が２５０ｍＪ／ｃｍ2（ＵＶＢ）となるように紫外線を照射し、硬化性接着剤組成物を硬化させ、偏光板を作製した。これを偏光板Ａ１とする。偏光板Ａ１は、ＣＯＰ樹脂フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１の硬化層／偏光フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１の硬化層／ＴＡＣフィルムの構成を有する。
厚み２３μｍの環状ポリオレフィン系樹脂からなる樹脂フィルム〔商品名「ＺＥＯＮＯＲ」、日本ゼオン株式会社製；以下ＣＯＰ樹脂フィルムという場合がある。〕の表面にコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１をバーコーターを用いて硬化後の膜厚が約５．０μｍとなるように塗工した。その塗工面に、製造例１で作製した偏光フィルムを貼合し、保護フィルム付き偏光フィルム（１）を得た。
次いで、厚み４０μｍのトリアセチルセルロース系樹脂からなる位相差フィルム〔商品名「ＫＣ４ＣＷ」、コニカミノルタ株式会社製；以下ＴＡＣフィルムという場合がある。〕の表面にコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１を硬化後の膜厚が約５．０μｍとなるようにバーコーターを用いて塗工した。その塗工面と、保護フィルム付の偏光フィルム（１）の偏光フィルム側とを貼合して積層体を得た。この積層体における保護フィルム側から、ベルトコンベア付き紫外線照射装置〔ランプはフュージョンＵＶシステムズ社製の「Ｈバルブ」使用〕を用いて照度２５０ｍW/ｃｍ2、積算光量が２５０ｍＪ／ｃｍ2（ＵＶＢ）となるように紫外線を照射し、硬化性接着剤組成物を硬化させ、偏光板を作製した。これを偏光板Ａ１とする。偏光板Ａ１は、ＣＯＰ樹脂フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１の硬化層／偏光フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ１の硬化層／ＴＡＣフィルムの構成を有する。
【0162】
（実施例４）偏光板Ａ２の作製
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ２に代えた以外は、実施例３と同様にして偏光板Ａ２を作製した。偏光板Ａ２はＣＯＰ樹脂フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ２の硬化層／偏光フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ２の硬化層／ＴＡＣフィルムの構成を有する。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ２に代えた以外は、実施例３と同様にして偏光板Ａ２を作製した。偏光板Ａ２はＣＯＰ樹脂フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ２の硬化層／偏光フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ２の硬化層／ＴＡＣフィルムの構成を有する。
【0163】
（比較例１）偏光板Ｂの作製
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂとしたこと以外、偏光板Ａと同様にして偏光板Ｂを作製した。偏光板Ｂは、ＣＯＰ樹脂フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの硬化層／偏光フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの硬化層／ＴＡＣフィルムの構成を有する。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂとしたこと以外、偏光板Ａと同様にして偏光板Ｂを作製した。偏光板Ｂは、ＣＯＰ樹脂フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの硬化層／偏光フィルム／活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの硬化層／ＴＡＣフィルムの構成を有する。
【0164】
（合成例３）（メタ）アクリル系樹脂の合成
冷却管、窒素導入管、温度計及び攪拌機を備えた反応容器に、溶媒として酢酸エチル８１．８部、単量体としてアクリル酸ブチル７０．４部、アクリル酸メチル２０．０部、およびアクリル酸２－フェノキシエチル８．０部、としてアクリル酸２－ヒドロキシエチル１．０部およびアクリル酸０．６部と混合して得られた溶液を仕込んだ。反応容器内の空気を窒素ガスで置換した後、内温を６０℃にした。その後、アゾビスイソブチロニトリル０．１２部を酢酸エチル１０部に溶解させた溶液を添加した。１時間同温度で保持した後、内温を５４～５６℃に保ちながら、添加速度１７．３部／Ｈｒで酢酸エチルを、重合体の濃度がほぼ３５％となるように反応容器内へ連続的に加えた。酢酸エチルの添加開始から１２時間経過するまで内温を５４～５６℃に保持した後、酢酸エチルを加えて重合体の濃度が２０％となるように調整して、（メタ）アクリル系樹脂の酢酸エチル溶液を得た。（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗは１３９万、重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎとの比Ｍｗ／Ｍｎは５．３２であった。
冷却管、窒素導入管、温度計及び攪拌機を備えた反応容器に、溶媒として酢酸エチル８１．８部、単量体としてアクリル酸ブチル７０．４部、アクリル酸メチル２０．０部、およびアクリル酸２－フェノキシエチル８．０部、としてアクリル酸２－ヒドロキシエチル１．０部およびアクリル酸０．６部と混合して得られた溶液を仕込んだ。反応容器内の空気を窒素ガスで置換した後、内温を６０℃にした。その後、アゾビスイソブチロニトリル０．１２部を酢酸エチル１０部に溶解させた溶液を添加した。１時間同温度で保持した後、内温を５４～５６℃に保ちながら、添加速度１７．３部／Ｈｒで酢酸エチルを、重合体の濃度がほぼ３５％となるように反応容器内へ連続的に加えた。酢酸エチルの添加開始から１２時間経過するまで内温を５４～５６℃に保持した後、酢酸エチルを加えて重合体の濃度が２０％となるように調整して、（メタ）アクリル系樹脂の酢酸エチル溶液を得た。（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗは１３９万、重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎとの比Ｍｗ／Ｍｎは５．３２であった。
【0165】
なお、重量平均分子量および数平均分子量の測定は、ＧＰＣ装置にカラムとして「ＴＳＫ ｇｅｌ ＸＬ（東ソー（株）製）」を４本、および「Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ－８０２（昭和電工（株）製）」を１本、計５本を直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用いて、試料濃度５ｍｇ／ｍＬ、試料導入量１００μＬ、温度４０℃、流速１ｍＬ／分の条件で行い、標準ポリスチレン換算により算出した。
【0166】
（合成例４）（メタ）アクリル系樹脂粘着剤組成物Ａの合成
合成例３で得られた（メタ）アクリル系樹脂の酢酸エチル溶液（樹脂濃度：２０％）に、該溶液の固形分１００部に対して、架橋剤（コロネートＬ、固形分７５％：東ソー製）０．４部及びシラン化合物（信越化学工業製：ＫＢＭ－４０３）０．４部を混合し、さらに固形分濃度が１４％となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物を得た。なお、上記架橋剤の配合量は、有効成分としての重量部数である。
合成例３で得られた（メタ）アクリル系樹脂の酢酸エチル溶液（樹脂濃度：２０％）に、該溶液の固形分１００部に対して、架橋剤（コロネートＬ、固形分７５％：東ソー製）０．４部及びシラン化合物（信越化学工業製：ＫＢＭ－４０３）０．４部を混合し、さらに固形分濃度が１４％となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物を得た。なお、上記架橋剤の配合量は、有効成分としての重量部数である。
【0167】
なお、合成例４で使用した架橋剤及びシラン化合物の詳細は以下のとおりである。
架橋剤：トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液（固形分濃度７５％）、東ソー株式会社から入手した商品名「コロネートL」。
シラン化合物：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社から入手した商品名「ＫＢＭ４０３」。
架橋剤：トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液（固形分濃度７５％）、東ソー株式会社から入手した商品名「コロネートL」。
シラン化合物：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社から入手した商品名「ＫＢＭ４０３」。
【0168】
＜粘着剤層Ａの作製＞
粘着剤組成物Ａを、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック（株）から入手した商品名「ＰＬＲ－３８２１９０」〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥して粘着剤層Ａを作製した。
粘着剤組成物Ａを、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック（株）から入手した商品名「ＰＬＲ－３８２１９０」〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥して粘着剤層Ａを作製した。
【0169】
（合成例５）（メタ）アクリル系樹脂粘着剤組成物Ｂ１の合成
合成例３で得られた（メタ）アクリル系樹脂の酢酸エチル溶液（樹脂濃度：２０％）に、該溶液の固形分１００部に対して、架橋剤（コロネートＬ、固形分７５％：東ソー製）０．４部、シラン化合物（信越化学工業製：ＫＢＭ－４０３）０．４部及び合成例１で得られた光選択吸収性化合物（１）２部を混合し、さらに固形分濃度が１４％となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物Ｂ１を得た。なお、上記架橋剤の配合量は、有効成分としての重量部数である。
合成例３で得られた（メタ）アクリル系樹脂の酢酸エチル溶液（樹脂濃度：２０％）に、該溶液の固形分１００部に対して、架橋剤（コロネートＬ、固形分７５％：東ソー製）０．４部、シラン化合物（信越化学工業製：ＫＢＭ－４０３）０．４部及び合成例１で得られた光選択吸収性化合物（１）２部を混合し、さらに固形分濃度が１４％となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物Ｂ１を得た。なお、上記架橋剤の配合量は、有効成分としての重量部数である。
【0170】
（合成例６）（メタ）アクリル系樹脂粘着剤組成物Ｂ２の合成
光選択吸収性化合物（１）２部に代えて、光選択吸収性化合物（２）１部を用いた以外は、合成例５と同様にして粘着剤組成物Ｂ２を得た。
光選択吸収性化合物（１）２部に代えて、光選択吸収性化合物（２）１部を用いた以外は、合成例５と同様にして粘着剤組成物Ｂ２を得た。
【0171】
＜粘着剤層Ｂ１の作製＞
粘着剤組成物Ｂ１を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック（株）から入手した商品名「ＰＬＲ－３８２１９０」〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥して粘着剤層Ｂ１を作製した。
粘着剤組成物Ｂ１を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック（株）から入手した商品名「ＰＬＲ－３８２１９０」〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥して粘着剤層Ｂ１を作製した。
【0172】
粘着剤組成物Ｂ１を、粘着剤組成物Ｂ２に代えた以外は同様にして粘着剤層Ｂ２を作製した。
【0173】
＜粘着剤層付偏光板の作製＞
（実施例５）粘着剤層付き偏光板Ａ１の作製
偏光板Ａ１のトリアセチルセルロース系樹脂フィルムの表面に、コロナ処理を施し、上記で製造した粘着剤層Ａをラミネーターにより貼り合わせた後、温度２３℃、相対湿度６５％の条件で７日間養生し、粘着剤層付き偏光板Ａ１を得た。
（実施例５）粘着剤層付き偏光板Ａ１の作製
偏光板Ａ１のトリアセチルセルロース系樹脂フィルムの表面に、コロナ処理を施し、上記で製造した粘着剤層Ａをラミネーターにより貼り合わせた後、温度２３℃、相対湿度６５％の条件で７日間養生し、粘着剤層付き偏光板Ａ１を得た。
【0174】
（実施例６）粘着剤層付き偏光板Ａ２の作製
偏光板Ａ１を偏光板Ａ２に代えた以外は、実施例５と同様にして粘着剤層付偏光板Ａ２を得た。
偏光板Ａ１を偏光板Ａ２に代えた以外は、実施例５と同様にして粘着剤層付偏光板Ａ２を得た。
【0175】
（比較例２）粘着剤層付き偏光板Ｂ１の作製
偏光板Ｂのトリアセチルセルロース系樹脂フィルムの表面に、コロナ処理を施し、上記で製造した粘着剤層Ｂ１をラミネーターにより貼り合わせた後、温度２３℃、相対湿度６５％の条件で７日間養生し、粘着剤層付き偏光板Ｂ１を得た。
偏光板Ｂのトリアセチルセルロース系樹脂フィルムの表面に、コロナ処理を施し、上記で製造した粘着剤層Ｂ１をラミネーターにより貼り合わせた後、温度２３℃、相対湿度６５％の条件で７日間養生し、粘着剤層付き偏光板Ｂ１を得た。
【0176】
（比較例３）粘着剤層付き偏光板Ｂ２の作製
粘着剤層Ｂ１を粘着剤層Ｂ２に代えた以外、比較例２と同様にして粘着剤層付き偏光板Ｂ２を得た。
粘着剤層Ｂ１を粘着剤層Ｂ２に代えた以外、比較例２と同様にして粘着剤層付き偏光板Ｂ２を得た。
【0177】
＜光学フィルムの吸光度測定＞
光学フィルムＡ１を３０ｍｍ×３０ｍｍの大きさに裁断し、これをサンプルとした。作製したサンプルの波長３００～８００ｎｍ範囲の吸光度を、分光光度計（ＵＶ－２４５０：株式会社島津製作所製）を用いて測定した。結果を表１に示す。
測定後のサンプルを、温度９５℃のオーブンに４８時間保管し、耐熱評価試験を実施した。保管後のサンプルの吸光度を測定し、光学フィルムＡ１の吸光度保持率を下記式に基づき吸光度保持率を求めた。結果を表１に示す。吸光度保持率が高いほど、光選択吸収機能の劣化がなく良好な耐熱性を示す。なお、ＣＯＰ樹脂フィルム単体の吸光度はほぼ０であった。
吸光度保持率＝（耐久試験後のＡ（４０５）/耐久試験前のＡ（４０５））×１００
光学フィルムＡ１を３０ｍｍ×３０ｍｍの大きさに裁断し、これをサンプルとした。作製したサンプルの波長３００～８００ｎｍ範囲の吸光度を、分光光度計（ＵＶ－２４５０：株式会社島津製作所製）を用いて測定した。結果を表１に示す。
測定後のサンプルを、温度９５℃のオーブンに４８時間保管し、耐熱評価試験を実施した。保管後のサンプルの吸光度を測定し、光学フィルムＡ１の吸光度保持率を下記式に基づき吸光度保持率を求めた。結果を表１に示す。吸光度保持率が高いほど、光選択吸収機能の劣化がなく良好な耐熱性を示す。なお、ＣＯＰ樹脂フィルム単体の吸光度はほぼ０であった。
吸光度保持率＝（耐久試験後のＡ（４０５）/耐久試験前のＡ（４０５））×１００
【0178】
光学フィルムＡ１を光学フィルムＡ２に代えた以外、上記と同様にして吸光度を測定した。結果を表１に示す。
【0179】
【表1】
【0180】
＜粘着剤付き偏光板の吸光度測定＞
粘着剤層付き偏光板Ａ１を３０mm×３０mmの大きさに裁断し、粘着剤層と無アルカリガラス〔コーニング社製の商品名“ＥＡＧＬＥ ＸＧ”〕とを貼合し、これをサンプルとした。作成したサンプルの波長３００～８００ｎｍ範囲の吸光度を、分光光度計（ＵＶ－２４５０：株式会社島津製作所製）を用いて測定した。Ａ（４０５）は０．６、Ａ（４４０）は０．０５、Ａ（４０５）／Ａ（４４０）は１２．７であった。
測定後のサンプルを、温度９５℃のオーブンに４８時間保管し、耐熱評価試験を実施した。保管後のサンプルの吸光度を測定し、粘着剤層付き偏光板Ａ１の吸光度保持率を上記と同様にして求めた。結果は、９４％であった。
なお、ＴＡＣフィルム単体、ＣＯＰ樹脂フィルム単体及び無アルカリガラスのそれぞれの波長４０５ｎｍ、波長４４０ｎｍにおける吸光度はほぼ０であった。
粘着剤層付き偏光板Ａ１を３０mm×３０mmの大きさに裁断し、粘着剤層と無アルカリガラス〔コーニング社製の商品名“ＥＡＧＬＥ ＸＧ”〕とを貼合し、これをサンプルとした。作成したサンプルの波長３００～８００ｎｍ範囲の吸光度を、分光光度計（ＵＶ－２４５０：株式会社島津製作所製）を用いて測定した。Ａ（４０５）は０．６、Ａ（４４０）は０．０５、Ａ（４０５）／Ａ（４４０）は１２．７であった。
測定後のサンプルを、温度９５℃のオーブンに４８時間保管し、耐熱評価試験を実施した。保管後のサンプルの吸光度を測定し、粘着剤層付き偏光板Ａ１の吸光度保持率を上記と同様にして求めた。結果は、９４％であった。
なお、ＴＡＣフィルム単体、ＣＯＰ樹脂フィルム単体及び無アルカリガラスのそれぞれの波長４０５ｎｍ、波長４４０ｎｍにおける吸光度はほぼ０であった。
【0181】
粘着剤層付き偏光板Ａ１を粘着剤層付き偏光板Ａ２に代えた以外、上記と同様の方法にて、それぞれ吸光度を測定した。結果は、Ａ（４０５）は０．５、Ａ（４４０）は０．０５、Ａ（４０５）／Ａ（４４０）は９．５、吸光度保持率は９８％であった。
【0182】
＜光選択吸収化合物の移行性評価＞
以下の方法により、フィルムへの光選択吸収化合物の移行性を評価した。
装置名：フーリエ変換赤外分光光度計Ｃａｒｙ ６６０ ＦＴＩＲ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ製）
手法：検出器としてＭＣＴ（テルル化カドミウム水銀）を用いたＡＴＲ法（結晶：ダイヤモンド）
以下の方法により、フィルムへの光選択吸収化合物の移行性を評価した。
装置名：フーリエ変換赤外分光光度計Ｃａｒｙ ６６０ ＦＴＩＲ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ製）
手法：検出器としてＭＣＴ（テルル化カドミウム水銀）を用いたＡＴＲ法（結晶：ダイヤモンド）
【0183】
実施例３で作製した偏光板Ａ１からトリアセチルセルロースを剥離し、剥離後のトリアセチルセルロース面をＡＴＲ法でＦＴＩＲ測定を行った。光選択吸収性化合物由来（１）の１５５０～１５６０ｃｍ－１のピークを確認した。
次いで、偏光板Ａ１を温度９５℃のオーブンに４８時間保管した後、同様の方法を用いてＦＴＩＲ測定を行った結果、トリアセチルセルロース面に光選択吸収性化合物（１）由来の１５５０～１５６０ｃｍ－１のピークの増大は確認できなかった。
加熱後にトリアセチルセルロース面に表層に光選択性吸収化合物（１）由来のピークの増大が確認できないことから、光選択吸収性化合物（１）の移行がないと判断した。結果を表２に示す。
次いで、偏光板Ａ１を温度９５℃のオーブンに４８時間保管した後、同様の方法を用いてＦＴＩＲ測定を行った結果、トリアセチルセルロース面に光選択吸収性化合物（１）由来の１５５０～１５６０ｃｍ－１のピークの増大は確認できなかった。
加熱後にトリアセチルセルロース面に表層に光選択性吸収化合物（１）由来のピークの増大が確認できないことから、光選択吸収性化合物（１）の移行がないと判断した。結果を表２に示す。
【0184】
比較例２で作製した偏光板Ｂ１から粘着剤層を物理的に除去し、除去後のトリアセチルセルロース面を上記方法にて確認したところ、光選択吸収性化合物（１）由来の１５５０～１５６０ｃｍ－１のピークを確認した。
次いで、偏光板Ｂ１を温度９５℃のオーブンに４８時間保管した後、同様の方法を用いてＦＴＩＲ測定を行った結果、トリアセチルセルロース面に光選択吸収性化合物（１）由来の１５５０～１５６０ｃｍ－１のピークの増大が確認できた。
加熱後にトリアセチルセルロース表層に光選択性吸収化合物（１）由来のピークの増大が確認できたことから、光選択吸収性化合物（１）の移行があったと判断した。結果を表２に示す。
次いで、偏光板Ｂ１を温度９５℃のオーブンに４８時間保管した後、同様の方法を用いてＦＴＩＲ測定を行った結果、トリアセチルセルロース面に光選択吸収性化合物（１）由来の１５５０～１５６０ｃｍ－１のピークの増大が確認できた。
加熱後にトリアセチルセルロース表層に光選択性吸収化合物（１）由来のピークの増大が確認できたことから、光選択吸収性化合物（１）の移行があったと判断した。結果を表２に示す。
【0185】
上記と同様にして、実施例３で作製した偏光板Ａ１、比較例３で作製した偏光板Ｂ２における光選択吸収化合物の移行性評価を行った。結果を表２に示す。
【0186】
【表2】
【0187】
本発明の光学フィルムは、波長４００ｎｍ付近（波長４０５ｎｍ）の光吸収能が良好である。そのため、本発明の光学フィルムを位相差フィルムや有機ＥＬ素子に積層すると、本発明の光学フィルムが波長４０５ｎｍ付近の短波長の可視光の光を吸収し、位相差フィルムや有機ＥＬ素子に対する短波長の可視光を遮ることができ、短波長の可視光から位相差フィルムや有機ＥＬ素子の劣化を抑制することができる。
本発明の光学フィルムは耐候性試験後であっても波長４０５ｎｍ付近の光吸収機能が良好（吸光度保持率が良好）であり、良好な耐候性（耐久性）を有する。そのため、本発明の光学フィルムは、短波長の可視光による位相差フィルム又は有機ＥＬ素子の劣化を抑制する機能を維持することができる。
本発明の光学フィルムは、波長４００ｎｍ付近（４０５ｎｍ）の光を選択的に吸収する機能が高いだけでなく、耐長４００ｎｍ付近（４０５ｎｍ）の光を選択的に吸収する化合物がその他の層へ移行せず、位相差フィルム等の劣化を抑制することができる。
本発明の光学フィルムは耐候性試験後であっても波長４０５ｎｍ付近の光吸収機能が良好（吸光度保持率が良好）であり、良好な耐候性（耐久性）を有する。そのため、本発明の光学フィルムは、短波長の可視光による位相差フィルム又は有機ＥＬ素子の劣化を抑制する機能を維持することができる。
本発明の光学フィルムは、波長４００ｎｍ付近（４０５ｎｍ）の光を選択的に吸収する機能が高いだけでなく、耐長４００ｎｍ付近（４０５ｎｍ）の光を選択的に吸収する化合物がその他の層へ移行せず、位相差フィルム等の劣化を抑制することができる。
【産業上の利用可能性】
【0188】
本発明の光学フィルムは、良好な表示特性を有し、かつ短波長の可視光による光学フィルムの劣化を抑制することが可能である。
【符号の説明】
【0189】
１０ 光学フィルム
１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ、１０Ｅ 光学積層体
１ 光選択吸収層
２ 樹脂フィルム（ａ）
３ 偏光フィルム
４、６、６０ 接着剤層
５ 保護フィルム
３０ 粘着剤層
４０ 光学フィルム
５０、５０ａ １／４波長位相差層
７０ １／２波長位相差層
８０ ポジティブＣ層
１００ 偏光板
１１０ 発光素子
１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ、１０Ｅ 光学積層体
１ 光選択吸収層
２ 樹脂フィルム（ａ）
３ 偏光フィルム
４、６、６０ 接着剤層
５ 保護フィルム
３０ 粘着剤層
４０ 光学フィルム
５０、５０ａ １／４波長位相差層
７０ １／２波長位相差層
８０ ポジティブＣ層
１００ 偏光板
１１０ 発光素子
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】