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特許 7324812出願番号 特願 2021-156450
半導体装置の製造方法、基板処理装置及びプログラム
出願人 株式会社ＫＯＫＵＳＡＩ ＥＬＥＣＴＲＩＣ（識別番号 318009126）
2026年 特許公開件数ランキング 422位 61件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 452位 47件（※）
公報発行日 2023年8月10
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7324812 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
半導体装置の製造方法、基板処理装置及びプログラムに関するものである。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本開示の一態様によれば、
マイクロ波の出力値を補正する補正係数の設定を行う工程と、
設定した前記補正係数を保持する複数の補正テーブルを記憶する工程と、
前記マイクロ波の出力開始から周期的に、複数の前記補正テーブルのうち、少なくとも一つの前記補正テーブルから、前記補正係数を取得する工程と、
取得した前記補正係数から、前記マイクロ波の出力設定値の補正値を算出する工程と、
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発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本開示の一態様によれば、機差や条件に関わらず、安定して成膜できる技術を提供することができる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
本開示の一基板処理装置が備える処理室の縦断面図である。
【図2】
本開示の一基板処理装置が備える制御部のハードウェア構成を示すブロック図である。
【図3】
本開示の一基板処理装置で用いる補正値取得処理のフロー図である。
【図4】
装置間機差補正テーブル(第一補正テーブル)の設定画面を示す図である。
【図5】
プロセスモジュール間機差補正テーブル(第二補正テーブル)の設定画面を示す図である。
【図6】
プロセス間補正テーブル(第三補正テーブル)の設定画面を示す図である。
【図7】
マイクロ波出力と時間経過に伴う温度低下を示すグラフである。
【図8】
補正値算出例を示す参考図である。
【図9】
本開示の一基板処理装置のマイクロ波出力値の制御方法を示すフロー図である。
代表図 図1本件の代表的な図
２０ マイクロ波発生部
８０ 制御部
１００ 基板処理装置
１０２ 演算装置
１０４ 記憶装置
２０４ 入出力装置
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