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特許7326472複数のアライナを含む装置フロントエンドモジュール、アセンブリ、及び方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-08-04
(45)【発行日】2023-08-15
(54)【発明の名称】複数のアライナを含む装置フロントエンドモジュール、アセンブリ、及び方法
(51)【国際特許分類】
H01L 21/677 20060101AFI20230807BHJP
H01L 21/68 20060101ALI20230807BHJP
B65G 1/00 20060101ALI20230807BHJP
【ＦＩ】
H01L21/68 A
H01L21/68 M
B65G1/00 521D
【請求項の数】
14
(21)【出願番号】P 2021562090
(86)(22)【出願日】2020-04-22
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2022-07-06
(86)【国際出願番号】 US2020029252
(87)【国際公開番号】W WO2020219507
(87)【国際公開日】2020-10-29
【審査請求日】2021-12-15
(31)【優先権主張番号】62/837,271
(32)【優先日】2019-04-23
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(31)【優先権主張番号】16/849,969
(32)【優先日】2020-04-15
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(73)【特許権者】
【識別番号】390040660
【氏名又は名称】アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
【氏名又は名称原語表記】ＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ
【住所又は居所原語表記】３０５０ Ｂｏｗｅｒｓ Ａｖｅｎｕｅ Ｓａｎｔａ Ｃｌａｒａ ＣＡ ９５０５４ Ｕ．Ｓ．Ａ．
(74)【代理人】
【識別番号】110002077
【氏名又は名称】園田・小林弁理士法人
(72)【発明者】
【氏名】ベルガンツ， ニコラス マイケル
【審査官】鈴木 孝章
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１６－０８１９６８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１２－１２９２４８（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１８／０３７４７２５（ＵＳ，Ａ１）
【文献】韓国登録特許第１０－１８４５７９７（ＫＲ，Ｂ１）
【文献】特開２０１４－２０４１２１（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０１Ｌ ２１／６７７
Ｈ０１Ｌ ２１／６８
Ｂ６５Ｇ １／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
装置フロントエンドモジュールチャンバを形成する装置フロントエンドモジュール本体であって、複数の壁を含む装置フロントエンドモジュール本体、前記複数の壁のうち１以上の第１の壁に結合されたロードロック装置、
前記装置フロントエンドモジュールチャンバ内に収容された複数のアラインメントペデスタルであって、前記複数のアラインメントペデスタルは、第１の支持面を有する上側アラインメントペデスタルと、第２の支持面を有する下側アラインメントペデスタルとを備え、前記第１の支持面は、前記第２の支持面に対して、垂直方向のオフセット、少なくとも部分的な重なりを有する重なり領域及び水平方向の間隔を有する、複数のアラインメントペデスタル、並びに
前記装置フロントエンドモジュールチャンバ内に少なくとも部分的に収容されたロード／アンロードロボットであって、前記ロード／アンロードロボットは、アームと、前記アームに取り付けられるとともに、垂直方向に配置された複数のブレードとを備え、
複数の基板を、垂直方向に整列された状態で同時に取り出し、
前記複数の基板をそれぞれ、前記複数のアラインメントペデスタルのいずれかに、垂直方向に整列した位置からずれた状態で同時に移送し、
整列された基板を、前記複数のアラインメントペデスタルのそれぞれから、前記ロードロック装置へと、同時に移送する
ように構成されている、ロード／アンロードロボット
を備える、装置フロントエンドモジュール。
【請求項2】
前記複数の壁の第２の壁に結合された側部貯蔵ポッド装置をさらに備え、前記側部貯蔵ポッド装置へのポッド開口部が、前記複数のアラインメントペデスタルよりも高い位置に配置されている、請求項１に記載の装置フロントエンドモジュール。
【請求項3】
前記複数のブレードは、上側ブレード及び下側ブレードを含む、請求項１に記載の装置フロントエンドモジュール。
【請求項4】
前記複数の壁のうち１以上の第２の壁に結合される複数のロードポートをさらに備え、前記複数のロードポートはそれぞれ、複数の支持部材を備える基板キャリアとドッキングするように構成され、前記複数の支持部材のうち少なくとも２つは、前記垂直方向のオフセットの距離に実質的に等しい距離だけ、互いから垂直方向に間隔を空けられる、請求項１に記載の装置フロントエンドモジュール。
【請求項5】
側部貯蔵ポッド装置が、前記垂直方向のオフセットの距離に実質的に等しい間隔だけ、互いから垂直方向に間隔を空けられるポッド支持部材を含む、請求項２に記載の装置フロントエンドモジュール。
【請求項6】
前記複数のアラインメントペデスタルのうちの少なくとも２つが互いに対して垂直方向にオフセットされる距離は７mmから４０mmの範囲である、請求項１に記載の装置フロントエンドモジュール。
【請求項7】
前記重なり領域の距離が１２０mmから３００mmの範囲である、請求項１に記載の装置フロントエンドモジュール。
【請求項8】
前記ロード／アンロードロボットは、前記複数のロードポートにアクセスしながら、垂直方向に配置された前記複数のブレードを互いに対して垂直方向に整列させるように構成される、請求項４に記載の装置フロントエンドモジュール。
【請求項9】
前記ロード／アンロードロボットは、前記複数のアラインメントペデスタルにアクセスしながら、前記複数のブレードの互いに対して垂直方向に整列した位置からのずれを提供するように構成され、前記複数のブレードの間の前記垂直方向に整列した位置からのずれは、前記水平方向の間隔に比例する、請求項１に記載の装置フロントエンドモジュール。
【請求項10】
装置フロントエンドモジュールチャンバを形成する装置フロントエンドモジュール本体、前記装置フロントエンドモジュール本体の１以上の第１の壁に結合された１以上のロードロックを備えるロードロック装置であって、前記１以上のロードロックが、移送チャンバ又はプロセスチャンバの中へ及び外へと基板をやりとりするように構成された、ロードロック装置、
前記装置フロントエンドモジュール本体の１以上の第２の壁に設けられた複数のロードポートであって、前記複数のロードポートの各々が複数の基板キャリアのいずれかとドッキングするように構成された、複数のロードポート、
前記装置フロントエンドモジュールチャンバ内に収容される、第１の支持面を有する上側アラインメントペデスタル及び第２の支持面を有する下側アラインメントペデスタルであって、前記第１の支持面が、前記第２の支持面に対して、垂直方向のオフセット、重なり領域及び水平方向の間隔を備える、第１の支持面を有する上側アラインメントペデスタル及び第２の支持面を有する下側アラインメントペデスタル、並びに
前記装置フロントエンドモジュールチャンバ内に少なくとも部分的に収容されたロード／アンロードロボットであって、前記ロード／アンロードロボットは、アームと、前記アームに取り付けられた前腕部と、前記前腕部にそれぞれ取り付けられた上側ブレード及び下側ブレードと、を備え、前記上側ブレードは、前記垂直方向のオフセットの距離だけ、前記下側ブレードと垂直方向に間隔が空けられ、前記上側ブレード及び前記下側ブレードは、
第１の基板及び第２の基板を含む複数の基板を、前記複数の基板キャリアから、垂直方向に整列された状態で同時に取り出し、
前記第１の基板及び前記第２の基板をそれぞれ、前記上側アラインメントペデスタル及び前記下側アラインメントペデスタルのいずれかに、垂直方向に整列した位置からずれた状態で同時に移送することによって、前記水平方向の間隔の距離に比例する、前記上側ブレードの前記下側ブレードに対する垂直方向のずれを提供し、
整列された基板を、前記上側アラインメントペデスタル及び前記下側アラインメントペデスタルのそれぞれから、前記ロードロック装置内へと同時に移送する
ように構成されている、ロード／アンロードロボット
を備える、電子デバイス処理アセンブリ。
【請求項11】
装置フロントエンドモジュールを動作させる方法であって、
垂直積み重ね基板貯蔵装置にアクセスするために、ロード／アンロードロボットの複数の垂直に配置されたブレードを、垂直方向に整列した位置に移動させることによって、複数の基板を同時に取り出すこと、ここで、前記複数の垂直に配置されたブレードは１つのアームに取り付けられ、
複数のアラインメントペデスタルに同時にアクセスするために、前記垂直に配置された複数のブレードを垂直に整列した位置からずれた位置に移動させることによって、前記複数の基板をそれぞれ、前記複数のアラインメントペデスタルのうち対応するアラインメントペデスタルに同時に移送すること、ここで、前記複数のアラインメントペデスタルは、第１の支持面を有する上側アラインメントペデスタルと、第２の支持面を有する下側アラインメントペデスタルとを備え、前記第２の支持面は、前記第１の支持面に対して、垂直方向のオフセット、重なり領域及び水平方向の間隔を備え、並びに
前記ロード／アンロードロボットの複数のブレードを移動させることによって、整列された基板を、前記複数のアラインメントペデスタルのそれぞれから、ロードロック装置へと同時に移送すること、
を含む、方法。
【請求項12】
前記装置フロントエンドモジュール本体の１以上の第３の壁に結合された側部貯蔵ポッド装置をさらに備え、前記側部貯蔵ポッド装置は、前記垂直方向のオフセットの距離に実質的に等しい距離だけ、互いから垂直方向に間隔を空けられるポッド支持部材を備え、前記側部貯蔵ポッド装置へのポッド開口部は、前記上側アラインメントペデスタル及び前記下側アラインメントペデスタルよりも高い位置に配置されている、請求項１０に記載の電子デバイス処理アセンブリ。
【請求項13】
前記複数の基板キャリアがそれぞれ、複数の支持部材を備え、前記複数の支持部材のうち少なくとも２つが、前記垂直方向のオフセットの距離に実質的に等しい距離だけ、互いから垂直方向に間隔を空けられる、請求項１０に記載の電子デバイス処理アセンブリ。
【請求項14】
前記垂直方向のオフセットの距離が、７ｍｍ～４０ｍｍの範囲にある、請求項１０に記載の電子デバイス処理アセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
[001] 本開示の実施形態は、装置フロントエンドモジュール（EFEM）、電子デバイス処理アセンブリ、及び装置フロントエンドモジュールを動作させるための方法に関する。
【背景技術】
【0002】
[002] 半導体デバイス製造における基板の処理は、複数のプロセスツールにおいて実行され、基板は、前面開口統一ポッド（FOUP）などのような基板キャリア内のプロセスツール間を移動する。基板キャリアは、ロード／アンロードロボットを含む装置フロントエンドモジュール（EFEM）の前壁にドッキングされ得る。ロード／アンロードロボットは、基板キャリアと、EFEMの前壁の反対側の後壁に結合された１以上の目的地（例えば、ロードロック又はプロセスチャンバ）と、の間で基板を移送するために動作可能である。しかし、幾つかの事例では、既存のEFEMが、特定の基板スループット制限を有する。
【発明の概要】
【0003】
[003] 幾つかの実施形態では、装置フロントエンドモジュールが提供される。装置フロントエンドモジュールは、装置フロントエンドモジュールチャンバを形成する装置フロントエンドモジュール本体であって、複数の壁を含む装置フロントエンドモジュール本体、１以上の第１の壁に結合された１以上のロードロック又はプロセスチャンバ、１以上の第２の壁に設けられた１以上のロードポートであって、１以上のロードポートの各々が基板キャリアとドッキングするように構成された、１以上のロードポート、装置フロントエンドモジュールチャンバ内に収容された複数のアラインメントペデスタル（alignment pedestal）、及び、装置フロントエンドモジュールチャンバ内に少なくとも部分的に収容されたロード／アンロードロボットであって、複数のブレードを含むロード／アンロードロボットを含む。
【0004】
[004] 幾つかの実施形態では、電子デバイス処理アセンブリが提供される。電子デバイス処理アセンブリは、装置フロントエンドモジュールチャンバを形成する装置フロントエンドモジュール本体、装置フロントエンドモジュール本体の１以上の第１の壁に結合された１以上のロードロックであって、移送チャンバ又はプロセスチャンバの中へ及び外へと基板をやりとりするように構成された１以上のロードロック、装置フロントエンドモジュール本体の１以上の第２の壁に設けられた１以上のロードポートであって、１以上のロードポートの各々が基板キャリアとドッキングするように構成された、１以上のロードポート、装置フロントエンドモジュールチャンバ内に収容された複数のアラインメントペデスタル、並びに、装置フロントエンドモジュールチャンバ内に少なくとも部分的に収容されたロード／アンロードロボットであって、１以上のロードポートと複数のアラインメントペデスタルとの間で複数の基板を同時に移送するように構成された複数のブレードを含むロード／アンロードロボットを含む。
【0005】
[005] 幾つかの実施形態では、装置フロントエンドモジュールを動作させる方法が提供される。方法は、垂直積み重ね基板貯蔵装置にアクセスするために、ロード／アンロードロボットのブレードを、垂直方向に整列した位置に移動させること、及び、複数のアラインメントペデスタルに同時にアクセスするために、ロード／アンロードロボットのブレードを、垂直方向に整列していない位置に移動させることを含む。
【0006】
[006] 本開示のこれら及び他の実施形態による、多数の他の態様及び特徴が提供される。本開示の実施形態の他の特徴及び態様は、以下の明細書の詳細な説明、特許請求の範囲、及び添付の図面により完全に明らかになる。
【0007】
[007] 以下で説明される図面は、例示目的のためであり、必ずしも縮尺通りに描かれていない。これらの図面は、本開示の範囲を限定することを意図するものでは全くない。可能な限り、同一又は類似の部分について言及するために、同一の参照番号が図面全体を通じて使用されることになる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【図1A】[008] 本開示の１以上の実施形態による、複数のアラインメントペデスタルとデュアルエンドエフェクタを含むロード／アンロードロボットとを有する装置フロントエンドモジュール（EFEM）を含む、電子デバイス処理アセンブリの概略上面図を示す。
【図1B】[009] 本開示の１以上の実施形態による、複数のアラインメントペデスタルとデュアルエンドエフェクタを含むロード／アンロードロボットとを有するEFEMを含む、電子デバイス処理アセンブリの別の一実施形態の概略上面図を示す。
【図1C】[0010] 本開示の１以上の実施形態による、複数のアラインメントペデスタルとデュアルエンドエフェクタを含むロード／アンロードロボットとを含むEFEMの断面側面図を示す。
【図3A】[0012] 本開示の１以上の実施形態による、垂直方向に整列した位置で示されるロード／アンロードロボットの複数のブレード（例えば、デュアルブレード）の概略上面図を示す。
【図3B】[0013] 本開示の１以上の実施形態による、垂直方向に整列していない位置で示されるロード／アンロードロボットの複数のブレード（例えば、デュアルブレード）の概略上面図を示す。
【図4】[0014] 本開示の１以上の実施形態による、横並びで且つ重なり合わない構成で位置付けられた２つのアラインメントペデスタルを含むEFEMの概略上面図を示す。
【図5】[0015] 本開示の１以上の実施形態による、重なり合わない横並びの配向で位置付けられた２つのアラインメントペデスタルを含むEFEMの内部の部分概略前面断面図を示す。
【図6】[0016] 本開示の１以上の実施形態による、垂直方向に整列していないロード／アンロードロボットの複数のブレード（例えば、デュアルブレード）の概略上面図を示す。
【図7】[0017] 本開示の１以上の実施形態による、複数のアラインメントペデスタルを含むEFEMを動作させる方法を描くフローチャートを示す。
【発明を実施するための形態】
【0009】
[0018] 次に、添付の図面に示した例示的な実施形態を詳細に参照する。別途特段に明記されない限り、本明細書に記載の様々な実施形態の特徴は互いに組み合わされ得る。
【0010】
[0019] 電子デバイス製造における基板の処理では、装置フロントエンドモジュール（EFEM）が、１以上の基板キャリアから基板を受け取る。基板キャリアは、EFEMの前壁に位置付けられたロードポートにドッキングされ得る（例えば、EFEM本体の前面上に構成されたロードポートにドッキングされる）。EFEMは、EFEM本体によって少なくとも部分的に形成されたEFEMチャンバを含み得る。
【0011】
[0020] 処理のために基板を処理チャンバに移送する前に基板を適切に配置するために、従来技術のEFEMは、処理の前に基板を適切な回転配向に回転させるアラインメントペデスタルを含み得る。幾つかの実施形態では、EFEMがまた、基板を保存するために使用される側部貯蔵ポッドも含み得る。例えば、側部貯蔵ポッドは、処理チャンバ（複数可）内での処理から戻ってくる基板を貯蔵することができる。幾つかの実施形態では、基板が、側部貯蔵ポッド内で脱気及び／又は冷却を受けてもよい。ロード（搬入）／アンロード（搬出）ロボットは、EFEMチャンバ内に位置付けられてよく、基板をアラインメントペデスタル及び／又はEFEMの壁（例えば、その後壁）に結合された１以上のロードロック若しくはプロセスチャンバに渡すことができる。しかし、そのような従来技術のEFEMは、低いスループットに悩まされる可能性がある。したがって、本明細書で説明する実施形態によれば、向上したスループットのEFEMが提供される。
【0012】
[0021] 本明細書で説明される１以上の実施形態では、改善されたスループットを有するEFEMが、EFEMチャンバを形成するEFEM本体を含み、EFEM本体は、前壁、後壁、及び側壁を含み得る。複数のアラインメントペデスタルと複数のブレードを含むロード／アンロードロボットとが、EFEMチャンバ内に収容される。複数の基板は、ロードポートから同時に移送されてよく、複数のアラインメントペデスタル上に同時に置かれ得る。アラインメントペデスタルが基板を位置合わせした後で、基板は、複数のアラインメントペデスタルから１以上のロードロック又はプロセスチャンバに同時に移送され得る。したがって、EFEMを通るスループットが改善される。幾つかの実施形態では、複数のアラインメントペデスタルが、互いから垂直方向にオフセットされてよく、互いから水平方向にオフセットされてよく、又は、アラインメントペデスタルは、垂直方向のオフセットと水平方向のオフセットとの組み合わせを含んでよい。
【0013】
[0022] EFEM、電子デバイス処理アセンブリ、及びEFEMを動作させる方法の様々な実施形態の更なる詳細が、本明細書で図１Ａから図７を参照しながら更に説明される。EFEMは、複数アラインメントペデスタルと複数のブレードを有するロード／アンロードロボットとを含む。方法は、改善された（向上した）基板のスループットを提供する。
【0014】
[0023] 図１Ａは、本開示の１以上の実施形態による、複数のアラインメントペデスタル１２６を含むEFEM１１６を含む電子デバイス処理アセンブリ１００の概略上面図を示している。電子デバイス処理アセンブリ１００は、移送チャンバ１０４を画定するメインフレーム壁を含むメインフレーム１０２を含み得る。移送ロボット１０６（点線の円として示されている）が、移送チャンバ１０４内に少なくとも部分的に収容され得る。移送ロボット１０６は、移送ロボット１０６のロボットアーム（図示せず）の動作を介して、様々な目的地へ及び目的地から基板１０５を配置する及び取り出すように構成され得る。本明細書で使用されるときに、基板１０５は、半導体ウエハ、シリコン含有ウエハ、パターニングされた又はパターニングされていないウエハ、ガラスプレート、マスクなどのような電子デバイス又は回路部品を作製するために使用される物品を含む。
【0015】
[0024] 移送ロボット１０６の様々なロボットアーム構成要素の運動は、コントローラ１０８から命令される複数の駆動モータを内蔵する駆動アセンブリ（図示せず）への適切なコマンドによって制御され得る。コントローラ１０８からの信号は、移送ロボット１０６の様々なロボットアームの運動を引き起こし得る。ロボットアームのうちの１以上に対して、位置エンコーダなどの様々なセンサによる適切なフィードバック機構が設けられ得る。コントローラ１０８は、移送ロボット１０６及びロード／アンロードロボット１２２の通信及び制御を可能にする、適切なプロセッサ（例えば、マイクロプロセッサ（複数可））、メモリ、駆動ユニット、及びセンサを含み得る。コントローラ１０８は、ロードロック装置１１２、プロセスチャンバ１１０Ａ～１１０Ｆ、プロセスチャンバ１１０Ａ’、１１０Ｂ’（図１Ｂ）、スリットバルブドア（図示せず）、ドア開閉装置（図示せず）、基板キャリアドッキング装置（図示せず）、及び複数のアラインメントペデスタル１２６などの、本明細書でより完全に説明される他のシステム構成要素の動作を更に制御し得る。コントローラ１０８は、他の構成要素を制御し得る。
【0016】
[0025] 移送ロボット１０６は、肩軸（shoulder axis）の周りで回転可能な相互連結されたロボットアームを含み得る。肩軸は、例えば、移送チャンバ１０４内の略中央に位置付けられ得る。移送ロボット１０６は、移送チャンバ１０４の下部を形成するハウジング壁（例えば、チャンバフロア）に取り付けられるよう構成された基部（図示せず）を含み得る。しかし、移送ロボット１０６は、幾つかの実施形態では天井（例えば、チャンバ天井）に取り付けられてもよい。移送ロボット１０６は、移送チャンバ１０４が対になったプロセスチャンバ（図示されているように）を含むときに、対になったチャンバ（例えば、図示されているように、横並びのプロセスチャンバ）をサービスするように構成された双対型ロボットであってもよい。半径方向に配向された複数のプロセスチャンバなどのような他の種類のプロセスチャンバ配向、ならびに選択的コンプライアンス多関節ロボットアーム（SCARA）ロボットなどのような他の種類の移送ロボットを使用することもできる。
【0017】
[0026] 移送ロボット１０６にとっての目的地は、第１のファセットに結合された第１のプロセスチャンバセット１１０Ａ、１１０Ｂなどの１以上のプロセスチャンバであってよく、第１のファセットは、そこに渡された基板１０５に対してプロセスを実行するように構成され、動作可能であってよい。移送ロボット１０６にとっての更なる目的地は、第１のプロセスチャンバセット１１０Ａ、１１０Ｂの反対側の第２のファセットに結合された第２のプロセスチャンバセット１１０Ｃ、１１０Ｄであってよい。同様に、移送ロボット１０６にとっての目的地は、ロードロック装置１１２の反対側であり得る第３のファセットに結合された第３のプロセスチャンバセット１１０Ｅ、１１０Ｆであってもよい。
【0018】
[0027] ロードロック装置１１２は、第４のファセットに結合された１以上のロードロックチャンバ（例えば、ロードロックチャンバ１１２Ａ、１１２Ｂ）を含み得る。ロードロック装置１１２に含まれるロードロックチャンバ１１２Ａ及び１１２Ｂは、単一ウエハロードロック（SWLL）チャンバ、マルチウエハチャンバ、バッチロードロックチャンバ、又はそれらの組み合わせであってもよい。例えば、ロードロックチャンバ１１２Ａなどのような特定のロードロックは、基板１０５の移送チャンバ１０４の中への流れのために使用されてよく、一方で、ロードロックチャンバ１１２Ｂなどのような他のロードロックチャンバは、基板１０５を移送チャンバ１０４から出すよう移動させるために使用されてよい。
【0019】
[0028] プロセスチャンバ１１０Ａ～１１０Ｆは、プラズマ気相堆積（PVD）又は化学気相堆積（CVD）、エッチング、アニーリング、予備洗浄、予備加熱、脱気、金属又は金属酸化物除去などのような、基板１０５の任意の適切な処理を実行するように構成され、動作可能であり得る。他の堆積、除去、又は洗浄プロセスが、プロセスチャンバ内に含まれる基板１０５に対して実行されてもよい。
【0020】
[0029] 基板１０５は、EFEM１１６から移送チャンバ１０４の中に受け入れられてもよく、また、EFEM１１６の１以上の第１の壁（例えば、後壁１１６Ｒ）に結合されたロードロック装置１１２を介して、移送チャンバ１０４から出てEFEM１１６に至ってもよい。更に図１Ｃを参照すると、EFEM１１６は、例えばEFEMチャンバ１１６Ｃを形成する、前壁１１６Ｆ、後壁１１６Ｒ、側壁１１６Ｓ、上壁１１６ＣＬ（例えば、天井）、及び床壁１１６ＦＬ（例えば、床）などのようなチャンバ壁を含むEFEM本体１１６Ｂを有する任意の筐体であってよい。側壁１１６Ｓのうちの１つは、EFEMチャンバ１１６Ｃへのアクセスを得るために開くことができるアクセスドア１１６Ｄを含み得る。１以上のロードポート１１８は、EFEM本体１１６Ｂの１以上の第２の壁（例えば、前壁１１６Ｆ）に設けられてもよく、そこで１以上の基板キャリア１２０（例えば、FOUP）を受容するように構成されてもよい。３つの基板キャリア１２０が示されているが、より多くの又はより少ない数の基板キャリア１２０がEFEM１１６にドッキングされてもよい。ロードロック装置１１２、基板キャリア１２０、及び垂直配向で基板１０５を積み重ねることができる他のデバイスは、集合的に垂直積み重ね基板貯蔵装置と称され得る。
【0021】
[0030] EFEM１１６は、そのEFEMチャンバ１１６Ｃ内に適切なロード／アンロードロボット１２２を含み得る。ロード／アンロードロボット１２２は、複数のブレード１２４（例えば、デュアル（２つの）ブレード）を含んでもよく、基板キャリア１２０のドアが一旦開かれると、ドア開閉機構（図示せず）などによって、複数の基板１０５を基板キャリア１２０から同時に取り出すように構成され、動作可能であり得る。一旦取り出されると、ブレード１２４は、EFEMチャンバ１１６Ｃ全体を通して基板１０５を移動させ、最終的にはロードロック装置１１２のロードロックチャンバ１１２Ａ、１１２Ｂのうちの１以上の中に入り得る。ロード／アンロードロボット１２２は、ロードポート１１８で基板キャリア１２０から複数の基板１０５を取り出し、EFEMチャンバ１１６Ｃを通して複数のアラインメントペデスタル１２６に複数の基板１０５を同時に移送するように更に構成され得る。ブレード１２４は、上側ブレード１２４Ｕと下側ブレード１２４Ｌとから構成される。上側ブレード１２４Ｕと下側ブレード１２４Ｌとは、互いに対して垂直方向にオフセット１２４Ｏ（図１Ｃ）を有するように構成され得る。更に、上側ブレード１２４Ｕと下側ブレード１２４Ｌとは、互いに対して独立して回転可能及び／又は移動可能であるように構成され得る。
【0022】
[0031] アラインメントペデスタル１２６は、基板１０５を所定の方向に向けるデバイスを含み得る。例えば、アラインメントペデスタル１２６は、基板１０５を光学的に走査し、基板１０５上に位置付けられたノッチ（図示せず）を識別することができる。次いで、アラインメントペデスタル１２６は、ノッチが所定の方向に向けられるまで基板１０５を回転させることによって、基板１０５を位置合わせすることができる。位置合わせの手順及びアラインメントペデスタルの実施例が、米国特許第3,972,424号、第5,102,280号、及び第6,275,742号で説明されている。
【0023】
[0032] 複数のアラインメントペデスタル１２６での位置合わせの後で、基板１０５が、ロードロック装置１１２のロードロックチャンバ１１２Ａ、１１２Ｂのうちの１以上の中に同時に移送され得る。次いで、基板１０５は、プロセスチャンバ１１０Ａ～１１０Ｆのうちの１以上の中で後続の処理を受け得る。図１Ｂで示されている実施形態では、プロセスチャンバ１１０Ａ’及び１１０Ｂ’が、EFEM１１６の後壁１１６Ｒ上に位置付けられている。図１Ｂの実施形態では、基板１０５が複数のアラインメントペデスタル１２６で位置合わせされた後に、基板１０５が、プロセスチャンバ１１０Ａ’、１１０Ｂ’のうちの１以上の中に同時に移送され得る。例えば、ロード／アンロードロボット１２２のブレード１２４は、複数の基板１０５をプロセスチャンバ１１０’、１１０Ｂ’へ又はプロセスチャンバ１１０’、１１０Ｂ’から同時に移送することができる。
【0024】
[0033] 複数のアラインメントペデスタル１２６は、側壁１１６Ｓ、前壁１１６Ｆ、及び／又は後壁１１６Ｒを含むEFEM１１６の１以上の壁に結合されてもよい。代替的に、複数のアラインメントペデスタル１２６は、EFEM１１６の床壁１１６ＦＬ（図１Ｃ）に結合され得る。複数のアラインメントペデスタル１２６は、ロード／アンロードロボット１２２のブレード１２４がアクセスし易い任意の適切なやり方で取り付けられ得る。
【0025】
[0034] ロード／アンロードロボット１２２は、ロードロック装置１１２（又は図１Ｂのプロセスチャンバ１１０Ａ’、１１０Ｂ’）から基板１０５を取り出し、複数の基板１０５を同時に側部貯蔵ポッド装置１２８の中に移送するように構成され、動作可能であり得る。例えば、移送は、処理チャンバ１１０Ａ～１１０Ｆ（又は処理チャンバ１１０Ａ’、１１０Ｂ’）のうちの１以上の中での基板１０５の処理の後で行われ得る。幾つかの実施形態では、ロード／アンロードロボット１２２が、基板キャリア１２０から複数の基板１０５を取り出し、処理前に複数の基板１０５を側部貯蔵ポッド装置１２８の中に同時に移送するように構成され、動作可能であり得る。
【0026】
[0035] EFEMチャンバ１１６Ｃには、環境コントローラ１３０と、EFEMチャンバ１１６Ｃに環境制御雰囲気を提供するように構成されたパージガス供給部１３１とを含む、環境制御システム１２９が設けられ得る。特に、環境コントローラ１３０は、EFEMチャンバ１１６Ｃ内の環境条件をモニタ及び／又は制御するように動作可能であり得る。モニタリングは、１以上のセンサによるものであってもよい。幾つかの実施形態では、基板１０５の処理中などの特定の時間に、EFEMチャンバ１１６Ｃが、その中に非反応性ガスを受け取ることができる。非反応性ガスは、アルゴン（Ar）、窒素（N2）、及び／又はヘリウム（He）などの不活性ガスであってよく、パージガス供給部１３１から供給され得る。他のガスを使用してもよい。環境コントローラ１３０は、コントローラ１０８と相互作用して、EFEM１１６内の動作を同期させることができる。
【0027】
[0036] 図１Ｃの描かれている実施形態では、側部貯蔵ポッド装置１２８が、１以上の側部貯蔵容器１２８ａ、１２８ｂを含み得る。側部貯蔵容器１２８ａ、１２８ｂの各々は、基板１０５の貯蔵を提供するように構成されたそれぞれの側部貯蔵ポッドチャンバ１３２ａ、１３２ｂを内部に画定し得る。２つの側部貯蔵容器１２８ａ、１２８ｂは、上下に配置されるように図示されている。しかし、横並びやスペースを可能にするような他の適切な配向が可能である。更に、２つより多い又は少ない側部貯蔵容器１２８ａ、１２８ｂが、側部貯蔵ポッド装置１２８内に設けられ得る。
【0028】
[0037] 側部収納ポッド装置１２８は、ガスケット、Ｏリング、又は他のシール及び適切な結合デバイスなどのような任意の適切な手段によって、EFEM１１６の側壁１１６Ｓに結合され密封され得る、保持筐体１３４内に完全に囲まれてよい。側部貯蔵容器１２８ａ、１２８ｂは、アクセスドア１３４ｄを介して、保持筐体１３４の中に搬入され及び保持筐体１３４から取り出されてよい。アクセスドア１３４ｄは、側部貯蔵ポッドチャンバ１３２ａ、１３２ｂの容易な保守及び洗浄を可能にする。アクセスドア１３４ｄはまた、新しい又は洗浄された側部貯蔵容器１２８ａ、１２８ｂを内部に迅速に追加する能力を可能にし得る。
【0029】
[0038] アクセスドア１３４ｄ及び保持筐体１３４は、側部貯蔵容器１２８ａ、１２８ｂを取り囲む密封された環境を提供するように構成され得る。幾つかの実施形態では、側部貯蔵容器１２８ａ、１２８ｂが、EFEM１１６の側壁１１６Ｓ上の固定された位置にあってもよい。基板１０５は、側部貯蔵ポッド装置１２８内のポッド開口部１３６を介して、側部貯蔵ポッドチャンバ１３２ａ、１３２ｂへ及び側部貯蔵ポッドチャンバ１３２ａ、１３２ｂから移送され得る。ポッド開口部１３６は、EFEM１１６の側壁１１６Ｓ内に形成された同様の開口部に結合され得る。ポッド開口部１３６は、常に開いたままにすることができ、したがって、ロード／アンロードロボット１２２のブレード１２４によって、内部に保存された基板１０５への自由なアクセスを可能にする。したがって、複数の基板１０５を、側部貯蔵ポッド装置１２８の側部貯蔵ポッドチャンバ１３２ａ又は１３２ｂの中に同時に挿入するか、又はそこから同時に引き出すことができる。
【0030】
[0039] 更に図２を参照すると、それは、EFEM１１６の図１Ｃの線２‐２に沿って切り取られた部分概略前面断面図を示している。図２は、本開示の１以上の実施形態による、複数のアラインメントペデスタル１２６及び側部貯蔵ポッド装置１２８を含む。側部貯蔵容器１２８ａ、１２８ｂ内の貯蔵位置は、例えば１０mm毎などの規定された増分で垂直方向に間隔を空けられ得る複数のポッド支持部材１３８から形成され得る。複数のポッド支持部材１３８は、ポッド垂直間隔２０２によって互いから間隔を空けられ得る。ポッド垂直間隔２０２は、ロード／アンロードロボット１２２の上側ブレード１２４Ｕ及び下側ブレード１２４Ｌが、ポッド支持部材１３８から同時に複数の基板１０５（例えば、２つの基板１０５）をロード及びアンロードすることを可能にするのに十分な距離であり得る。
【0031】
[0040] 複数のポッド支持部材１３８は、ポッド垂直間隔２０２でその上に水平に基板１０５を支持するように構成される。例えば、ポッド支持部材１３８は、側部貯蔵容器１２８ａ及び１２８ｂの各側部から互いに向けて横方向に延びる適切な支持棚を含み得る。ポッド支持部材１３８は、各基板１０５の縁部などの各基板１０５の一部分を支持するように構成され得る。ポッド支持部材１３８は、それらがロード／アンロードロボット１２２のブレード１２４と干渉しないように十分に短くてよい。
【0032】
[0041] 図２の描かれている実施形態では、側部貯蔵容器１２８ａ及び１２８ｂ内の複数のポッド支持部材１３８が、例えば、幾つかの実施形態では、７mm～３５mm、又は更には７mm～４０mmの範囲であってよい、支持される基板１０５間のポッド垂直間隔２０２を提供するように構成される。幾つかの実施形態では、ポッド垂直間隔２０２が、約１０mmであってよい。他の実施形態では、ポッド垂直間隔２０２が、４０mmより大きくてよい。他の範囲を使用してもよい。ポッド垂直間隔２０２と同じキャリア垂直間隔を有する同様の貯蔵棚構成が、基板キャリア１２０内にも実装され得る（図１Ａ及び図１Ｂ）。同様に、ポッド垂直間隔２０２と同じロードロック垂直間隔を有する複数の支持体の間隔構成を、ロードロックチャンバ１１２ａ及び１１２ｂ内に実装してもよい（図１Ａ及び図１Ｂ）。
【0033】
[0042] 複数のアラインメントペデスタル１２６は、EFEMチャンバ１１６Ｃ内に横並びで配置されてもよい。ここでは、２つのアラインメントペデスタル１２６が示されているが、３つ、４つ、又はそれより上などの、３つ以上のアラインメントペデスタル１２６が設けられてもよい。ロード／アンロードロボット１２２のブレード１２４の数は、アラインメントペデスタル１２６の数と等しくてもよい。描かれている実施形態では、上側アラインメントペデスタル１２６Ｕと下側アラインメントペデスタル１２６Ｌとが、横並びで設けられているが、互いに対して垂直方向のオフセットを有する。複数のアラインメントペデスタル１２６が、側部貯蔵ポッド装置１２８のポッド開口部１３６より下方の高さで側壁１１６Ｓに結合されるように図示されている。しかし、上述されたように、他の適切な結合配向が可能であり、スペースが可能である。
【0034】
[0043] 上側アラインメントペデスタル１２６Ｕと下側アラインメントペデスタル１２６Ｌとは、それぞれの支持面２２６Ｓ１と２２６Ｓ２との間、及び、支持面２２６Ｓ１、２２６Ｓ２の各々の上に配置された基板１０５（図２において点線で示されている）の間の垂直方向のオフセット２０４を提供するように配置され得る。アラインメントペデスタル１２６の幾つかの実施形態は、支持面２２６Ｓ１、２２６Ｓ２を含まなくてもよい。むしろ、アラインメントペデスタル１２６は、支持面２２６Ｓ１、２２６Ｓ２によって規定される平面上の基板１０５を支持するデバイスを含み得る。垂直方向のオフセット２０４は、例えば、幾つかの実施形態では、７mm～３５mm、又は更には７mm～４０mmの範囲であってよい。幾つかの実施形態では、垂直方向のオフセット２０４が、約１０mmであってもよい。他の実施形態では、垂直方向のオフセット２０４が、４０mmより大きくてもよい。他の垂直方向のオフセットの範囲を使用してもよい。
【0035】
[0044] 側部貯蔵容器１２８ａ、１２８ｂ内の複数のポッド支持部材１３８の間のポッド垂直間隔２０２と、複数のアラインメントペデスタル１２６の支持面２２６Ｓ１、２２６Ｓ２の各々の間の垂直方向のオフセット２０４とは、ロード／アンロードロボット１２２の上側ブレード１２４Ｕと下側ブレード１２４Ｌとの間の垂直方向のオフセット１２４Ｏ（図１Ｃ）以上であってよい。ポッド垂直間隔２０２及び垂直方向のオフセット２０４は、３つ以上のブレードがロード／アンロードロボット１２２において使用される場合、ロード／アンロードロボット１２２のブレード１２４の各々の間の垂直方向のオフセット１２４Ｏと等しくてよい。更に、複数のアラインメントペデスタル１２６の支持面２２６Ｓ１、２２６Ｓ２の各々の間の垂直方向のオフセット２０４は、側部貯蔵容器１２８ａ及び１２８ｂ内の複数のポッド垂直部材１３８の間のポッド垂直間隔２０２より大きくてよい。幾つかの実施形態では、最小の垂直方向のオフセット２０４が、ロード／アンロードロボット１２２の複数のブレード１２４の間の垂直方向のオフセット１２４Ｏである。
【0036】
[0045] 図２の描かれている実施形態では、複数のアラインメントペデスタル１２６が、EFEM１１６の側壁１１６Ｓに沿って横並びに配置されている。それによって、基板１０５が、名目上は上側アラインメントペデスタル１２６Ｕ及び下側アラインメントペデスタル１２６Ｌ上に配置されるときに、互いに部分的に重なり合う。上側アラインメントペデスタル１２６Ｕと下側アラインメントペデスタル１２６Ｌとの上の基板１０５は、アラインメントペデスタル１２６の複数の支持面２２６Ｓ１、２２６Ｓ２の各々の上に支持された基板１０５の重なり２０６を提供するのに十分な程度に重なり合ってよい。幾つかの実施形態では、複数の支持面２２６Ｓ１、２２６Ｓ２の各々の上に支持された基板１０５の重なり２０６は、１２０mm～３００mmの範囲であってよい。幾つかの実施形態では、上側アラインメントペデスタル１２６Ｕの厚さＴ２１が、基板及び／又は支持面２２６Ｓ１を支持するのに十分な厚さである限り、重なり２０６が必要なだけ大きくてよい。幾つかの実施形態では、厚さＴ２１が約８０mmである。他の実施形態では、厚さＴ２１が約５mm程度に小さくてよい。
【0037】
[0046] 図３Ａ及び図３Ｂを参照すると、これらは、それぞれ、整列した状態と整列していない状態とにあるロード／アンロードロボット１２２（図１Ｂ）のブレード１２４の上面図を示している。整列した状態では、ブレード１２４が、図３Ａで示されているように垂直方向に整列してよい。整列した状態は、ブレード１２４が、側部貯蔵ポッド装置１２８などのような、垂直方向に整列した貯蔵エリア内に位置付けられた基板１０５にアクセスすることを可能にする。整列していない状態では、ブレード１２４が、図１Ａ～図２で示されているアラインメントペデスタル１２６上に位置付けられた基板などのような、垂直方向にオフセットされた基板１０５にアクセスし得る。
【0038】
[0047] 複数のアラインメントペデスタル１２６上に配置された基板１０５の各々の間の重なり２０６の範囲は、互いに対するロード／アンロードロボット１２２の上側ブレード１２４Ｕと下側ブレード１２４Ｌとの間の垂直方向に整列した位置からのずれの範囲内にあり得る。上側ブレード１２４Ｕと下側ブレード１２４Ｌとの間のこの垂直方向に整列した位置からのずれは、複数のアラインメントペデスタル１２６の各々からの基板１０５の同時の配置及び取り出しを可能にする。重なり２０６はまた、EFEM１１６の幅が、アラインメントペデスタル１２６上の複数の基板１０５の同時配置を受け入れながら、より小さくされることも可能にする。上側ブレード１２４Ｕ及び下側ブレード１２４Ｌを用いて複数のアラインメントペデスタル１２６上への基板１０５の同時配置を実現するために、上側ブレード１２４Ｕと下側ブレードブレード１２４Ｌとは、各々、ブレード１２４の独立した回転運動の動作を介して離れるように回転され得る。アラインメントペデスタル１２６上の支持体などを避けるために、上側ブレード１２４Ｕと下側ブレード１２４Ｌとは、ブレード１２４がアラインメントペデスタル１２６又は他の構成要素にアクセスするときに、共に及び／又は離れるように移動し得る。
【0039】
[0048] 図３Ａは、垂直方向に整列した状態の２つのブレード１２４の上面図を示している。本開示の１以上の実施形態に従って、ブレード１２４が、基板キャリア１２０、側部貯蔵ポッド装置１２８、及びロードロック装置１１２内に位置付けられた基板１０５（図１Ａ～図１Ｃ）にアクセスするときに、ブレード１２４は垂直方向に整列し得る。垂直方向に整列した構成では、上側ブレード１２４Ｕが、下側ブレード１２４Ｌ（図３Ａでは見ることができない）と垂直方向に位置合わせされる。例えば、上側ブレード１２４Ｕ及び下側ブレード１２４Ｌは、互いに向けて回転され得る。それによって、ブレード１２４の中心３０２の間の任意のオフセットが最小化される。幾つかの実施形態では、垂直方向の整列が、ブレード１２４の中心線３０３Ｕ、３０３Ｌが位置合わせされることをもたらす。
【0040】
[0049] 図３Ｂは、本開示の１以上の実施形態による、複数のアラインメントペデスタル１２６にアクセスするために、垂直方向に整列した位置からずれた２つのブレード１２４の上面図を示している。図３Ｂは、ブレード１２４が円弧３１２の周りで回転することを可能にするために、ブレード１２４に結合され得る手継手（wrist joint）３１０を示している。この整列していない構成では、上側ブレード１２４Ｕと下側ブレード１２４Ｌとが、複数のアラインメントペデスタル１２６（図２）の各々にアクセスしながら、互いに対して垂直方向に整列した位置からずれ（例えば、垂直方向にオフセットされ）得る。具体的には、手継手３１０を介して、前述された垂直方向に整列した配向から、上側ブレード１２４Ｕが第１の方向に回転されてよく、下側ブレード１２４Ｌが第１の方向とは反対の第２の方向に回転されてよい。ブレード１２４の各々の回転は、ブレード１２４及び／又はブレード１２４の各々の上に支持された基板１０５の中心３０２の間のオフセット３０４を提供する。垂直方向に整列した位置からのずれはまた、ブレード１２４の中心線３０３Ｕ、３０３Ｌが、互いに対してある角度にあると説明することもできる。
【0041】
[0050] ブレード１２４及び／又はブレード１２４の各々の上に支持された基板１０５の中心３０２の間の結果として生じるオフセット３０４は、アラインメントペデスタル１２６の複数の支持面２２６S１、２２６Ｓ２の各々の中心の間の水平間隔２０７（図２）と実質的に一致し得る。この構成は、複数のアラインメントペデスタル１２６への及びからの複数の基板１０５（２つが図示されている）の同時移送を可能にする。具体的には、基板１０５の同時移送が、上側ブレード１２４Ｕを使用して上側アラインメントペデスタル１２６Ｕへ又はから行われ、下側ブレード１２４Ｌを使用して下側アラインメントペデスタル１２６Ｌへ又はから行われ得る。図２で示されているように、支持面２２６S１、２２６Ｓ２上の基板１０５は、重なり２０６の分だけ重なり合ってよい。
【0042】
[0051] ブレード１２４は、アラインメントペデスタル１２６の支持面２２６S１、２２６Ｓ２にアクセスするために、方向３１８Ａに移動し得る。例えば、複数のブレード１２４は、基板１０５を支持面２２６S１、２２６Ｓ２上に設置するために方向３１８Ａに移動してよく、又は位置合わせされた基板１０５を支持面２２６S１、２２６Ｓ２から回収するために移動してよい。ブレード１２４は、支持面２２６S１、２２６Ｓ２から離れるときに、方向３１８Ｂに移動し得る。幾つかの実施形態では、支持面２２６S１が、複数のリフト点３２０Ａを含んでよく、支持面２２６Ｓ２が、複数のリフト点３２０Ｂを含んでよい。図３Ｂで示されているように、ブレード１２４が、垂直方向に整列していない位置にあり、支持面２２６S１、２２６Ｓ２に近接している間に、方向３１８Ａ又は方向３１８Ｂのいずれかに移動する場合、ブレード１２４は、リフト点３２０Ａ、３２０Ｂに接触する可能性がある。幾つかの実施形態では、ブレード１２４が、リフト点３２０Ａ、３２０Ｂを避けるために、支持面２２６S１、２２６Ｓ２に近接して移動するときに、ブレード１２４は、垂直方向に整列した位置と垂直方向に整列していない位置との間で移行する。例えば、ブレード１２４が、アラインメントペデスタル１２６に近接して移動するときに、ブレード１２４は、円弧３１２に沿って手継手３１０の周りで回転し得る。アラインメントペデスタル１２６に近接したブレード１２４によって採られる経路は、リフト点３２０Ａ、３２０Ｂ及び他の障害物の位置に依存し得る。
【0043】
[0052] 図４を参照すると、それは、横並びに位置付けられた２つのアラインメントペデスタル４２６を含むEFEM１１６の一実施形態を示している。図４の実施形態では、EFEM１１６が、２つのアラインメントペデスタル４２６を含む。それらは、第１のアラインメントペデスタル４２６Ａと第２のアラインメントペデスタル４２６Ｂとして個別に称される。他の実施形態では、EFEM１１６が、３つ以上のアラインメントペデスタル４２６を含んでもよい。アラインメントペデスタル４２６は、アラインメントペデスタル４２６上に位置付けられた基板１０５の任意の垂直方向の重なりを提供し得ない。基板１０５の垂直方向の重なりがないことにより、基板１０５を独立して持ち上げることができる。例えば、第２の支持面４２６Ｓ２上に位置付けられた基板１０５は、垂直方向の持ち上げ中に、第１の支持面４２６Ｓ１上に位置付けられた基板１０５と接触しない。
【0044】
[0053] 更に図５を参照すると、それは、図２と類似しているが、アラインメントペデスタル４２６又はそれらの上に位置付けられた基板１０５の間に重なりがない、EFEM１１６の図を示している。図５で示されているように、第１のアラインメントペデスタル４２６Ａの第１の支持面４２６Ｓ１と第２のアラインメントペデスタル４２６Ｂの第２の支持面４２６Ｓ２との上に位置付けられた基板１０５の縁部の間に、水平空間５０６が存在する。第１の支持面４２６Ｓ１の縁部と第２の支持面４２６Ｓ２の縁部との間に同様の水平空間が存在してもよい。幾つかの実施形態では、アラインメントペデスタル４２６が、基板１０５を支持するために、第１の支持面４２６Ｓ１及び第２の支持面４２６Ｓ２以外のデバイス（図示せず）を使用し得る。これらのデバイスは、水平空間５０６と同様であり得る水平空間によって分離され得る。
【0045】
[0054] 図５で示されている実施形態では、第１の支持面４２６Ｓ１と第２の支持面４２６Ｓ２とは、垂直方向のオフセット２０４によって垂直方向にオフセットされている。幾つかの実施形態では、第１の支持面４２６Ｓ１と第２の支持面４２６Ｓ２とは、垂直方向にオフセットされておらず同じ平面上にある。したがって、第１の支持面４２６Ｓ１と第２の支持面４２６Ｓ２とによって支持される基板１０５は、同じ平面上に位置付けられ得る。
【0046】
[0055] 図６を更に参照すると、ブレード１２４は、アラインメントペデスタル４２６にアクセスするときに基板１０５の間に重なりが存在しない整列していない位置に延在し得る。例えば、基板１０５の縁部は、水平空間５０６によって分離され得る。ブレード１２４が、リフト点４２０Ａ、４２０Ｂ及び／又は他の障害物を避けるために、アラインメントペデスタル４２６（図４）に対して移動するときに、ブレード１２４は手継手１２６によって回転し得る。
【0047】
[0056] 図７は、装置フロントエンドモジュール（例えば、EFEM１１６）を動作させる方法を描いているフローチャート７００を示している。該方法は、７０２で、垂直積み重ね基板貯蔵装置（例えば、ロードロック装置１１２）にアクセスするために、垂直方向に整列した位置にロード／アンロードロボット（例えば、ロード／アンロードロボット１２２）のブレード（例えば、ブレード１２４）を移動させることを含んでよい。該方法は、７０４で、複数のアラインメントペデスタル（例えば、アラインメントペデスタル１２６）に同時にアクセスするために、垂直方向に整列していない位置にロード／アンロードロボットのブレードを移動させることを含んでよい。
【0048】
[0057] 本開示は、広範な有用性及び用途を受け入れる余地があることが理解されるべきである。本明細書で説明されたもの以外の本開示の多くの実施形態及び適応例、ならびに多くの変形例、修正例、及び均等な構成が、本開示の実体又は範囲から逸脱することなく、本開示及びその前述の説明から明らかであり、或いはそれらによって合理的に示唆されるであろう。したがって、本開示は、特定の実施形態に関連して本明細書で詳細に説明されてきたが、本開示は、例示的なものに過ぎず、本開示の実施例を提示し、完全且つ可能な開示を提供することのみを目的としてなされたものであることが理解されよう。本開示は、開示された特定の装置及び／又は方法に限定されることを意図するものではなく、反対に、本発明は、特許請求の範囲内にある全ての修正例、均等物、及び代替例を包含することを意図する。
【図1A】
【図1B】
【図1C】
【図2】
【図3A】
【図3B】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】